CN113960890A - 一种激光成像设备中的运动组件控制方法及相关设备 - Google Patents

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Abstract

本申请实施例提供了一种激光成像设备中的运动组件控制方法及相关设备，用于解决复位误差较大的问题，提高了激光成像设备的成像精度。本申请实施例方法包括：采用线性位置编码器获取运动组件在预设方向运动时产生的位置脉冲信号，所述位置脉冲信号包含A相、B相以及Z相脉冲信号；当检测到所述位置脉冲信号中的Z相脉冲信号触发时，触发信号清零操作，所述清零操作是指将A相脉冲信号以及B相脉冲信号的计数值清零；当运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制所述运动组件停止运动，并将最后一次触发所述清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位；所述位置传感器的触发点与相邻的两个Z相脉冲信号触发点的位置间距大于预设值。

Description

一种激光成像设备中的运动组件控制方法及相关设备
技术领域
本申请涉及激光成像技术领域，尤其涉及一种激光成像设备中的运动组件控制方法及相关设备。
背景技术
激光成像设备可通过控制激光器组件逐行扫描曝光面上的感光涂层进行曝光，对曝光之后的感光涂层进行显影，在曝光面上生成所需的显影图像。目前，激光成像设备中的存在激光器组件、PCB基板的吸附平台、用于定位PCB基板上标定点定位的摄像头等运动组件，在设备开机之后需要对运动组件进行复位，使得运动组件上的器件回到零位。
相关技术方案中的运动组件的复位过程中，往往预先设置固定的预设标定点，采用位置传感器检测激光器组件的位置，当检测到激光器组件到达或即将达到预设标定点时，触发控制器向激光器组件发送停止运动的指令，并将激光器组件的停止位置作为零位点。由于位置传感器本身灵敏度、激光器组件的速度、检测距离等因素影响，激光器组件的停止位置往往并不一致，导致每次复位的零位点并不一致。由此可知，现有方案中复位控制方式并不算精密，复位过程中存在较大误差，导致运动组件的运动控制精度难以保证，影响激光成像设备的成像精度。
发明内容
本申请实施例提供了一种激光成像设备中的运动组件控制方法及相关设备，用于解决复位误差较大的问题，提高激光成像设备的成像精度。
本申请实施例第一方面提供了激光成像设备中的运动组件控制方法，可包括：
当运动组件在预设方向运动时，采用线性位置编码器获取运动组件在预设方向运动时产生的位置脉冲信号，所述位置脉冲信号包含A相、B相以及Z相脉冲信号；
若检测到所述位置脉冲信号中的Z相脉冲信号的触发信号，则进行信号清零操作，所述清零操作是指将A相脉冲信号以及B相脉冲信号的计数值清零；
当运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制所述运动组件停止运动，并将最后一次触发所述清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位；所述位置传感器的触发点与相邻的两个Z相脉冲信号触发点的位置间距大于预设值。
可选的，作为一种可能的实施方式，本申请实施例中的激光成像设备中的运动组件控制方法，还包括：
在最后一次触发信号清零操作之后，在所述运动组件停止之前对A相脉冲信号和/或B相脉冲信号进行计数，并根据计数值计算所述运动组件的停止位置与线性位置编码器的零位之间的偏移值；
获取所述运动组件需要移动的目标位置相对所述零位之间的距离值，根据所述偏移值与所述距离值计算所述运动组件的位移值。
可选的，作为一种可能的实施方式，，所述运动组件包含用于吸附固定PCB基板的吸附平台，所述吸附平台在步进电机驱动下可沿预设第一直线方向往复运动。
可选的，作为一种可能的实施方式，所述运动组件还包含用于定位PCB基板上标定点的摄像头模块，所述摄像头模块在步进电机驱动下可沿预设第二直线方向往复运动，所述第二直线方向与所述第一直线方向垂直。
可选的，作为一种可能的实施方式，所述运动组件还包含沿直线分布的激光器阵列，所述激光器阵列在伺服电机驱动下可沿预设第三直线方向往复运动，所述第三直线方向与所述第一直线方向垂直。
可选的，作为一种可能的实施方式，所述线性位置编码器为线型光栅尺或磁栅式传感器。
本申请实施例第二方面提供了一种激光成像设备，可包括用于吸附固定PCB基板的吸附平台、用于定位PCB基板上标定点的摄像头模块、线性位置编码器、沿直线分布的激光器阵列、位置传感器以及控制器；其中，
所述吸附平台在步进电机驱动下可驱动PCB基板沿预设第一直线方向往复运动；
所述摄像头模块在步进电机驱动下可沿预设第二直线方向往复运动，所述第二直线方向与所述第一直线方向垂直；
所述激光器阵列在伺服电机驱动下可沿预设第三直线方向往复运动，所述第三直线方向与所述第一直线方向垂直；
所述控制器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如上述第一方面以及第一方面中任意一项可能的实施方式中的方法。
可选的，作为一种可能的实施方式，多个所述线性位置编码器与脉冲计数器通信连接，所述脉冲计数器与串口服务器通信连接；
多个所述步进电机控制器与所述串口服务器通信连接；
所述串口服务器通过交换机与所述控制器通信连接。
可选的，作为一种可能的实施方式，所述控制器在获取激光曝光点位置信息之后，还用于在激光器移动到激光曝光点位置时，控制所述激光器阵列对激光曝光点进行曝光。
本申请实施例第三方面提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如第一方面及第一方面中任意一种可能的实施方式中的步骤。
从以上技术方案可以看出，本申请实施例具有以下优点：
本申请实施例在激光成像设备中引入线性位置编码器，在复位过程中，若识别到线性位置编码器的Z相脉冲信号的触发信号，则进行信号清零操作，直到运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制运动组件停止运动，并将最后一次触发清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位。位置传感器的最后一次Z相脉冲信号的触发时对应的位置和位置传感器的触发点固定的，而Z相脉冲信号触发位置的检测误差范围(约1微米)小于位置传感器的位置识别误差范围(约50微米)，因此每次复位的误差大大减小，提高了复位识别精度。同时，线性位置编码器可以定位运动组件实时位置，提高了运动控制精度。
附图说明
图1为本申请实施例提供的一种激光成像设备中的运动组件控制方法的一个实施例示意图；
图2为线性位置编码器的位置脉冲信号示意图；
图3为本申请实施例提供的一种激光成像设备的一个具体应用实施例示意图；
图4为本申请实施例提供的激光成像设备中各个组件通信连接示意图。
具体实施方式
本申请实施例提供了一种激光成像设备中的运动组件控制方法及相关设备，用于解决复位误差较大的问题，提高激光成像设备的成像精度。
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
本申请的说明书和权利要求书及上述附图中，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
为了便于理解，先对线性位置编码器进行简单说明，线性位置编码器包含固定部件和移动部件，其常见类型有线型光栅尺或磁栅式传感器。其中，线型光栅尺可由标尺光栅(固定部件)和光栅读数头(移动部件)组成；磁栅式传感器可由磁栅尺(固定部件)和磁头(移动部件)组成。本申请中，线性位置编码器的固定部件(标尺光栅、磁栅尺等)固定设置在激光成像设备中，而移动部件(光栅读数头、磁头等)则可以相对固定部件移动。
下面对本申请实施例中的具体流程进行描述，请参阅图1，本申请实施例中一种激光成像设备中的运动组件控制方法的一个实施例可包括：
S101：当运动组件在预设方向运动时，采用线性位置编码器获取运动组件在预设方向运动时产生的位置脉冲信号。
本申请实施例中的在激光成像设备中设置有线性位置编码器，运动组件复位过程中，控制器可以通过线性位置编码器检测运动组件位置信息，并不断的生成位置脉冲信号。如图2所示，线性位置编码器中能够产生A相、B相以及Z相脉冲信号。其中，A相、B相脉冲信号两者相位相差90°(相差0.25个周期)的连续脉冲输出A相、B相脉冲信号可以辨别正向移动还是反向移动，计算运动组件的实时位置等。Z相脉冲信号也称为零位信号，线性位置编码器移动固定长度时发出的信号，可以用来测量速度值、实时位置等。控制器接收并记录脉冲数之后，可以根据脉冲当量(已知量)乘以脉冲数计算运动组件触发脉冲时的位置相对于零位点的相对位置。
需要说明的是，Z相脉冲信号的触发信号可以是指处于高电平转换为低电平时出现的下降沿，或者低电平转换为高电平时出现的上升沿，具体可以根据需求设置触发状态。本申请实施例仅以上升沿(或下降沿)触发为例进行说明，在两个Z相脉冲信号触发周期(例如两个上升沿之间的时间)内，A相、B相脉冲信号的个数仅仅是示例性的，A相、B相脉冲信号的上升沿的个数与Z相脉冲信号的上升沿的个数比值可以根据所采用的线性位置编码器的种类和精度确定，具体此处不做限定。
在进行复位操作时，可以控制运动组件在预设方向运动，并基于线性位置编码器获取运动组件在预设方向运动时产生的位置脉冲信号。
S102：若检测到位置脉冲信号中的Z相脉冲信号的触发信号，则进行信号清零操作。
在进行复位操作的单向运动期间，若检测到Z相脉冲信号的上升沿(或下降沿)，可确定Z相脉冲信号的触发信号，即可执行信号清零操作。具体的，复位期间可能遇到多个Z相脉冲信号的上升沿，则进行多次信号清零操作。
S103：当运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制运动组件停止运动，并将最后一次触发清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位。
为了避免运动组件停止位置不一致导致的零位不一致的情况，本申请实施例中的激光成像设备中预先在固定位置设置有位置传感器，该传感器可以是开关量传感器，用于检测运动组件是否进入触发点范围。当运动组件运动到位置传感器的触发点位置时，向运动组件发送停止运动指令，控制运动组件停止运动。
由于位置传感器的最后一次Z相脉冲信号的触发时对应的位置和位置传感器的触发点固定的，保障每次复位的零位点一致。而Z相脉冲信号触发位置的检测误差范围(约1微米)小于位置传感器的位置识别误差范围(约50微米)，因此每次复位的误差大大减小，提高了复位识别精度。同时，线性位置编码器可以定位运动组件实时位置，提高了运动控制精度。
需要说明的是，为了提高信号检测精度，避免停止过程中出现不可控的Z相脉冲信号上升沿(或下降沿)，位置传感器的触发点与相邻的两个Z相脉冲信号触发点的位置间距大于预设值。具体的，位置传感器的触发点与相邻的两个Z相脉冲信号触发点之间的间距不小于位置传感器的检测误差值。例如位置传感器的检测误差值为50微米，则位置传感器与相邻的两个Z相脉冲信号触发点的位置间距大于50微米，以防止出现不可控的Z相脉冲信号触发的情况，使得复位不一致。
由以上实施例可知，在复位过程中，若识别到线性位置编码器的Z相脉冲信号的触发信号，则进行信号清零操作，当运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制运动组件停止运动，并将最后一次触发清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位。位置传感器的最后一次Z相脉冲信号的触发时对应的位置和位置传感器的触发点固定的，保障每次复位的零位一致。而Z相脉冲信号触发位置的检测误差范围(约1微米)小于位置传感器的位置识别误差范围(约50微米)，因此每次复位的误差大大减小，提高了复位识别精度。同时，线性位置编码器可以定位运动组件实时位置，提高了运动控制精度。
为了便于理解，下面将结合激光成像设备中运动组件中的各个部件以及各个部件的应用场景进行说明。
激光成像设备的运动组件中包含吸附固定PCB基板的吸附平台，该吸附平台在步进电机驱动下可沿预设第一直线方向往复运动。实际应用中，可以沿吸附平台的第一直线方向设置线性位置编码器的固定部件，并在吸附平台的关联组件上安装线性位置编码器移动部件，以实时检测吸附平台的位置。
激光成像设备的运动组件中还可以包含用于定位PCB基板上标定点的摄像头模块(可以是CCD摄像机或CMOS摄像机)，该摄像头模块在步进电机驱动下可沿与吸附平台运动的第一直线方向垂直第二直线方向往复运动，以调整PCB基板与摄像头模块的位置实现PCB基板上标定点的定位。实际应用中，可以沿摄像头模块的第二直线方向设置线性位置编码器的固定部件，并在摄像头模块的关联组件上安装线性位置编码器移动部件，以实时检测摄像头模块的位置。
激光成像设备的运动组件中还可以包含沿直线分布的激光器阵列，该激光器阵列在伺服电机驱动下可沿预设第三直线方向往复运动。激光成像设备先获取激光曝光点位置信息，然后通过线性位置编码器获取激光器阵列的实时位置，当激光器移动到激光曝光点位置时，控制激光器阵列对激光曝光点逐行进行曝光。
其中，该第三直线方向与吸附平台运动的第一直线方向垂直。实际应用中，可以沿激光器阵列的第三直线方向设置线性位置编码器的固定部件，并在激光器阵列的关联组件上安装线性位置编码器移动部件，以实时检测激光器阵列的位置。
在上述实施例的基础上，在本申请的另一种可能的实施方式中，为了提高运动组件运动的控制精度，在触发信号清零操作之后，在该运动组件停止之前，还可以对A相脉冲信号和/或B相脉冲信号进行计数，并根据A相脉冲信号和/或B相脉冲信号进行计数值计算运动组件的停止位置与线性位置编码器的零位之间的偏移值。然后，控制器可以获取运动组件需要移动的目标位置相对零位之间的距离值，根据偏移值与距离值计算运动组件的位移值。示例性的，若偏移值与运动方向相反，则位移值是偏移值与距离值之和，若偏移值与运动方向相同，则位移值是偏移值与距离值之差。
在上述实施例的基础上，如图3所示，本申请实施例还提供了一种激光成像设备，该激光成像设备可包含用于吸附固定PCB基板的吸附平台100、用于定位PCB基板上标定点的摄像头模块200、线性位置编码器300、沿直线分布的激光器阵列400、控制器500以及位置传感器600。其中，
吸附平台在步进电机驱动下可驱动PCB基板沿预设第一直线方向往复运动；
摄像头模块200在步进电机驱动下可沿预设第二直线方向往复运动，第二直线方向与第一直线方向垂直；
激光器阵列400在伺服电机驱动下可沿预设第三直线方向往复运动，第三直线方向与第一直线方向垂直；
控制器500用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如图1所示实施例中的步骤。具体的，在复位过程中，若识别到线性位置编码器300的Z相脉冲信号的触发信号，控制器500进行信号清零操作，直到当运动组件(吸附平台100、摄像头模块200或激光器阵列400)运动到位置传感器600的触发点时，控制运动组件停止运动，并将最后一次触发清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位。位置传感器600的最后一次Z相脉冲信号的触发时对应的位置和位置传感器的触发点固定的，保障每次复位的零位一致。而Z相脉冲信号触发位置的检测误差范围(约1微米)小于位置传感器的位置识别误差范围(约50微米)，因此每次复位的误差大大减小，提高了复位识别精度。同时，线性位置编码器可以定位运动组件实时位置，提高了运动控制精度。
为便于理解，下面将进一步对激光成像设备的各个组件工作过程中的通信连接进行说明。如图4所示，可选的，作为一种可能的实施方式，多个线性位置编码器300与脉冲计数器通信10连接，脉冲计数器10与串口服务器20通信连接；多个步进电机控制器30与串口服务器20通信连接；串口服务器20通过交换机40与控制器500通信连接。可选的，多个摄像头模块50通过交换机40与控制器500通信连接。
曝光工作时，各个线性位置编码器300的脉冲信号可以输入至脉冲计数器10，然后通过串口服务器20进行数据转换，最后通过交换机40传输至控制器500。
可选的，在进行复位操作之后，控制器500还可以获取激光曝光点位置信息，然后通过线性位置编码器300获取激光器阵列400的实时位置，当激光器移动到激光曝光点位置时，控制激光器阵列对激光曝光点进行曝光。
可选的，在进行复位操作之后，控制器500还可以基于摄像头模块200的图像信息计算PCB基板上标定点的位置。
需要说明的是，本申请中的控制器在一些实施例中可以是一中央处理器(CentralProcessing Unit，CPU)、微处理器或其他数据处理芯片(如FPGA、PLC等)，其可以独立实现或运行存储器中存储的程序代码或处理数据实现相应的功能，具体的实现形式不做限定。
所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的系统，装置和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。
本申请还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时，可以实现如下步骤：
当运动组件在预设方向运动时，采用线性位置编码器获取运动组件在预设方向运动时产生的位置脉冲信号，位置脉冲信号包含A相、B相以及Z相脉冲信号；
若检测到位置脉冲信号中的Z相脉冲信号的触发信号，则进行信号清零操作，清零操作是指将A相脉冲信号以及B相脉冲信号的计数值清零；
当运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制运动组件停止运动，并将最后一次触发清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位；位置传感器的触发点与相邻的两个Z相脉冲信号触发点的位置间距大于预设值。
可选的，作为一种可能的实施方式，处理器还可以用于实现如下步骤：
在最后一次触发信号清零操作之后，在运动组件停止之前对A相脉冲信号和/或B相脉冲信号进行计数，并根据计数值计算运动组件的停止位置与线性位置编码器的零位之间的偏移值；
获取运动组件需要移动的目标位置相对零位之间的距离值，根据偏移值与距离值计算运动组件的位移值。
在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的设备和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，所述部件的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个组件可以结合或者可以集成到另一个部件，或一些特征可以忽略，或不执行。组件或部件间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。
以上所述，以上实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制，尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，为了描述便于理解起见，可能没有示出或描述本文所述的实施方案的所有常规特征。本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种激光成像设备中的运动组件控制方法，其特征在于，包括：
当运动组件在预设方向运动时，采用线性位置编码器获取运动组件在预设方向运动时产生的位置脉冲信号，所述位置脉冲信号包含A相、B相以及Z相脉冲信号；
若检测到所述位置脉冲信号中的Z相脉冲信号的触发信号，则进行信号清零操作，所述清零操作是指将A相脉冲信号以及B相脉冲信号的计数值清零；
当运动组件运动到位置传感器的触发点时，控制所述运动组件停止运动，并将最后一次触发所述清零操作时运动组件的位置作为线性位置编码器的零位；所述位置传感器的触发点与相邻的两个Z相脉冲信号触发点的位置间距大于预设值。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括：
在最后一次触发信号清零操作之后，在所述运动组件停止之前对A相脉冲信号和/或B相脉冲信号进行计数，并根据计数值计算所述运动组件的停止位置与线性位置编码器的零位之间的偏移值；
获取所述运动组件需要移动的目标位置相对所述零位之间的距离值，根据所述偏移值与所述距离值计算所述运动组件的位移值。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述运动组件包含用于吸附固定PCB基板的吸附平台，所述吸附平台在步进电机驱动下可沿预设第一直线方向往复运动。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述运动组件还包含用于定位PCB基板上标定点的摄像头模块，所述摄像头模块在步进电机驱动下可沿预设第二直线方向往复运动，所述第二直线方向与所述第一直线方向垂直。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述运动组件还包含沿直线分布的激光器阵列，所述激光器阵列在伺服电机驱动下可沿预设第三直线方向往复运动，所述第三直线方向与所述第一直线方向垂直。
6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述线性位置编码器为线型光栅尺或磁栅式传感器。
7.一种激光成像设备，其特征在于，包括用于吸附固定PCB基板的吸附平台、用于定位PCB基板上标定点的摄像头模块、线性位置编码器、沿直线分布的激光器阵列、位置传感器以及控制器；其中，
所述吸附平台在步进电机驱动下可驱动PCB基板沿预设第一直线方向往复运动；
所述摄像头模块在步进电机驱动下可沿预设第二直线方向往复运动，所述第二直线方向与所述第一直线方向垂直；
所述激光器阵列在伺服电机驱动下可沿预设第三直线方向往复运动，所述第三直线方向与所述第一直线方向垂直；
所述控制器用于执行存储器中存储的计算机程序时实现如权利要求1至2中任意一项所述的方法。
8.根据权利要求7所述的激光成像设备，其特征在于，多个所述线性位置编码器与脉冲计数器通信连接，所述脉冲计数器与串口服务器通信连接；
多个所述步进电机控制器与所述串口服务器通信连接；
所述串口服务器通过交换机与所述控制器通信连接。
9.根据权利要求7或8所述的激光成像设备，其特征在于，
所述控制器在获取激光曝光点位置信息之后，还用于在激光器移动到激光曝光点位置时，控制所述激光器阵列对激光曝光点进行曝光。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于：所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1或2中所述的方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114885085A (zh) * 2022-06-15 2022-08-09 西安应用光学研究所 一种基于磁栅尺的寻零精确定位方法
CN116578034A (zh) * 2023-07-14 2023-08-11 西安炬光科技股份有限公司 电控模组、激光医疗设备和激光光束输出控制方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06339060A (ja) * 1993-05-27 1994-12-06 Canon Inc レンズ制御装置
JP2002050048A (ja) * 2000-08-02 2002-02-15 Fujitsu Ltd 原盤露光装置
US20050225788A1 (en) * 2004-03-29 2005-10-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure apparatus and exposure method
WO2007020890A1 (ja) * 2005-08-15 2007-02-22 Fujifilm Corporation 描画装置、露光装置、および描画方法
US20090059194A1 (en) * 2007-07-24 2009-03-05 Nikon Corporation Position measurement system, exposure apparatus, position measurement method, exposure method and device manufacturing method, and tool and measurement method
JP2013101084A (ja) * 2011-11-09 2013-05-23 Nikon Corp 位置検出方法及び装置、エンコーダ装置、並びに露光装置
CN104932207A (zh) * 2015-05-23 2015-09-23 合肥芯硕半导体有限公司 一种直写光刻设备的位置同步方法
CN111758047A (zh) * 2017-12-26 2020-10-09 罗伯特·博世有限公司 单芯片rgb-d相机

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06339060A (ja) * 1993-05-27 1994-12-06 Canon Inc レンズ制御装置
JP2002050048A (ja) * 2000-08-02 2002-02-15 Fujitsu Ltd 原盤露光装置
US20050225788A1 (en) * 2004-03-29 2005-10-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Exposure apparatus and exposure method
WO2007020890A1 (ja) * 2005-08-15 2007-02-22 Fujifilm Corporation 描画装置、露光装置、および描画方法
US20090059194A1 (en) * 2007-07-24 2009-03-05 Nikon Corporation Position measurement system, exposure apparatus, position measurement method, exposure method and device manufacturing method, and tool and measurement method
JP2013101084A (ja) * 2011-11-09 2013-05-23 Nikon Corp 位置検出方法及び装置、エンコーダ装置、並びに露光装置
CN104932207A (zh) * 2015-05-23 2015-09-23 合肥芯硕半导体有限公司 一种直写光刻设备的位置同步方法
CN111758047A (zh) * 2017-12-26 2020-10-09 罗伯特·博世有限公司 单芯片rgb-d相机

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
周亦敏, 刘牮, 欧阳新: "磨削加工的计算机分布式控制系统", 上海理工大学学报, no. 02 *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114885085A (zh) * 2022-06-15 2022-08-09 西安应用光学研究所 一种基于磁栅尺的寻零精确定位方法
CN114885085B (zh) * 2022-06-15 2024-03-29 西安应用光学研究所 一种基于磁栅尺的寻零精确定位方法
CN116578034A (zh) * 2023-07-14 2023-08-11 西安炬光科技股份有限公司 电控模组、激光医疗设备和激光光束输出控制方法
CN116578034B (zh) * 2023-07-14 2023-09-22 西安炬光科技股份有限公司 电控模组、激光医疗设备和激光光束输出控制方法

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