CN113969404B - 一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及蚀刻液回收技术领域，尤其是一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，包括回收槽，所述回收槽侧面靠低端的位置固定连通有回收管，所述回收槽的内壁上从上至下依次设置有第一分隔板、第二分隔板和过滤板，所述回收槽的内部被分隔板和过滤板分成电解腔、中和腔和过滤腔。整个回收处理过程，通过电解和中和两个手段进行了两次处理，提高了对蚀刻液处理的能力，有利于保证回收的蚀刻液的纯正，并且通过过滤板的过滤后，将杂质和中和沉淀物也进行了过滤处理，使得回收的蚀刻液更加整洁。

Description

一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置

技术领域

本发明涉及蚀刻液回收领域，尤其涉及一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置。

背景技术

引线框架的生产中，蚀刻是一个普遍存在的过程，主要是指将线路板上不需要的金属铜除去。一般情况下，线路板的蚀刻是一个化学蚀刻过程，蚀刻完后的蚀刻液含有很高浓度的铜离子和其他化学物质。过去，对于这些废液的处理一般是交由有资质的危废处理商回收处理。方法主要是通过电解对蚀刻液进行提铜，电解后产生了可利用的铜块以及可回收的蚀刻液电解液，蚀刻液电解液在高氧化性的条件下能够提高回用效果。

现有技术公开了部分有关蚀刻液回收的专利文件，申请号为201920708291.8的中国专利，公开了一种蚀刻液电解液回收装置，通过设置回收容器和第一连接管，第一连接管的一端连接有回收容器，另一端连接有阳极框，其中阳极框为蚀刻液电解回收系统中用于放置阳极板的框架，通过管路连接将蚀刻液电解液的回收位置设置在阳极框上。

现有技术中，在对引线框架蚀刻液进行回收的过程中，处理手段单一，多通过点解方式将金属离子电解出来，从而将蚀刻液进行处理，但是电解能力有限，会导致金属离子残留，并且在电解完成后，蚀刻液中还会残留部分杂质，直接回收会引线蚀刻液的洁净度，影响蚀刻液的蚀刻性能。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置。

为达到以上目的，本发明采用的技术方案为：一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，包括回收槽，所述回收槽侧面靠低端的位置固定连通有回收管，所述回收槽的内壁上从上至下依次设置有第一分隔板、第二分隔板和过滤板，所述回收槽的内部被分隔板和过滤板分成电解腔、中和腔和过滤腔，所述中和腔的侧壁上固定连通有注液机构，所述第一分隔板和第一分隔板均与回收槽的内壁固定连接，所述第一分隔板和第二分隔板上分别设置有第一排液机构和第二排液机构，所述第一排液机构排液时第二排液机构处于关闭状态，所述过滤板的外侧壁均与回收槽的内壁滑动密封，所述过滤板的两侧共同设置有高度调节装置，所述回收槽的侧面设置有排污机构，所述排污机构位于过滤板的下方，所述回收槽的内壁上对应排污机构的位置设置有用于调整过滤板倾斜的倾斜调整机构。

优选的，所述第一排液机构包括第一安装槽、第一通口，所述第一安装槽开设在第一分隔板的内部，所述第一安装槽的内壁上滑动密封有第一密封板，所述第一密封板的顶部开设有线性阵列分布的第一连通槽，所述第一通口线性阵列开设在第一分隔板的表面上，所述第一通口与第一连通槽对接连通，所述第一密封板的右端与第一安装槽的内壁之间共同固定连接有第一复位弹簧，所述第一密封板底部靠右端的位置固定连接有第一联动块，所述第一分隔板底部的左端开设有供第一联动块滑动的让位槽，所述第一联动块上连接有位置调节机构。

优选的，所述位置调节机构包括第一电机，所述第一电机固定连接在回收槽的侧面，所述第一电机的输出端延伸至回收槽的内部后固定连接有第一螺纹杆，所述第一螺纹杆贯穿第一联动块并与第一联动块螺纹连接。

优选的，所述第二排液机构包括第二安装槽、第二通口，所述第二安装槽开设在第二分隔板的内部，所述第二安装槽的内壁上滑动密封有第二密封板，所述第二密封板的右端与第二安装槽的内壁之间共同固定连接有第二复位弹簧，所述第二密封板的顶部开设有线性阵列分布的第二连通槽，所述第二通口线性阵列开设在第二分隔板的顶部，所述第二通口与第二连通槽错位设置，所述第二密封板顶部的右侧固定连接有第二联动块，所述第二密封板的顶部开设有供第二联动块滑动的让位槽，所述第二联动块的顶部固定连接有联动槽体，所述联动槽体的内壁与第一联动块的底部滑动连接，所述联动槽体内壁的左侧与第一联动块相互接触。

优选的，所述高度调节装置包括两个让位滑槽，两个遮挡板，两个所述让位滑槽分别开设在回收槽内壁的前后两侧，两个所述遮挡板分别固定连接在过滤板的前后两侧，所述遮挡板的背面与回收槽的内壁滑动密封，所述遮挡板用于对让位滑槽的遮挡密封，所述让位滑槽的内部设置有连接滑块，两个所述连接滑块分别固定连接在遮挡板的表面上，所述连接滑块远离过滤板的一侧开设有腰槽，所述腰槽的内壁上滑动连接有两个半柱体，两个所述半柱体合并时可以组成一个圆柱体，两个所述半柱体之间共同滑动插接有连接杆，所述连接杆的两端均与腰槽的内壁固定连接，所述连接杆的表面上套接有两个第三复位弹簧，两个所述半柱体的侧面均开设有容纳槽，两个第三复位弹簧的两端分别两侧的容纳槽内壁固定连接，两个所述半柱体延伸出腰槽后共同滑动连接有升降滑块，所述升降滑块的侧面开设有供半柱体滑动的腰槽，所述升降滑块和连接滑块均位于让位滑槽内，所述升降滑块的侧面延伸出让位滑槽且延伸至回收槽的外部，所述升降滑块的顶部螺纹连接有第二螺纹杆，所述第二螺纹杆的底部贯穿升降滑块后固定连接有第二电机，所述第二电机固定连接在回收槽的表面上。

优选的，所述电解机构包括离子膜、阳极连接片和阴极连接片，所述离子膜固定连接在电解腔内壁的中间位置，所述阳极连接片固定连接在电解腔内壁的左侧，所述阴极连接片固定连接在电解腔的右侧。

优选的，所述倾斜调整机构包括第一弧形槽和第二弧形槽、引导槽轨、两个连接槽，所述第一弧形槽和第二弧形槽分别开设在回收槽内壁的两侧，所述第一弧形槽和第二弧形槽均位于过滤板的下方且顶端平齐，所述引导槽轨固定连接在让位滑槽的内壁上，所述引导槽轨包括第一引导槽和第二引导槽，两个所述半柱体的侧面与第一引导槽的内壁滑动接触，两个连接槽分别开设在过滤板的两端，所述连接槽的内壁上滑动连接有延伸板，所述延伸板与连接槽的内壁之间共同固定连接有第四复位弹簧，所述第二弧形槽的底端在竖直方向上高于第一弧形槽的底端。

优选的，所述排污机构包括排污通口，所述排污通口的开设在回收槽的侧面且与第一弧形槽连通，所述排污通口的内壁上铰接有密封盖，所述密封盖的内侧面开设有与第一弧形槽壁配合的弧形面，所述密封盖的侧面固定连接有两个引导板，所述引导板的表面上均开设有斜向的腰槽，所述斜向的腰槽的内壁上滑动连接有连接销，所述连接销的侧面共同固定连接有联动架，所述联动架的两端均与同侧的升降滑块的侧面固定连接。

优选的，所述让位滑槽内壁的底部连接有用于对连接滑块进行水平支撑的弹性支撑机构，所述弹性支撑机构包括气弹簧，所述气弹簧固定连接在让位滑槽内壁的底部，所述气弹簧的输出杆的端部固定连接有扶持板，所述扶持板的顶部与连接滑块的底部相互接触。

优选的，所述注液机构包括注液管，所述注液管固定连通在中和腔的内侧壁上且端部延伸至回收槽的外部，所述注液管的表面上线性阵列开设有多组排液孔，每组排液孔环形阵列分布，所述注液管的表面上套接有遮挡管，所述遮挡管的表面上开设有与排液孔对接连通的第三连通槽，所述遮挡管的端部与第二联动块的侧面固定连接。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

一、整个回收处理过程，通过电解和中和两个手段进行了两次处理，提高了对蚀刻液处理的能力，有利于保证回收的蚀刻液的纯正，并且通过过滤板的过滤后，将杂质和中和沉淀物也进行了过滤处理，使得回收的蚀刻液更加整洁。

二、通过设置倾斜调整机构，当过滤板被高度调整机构调整至排污机构时，使得过滤板形成倾斜的状态，从而将过滤板上的过滤物进行倾斜汇集，使得过滤物汇集至第一弧形槽处，从而通过排污机构进行排出，无需工作人员借助工具进行汇集，方便操作。

三、在升降滑块向下移动的过程中，带动联动架向下移动，联动架同步带动连接销向下移动，连接销在引导板的腰槽内移动而作用引导板，使得引导板带动密封盖翻转，解除对排污通口的密封，从而将正在汇集的过滤物进行自动排出，无需人工手动排污，方便及时，提高了整个装置的自动化程度，及时维持过滤板的整洁，方便使用。

当第二移动滑块带动第一密封板上的第一连通槽与第一通水口连通的过程中，第二联动滑块会同步带动遮挡管移动，使得第三连通槽与排液口对接连通，将中和液分散注入，使得中和液与排入的蚀刻液进行及时的混合，有利于将中和液与排入的蚀刻液进行快速混合而进行中和反应。

附图说明

图1为本发明的第一总体结构示意图；

图2为图1中A部分局部放大图；

图3为本发明局部剖面后的总体结构示意图；

图4为本发明图3中B部分局部放大图；

图5为本发明中第一分隔板和第二分隔板连接情况局部剖面后结构示意图；

图6为本发明图5中C部分局部放大图；

图7为本发明图5中D部分局部放大图；

图8为为本发明的第二总体结构示意图；

图9为本发明连接滑块、遮挡板、引导槽轨、升降滑块连接情况的第一爆炸图；

图10为图9中E部分局部放大图；

图11为本发明连接滑块、遮挡板、引导槽轨、升降滑块连接情况的第二爆炸图；

图12为为本发明中回收槽剖开后的排污时的工作状态图（隐藏了排污机构）；

图13为图12中F部分局部放大图；

图14为图12中G部分局部放大图。

图中：1、回收槽；101、电解腔；102、中和腔；103、过滤腔；2、回收管；3、第一分隔板；4、第二分隔板；5、过滤板；6、注液管；7、第一安装槽；8、第一通口；9、第一密封板；10、第一连通槽；11、第一复位弹簧；12、第一联动块；13、第一电机；14、第一螺纹杆；15、第二安装槽；16、第二通口；17、第二密封板；18、第二复位弹簧；19、第二连通槽；20、第二联动块；21、联动槽体；22、连接滑块；23、半柱体；24、连接杆；25、第三复位弹簧；26、升降滑块；27、让位滑槽；28、第二螺纹杆；29、第二电机；30、遮挡板；31、离子膜；32、阳极连接片；33、阴极连接片；34、第一弧形槽；35、第二弧形槽；36、引导槽轨；37、第一引导槽；38、第二引导槽；39、连接槽；40、延伸板；41、第四复位弹簧；42、排污通口；43、密封盖；44、引导板；45、连接销；46、联动架；47、气弹簧；48、扶持板；49、排液孔；50、遮挡管；51、第三连通槽。

具体实施方式

以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例，本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。

如图1至图14所示的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，包括回收槽1，回收槽1侧面靠低端的位置固定连通有回收管2，回收槽1的内壁上从上至下依次设置有第一分隔板3、第二分隔板4和过滤板5，回收槽1的内部被分隔板和过滤板5分成电解腔101、中和腔102和过滤腔103，中和腔102的侧壁上固定连通有注液机构，第一分隔板3和第一分隔板3均与回收槽1的内壁固定连接，第一分隔板3和第二分隔板4上分别设置有第一排液机构和第二排液机构，第一排液机构排液时第二排液机构处于关闭状态，过滤板5的外侧壁均与回收槽1的内壁滑动密封，过滤板5的两侧共同设置有高度调节装置，回收槽1的侧面设置有排污机构，排污机构位于过滤板5的下方，回收槽1的内壁上对应排污机构的位置设置有用于调整过滤板5倾斜的倾斜调整机构；工作时，现有技术中，在对引线框架蚀刻液进行回收的过程中，处理手段单一，多通过电解方式将金属离子电解出来，从而将蚀刻液进行处理，但是电解能力有限，会导致金属离子残留，并且在电解完成后，蚀刻液中还会残留部分杂质，直接回收会影响蚀刻液的洁净度，影响蚀刻液的蚀刻性能，本技术方案可以解决上述问题，具体的工作方式如下，先将蚀刻液倒入回收槽1上方的电解腔101内，通过电解装置进行电解，进行初步处理，然后通过第一排液机构将电解处理后的蚀刻液排至中和腔102内，在排液的过程中，同时通过注液机构向中和腔102内注入中和液，蚀刻液通常为稀释后的硫酸溶液，中和液可以为硫化氢溶液，从而将未电解完的铜离子给中和成硫化铜，从而形成沉淀物，当中和一段时间后，通过第二排液机构将中和后的蚀刻液排放至过滤腔103内，通过过滤板5的过滤后流至回收槽1的底部，并且通过回收管2排出进行集中收集，整个回收处理过程，通过电解和中和两个手段进行了两次处理，提高了对蚀刻液处理的能力，有利于保证回收的蚀刻液的纯正，并且通过过滤板5的过滤后，将杂质和中和沉淀物也进行了过滤处理，使得回收的蚀刻液更加整洁。

作为本发明的一种实施方式，第一排液机构包括第一安装槽7、第一通口8，第一安装槽7开设在第一分隔板3的内部，第一安装槽7的内壁上滑动密封有第一密封板9，第一密封板9的顶部开设有线性阵列分布的第一连通槽10，第一通口8线性阵列开设在第一分隔板3的表面上，第一通口8与第一连通槽10对接连通，第一密封板9的右端与第一安装槽7的内壁之间共同固定连接有第一复位弹簧11，第一密封板9底部靠右端的位置固定连接有第一联动块12，第一分隔板3底部的左端开设有供第一联动块12滑动的让位槽，第一联动块12上连接有位置调节机构；工作时，当需要将电解腔101内的蚀刻液排至中和腔102时，通过位置调节机构调节第一联动块12滑动，第一联动块12带动第一密封板9移动，使得第一密封板9带动第一连接槽39与第一通口8对接连通，从而实现将电解腔101内的蚀刻液排至中和腔102内，实现排放。

作为本发明的一种实施方式，位置调节机构包括第一电机13，第一电机13固定连接在回收槽1的侧面，第一电机13的输出端延伸至回收槽1的内部后固定连接有第一螺纹杆14，第一螺纹杆14贯穿第一联动块12并与第一联动块12螺纹连接；工作时，需要移动第一联动块12时，启动第一电机13，第一电机13带动第一螺纹杆14转动，第一螺纹杆14的旋转会驱动第一联动块12移动，从而实现调整第一联动块12位置的作用。

作为本发明的一种实施方式，第二排液机构包括第二安装槽15、第二通口16，第二安装槽15开设在第二分隔板4的内部，第二安装槽15的内壁上滑动密封有第二密封板17，第二密封板17的右端与第二安装槽15的内壁之间共同固定连接有第二复位弹簧18，第二密封板17的顶部开设有线性阵列分布的第二连通槽19，第二通口16线性阵列开设在第二分隔板4的顶部，第二通口16与第二连通槽19错位设置，第二密封板17顶部的右侧固定连接有第二联动块20，第二密封板17的顶部开设有供第二联动块20滑动的让位槽，第二联动块20的顶部固定连接有联动槽体21，联动槽体21的内壁与第一联动块12的底部滑动连接，联动槽体21内壁的左侧与第一联动块12相互接触；工作时，当需要将中和腔102内的蚀刻液排至过滤腔103时，通过位置调节机构继续驱动第一联动块12向带动第一密封板9向密封的方向移动，直至第一联动块12带动第二联动块20移动，使得第二联动块20同步带动第二密封板17上的第二连通槽19与第二通口16对接连通，实现对蚀刻液的排放，并且在第一排放机构排放的过程中，第二排放机构始终保持密封，避免蚀刻液被之间排放置过滤腔103而错失中和。

作为本发明的一种实施方式，高度调节装置包括两个让位滑槽27，两个遮挡板30，两个让位滑槽27分别开设在回收槽1内壁的前后两侧，两个遮挡板30分别固定连接在过滤板5的前后两侧，遮挡板30的背面与回收槽1的内壁滑动密封，遮挡板30用于对让位滑槽27的遮挡密封，让位滑槽27的内部设置有连接滑块22，两个连接滑块22分别固定连接在遮挡板30的表面上，连接滑块22远离过滤板5的一侧开设有腰槽，腰槽的内壁上滑动连接有两个半柱体23，两个半柱体23合并时可以组成一个圆柱体，两个半柱体23之间共同滑动插接有连接杆24，连接杆24的两端均与腰槽的内壁固定连接，连接杆24的表面上套接有两个第三复位弹簧25，两个半柱体23的侧面均开设有容纳槽，两个第三复位弹簧25的两端分别两侧的容纳槽内壁固定连接，两个半柱体23延伸出腰槽后共同滑动连接有升降滑块26，升降滑块26的侧面开设有供半柱体23滑动的腰槽，升降滑块26和连接滑块22均位于让位滑槽27内，升降滑块26的侧面延伸出让位滑槽27且延伸至回收槽1的外部，升降滑块26的顶部螺纹连接有第二螺纹杆28，第二螺纹杆28的底部贯穿升降滑块26后固定连接有第二电机29，第二电机29固定连接在回收槽1的表面上；工作时，通过高度调节装置起到了将过滤板5的高度进行调节，以便于过滤板5在水平状态进行过滤，使得落下的蚀刻液可以平铺到过滤板5上，避免蚀刻液由于过滤面不平而造成汇集现象，有利于均匀过滤，当过滤完成需要进行排污时，通过高度调节装置将过滤板5降低至排污机构处，并且在倾斜调整机构的配合下将过滤板5倾斜，有利于对过滤板5表面的过滤物进行汇集清理，需要调节高度时，通过第二电机29带动升降滑块26移动，升降滑块26同步带动两个半柱体23移动，两个半柱体23下降，从而两个半柱体23带动同步带动连接滑块22移动，连接滑块22同步带动过滤板5移动，从而实现对高度的调节。

作为本发明的一种实施方式，电解机构包括离子膜31、阳极连接片32和阴极连接片33，离子膜31固定连接在电解腔101内壁的中间位置，阳极连接片32固定连接在电解腔101内壁的左侧，阴极连接片33固定连接在电解腔101的右侧；电解时，将阳极连接片32和阴极连接片33与外设的电源进行通电即可，阴极连接片上析出铜，2CuSO4+2H2O=通电=2H2SO4+2Cu+O2↑ ，阳极反应式:4OH- -4e-=2H2O+O2↑ ，阴极反应式:Cu2+ +2e-=Cu ，因此将铜析出，达到将蚀刻液进行处理的作用。

作为本发明的一种实施方式，倾斜调整机构包括第一弧形槽34和第二弧形槽35、引导槽轨36、两个连接槽39，第一弧形槽34和第二弧形槽35分别开设在回收槽1内壁的两侧，第一弧形槽34和第二弧形槽35均位于过滤板5的下方且顶端平齐，引导槽轨36固定连接在让位滑槽27的内壁上，引导槽轨36包括第一引导槽37和第二引导槽38，两个半柱体23的侧面与第一引导槽37的内壁滑动接触，两个连接槽39分别开设在过滤板5的两端，连接槽39的内壁上滑动连接有延伸板40，延伸板40与连接槽39的内壁之间共同固定连接有第四复位弹簧41，第二弧形槽35的底端在竖直方向上高于第一弧形槽34的底端；工作时，在清理过滤物时，如果过滤板5处水平状态，不便于将过滤板5上的过滤物集中到排污机构处，需要工作人员借助工具进行清理，较为麻烦，本技术方案可以解决上述问题，具体的工作方式如下，当高度调节机构带动连接滑块22下降的过程中，两个半柱体23会被引导槽轨36进行引导，在从第一引导槽37移动至第二引导槽38的过程中，半柱体23会被推动而相互靠近，当两个半柱体23均移动至第二引导槽38内后实现合并，使得两个半柱体23合并成了柱体，进而两个半柱体23可以在外力作用下在升降滑块26的腰槽内旋转滑动，在继续向下移动的过程中，过滤板5的两端会移动至第一弧形槽34和第二弧形槽35内，延伸板40会在第四复位弹簧41的作用下伸出与第一弧形槽34和第二弧形槽35的槽壁贴合，避免过滤物掉落，第二弧形槽35的底端会先对过滤板5的一端进行支撑限位，使得过滤板5以两个半柱体23形成的柱体为轴发生翻转，直至过滤板5的另一端被第一弧形槽34的底端限位住，停止高度的调节，使得过滤板5形成倾斜的状态，从而将过滤板5上的过滤物进行倾斜汇集，使得过滤物汇集至第一弧形槽34处，从而通过排污机构进行排出，无需工作人员借助工具进行汇集，方便操作，在高度调节装置的调节下，连接滑块22在带着过滤板5上升的过程中，过滤板5重新恢复至水平状态靠两个半柱体23的弹性复位而撑开而形成水平，过滤板5重新恢复水平而与回收槽1的内壁滑动密封。

作为本发明的一种实施方式，排污机构包括排污通口42，排污通口42的开设在回收槽1的侧面且与第一弧形槽34连通，排污通口42的内壁上铰接有密封盖43，密封盖43的内侧面开设有与第一弧形槽34壁配合的弧形面，密封盖43的侧面固定连接有两个引导板44，引导板44的表面上均开设有斜向的腰槽，斜向的腰槽的内壁上滑动连接有连接销45，连接销45的侧面共同固定连接有联动架46，联动架46的两端均与同侧的升降滑块26的侧面固定连接；工作时，在升降滑块26向下移动的过程中，带动联动架46向下移动，联动架46同步带动连接销45向下移动，连接销45在引导板44的腰槽内移动而作用引导板44，使得引导板44带动密封盖43翻转，解除对排污通口42的密封，从而将正在汇集的过滤物进行自动排出，无需人工手动排污，方便及时，提高了整个装置的自动化程度，及时维持过滤板5的整洁，方便使用。

作为本发明的一种实施方式，让位滑槽27内壁的底部连接有用于对连接滑块22进行水平支撑的弹性支撑机构，弹性支撑机构包括气弹簧47，气弹簧47固定连接在让位滑槽27内壁的底部，气弹簧47的输出杆的端部固定连接有扶持板48，扶持板48的顶部与连接滑块22的底部相互接触；工作时，由于连接滑块22在带着过滤板5上升的过程中，过滤板5重新恢复至水平状态仅仅靠两个半柱体23的复位而撑开而形成水平状态，较为费力，通过设置弹性支撑机构，气弹簧47会始终带动扶持板48对连接滑块22的底面进行支撑，有一个推动连接滑块22水平的作用力，从而在上升的过程中扶持板48会给一个作用力，有利于帮助过滤板5重新恢复水平而与回收槽1的内壁滑动密封。

作为本发明的一种实施方式，注液机构包括注液管6，注液管6固定连通在中和腔102的内侧壁上且端部延伸至回收槽1的外部，注液管6的表面上线性阵列开设有多组排液孔49，每组排液孔49环形阵列分布，注液管6的表面上套接有遮挡管50，遮挡管50的表面上开设有与排液孔49对接连通的第三连通槽51，遮挡管50的端部与第二联动块20的侧面固定连接；工作时，排液管如果过于集中的注入中和液，不利于中和液与蚀刻液的快速混合，本技术方案可以解决上述问题，具体的工作方式如下，当第二移动滑块带动第一密封板9上的第一连通槽10与第一通水口连通的过程中，第二联动滑块会同步带动遮挡管50移动，使得第三连通槽51与排液口对接连通，将中和液分散注入，使得中和液与排入的蚀刻液进行及时的混合，有利于将中和液与排入的蚀刻液进行快速混合而进行中和反应。

本发明工作原理：

工作时，现有技术中，在对引线框架蚀刻液进行回收的过程中，处理手段单一，多通过电解方式将金属离子电解出来，从而将蚀刻液进行处理，但是电解能力有限，会导致金属离子残留，并且在电解完成后，蚀刻液中还会残留部分杂质，直接回收会影响蚀刻液的洁净度，影响蚀刻液的蚀刻性能，本技术方案可以解决上述问题，具体的工作方式如下，先将蚀刻液倒入回收槽1上方的电解腔101内，通过电解装置进行电解，进行初步处理，然后通过第一排液机构将电解处理后的蚀刻液排至中和腔102内，在排液的过程中，同时通过注液机构向中和腔102内注入中和液，蚀刻液通常为稀释后的硫酸溶液，中和液可以为硫化氢溶液，从而将未电解完的铜离子给中和成硫化铜，从而形成沉淀物，当中和一段时间后，通过第二排液机构将中和后的蚀刻液排放至过滤腔103内，通过过滤板5的过滤后流至回收槽1的底部，并且通过回收管2排出进行集中收集，整个回收处理过程，通过电解和中和两个手段进行了两次处理，提高了对蚀刻液处理的能力，有利于保证回收的蚀刻液的纯正，并且通过过滤板5的过滤后，将杂质和中和沉淀物也进行了过滤处理，使得回收的蚀刻液更加整洁。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明的范围内，本发明要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。

Claims (8)

1.一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，包括回收槽（1），所述回收槽（1）侧面靠低端的位置固定连通有回收管（2），其特征在于，所述回收槽（1）的内壁上从上至下依次设置有第一分隔板（3）、第二分隔板（4）和过滤板（5），所述回收槽（1）的内部被分隔板和过滤板（5）分成电解腔（101）、中和腔（102）和过滤腔（103），所述中和腔（102）的侧壁上固定连通有注液机构，所述第一分隔板（3）和第一分隔板（3）均与回收槽（1）的内壁固定连接，所述第一分隔板（3）和第二分隔板（4）上分别设置有第一排液机构和第二排液机构，所述第一排液机构排液时第二排液机构处于关闭状态，所述过滤板（5）的外侧壁均与回收槽（1）的内壁滑动密封，所述过滤板（5）的两侧共同设置有高度调节装置，所述回收槽（1）的侧面设置有排污机构，所述排污机构位于过滤板（5）的下方，所述回收槽（1）的内壁上对应排污机构的位置设置有用于调整过滤板（5）倾斜的倾斜调整机构；

所述高度调节装置包括两个让位滑槽（27），两个遮挡板（30），两个所述让位滑槽（27）分别开设在回收槽（1）内壁的前后两侧，两个所述遮挡板（30）分别固定连接在过滤板（5）的前后两侧，所述遮挡板（30）的背面与回收槽（1）的内壁滑动密封，所述遮挡板（30）用于对让位滑槽（27）的遮挡密封，所述让位滑槽（27）的内部设置有连接滑块（22），两个所述连接滑块（22）分别固定连接在遮挡板（30）的表面上，所述连接滑块（22）远离过滤板（5）的一侧开设有腰槽，所述腰槽的内壁上滑动连接有两个半柱体（23），两个所述半柱体（23）合并时可以组成一个圆柱体，两个所述半柱体（23）之间共同滑动插接有连接杆（24），所述连接杆（24）的两端均与腰槽的内壁固定连接，所述连接杆（24）的表面上套接有两个第三复位弹簧（25），两个所述半柱体（23）的侧面均开设有容纳槽，两个第三复位弹簧（25）的两端分别两侧的容纳槽内壁固定连接，两个所述半柱体（23）延伸出腰槽后共同滑动连接有升降滑块（26），所述升降滑块（26）的侧面开设有供半柱体（23）滑动的腰槽，所述升降滑块（26）和连接滑块（22）均位于让位滑槽（27）内，所述升降滑块（26）的侧面延伸出让位滑槽（27）且延伸至回收槽（1）的外部，所述升降滑块（26）的顶部螺纹连接有第二螺纹杆（28），所述第二螺纹杆（28）的底部贯穿升降滑块（26）后固定连接有第二电机（29），所述第二电机（29）固定连接在回收槽（1）的表面上；

所述倾斜调整机构包括第一弧形槽（34）和第二弧形槽（35）、引导槽轨（36）、两个连接槽（39），所述第一弧形槽（34）和第二弧形槽（35）分别开设在回收槽（1）内壁的两侧，所述第一弧形槽（34）和第二弧形槽（35）均位于过滤板（5）的下方且顶端平齐，所述引导槽轨（36）固定连接在让位滑槽（27）的内壁上，所述引导槽轨（36）包括第一引导槽（37）和第二引导槽（38），两个所述半柱体（23）的侧面与第一引导槽（37）的内壁滑动接触，两个连接槽（39）分别开设在过滤板（5）的两端，所述连接槽（39）的内壁上滑动连接有延伸板（40），所述延伸板（40）与连接槽（39）的内壁之间共同固定连接有第四复位弹簧（41），所述第二弧形槽（35）的底端在竖直方向上高于第一弧形槽（34）的底端。

2.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述第一排液机构包括第一安装槽（7）、第一通口（8），所述第一安装槽（7）开设在第一分隔板（3）的内部，所述第一安装槽（7）的内壁上滑动密封有第一密封板（9），所述第一密封板（9）的顶部开设有线性阵列分布的第一连通槽（10），所述第一通口（8）线性阵列开设在第一分隔板（3）的表面上，所述第一通口（8）与第一连通槽（10）对接连通，所述第一密封板（9）的右端与第一安装槽（7）的内壁之间共同固定连接有第一复位弹簧（11），所述第一密封板（9）底部靠右端的位置固定连接有第一联动块（12），所述第一分隔板（3）底部的左端开设有供第一联动块（12）滑动的让位槽，所述第一联动块（12）上连接有位置调节机构。

3.根据权利要求2所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述位置调节机构包括第一电机（13），所述第一电机（13）固定连接在回收槽（1）的侧面，所述第一电机（13）的输出端延伸至回收槽（1）的内部后固定连接有第一螺纹杆（14），所述第一螺纹杆（14）贯穿第一联动块（12）并与第一联动块（12）螺纹连接。

4.根据权利要求2所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述第二排液机构包括第二安装槽（15）、第二通口（16），所述第二安装槽（15）开设在第二分隔板（4）的内部，所述第二安装槽（15）的内壁上滑动密封有第二密封板（17），所述第二密封板（17）的右端与第二安装槽（15）的内壁之间共同固定连接有第二复位弹簧（18），所述第二密封板（17）的顶部开设有线性阵列分布的第二连通槽（19），所述第二通口（16）线性阵列开设在第二分隔板（4）的顶部，所述第二通口（16）与第二连通槽（19）错位设置，所述第二密封板（17）顶部的右侧固定连接有第二联动块（20），所述第二密封板（17）的顶部开设有供第二联动块（20）滑动的让位槽，所述第二联动块（20）的顶部固定连接有联动槽体（21），所述联动槽体（21）的内壁与第一联动块（12）的底部滑动连接，所述联动槽体（21）内壁的左侧与第一联动块（12）相互接触。

5.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述电解腔（101）的内部连接有电解机构，所述电解机构包括离子膜（31）、阳极连接片（32）和阴极连接片（33），所述离子膜（31）固定连接在电解腔（101）内壁的中间位置，所述阳极连接片（32）固定连接在电解腔（101）内壁的左侧，所述阴极连接片（33）固定连接在电解腔（101）的右侧。

6.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述排污机构包括排污通口（42），所述排污通口（42）的开设在回收槽（1）的侧面且与第一弧形槽（34）连通，所述排污通口（42）的内壁上铰接有密封盖（43），所述密封盖（43）的内侧面开设有与第一弧形槽（34）壁配合的弧形面，所述密封盖（43）的侧面固定连接有两个引导板（44），所述引导板（44）的表面上均开设有斜向的腰槽，所述斜向的腰槽的内壁上滑动连接有连接销（45），所述连接销（45）的侧面共同固定连接有联动架（46），所述联动架（46）的两端均与同侧的升降滑块（26）的侧面固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述让位滑槽（27）内壁的底部连接有用于对连接滑块（22）进行水平支撑的弹性支撑机构，所述弹性支撑机构包括气弹簧（47），所述气弹簧（47）固定连接在让位滑槽（27）内壁的底部，所述气弹簧（47）的输出杆的端部固定连接有扶持板（48），所述扶持板（48）的顶部与连接滑块（22）的底部相互接触。

8.根据权利要求2所述的一种集成电路引线框架蚀刻液回收装置，其特征在于，所述注液机构包括注液管（6），所述注液管（6）固定连通在中和腔（102）的内侧壁上且端部延伸至回收槽（1）的外部，所述注液管（6）的表面上线性阵列开设有多组排液孔（49），每组排液孔（49）环形阵列分布，所述注液管（6）的表面上套接有遮挡管（50），所述遮挡管（50）的表面上开设有与排液孔（49）对接连通的第三连通槽（51），所述遮挡管（50）的端部与第二联动块（20）的侧面固定连接。

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