CN114150279A - 一种钼铌合金轧制靶材的热处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种钼铌合金轧制靶材的热处理方法,包括以下步骤:将轧制后的钼铌合金靶材直接在热轧的加热炉中进行再结晶退火,然后将钼铌合金靶材进行磨光,去掉表层,得到热处理后的钼铌合金。本发明热处理方式是一种快捷、高效的退火方式:热轧结束后,根据板坯的成分含量、轧制前晶粒度和密度、轧制总压缩率等因素,选择合适的退火温度和保温时间,将热轧加热炉调到退火选定的温度,直接将轧制的钼铌板放在热轧炉中退火。相对于真空退火,可将退火的生产效率提高10倍、并且大幅降低能耗等其他成本。本发明提供的退火方式,能得到分布均匀、各向同性的晶粒组织结构;可根据成品要求,较好地控制产品的晶粒度。
Description
技术领域
本发明属于高温难熔金属靶材领域,具体涉及一种钼铌合金轧制靶材的热处理方法。
背景技术
钼铌合金经轧制成板材后,其晶粒结构有一定的分布方向,这种方向性排列破坏了溅射靶材要求的各向同性;同时,轧制板材在压力加工过程中,在内部形成了大量的微小缺陷,这些缺陷需要在再结晶过程中予以修复;因此用作溅射靶材的钼铌轧制板必须进行再结晶退火。
由于铌容易吸氢而变脆,通常认为这一退火过程不宜在氢气炉中进行。行业内通常的做法有两种:一是在真空炉中进行、二是包套保护。真空退火方式从真空炉抽真空→升温→保温→降温,一套工作流程走下来,至少是24h,费时费力、效率极低、能耗高企。包套保护则更复杂、成本更高、且严重影响收率。如果能直接在热轧用的氢气炉中退火,将变得十分方便快捷。
发明内容
本发明的目的是提供一种时间短、效率高、成本低的钼铌合金轧制靶材的热处理方法。
本发明这种钼铌合金轧制靶材的热处理方法,包括以下步骤:将轧制后的钼铌合金靶材直接在热轧的加热炉中进行再结晶退火,然后将钼铌合金靶材进行磨光,去掉表层,得到热处理后的钼铌合金。
所述的钼铌合金靶材为钼铌合金轧制板,钼铌合金轧制板中铌含量1~20%,余量为钼。
所述的退火结晶时,加热炉中以氢气或者惰性气体作为保护气体。
所述的再结晶退火温度为1200~1600℃,再结晶退火时间为1~4h。
本发明通过大量实验精选氢气退火的工艺参数后,通过大量的真空退火与氢气退火的对比试验,发现退火完,磨去表层(靶材后续加工中需要磨光,表层都会被磨掉)后,两种不同退火方式得到的产品,其氢含量没有明显差别;而在同样的温度下,真空退火与氢气退火得到的产品晶粒结构与晶粒度也基本一致。因此,完全可以用氢气炉退火取代真空退火。
本发明的有益效果:1)本发明热处理方式是一种快捷、高效的退火方式:热轧结束后,根据板坯的成分含量、轧制前晶粒度和密度、轧制总压缩率等因素,选择合适的退火温度和保温时间,将热轧加热炉调到退火选定的温度,直接将轧制的钼铌板放在热轧炉中退火。相对于真空退火,可将退火的生产效率提高10倍、并且大幅降低能耗等其他成本。2)本发明提供的退火方式,能得到分布均匀、各向同性的晶粒组织结构;可根据成品要求,较好地控制产品的晶粒度。3)本发明提供的退火方式,能有效消除压力加工过程中造成材料缺陷。
附图说明
图1实施例1中制备的钼铌合金板材的纵剖面金相图;
图2实施例1中制备的钼铌合金板材的横剖面金相图;
图3实施例1中轧制未退火钼铌合金板的超声波探伤结果;
图4实施例1中氢气气氛下退火处理后钼铌合金板的超声波探伤结果;
图5实施例2中氢气气氛下退火处理后钼铌合金板的超声波探伤结果;
具体实施方式
实施例1
真空烧结的厚度21mm钼铌5(Nb含量5%)板坯,经4次热轧到7mm并矫平;先进行超声波探伤,然后将其在氢气炉中氢气气氛和1300℃下退火2h,磨光后取样进行氢含量检测,再进行探伤和金相与晶粒度检测。
性能测试:
(1)氢含量
本实施例中氢气退火与目前工艺中的真空退火分别取样分析,多个样品测得的氢气含量都在5~30ppm之间,平均值均在16ppm左右。
(2)金相与晶粒度
为验证本实施例中氢气退火后板材的晶粒组织结构,分别在前端、中间、后端三个点取样检测,每个点分别取纵剖面、横剖面两个样,得到的金相照片如图1、图2所述,从图中可以看出,板材纵向、横向的金相照片没有明显区别;三个不同点的金相照片也基本一致。同时,6个样测得的晶粒度等级也完全相同,都是2000/mm2。
(3)缺陷的修复效果
本实施例中和轧制未退火板材的超声波探伤结果见图3(表单太长,图中只摘录了其头、尾部分),从结果可以看出这块板轧制后的缺陷总数达191个。用本实施例中的工艺对其进行氢气炉退火后的探伤结果见图4,缺陷总数已变成了3个。在本实施例中,退火过程对钼铌板材质缺陷的修复率高达98.4%。
实施例2
真空烧结的厚度27mm钼铌5(Nb含量5%)板坯,经5次热轧到7mm并矫平;先进行超声波探伤,然后将其在氢气炉中氢气气氛和1400℃下退火2h,磨光后取样进行氢含量检测,再进行探伤和金相与晶粒度检测。
经测得本实施例中的钼铌合金板的氢含量平均值为15ppm,探伤结果缺陷总数为0个,晶粒度等级为2000/mm2,具体可见图5;本发明的退火方式可以实现0缺陷。
实施例3
热等静压的厚度67mm钼铌10(Nb含量10%)板坯,经6次热轧到14mm并矫平;然后将将其在氢气炉中氢气气氛和1500℃下退火2h,磨光后取样进行氢含量检测,再进行探伤和金相与晶粒度检测。
经测得本实施例中的钼铌合金板的氢含量平均值为18ppm,探伤结果缺陷总数为4个,晶粒度等级为8000/mm2。
Claims (5)
1.一种钼铌合金轧制靶材的热处理方法,包括以下步骤:将轧制后的钼铌合金靶材直接在热轧的加热炉中进行再结晶退火,然后将钼铌合金靶材进行磨光,去掉表层,得到热处理后的钼铌合金。
2.根据权利要求1所述的钼铌合金轧制靶材的热处理方法,其特征在于,所述的钼铌合金靶材为钼铌合金轧制板,钼铌合金轧制板中铌含量1~20%,余量为钼。
3.根据权利要求1所述的钼铌合金轧制靶材的热处理方法,其特征在于,所述的退火结晶时,加热炉中以氢气或者惰性气体作为保护气体。
4.根据权利要求3所述的钼铌合金轧制靶材的热处理方法,其特征在于,所述的保护气氛为氢气气氛。
5.根据权利要求3所述的钼铌合金轧制靶材的热处理方法,其特征在于,所述的再结晶退火温度为1200~1600℃,再结晶退火时间为1.0~4.0h。
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Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3079378B1 (ja) * | 1999-02-10 | 2000-08-21 | 東京タングステン株式会社 | Moスパッターリングターゲット材及びその製造方法 |
TW201103987A (en) * | 2009-07-22 | 2011-02-01 | China Steel Corp | Method for manufacturing molybdenum based sheet |
CN102317498A (zh) * | 2009-05-28 | 2012-01-11 | 株式会社爱发科 | 溅射靶及溅射靶的处理方法 |
CN103302295A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-09-18 | 安泰科技股份有限公司 | 一种轧制加工高纯度、高致密度钼合金靶材的方法 |
TW201433648A (zh) * | 2013-02-25 | 2014-09-01 | China Steel Corp | 含鉬胚料及含鉬濺鍍靶材之製造方法 |
CN105683407A (zh) * | 2013-10-29 | 2016-06-15 | 攀时奥地利公司 | 溅镀靶及其制造方法 |
US20190221408A1 (en) * | 2016-09-29 | 2019-07-18 | Plansee Se | Sputtering target |
CN110538993A (zh) * | 2019-10-18 | 2019-12-06 | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 | 一种高致密度钼钽合金溅射靶材的制备工艺 |
CN111534800A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-14 | 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 | 一种大尺寸钼铌平面靶材的制备方法 |
CN113637945A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-11-12 | 洛阳爱科麦钨钼科技股份有限公司 | 一种大规格钼铌合金靶材的轧制制备方法 |
-
2021
- 2021-12-09 CN CN202111497627.9A patent/CN114150279A/zh active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3079378B1 (ja) * | 1999-02-10 | 2000-08-21 | 東京タングステン株式会社 | Moスパッターリングターゲット材及びその製造方法 |
CN102317498A (zh) * | 2009-05-28 | 2012-01-11 | 株式会社爱发科 | 溅射靶及溅射靶的处理方法 |
TW201103987A (en) * | 2009-07-22 | 2011-02-01 | China Steel Corp | Method for manufacturing molybdenum based sheet |
TW201433648A (zh) * | 2013-02-25 | 2014-09-01 | China Steel Corp | 含鉬胚料及含鉬濺鍍靶材之製造方法 |
CN103302295A (zh) * | 2013-06-20 | 2013-09-18 | 安泰科技股份有限公司 | 一种轧制加工高纯度、高致密度钼合金靶材的方法 |
CN105683407A (zh) * | 2013-10-29 | 2016-06-15 | 攀时奥地利公司 | 溅镀靶及其制造方法 |
US20190221408A1 (en) * | 2016-09-29 | 2019-07-18 | Plansee Se | Sputtering target |
CN110538993A (zh) * | 2019-10-18 | 2019-12-06 | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 | 一种高致密度钼钽合金溅射靶材的制备工艺 |
CN111534800A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-14 | 东莞市欧莱溅射靶材有限公司 | 一种大尺寸钼铌平面靶材的制备方法 |
CN113637945A (zh) * | 2021-07-26 | 2021-11-12 | 洛阳爱科麦钨钼科技股份有限公司 | 一种大规格钼铌合金靶材的轧制制备方法 |
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