CN114054290A - 涂布装置 - Google Patents

Abstract

[课题]提供一种涂布装置，其能够通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制在涂布膜形成接缝不均。[解决手段]一种涂布装置，其使由载台单元保持的基板与涂布单元相对移动，同时从涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，其中，载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用吸附保持部保持浮起在浮起载台部上的基板的状态下，移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，吸附保持部为下述构成，其具备在与浮起载台部的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板的第1吸附保持部、和在浮起载台部的移动方向位置处吸附保持基板的第2吸附保持部。

Description

涂布装置

技术领域

本发明涉及一种在使基板浮起的状态下在基板上形成涂布膜的涂布装置。

背景技术

在OLED(有机发光二极管)的阻隔膜图案的形成中使用了喷墨型的涂布装置。该涂布装置中，在基板的涂布区域形成涂布膜，但为了消除基板的剥离带电所产生的影响，正在采用能够在使基板浮起的状态下进行涂布的空气浮起方式。具体而言，如图9所示，具备：具有排出涂布液的喷墨头100的涂布单元101；使基板W浮起的浮起搬送路径102；吸附并保持浮起状态的基板W的吸附保持部103；和使吸附保持部103沿基板W的搬送方向移动的搬送驱动部104，通过驱动搬送驱动部104而使吸附保持部103移动，在基板W浮起在浮起搬送路径102上的状态下使基板W沿单向移动，同时从喷墨头100排出涂布液，由此在基板W上形成涂布膜。即，浮起的基板W在由配置在与搬送方向(移动方向)正交的方向位置处的吸附保持部103所保持的状态下保持水平姿势，并且在通过喷墨头100时在规定位置排出涂布液，由此以良好的精度在基板W上的涂布区域α形成涂布膜。

此处，若通过多次扫描形成涂布膜，则在涂布膜上会形成扫描不均(接缝不均P)，因而涂布膜由一次扫描形成。因此，虽然对基板W进行多面拼接(多面取り)，但使用具有可通过1次扫描涂布所形成的最大尺寸的涂布膜的程度的涂布宽度的喷墨头100。喷墨头100非常昂贵，因此，在大多数情况下，使用具有所使用的基板W的一半尺寸宽度的喷墨头100。即，在图10(a)的示例中，设定有2个最大的涂布区域α，通过1次扫描(去程)在一个涂布区域α形成涂布膜，通过另1次扫描(回程)在剩余的涂布区域α形成涂布膜。另外，在图10(b)的示例中，在宽度方向设定有3个涂布区域α，通过1次扫描不能完全涂布正中央的涂布区域α。这种情况下，通过3次扫描按照左端、中央、右端的顺序进行涂布，由此能够通过1次扫描涂布所有的涂布区域α，能够抑制所形成的涂布膜形成接缝不均P。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-213435号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是，上述涂布装置存在无法抑制接缝不均P的问题。即，涂布区域α的尺寸根据监视器的尺寸而确定，但根据尺寸的不同，如图11所示，沿横向配置涂布区域α的长边部分有时是有效的。但是，这种情况下，无法通过1次扫描对涂布区域α进行涂布，会形成接缝不均P。因此，在该尺寸的涂布区域α的情况下，由1片基板只能取得1个，其结果，对于1片基板W的产品取得率降低，存在导致生产效率降低的问题。

另一方面，还考虑了根据基板W的宽度尺寸来制作喷墨头100的宽度尺寸，但喷墨头100非常昂贵，随着数量增加，存在初始成本、维护成本升高，会导致生产成本增加的问题。

本发明是鉴于上述问题而进行的，其目的在于提供一种涂布装置，其能够通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制涂布膜形成接缝不均。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明的涂布装置具备：保持基板的载台单元；和将涂布液涂布至上述载台单元上的基板的涂布单元，使由上述载台单元保持的基板与上述涂布单元相对移动，同时从上述涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，该涂布装置的特征在于，上述载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用上述吸附保持部保持浮起在上述浮起载台部上的基板的状态下，上述浮起载台部和上述吸附保持部相对于上述涂布单元移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，上述吸附保持部具备在与上述浮起载台部的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板的第1吸附保持部、和在上述浮起载台部的移动方向位置处吸附保持基板的第2吸附保持部。

根据上述涂布装置，由于具备在与浮起载台部的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板的第1吸附保持部、和在浮起载台部的移动方向位置处吸附保持基板的第2吸附保持部，因此对于由第1吸附保持部保持基板的保持状态和由第2吸附保持部保持基板的保持状态中的任一保持状态均能应对，即便在将基板的姿势变更90°的情况下也能吸附保持。即，即使在形成于基板上的涂布区域的长边部分的尺寸超过喷墨头的涂布宽度的情况下，短边部分的尺寸小于喷墨头的涂布宽度时，通过按照涂布区域的短边部分与涂布方向正交的方式将基板以旋转90°的状态进行保持，也能够以1次扫描在该涂布区域形成涂布膜。因此，能够在不在宽度方向增设喷墨头的情况下通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制在涂布膜形成接缝不均的问题。需要说明的是，根据基板的尺寸，在能够利用第1吸附保持部和第2吸附保持部两者吸附保持基板的情况下，也可以在能够通过1次扫描涂布基板上的涂布区域的姿势的状态下，由第1吸附保持部、第2吸附保持部两者吸附保持基板。

另外，可以为下述构成：在具有长边部和短边部的矩形状的基板被供给至上述浮起载台部上时，按照上述基板的长边部和与上述浮起载台部的移动方向正交的方向一致的方式进行供给的情况下，基板由上述第1吸附保持部所保持，按照上述基板的长边部与上述浮起载台部的移动方向一致的方式进行供给的情况下，基板由上述第2吸附保持部所保持。

根据该构成，可以根据基板的长边部的存在而由第1吸附保持部、第2吸附保持部中的任一吸附保持部来吸附保持基板，因此，即便是使基板旋转90°的任一姿势也能吸附保持。因此，能够根据形成于基板的涂布区域的配置状态来吸附保持基板，能够通过1次扫描在该涂布区域形成涂布膜。

另外，可以为下述构成：在上述浮起载台部，利用空气使基板浮起到规定高度位置。

根据该构成，能够避免基板与浮起载台部接触所带来的剥离带电的问题。

另外，可以为下述构成：在上述浮起载台部，利用支撑销使基板浮起到规定高度位置。

根据该构成，与利用空气浮起的情况相比，能够降低装置的成本，在技术上也能容易地构成。

另外，为了解决上述课题，本发明的涂布装置具备：保持基板的载台单元；和将涂布液涂布至上述载台单元上的基板的涂布单元，使由上述载台单元保持的基板与上述涂布单元相对移动，同时从上述涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，该涂布装置的特征在于，上述载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用上述吸附保持部保持浮起在上述浮起载台部上的基板的状态下，上述浮起载台部和上述吸附保持部相对于上述涂布单元移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，上述浮起载台部和上述吸附保持部形成为能够以上述浮起载台部的中心作为旋转中心而旋转，通过上述浮起载台部和上述吸附保持部旋转，由上述吸附保持部保持的基板的朝向变更90°。

根据上述涂布装置，能够在将基板供给至浮起载台部的状态下将基板的姿势变更90°，因此，能够抑制在将基板供给至载台单元前将基板的姿势变更90°的机械手等装置的设置必要性。

另外，作为上述涂布单元的具体方式，能够采用喷墨涂布方式，但也可以采用狭缝喷嘴方式、条纹涂布方式等。

发明的效果

根据本发明的涂布装置，能够通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制在涂布膜形成接缝不均。

附图说明

图1是示意性地示出本发明的涂布装置的俯视图。

图2是上述涂布装置的侧视图。

图3是将载台单元放大的正视图。

图4是示出喷墨头部的喷嘴的配置的图。

图5是说明吸附保持部的图，(a)是从Y轴方向观察的图，(b)是从上方观察的图。

图6是示出载台单元与涂布单元的位置关系的图，(a)是示出载台单元以通常状态移动的状态的图，(b)是示出载台单元通过旋转机构相对于涂布单元使基板倾斜而移动的状态的图。

图7是示出在基板形成涂布膜的状态的图，(a)是示出在按照小于喷墨头的涂布宽度的涂布区域的短边与喷墨头的扫描方向正交的方式所形成的涂布区域形成涂布膜的状态的图，(b)的左图是示出在按照小于喷墨头的涂布宽度的涂布区域的短边与喷墨头的扫描方向一致的方式所形成的涂布区域形成涂布膜的状态的图，右图是示出使左图的基板旋转90°而改变了方向的状态的图。

图8是示出在基板形成涂布膜的状态的图，左图是示出在配置多个涂布区域且使长边部与喷墨头的扫描方向一致而配置的基板形成涂布膜的状态的图，右图的基板是示出使左图的基板旋转90°而改变了方向的状态的图。

图9是示出现有的涂布装置的图。

图10是示出在基板形成涂布膜的状态的图，(a)是示出在形成有2个涂布区域的基板形成涂布膜的状态的图，(b)是示出在形成有多个涂布区域的基板形成涂布膜的状态的图。

图11是示出在基板形成涂布膜的状态的图，是示出通过2次扫描涂布至涂布区域而在涂布膜形成有接缝不均的状态的图。

具体实施方式

利用附图来说明本发明的涂布装置的实施方式。本实施方式中，对涂布单元2为喷墨涂布方式的情况进行说明，但也可以为狭缝喷嘴方式、条纹涂布方式等，本发明不限于涂布方式的样态。

图1是示出涂布装置的一个实施方式的俯视图，图2是该涂布装置的侧视图。

如图1、图2所示，涂布装置具有载置基板W的载台单元1、和将油墨(涂布液)涂布至基板W的涂布单元2，使涂布单元2和载置于载台单元1的基板W相对移动，同时将油墨排出到形成于基板W上的涂布区域α，由此在涂布区域α上形成涂布膜(包含涂布图案)。本实施方式的基板W形成为具有长边部和短边部的矩形状，在基板W上形成有多个涂布区域α。

需要说明的是，在下述说明中，将载台单元1移动的方向设为X轴方向(主扫描方向)，将在水平面上与其正交的方向设为Y轴方向(副扫描方向)，将与X轴和Y轴方向双方正交的方向设为Z轴方向，由此进行说明。

涂布装置具有底座3，在该底座3上设有载台单元1、涂布单元2。具体而言，在底座3上设有载台单元1行驶的第1轨道部31和涂布单元2行驶的第2轨道部32，本实施方式中，第1轨道部31配置于第2轨道部32的内侧。这些第1轨道部31和第2轨道部32在X轴方向上延伸形成，形成为载台单元1、涂布单元2分别能够沿着第1轨道部31、第2轨道部32在X轴方向上移动。本实施方式中，载台单元1能够移动到基板更换位置和涂布位置，涂布单元2能够移动到涂布位置和维护位置。

另外，涂布单元2使作为涂布材料的油墨着落在基板W上而进行涂布，具有排出涂布材料的喷墨头部21和支撑该喷墨头部21的台架部22。

该台架部22形成为大致门型形状，具有配置于第1轨道部31的Y轴方向两外侧的腿部22a、和连结这些腿部22a并在Y轴方向延伸的梁部件22b。并且，在该梁部件22b安装有喷墨头部21，台架部22安装成能够在Y轴方向上横跨第1轨道部31的状态下在X轴方向移动。具体而言，腿部22a可自由滑动地安装在第2轨道部32，通过驱动控制设置于腿部22a的线性马达，台架部22能够在X轴方向移动并在任意的位置停止。本实施方式中，能够在进行涂布操作的涂布位置和进行维护操作的维护位置停止。需要说明的是，涂布操作中，台架部22被固定在涂布位置。

另外，梁部件22b是连结两腿部22a的柱状部件。在该梁部件22b安装有喷墨头部21。具体而言，在梁部件22b的X轴方向中央位置安装有喷墨头部21，设置于该喷墨头部21的喷嘴23b、24b(参照图4)以朝向第1轨道部31的姿势进行安装。即，在台架部22位于涂布位置的状态下载台单元1在第1轨道部31移动，在载置于载台单元1的基板W位于喷墨头部21的正下方时，将作为涂布材料的油墨(液滴状的涂布液)排出，由此在基板W上形成涂布膜。

另外，喷墨头部21使多个喷嘴23b、24b一体化而成。本实施方式中，喷墨头部21拥有：具有多个喷嘴23b的第1喷嘴单元23、和具有多个喷嘴24b的第2喷嘴单元24，第1喷嘴单元23和第2喷嘴单元24以在X轴方向上彼此相邻配置的状态被固定。本实施方式中，喷嘴23b和喷嘴24b使用了相同的喷嘴，能够排出相同尺寸的粒径，但也可以构成为喷嘴23b和喷嘴24b使用异形喷嘴而能够排出粒径不同的油墨。

该喷墨头部21将第1喷嘴单元23和第2喷嘴单元24一体地形成为沿着梁部件22b延伸的形状。该第1喷嘴单元23和第2喷嘴单元24形成为基板W的短边部的尺寸的大致一半尺寸，对于小于基板W的短边部尺寸的一半的涂布区域α，能够通过一次扫描(1次扫描)形成涂布膜。

另外，在梁部22b上设有沿Y轴方向延伸的轨道(未图示)，在该轨道上可自由滑动地安装有喷墨头部21。并且，通过驱动控制线性马达，能够移动到任意的位置并停止。即，喷墨头部21能够在Y轴方向移动，根据涂布区域α的Y轴方向位置移动，能够以良好的精度使作为涂布材料的油墨着落。由此，在台架部22停止在涂布位置的状态下，载台单元1沿X轴方向移动，同时喷墨头部21沿Y轴方向移动，由此喷墨头部21和载台单元1相对移动，从喷墨头部21的喷嘴23b、24b排出油墨，从而能够使油墨以良好的精度着落在载台单元1上的基板W的涂布区域α。

如图4所示，第1喷嘴单元23具备：具有喷嘴23b的多个喷头模块23a。本实施方式中，多个喷头模块23a沿Y轴方向排列，配置在与涂布方向正交的方向上。喷头模块23a具有多个喷嘴23b，以喷嘴23b沿单向以规定的排列间距排列的状态进行设置。该喷嘴23b使用具有通用性的喷嘴，若对喷头模块23a施加驱动电压，则共通的驱动电压施加到各喷嘴23b，从各喷嘴23b排出规定液量的油墨。

另外，喷头模块23a错开配置，以使各自具有相互重复的部分。在图4的示例中，相邻的喷头模块23a在X轴方向上交替错开配置。即，这些喷头模块23a由于在喷嘴23b的配置间隔和喷头模块23a的两端部分尺寸不同，因此在X轴方向上错开并沿Y轴方向排列，以能够抵销该两端部分的尺寸量。即，在第1喷嘴单元23中，从X轴方向来看沿Y轴方向等间隔地配置有常规喷嘴23b，作为整个第1喷嘴单元23从X轴方向来看，沿Y轴方向以一定的排列间距排列有所有的常规喷嘴23b，从X轴方向来看在Y轴方向上等间隔地配置。由此，能够使油墨以良好的精度着落在基板W上的涂布区域α的规定位置，能够以良好的精度在涂布区域α形成涂布膜。

需要说明的是，第2喷嘴单元24的构成与第1喷嘴单元23相同，因此省略说明。

载台单元1保持基板W。此处，图3是将载台单元1放大的正视图。该载台单元1具有：安装在第1轨道部31的基部50、配置在该基部50上的浮起载台部11、和吸附保持部4。即，载台单元1利用吸附保持部4吸附保持通过浮起载台部11而浮起的状态的基板W，基部50沿着第1轨道部31移动，由此能够在吸附保持基板W的状态下沿X轴方向搬送。即，能够在浮起载台部11的移动方向(X轴方向)上搬送基板W。

浮起载台部11使基板W浮起，本实施方式中具有空气浮起机构。浮起载台部11设置于基部50上，形成为1张矩形平板形状。该浮起载台部11具有平滑的基板浮起表面11a(参照图3)，设定成基板浮起表面11a整体达到规定高度位置。并且，浮起载台部11通过在基板浮起表面11a与搬送的基板W之间形成空气层，能够使基板W浮起到规定高度位置。具体而言，在浮起载台部11形成有在基板浮起表面11a开口的微小的喷出口(未图示)和吸引口(未图示)，喷出口和压缩器由配管连接，吸引口和真空泵由配管连接。并且，通过使从喷出口喷出的空气与在吸引口产生的吸引力平衡，基板W能够以水平的姿势从基板浮起表面11a浮起到规定高度。由此，能够以高精度地维持基板W的平面姿势(称为平面度)的状态进行保持。

另外，如图5(b)所示，浮起载台部11形成为大致正方形，形成为比基板W的长边部的尺寸小。因此，若将基板W载置于基板浮起表面11a上，则成为基板W的端部从基板浮起表面11a露出的状态(参照图3、图5)。通过由后述的吸附保持部4保持该露出的部分(露出区域T)，能够搬送基板W。该浮起载台部11的Y轴方向尺寸设定为能够由吸附保持部4保持露出区域T的最小必要尺寸。本实施方式中，设定在基板W的除外区域。

基部50支撑浮起载台部11，安装成能够沿着第1轨道部31行驶。基部50设置成覆盖第1轨道部31的上表面。并且，在基部50的下表面(与第1轨道部31相向的面)安装有空气垫51，通过驱动线性马达(未图示)，基部50以在第1轨道部31上浮起的状态沿着第1轨道部31行驶。即，通过驱动控制线性马达，基部50在第1轨道部31上顺利地行驶，并能够在规定的位置停止。本实施方式中，构成为移动到基板更换位置和涂布位置，并能够在各位置停止。即，构成为：浮起载台部11和吸附保持部4成为一体，移动到基板更换位置和涂布位置，并能够在各位置停止。

另外，在浮起载台部11设有升降操作基板W的基板升降机构。即，在基板浮起表面11a形成有多个销孔15，在该销孔15中埋设有能够在Z轴方向进行升降操作的升降销14(参照图2)。由此，能够搬入、搬出基板W。即，在基板W的搬入时，在基板更换位置处，在使升降销14从基板浮起表面11a突出的状态下待机，若利用机械手F等搬入基板W，则基板W被载置于突出状态的升降销14的前端部分，由此基板W被保持在升降销14上。然后，通过从该状态降低升降销14并将其容纳在销孔15中，从而能够使基板W载置于基板浮起表面11a。另外，在基板W的搬出时，在基板更换位置处，通过使升降销14突出而使在基板浮起表面11a浮起的基板W保持在规定的高度位置。然后，通过利用机械手F等从基板W的下侧保持，能够将基板W从升降销14移交给机械手F。

另外，吸附保持部4吸附并保持基板W，其安装在基部50。吸附保持部4具有：保持基板W的Y轴方向端部的第1吸附保持部12、和保持基板W的X轴方向端部的第2吸附保持部。即，在将基板W载置于浮起载台部11时，在基板W的长边部在Y轴方向露出的情况下，由第1吸附保持部12吸附保持基板W，在基板W的长边部在X轴方向露出的情况下，由第2吸附保持部吸附保持基板W。需要说明的是，基板W在X轴方向、Y轴方向均从浮起载台部11露出的情况下，可以由第1吸附保持部12和第2吸附保持部两者进行吸附保持。

如图1、图3、图5所示，第1吸附保持部12具有：沿X轴方向延伸的平板状的框部12a、和安装于该框部12a的吸附部12b。该吸附部12b设置成进行升降操作，通过吸附部12b升降操作，能够与在浮起载台部11上浮起的基板W的背面接触和分离。本实施方式中，如图5(a)所示，在框部12a设有升降机构12c，通过该升降机构12c的升降操作，框部12a和吸附部12b一起进行升降操作。

框部12a支撑吸附部12b，其配置于基部50上。即，以夹持浮起载台部11的方式配置在Y轴方向两侧(参照图3、图5(b))，并沿着浮起载台部11的X轴方向配置。在该框部12a安装有多个吸附部12b，本实施方式中，在框部12a的长度方向上等间隔地配置(参照图5(a)、图5(b))。

吸附部12b吸附并保持基板W，其形成为长方体的块状。吸附部12b的长度方向沿着X轴方向配置，多个吸附部12b以一列排列安装在框部12a。吸附部12b的上表面部12bs平坦地形成，设定成全部吸附部12b的上表面部12bs为相同的高度位置。即，吸附部12b形成为在升降操作到下端位置和上端位置时，在该下端位置和上端位置处，全部吸附部12b的上表面部12bs为相同的高度位置。并且，在上表面部12bs形成有开口部，形成为在该开口部产生吸引力。因此，通过在基板W的下表面与吸附部12b的上表面部12bs抵接的状态下在开口部产生吸引力，基板W被吸附到吸附部12b的上表面部12bs，基板W被吸附保持在吸附部12b所设定的上表面部12bs的高度位置。

另外，第2吸附保持部13具有与第1吸附保持部12同样的构成，具有沿Y轴方向延伸的平板状的框部13a、和安装于该框部13a的吸附部13b。该吸附部13b设置成进行升降操作，通过吸附部13b升降操作，能够与在浮起载台部11上浮起的基板W的背面接触和分离。本实施方式中，如图5(a)所示，在框部13a设有升降机构13c，通过该升降机构13c的升降操作，框部13a和吸附部13b一起进行升降操作。

框部13a支撑吸附部13b，其配置于基部50上。即，以夹持浮起载台部11的方式配置在X轴方向两侧(参照图3、图5(b))，并沿着浮起载台部11的Y轴方向配置。在该框部13a安装有多个吸附部13b，本实施方式中，在框部13a的长度方向上等间隔地配置(参照图5(a)、图5(b))。

吸附部13b吸附并保持基板W，其形成为长方体的块状。吸附部13b的长度方向沿着X轴方向配置，多个吸附部13b以一列排列安装在框部13a。吸附部13b的上表面部13bs(参照图3)平坦地形成，设定成全部吸附部13b的上表面部13bs为相同的高度位置。即，吸附部13b形成为在升降操作到下端位置和上端位置时，在该下端位置和上端位置处，全部吸附部13b的上表面部13bs为相同的高度位置。并且，在上表面部13bs形成有开口部，形成为在该开口部产生吸引力。因此，通过在基板W的下表面与吸附部13b的上表面部13bs抵接的状态下在开口部产生吸引力，基板W被吸附到吸附部13b的上表面部13bs，基板W被吸附保持在吸附部13b的设定的上表面部13bs的高度位置。需要说明的是，该升降机构13c构成为能够独立于升降机构12c而操作。因此，第1吸附保持部12和第2吸附保持部13能够各自独立地吸附保持基板W。

本实施方式中，该第1吸附保持部12、第2吸附保持部13根据基板W的朝向来操作一个吸附保持部4。即，如图5(b)所示，在基板W的长边部沿着Y轴方向的姿势(图5(b)中基板W为双点划线的姿势)、即按照基板W的长边部和与浮起载台部11的移动方向正交的方向一致的方式进行供给的情况下，由第1吸附保持部12吸附保持基板W。另外，在基板W的长边部沿着X轴方向的姿势(图5(b)中基板W为虚线的姿势)、即按照基板W的长边部与浮起载台部11的移动方向一致的方式进行供给的情况下，由第2吸附保持部13吸附保持基板W。该基板W的姿势由能否对形成于基板W上的涂布区域α通过1次扫描进行涂布来决定，基板W的姿势信息包含在涂布操作中的方案(recipe)信息中。

该基板W的姿势由形成于基板W上的涂布区域α的形状决定。具体而言，如图7所示，图7(a)所示的基板W在其长边部沿着X轴方向的姿势下涂布区域α的宽度小于喷墨头部21的涂布宽度，因此，直接以长边部沿着X轴方向的姿势被供给，基板W由第2吸附保持部13吸附保持。之后，喷墨头部21在去程回程(X轴方向)进行扫描，通过1次扫描涂布各涂布区域α。

另外，图7(b)的左侧所示的基板W在其长边部沿着X轴方向的姿势下涂布区域α的宽度大于喷墨头部21的涂布宽度。即，即便以该状态扫描喷墨头21进行涂布操作，也无法通过1次扫描在涂布区域α形成涂布膜。这种情况下，由于涂布区域α的短边部分小于喷墨头21的涂布宽度，因此能够通过1次扫描进行涂布。因此，该情况下，使基板W旋转90°，在长边部沿着Y轴方向的姿势下供给基板W(图7(b)右侧的基板W)，由第1吸附保持部12吸附保持基板W。之后，喷墨头部21在去程回程(X轴方向)进行扫描，通过1次扫描涂布各涂布区域α。

另外，图8的左侧所示的基板W在其长边部沿着X轴方向的姿势下1个涂布区域α的宽度小于喷墨头部21的涂布宽度。因此，通过使喷墨头21对基板W进行3次扫描，若按照左侧的涂布区域α、中央的涂布区域α、右侧的涂布区域α的顺序进行涂布，则所有的涂布区域α能够通过1次扫描形成涂布膜。但是，从缩短节拍时间的方面出发，优选减少扫描次数。即，如图8的右图所示的基板W那样，旋转90°而以基板W的长边部沿着Y轴方向的姿势进行供给，若利用第1吸附保持部12保持基板W，即使将2个涂布区域α的短边部分合在一起也小于喷墨头21的涂布宽度，因此，通过在去程回程(X轴方向)分别以2列对涂布区域α进行涂布，能够通过2次扫描对基板W形成涂布膜，所有的涂布区域α能够通过1次扫描形成涂布膜。

需要说明的是，本实施方式中，该基板W基于方案信息在被供给到浮起载台部11之前利用机械手F等保持为基板W的长边部沿着X轴方向的姿势、或者长边部沿着Y轴方向的姿势，并由该机械手F供给到基板更换位置。

另外，载台单元1形成为能够绕Z轴旋转。本实施方式中，在基部50设有绕Z轴旋转的旋转机构53，构成为浮起载台部11能够绕Z轴旋转。具体而言，设有旋转机构53，该旋转机构53相对于基部50的载置浮起载台部11的平板部52与第1轨道部31连结的下侧部分绕Z轴旋转，通过旋转机构53的旋转而使平板部52旋转，从而与平板部52连结的浮起载台部11和吸附保持部4能够绕共通的Z轴旋转。即，通常，如图6(a)所示，在基板W被吸附保持于载台单元1的状态下，移动到涂布单元2侧，在基板W上形成涂布膜，但如图6(b)所示，可以在基板W被吸附保持于载台单元1的状态下绕浮起载台部11的中心轴旋转。并且，相对于喷墨头部21使基板W以具有规定角度的状态移动到涂布单元2侧，从而能够在基板W上形成涂布膜。由此，能够使油墨以小于喷墨头部21的喷嘴23b、24b各自的排列间距的间距着落，能够高精细地形成涂布膜。

另外，在载台单元1的X轴方向相反侧设有维护单元6。该维护单元6进行喷墨头部21的喷嘴23b、24b的维护工作。在维护单元6设有清洗装置、擦去装置、排液盘，定期使用这些装置进行维护工作。具体而言，在维护操作时，台架部22将第2轨道部32从涂布位置移动至维护位置，利用清洗装置对喷墨头部21的喷嘴面进行清洗。并且，利用擦去装置将附着于喷嘴面的清洗液等擦去后，在排液盘上进行渗出操作、冲洗操作，进行喷墨头部21的喷嘴23b、24b的恢复。一系列维护工作结束后，台架部22移动到涂布位置，为随后的涂布工序做准备。

这样，根据上述实施方式，由于具备在与浮起载台部11的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板W的第1吸附保持部12、和在浮起载台部11的移动方向位置处吸附保持基板W的第2吸附保持部13，因此对于由第1吸附保持部12保持基板W的保持状态和由第2吸附保持部13保持基板W的保持状态中的任一保持状态均能应对，即便在将基板W的姿势变更90°的情况下也能吸附保持。即，即使在形成于基板W上的涂布区域α的长边部分的尺寸超过喷墨头21的涂布宽度的情况下，短边部分的尺寸小于喷墨头21的涂布宽度时，通过按照该短边部分与涂布方向(浮起载台部11的移动方向)正交的方式将基板W以旋转90°的状态进行保持，也能够以1次扫描在该涂布区域α形成涂布膜。因此，能够在不在宽度方向增设喷墨头21的情况下通过1次扫描形成涂布膜，能够抑制在涂布膜形成接缝不均的问题。

另外，上述实施方式中，对通过机械手F等进行基板W的姿势变更的示例进行了说明，但也可以通过载台单元1的旋转机构53进行。该情况下，在基板W由第1吸附保持部12保持的状态下通过旋转机构53进行变更，由此可以变更基板W的长边部沿X轴方向的姿势或沿Y轴方向的姿势，可以变更以能够通过1次扫描进行涂布的朝向保持基板W的姿势。需要说明的是，在利用旋转机构53进行基板W的姿势变更时，能够在基板W被吸附保持部4吸附保持的状态下进行，因此无需具备第1吸附保持部12、第2吸附保持部13这两者，只要具有任一吸附保持部4即可。

另外，上述实施方式中，对第1吸附保持部12、第2吸附保持部13的吸附部12b、吸附部13b夹持着浮起载台部11配置于两侧的示例进行了说明，但也可以仅在浮起载台部11的任意一侧配置吸附部12b(或吸附部13b)，仅利用这一个吸附部12b(或吸附部13b)吸附保持基板W。另外，也可以在浮起载台部11的两侧配置吸附部12b(或吸附部13b)，仅使一个吸附部12b(或吸附部13b)工作来吸附保持基板W。

另外，上述实施方式中，对通过空气使基板W浮起在浮起载台11上的示例进行了说明，但也可以通过升降销14保持基板W并使其浮起到规定高度。另外，不同于升降销14，也可以在浮起载台11上设置多处在规定高度位置具有顶点的直立棒状的支撑销，利用该支撑销在使基板W浮起到规定高度的状态下进行保持。从不接触的方面出发，优选利用空气浮起，但升降销14、支撑销能够抑制涂布装置整体的成本而以低成本进行制作。需要说明的是，基板W的浮起也可以为使浮起载台部11进行超声波振动而使基板W浮起的构成。

另外，上述实施方式中，对第1吸附保持部12和第2吸附保持部13通过升降机构12c、13c进行升降操作的示例进行了说明，但也可以没有升降机构12c、13c而固定设置吸附部12b和吸附部13b，固定到基板W达到规定高度位置的位置。即，可以为下述构成：在利用升降销14将基板W搬入到高于规定高度位置的位置后，使升降销14下降，由此载置于第1吸附保持部12的吸附部12b、第2吸附保持部的吸附部13b并被吸引，从而基板W以位于规定高度位置的状态被吸附保持。

符号说明

1 载台单元

2 涂布单元

4 吸附保持部

11 浮起载台部

12 第1吸附保持部

13 第2吸附保持部

50 基部

W 基板

Claims (6)

1.一种涂布装置，该涂布装置具备：

保持基板的载台单元；和

将涂布液涂布至所述载台单元上的基板的涂布单元，

使由所述载台单元保持的基板与所述涂布单元相对移动，同时从所述涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，

该涂布装置的特征在于，

所述载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用所述吸附保持部保持浮起在所述浮起载台部上的基板的状态下，所述浮起载台部和所述吸附保持部相对于所述涂布单元移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，

所述吸附保持部具备在与所述浮起载台部的移动方向正交的方向位置处吸附保持基板的第1吸附保持部、和在所述浮起载台部的移动方向位置处吸附保持基板的第2吸附保持部。

2.如权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，在具有长边部和短边部的矩形状的基板被供给至所述浮起载台部上时，按照所述基板的长边部和与所述浮起载台部的移动方向正交的方向一致的方式进行供给的情况下，基板由所述第1吸附保持部所保持，按照所述基板的长边部与所述浮起载台部的移动方向一致的方式进行供给的情况下，基板由所述第2吸附保持部所保持。

3.如权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，在所述浮起载台部，利用空气使基板浮起到规定高度位置。

4.如权利要求1或2所述的涂布装置，其特征在于，在所述浮起载台部，利用支撑销使基板浮起到规定高度位置。

5.一种涂布装置，该涂布装置具备：

保持基板的载台单元；和

将涂布液涂布至所述载台单元上的基板的涂布单元，

使由所述载台单元保持的基板与所述涂布单元相对移动，同时从所述涂布单元排出涂布液，由此在基板上形成涂布膜，

该涂布装置的特征在于，

所述载台单元具有使基板浮起到规定高度位置的浮起载台部、和吸附保持基板的吸附保持部，其形成为在利用所述吸附保持部保持浮起在所述浮起载台部上的基板的状态下，所述浮起载台部和所述吸附保持部相对于所述涂布单元移动到搬入搬出基板的基板更换位置和在基板上涂布涂布液的涂布位置，

所述浮起载台部和所述吸附保持部形成为能够以所述浮起载台部的中心作为旋转中心而旋转，

通过所述浮起载台部和所述吸附保持部旋转，由所述吸附保持部保持的基板的朝向变更90°。

6.如权利要求1～5中任一项所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布单元为喷墨涂布方式。

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