CN113725071A - 掩模组件以及显示装置的制造装置 - Google Patents

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CN113725071A CN202110081214.6A CN202110081214A CN113725071A CN 113725071 A CN113725071 A CN 113725071A CN 202110081214 A CN202110081214 A CN 202110081214A CN 113725071 A CN113725071 A CN 113725071A
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Abstract

本发明公开了一种掩模组件以及显示装置的制造装置。本发明包括:掩模框架,配备有第一开口部;支撑部件,沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向排列,并且布置于所述掩模框架,以将所述第一开口部划分为至少一个第二开口部以及至少一个第三开口部;以及划分部件,布置为与所述支撑部件重叠。

Description

掩模组件以及显示装置的制造装置
技术领域
本发明的实施例涉及一种装置以及方法,更加详细地涉及一种掩模组件以及显示装置的制造装置。
背景技术
基于移动性的电子设备正在被广泛地使用。作为移动用电子设备,除了诸如移动电话的小型电子设备以外,最近平板电脑正在被广泛地使用。
这样的移动型电子设备为了支持多种功能以及为了向用户提供诸如图像或者影像的视觉信息而包括显示装置。最近,随着用于驱动显示装置的其他部件被小型化,显示装置在电子设备中所占据的比重呈现逐渐增加的趋势,并且也在开发可从平整的状态弯曲为具有预定的角度的结构。
对于为了制造如上的显示装置而使用的掩模组件而言,根据执行沉积工序时不变形的程度,显示装置的分辨率、显示装置所实现的图像的形态可以不同。
发明内容
通常,在制造具有彼此不同的显示区域的显示装置的情况下,可以使用彼此不同的掩模组件。在这样的情况下,需要使用单独的掩模组件,并且在制造一个显示装置之后,可以更换掩模组件而制造其他显示装置。这样的制造方法不仅消耗较多的制造时间,而且制造工序变得复杂,因此本发明的实施例提供一种制造工序较为简单并能够制造具有彼此不同面积的显示区域的显示装置的掩模组件以及显示装置的制造装置。
本发明的一实施例公开了一种掩模组件,包括:掩模框架,配备有第一开口部;支撑部件,沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向排列,并且布置于所述掩模框架,以将所述第一开口部划分为至少一个第二开口部以及至少一个第三开口部;以及划分部件,布置为与所述支撑部件重叠。
本实施例中,所述支撑部件的宽度可以为所述划分部件的宽度以下。
本实施例中,所述支撑部件可以包括:第一支撑部件,沿所述第一方向排列;以及第二支撑部件,沿所述第二方向排列。
本实施例中,所述划分部件可以包括:第一划分部件,布置于所述第一支撑部件上;以及第二划分部件,布置于所述第二支撑部件上。
本实施例中,在平面上,所述第二开口部的面积与所述第三开口部的面积可以彼此不同。
本实施例中,可以还包括:掩模片,遮蔽所述第二开口部和所述第三开口部中的至少一个。
本实施例中,所述掩模片可以包括:第一掩模片,遮蔽所述第二开口部;以及第二掩模片,遮蔽所述第三开口部。
本发明的另一实施例公开了一种显示装置的制造装置,包括掩模组件;腔体,布置有所述掩模组件以及基板;以及沉积源,以面对所述掩模组件的方式布置于所述腔体内部,所述掩模组件包括:掩模框架,配备有第一开口部;支撑部件,沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向排列,并且布置于所述掩模框架,以将所述第一开口部划分为至少一个第二开口部以及至少一个第三开口部;以及划分部件,布置为与所述支撑部件重叠。
本实施例中,所述支撑部件的宽度可以为所述划分部件的宽度以下。
本实施例中,所述支撑部件可以包括:第一支撑部件,沿所述第一方向排列;以及第二支撑部件,沿所述第二方向排列。
本实施例中,所述划分部件可以包括:第一划分部件,布置于所述第一支撑部件上;以及第二划分部件,布置于所述第二支撑部件上。
本实施例中,在平面上,所述第二开口部的面积与所述第三开口部的面积可以彼此不同。
本实施例中,所述掩模组件还可以包括:掩模片,遮蔽所述第二开口部和所述第三开口部中的至少一个。
本实施例中,所述掩模片可以包括:第一掩模片,遮蔽所述第二开口部;以及第二掩模片,遮蔽所述第三开口部。
本发明的又一实施例可以提供一种掩模组件的制造方法,包括如下步骤:布置配备有第一开口部的掩模框架;以贯穿所述第一开口部的方式沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向布置支撑部件;以及将划分部件布置为与所述支撑部件重叠。
本实施例中,所述支撑部件的宽度可以为所述划分部件的宽度以下。
本实施例中,布置所述支撑部件的步骤可以包括如下步骤:沿所述第一方向布置第一支撑部件;以及沿所述第二方向布置第二支撑部件。
本实施例中,布置所述支撑部件的步骤还可以包括如下步骤:在所述第一支撑部件和所述第二支撑部件彼此交叉的部分将所述第一支撑部件和所述第二支撑部件彼此焊接。
本实施例中,布置所述划分部件的步骤可以包括如下步骤:将第一划分部件布置为与所述第一支撑部件重叠;以及将第二划分部件布置为与所述第二支撑部件重叠
本实施例中,还可以包括如下步骤:去除所述支撑部件以及所述划分部件中的至少一个的局部。
除了前述的记载之外的其他方面、特征、优点可从附图、权利要求书以及本发明的具体说明变得明确。
这样的普通且具体的侧面可以使用系统、方法、计算机程序或者某种系统、方法、计算机程序的组合而执行。
关于本发明的实施例的掩模组件能够以精密的图案在基板上使沉积物沉积。关于本发明的实施例的掩模组件的制造方法能够制造具有预设的图案的掩模组件。
关于本发明的实施例的显示装置的制造装置能够制造具有精密的图案的显示装置。
附图说明
图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。
图2是示出根据本发明的一实施例的掩模组件的立体图。
图3至图9是示出图2所示的掩模组件的制造方法的平面图。
图10是示出根据本发明的另一实施例的掩模组件的平面图。
图11是示出根据本发明的一实施例的显示装置的平面图。
图12是沿图11的A-A'线截取的剖视图。
附图标记说明:
20:显示装置
21:基板
100:显示装置的制造装置
110:腔体
120:磁力生成部
131:第一支撑部
132:第二支撑部
140:拍摄部
160:沉积源
170:压力调节部
200:掩模组件
210:掩模框架
220:掩模片
231:第一支撑部件
232:第二支撑部件
233:第一划分部件
234:第二划分部件
具体实施方式
本发明可以进行多种变换且可以具有多个实施例,将特定实施例举例示出于附图中并在具体实施方式中进行详细说明。参考与附图一起在后面详细描述的实施例,能够明确本发明的效果和特征以及达成所述效果和特征的方法。然而,本发明并不限于以下公开的实施例,可以以多种形态实现。
以下,将参照附图详细说明本发明的实施例,且在参照附图进行说明时,对相同或者相应的构成要素赋予相同的附图标记并省略对其的重复说明。
在以下实施例中,第一、第二等术语并不被使用为限定性含义,而是被使用为将一个构成要素与其他构成要素进行区分的目的。
在以下实施例中,只要在上下文中没有明确表示其他含义,则单数的表述包括复数的表述。
在以下实施例中,“包括”或者“具有”等术语表示存在说明书中所记载的特征或构成要素,而不是预先排除一个以上的其他特征或构成要素附加的可能性。
在以下实施例中,当提及膜、区域、构成要素等的部分位于另一部分“上方”或者“之上”时,不仅包括在另一部分的“紧邻的上方”的情形,还包括其中间夹设其他膜、区域、构成要素等的情形。
为了便于说明,附图中的构成要素的大小可以被夸大或者缩小。例如,为了便于说明,在附图中示出的各个构成的大小以及厚度被任意地示出,因此本发明并不一定限于图示的内容。
在以下实施例中,x轴、y轴以及z轴不限于直角坐标系上的三个轴,可以被解释为包括其的宽泛的含义。例如,x轴、y轴以及z轴虽然也可以彼此垂直,但也可以指代彼此不垂直的彼此不同的方向。
在某个实施例能够以不同方式实现的情形下,特定工艺顺序可以按不同于所说明的顺序而执行。例如,连续说明的两个工艺可以实质上同时进行,也可以按与说明的顺序相反的顺序进行。
图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。图2是示出根据本发明的一实施例的掩模组件的立体图。
参照图1以及图2,显示装置的制造装置100可以包括腔体110、磁力生成部120、第一支撑部131、第二支撑部132、拍摄部140、掩模组件200、沉积源160以及压力调节部170。
腔体110在内部可以形成空间,腔体110可以形成为一部分开口。在腔体110的开口的部分可以设置闸阀110A而选择性地开闭腔体110的开口的部分。
磁力生成部120可以形成为固定于腔体110。此时,磁力生成部120可以包括电磁体以及永久磁体中的至少一个而选择性地形成磁场。磁力生成部120可以将掩模组件200紧贴于显示基板D侧。
第一支撑部131可以支撑显示基板D。此时,第一支撑部131可以以多种方式支撑显示基板D。例如,第一支撑部131可以包括静电卡盘或者粘贴卡盘。在这样的情况下,第一支撑部131和磁力生成部120可以形成为一体。作为另一实施例,第一支撑部131可以包括使显示基板D的一部分安置而支撑显示基板D的框架或者抓持显示基板D的一部分而固定的夹具等。第一支撑部131并不局限于上述内容,可以包括能够支撑显示基板D的所有装置。然而,以下为了便于说明,以第一支撑部131包括抓持显示基板D的夹具的情形作为中心进行详细说明。
掩模组件200可以安置于第二支撑部132而被支撑。此时,第二支撑部132可以沿彼此不同的至少两个方向微调掩模组件200。
拍摄部140可以拍摄显示基板D以及掩模组件200的位置。此时,基于由拍摄部140拍摄的图像可以移动显示基板D以及掩模组件200中的至少一个而使显示基板D以及掩模组件200对准(align)。
掩模组件200可以包括掩模框架210、支撑部件231、232、划分部件233、234以及掩模片220。
掩模框架210可以包括彼此连接的多个框架。多个框架可以构成四边形形态。在这样的情况下,掩模框架210在中央部分可以包括一个第一开口部211。此时,第一开口部211可以是四边形形态。例如,第一开口部211可以是矩形或者正方形形态。此时,掩模框架210可以具有长边和短边。例如,掩模框架210的长边可以沿图2的X方向布置,掩模框架210的短边可以沿图2的Y方向布置。
支撑部件231、232以及划分部件233、234中的至少一个可以布置于第一开口部211而将第一开口部211划分为多个开口部(未标记)。
例如,支撑部件231、232可以配备为多个而沿作为彼此不同的方向的第一方向以及第二方向布置。支撑部件231、232可以包括沿第一方向(例如,图2的Y轴方向)排列的第一支撑部件231和沿第二方向(例如,图2的X轴方向)排列的第二支撑部件232。此时,第一支撑部件231和第二支撑部件232可以布置于掩模框架210上而固定于掩模框架210。并且,第一支撑部件231和第二支撑部件232可以排列为彼此交叉,并且可以在交叉的部分彼此连接。
如上的第一支撑部件231和第二支撑部件232可以以防止掩模框架210的变形的方式支撑掩模框架210。并且,借由划分第一开口部211的第一支撑部件231和第二支撑部件232而形成的一个开口部(例如,第二开口部AR1-2或者第三开口部AR2-2(参照图5))可以与上述的显示装置的显示区域对应。在这样的情况下,第一支撑部件231和第二支撑部件232将第一开口部211划分为多个开口部,从而能够通过一个掩模组件200以与多个显示区域对应的方式引导沉积物质。例如,第一支撑部件231和第二支撑部件232可以将第一开口部211划分为第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2。在这样的情况下,第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2的形状以及大小(或者面积)中的至少一个可以彼此不同。以下为了便于说明,以第二开口部AR1-2和第三开口部AR2-2的形状彼此相同并且大小彼此不同的情形作为中心进行详细说明。
如上的第一支撑部件231和第二支撑部件232的数量可以根据第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2中的至少一个的数量而调整。例如,作为一实施例,第一支撑部件231和第二支撑部件232可以配备为多个。在这样的情况下,第二开口部AR1-2可以沿第一方向排列有3个,并且第三开口部AR2-2可以沿第二方向排列有1个。在这样的情况下,第三开口部AR2-2可以沿第二方向与第二开口部AR1-2彼此相邻。此时,第二开口部AR1-2的数量和第三开口部AR2-2的数量并不局限于上述内容,可以多样地形成。
如上所述,在第一支撑部件231配备为多个的情况下,多个第一支撑部件231中的至少一部分的长度和多个第一支撑部件231中的另一部分的长度可以彼此不同,或者多个第一支撑部件231的长度可以全部相同或者彼此不同。在第二支撑部件232配备有多个的情况下,多个第二支撑部件232中的一部分的长度和多个第二支撑部件232中的另一部分的长度可以彼此不同。作为另一实施例,多个第二支撑部件232的长度也能够全部相同或者彼此不同。此时,第一支撑部件231的长度或者第二支撑部件232的长度可以根据第二开口部AR1-2的大小或者第三开口部AR2-2的大小而彼此不同地形成。
划分部件233、234可以布置于支撑部件231、232上。此时,划分部件233、234可以布置于支撑部件231、232中的至少一个支撑部件231、232上。以下为了便于说明,以划分部件233、234布置于全部支撑部件231、232上的情形作为中心进行详细说明。
在划分部件233、234配备为多个的情况下,多个划分部件233、234可以包括第一划分部件233和第二划分部件234。如上的第一划分部件233和第二划分部件234中的至少一个可以配备为多个。在这样的情况下,第一划分部件233的数量和第二划分部件234的数量可以与第一支撑部件231的数量和第二支撑部件232的数量对应。
第一划分部件233可以布置于第一支撑部件231上。此时,第一划分部件233可以沿与第一支撑部件231相同的方向布置。在这样的情况下,第一划分部件233的宽度可以与第一支撑部件231的宽度不同。例如,第一支撑部件231的宽度可以为第一划分部件233的宽度以下。在这样的情况下,当从平面上观察时,第一支撑部件231可以被第一划分部件233完全遮蔽。在如上的情况下,可以沿第一支撑部件231的长度方向或者与第一划分部件233的长度方向垂直的方向(例如,图2的X轴方向)测量宽度。
第二划分部件234可以布置为与第二支撑部件232对应。此时,第二划分部件234的宽度可以与第二支撑部件232的宽度不同。具体地,第二支撑部件232的宽度可以为第二划分部件234的宽度以下。在这样的情况下,当从平面上观察时,第二划分部件234可以将第二支撑部件232完全遮蔽。
如上的第一划分部件233和第二划分部件234中的至少一个可以配备为多个。此时,在第一划分部件233配备为多个的情况下,多个第一划分部件233中的一部分的长度和多个第一划分部件233的另一部分的长度可以彼此不同。作为另一实施例,多个第一划分部件233中的每个的长度也能够彼此相同或者彼此不同。此时,各个第一划分部件233的长度可以与对应的各个第一支撑部件231的长度相同或者类似。在第二划分部件234配备为多个的情况下,多个第二划分部件234中的一部分的长度可以与多个第二划分部件234中的另一部分的长度不同。作为另一实施例,多个第二划分部件234中的每个的长度可以彼此不同或者彼此相同。如上的第一划分部件233的长度以及第二划分部件234的长度可以根据第二开口部AR1-2的形状以及大小中的至少一个或者第三开口部AR2-2的形状以及大小中的至少一个而不同。
如上的第一划分部件233和第二划分部件234可以使第二开口部AR1-2和第三开口部AR2-2的形状以及大小中的至少一个对应于预设的值。在这样的情况下,第一划分部件233和第二划分部件234可以准确地限定第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2中的至少一个的边缘。
掩模片220可以布置于掩模框架210。此时,掩模片220可以配备为至少一个。例如,掩模片220可以包括第一掩模片221以及第二掩模片222。
第一掩模片221可以布置为遮蔽第二开口部AR1-2。在这样的情况下,第一掩模片221可以布置为完全遮蔽一个第二开口部AR1-2全部。作为另一实施例,第一掩模片221能够配备为多个,并且多个第一掩模片221也能够遮蔽一个第二开口部AR1-2。在这样的情况下,多个第一掩模片221可以排列为沿第二方向彼此相邻。作为又一实施例,第一掩模片221也能够布置为遮蔽至少2个第二开口部AR1-2。此时,第一掩模片221可以遮蔽沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向彼此相邻的第二开口部AR1-2全部。
第二掩模片222可以布置为遮蔽第三开口部AR2-2。此时,一个第二掩模片222可以布置为完全遮蔽一个第三开口部AR2-2全部。作为另一实施例,一个第二掩模片222也能够布置为遮蔽至少2个第三开口部AR2-2。
第一掩模片221或者第二掩模片222可以沿第一方向排列。例如,第一掩模片221或者第二掩模片222可以沿掩模框架210的短边方向(例如,图2的Y轴方向)排列。并且,第一掩模片221和第二掩模片222可以排列为沿第二方向彼此相邻。
第一掩模片221和第二掩模片222可以以施加有张力的状态固定于掩模框架210。此时,第一掩模片221以及第二掩模片222可以形成为条(stick)形态。如上的第一掩模片221以及第二掩模片222中的至少一个可以配备为多个。在这样的情况下,各个第一掩模片221或者各个第二掩模片222可以以掩模框架210的短边方向与第一掩模片221的长度方向或者第二掩模片222的长度方向彼此相同的方式布置于掩模框架210上。并且,多个第一掩模片221可以布置为彼此相邻,多个第一掩模片221可以排列为沿掩模框架210的长边方向彼此相邻。在第二掩模片222配备为多个的情况下,多个第二掩模片222也可以与第一掩模片221相同地沿掩模框架210的长边方向彼此相邻。第一掩模片221可以以拉伸的状态固定于掩模框架210。例如,每个第一掩模片221的两端可以固定于掩模框架210以及第二支撑部件232中的至少一个。作为另一实施例,在第二支撑部件232配备为多个的情况下,第一掩模片221的两端也能够固定于彼此相邻的每个第二支撑部件232。以下为了便于说明,以第一掩模片221的两端分别固定于掩模框架210和第二支撑部件232的情形为中心进行详细说明。
在如上的情况下,第一掩模片221和第二掩模片222以彼此分离而布置于掩模框架210的方式固定,从而可以防止借由第一掩模片221以及第二掩模片222各自的重量而导致第一掩模片221以及第二掩模片222各自下垂。
并且,当对掩模框架210施加热时,可以通过第一支撑部件231和第二支撑部件232而最小化掩模框架210变形。
沉积源160可以使沉积物质插入于内部之后蒸发。此时,沉积源160可以配备有加热器160A,并且可以借由从加热器160A施加的热而使沉积物质蒸发。
沉积源160可以形成为多种形态。例如,沉积源160可以是排出沉积物质的入口部形成为圆形的点沉积源形态。并且,沉积源160可以是形成得较长,并且入口部形成为多个或者形成为长孔形态等的线沉积源形态。以下为了便于说明,以沉积源160布置为与掩模组件200的一地点对向并且是点沉积源的形态的情形作为中心进行详细说明。
压力调节部170可以与腔体110连接而调节腔体110内部的压力与大气压或者真空类似。此时,压力调节部170可以包括与腔体110连接的连接配管171和布置于连接配管171的压力调节泵172。
另外,观察通过如上的显示装置的制造装置100而制造显示装置(未图示)的方法,可以制造显示基板D而准备。
压力调节部170可以将腔体110内部维持为大气压状态,并且在闸阀110A开放之后显示基板D以及补正变形的掩模组件200可以插入于腔体110内部。此时,在腔体110内部或者外部可以配备有单独的机械臂、梭子等而移送显示基板D以及掩模组件200。
压力调节部170可以将腔体110内部维持为几乎与真空类似。并且,可以使第一支撑部131以及第二支撑部132中的至少一个运行而将显示基板D和掩模组件200之间的间距调整为预设的间距。拍摄部140可以拍摄显示基板D以及掩模组件200,以细微驱动第一支撑部131以及第二支撑部132而微调显示基板D以及掩模组件200中的至少一个,从而可以使显示基板D以及掩模组件200对准。
加热器160A可以运行而将沉积物质从沉积源160提供至掩模组件200。通过掩模组件200的沉积物质可以以预定的图案沉积于显示基板D。
在进行如上的过程的期间,沉积源160以及显示基板D中的至少一个可以进行线形运动。作为另一实施例,沉积源160以及显示基板D也能够在全部停止的状态下执行沉积。以下为了便于说明,以沉积源160以及显示基板D在全部停止的状态下执行沉积的情形作为中心进行详细说明。
如上所述,从沉积源160提供的沉积物质可以通过掩模组件200后沉积于显示基板D,以形成将要后述的中间层中的至少一个层。作为另一实施例,从沉积源160提供的沉积物质可以通过掩模组件200后形成将要后述的对向电极。然而,以下为了便于说明,以通过掩模组件200后形成中间层中的至少一个层的情形作为中心进行详细说明。
如上所述,在形成中间层以及对向电极之后,可以在所述对向电极上布置封装部件而制造显示装置20(参照图11)。
因此,显示装置的制造装置100能够形成准确的图案的中间层中的至少一个层,或者能够在准确的区域形成对向电极。
显示装置的制造装置100准确地维持第二开口部AR1-2和第三开口部AR2-2的形状,从而能够以准确的图案将沉积物质沉积于显示基板D。
图3至图10是示出图2所示的掩模组件的制造方法的平面图。
参照图3至图10,可以制造掩模框架210、支撑部件231、232、划分部件233、234以及掩模片220而准备。
参照图3,如上的掩模框架210可以是在中央形成有第一开口部211的状态。第一支撑部件231可以以横穿这样的第一开口部211的方式布置于掩模框架210。此时,第一开口部211可以被划分为多个区域。在这样的情况下,掩模框架210可以形成有插入第一支撑部件231的槽。在这样的情况下,第一支撑部件231可以布置为与掩模框架210的背面接近。可以将第一支撑部件231布置于沿长度方向施加张力的掩模框架210,并且可以将第一支撑部件231通过焊接固定于掩模框架210。此时,在第一支撑部件231的上表面可以形成第一焊接点P1,并且第一焊接点P1可以从第一支撑部件231的上表面连接至掩模框架210。
参照图4,若结束第一支撑部件231的固定,则第二支撑部件232可以布置于第一支撑部件231上。此时,第二支撑部件232可以沿第二支撑部件232的长度方向拉伸而沿与布置有第一支撑部件231的方向不同的方向排列。例如,在第一支撑部件231沿第一方向(例如,图4的Y轴方向)排列的情况下,第二支撑部件232可以沿第二方向(例如,图4的X轴方向)排列。作为另一实施例,在第一支撑部件231沿第二方向排列的情况下,第二支撑部件232可以沿第一方向排列。在如上的情况下,当从平面上观察时,第一支撑部件231以及第二支撑部件232可以布置为彼此交叉。此时,第一支撑部件231以及第二支撑部件232可以布置于彼此不同的高度,并且第一支撑部件231与第二支撑部件232可以在平面上交叉的部分彼此接触。此时,在布置多个第一支撑部件231以及多个第二支撑部件232的情况下,当从平面上观察时,第一支撑部件231与第二支撑部件231彼此重叠的部分可以形成有多个。当从平面上观察时,可以在第一支撑部件231和第二支撑部件232彼此重叠的多个部分中的一部分形成第三焊接点P3,从而可以固定第一支撑部件231和第二支撑部件232。并且,可以在第二支撑部件232与掩模框架210彼此重叠的部分布置第二焊接点P2,从而可以固定第二支撑部件232和掩模框架210。在这样的情况下,掩模框架210可以形成有收纳第二支撑部件232的槽,以使第二支撑部件232布置于与第一支撑部件231不同的高度。此时,在第二支撑部件232配备为多个的情况下,可以在多个第二支撑部件232中的一部分或者各个第二支撑部件232的两端中的一个形成第二焊接点P2,从而可以将第二支撑部件232固定于掩模框架210。
如上的第一支撑部件231或者第二支撑部件232也能够层叠2个以上而使用。即,可以在同一部分布置为层叠多个第一支撑部件231或者布置为层叠多个第二支撑部件232。
参照图5,若结束第一支撑部件231和第二支撑部件232的固定,则可以去除多个第一支撑部件231中的一部分的局部。并且,可以去除多个第二支撑部件232中的一部分的局部。通过去除第一支撑部件231的局部以及第二支撑部件232的局部,从而可以形成第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2。即,可以去除与第二开口部AR1-2及第三开口部AR2-2重叠的第一支撑部件231的局部以及第二支撑部件232的局部。
参照图6,在第一支撑部件231上可以布置第一划分部件233。此时,第一划分部件233可以以拉伸的状态布置于掩模框架210上。在这样的情况下,施加于第一划分部件233的张力可以小于施加于第一支撑部件231的张力。尤其,在这样的情况下,当从平面上观察时,第一划分部件233可以以与预设的第二开口部AR1-2或者第三开口部AR2-2边缘对应的方式完全遮蔽第一支撑部件231。并且,第一支撑部件231的厚度可以与第一划分部件233的厚度不同。第一支撑部件231的厚度可以超过第一划分部件233的厚度。
在如上的情况下,第一划分部件233可以布置于掩模框架210,在掩模框架210可以布置有插入第一划分部件233的末端的槽。此后,可以将第一划分部件223通过焊接固定于掩模框架210。在这样的情况下,在第一划分部件233可以布置有第四焊接点P4。
参照图7,第一划分部件233固定于掩模框架210之后,可以将第二划分部件234拉伸而布置于掩模框架210上,以对应于第二支撑部件232。在这样的情况下,第二划分部件234可以排列为多个,第二划分部件234可以排列为彼此相隔。此时,第二划分部件234的厚度可以小于第二支撑部件232的厚度。
第二划分部件234可以布置于掩模框架210上而通过焊接固定于掩模框架210。此时,掩模框架210可以配备有槽,以使第二划分部件234插入。在如上的情况下,在重叠于掩模框架210的第二划分部件234部分可以布置有第五焊接点P5。
如上所述,若布置第二划分部件234,则第二划分部件234可以布置为当从平面上观察时与第一划分部件233重叠。当从平面上观察时,第二划分部件234与第一划分部件233重叠的部分可以通过焊接彼此固定。此时,当从平面上观察时,在第二划分部件234和第一划分部件233重叠的部分可以形成有第六焊接点P6。在这样的情况下,第六焊接点P6可以形成为依次贯通第二划分部件234、第一划分部件233以及第二支撑部件232,以使第二划分部件234、第一划分部件233以及第二支撑部件232可以彼此连接。在这样的情况下,第二划分部件234以及第一划分部件233也能够通过第六焊接点P6彼此连接,并且第一划分部件233与第二支撑部件232也能够通过单独的焊接形成焊接点而彼此连接。然而,以下为了便于说明,以第二划分部件234、第一划分部件233以及第二支撑部件232通过一个焊接点彼此连接的情形作为中心进行说明。
参照图8,布置第一划分部件233和第二划分部件234之后,可以去除布置为与第二开口部AR1-2的内部或者第三开口部AR2-2的内部重叠的第一划分部件233以及第二划分部件234中的至少一个的局部。在这样的情况下,第一划分部件233以及第二划分部件234可以将第一开口部211划分为多个区域,并且可以限定第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2。
在如上所述的情况下,在仅以第一支撑部件231和第二支撑部件232形成第二开口部AR1-2和第三开口部AR2-2的情况下,若使用掩模组件200,则第一支撑部件231和第二支撑部件232可能会发生热变形。尤其,在如上的情况下,第二开口部AR1-2的形态(例如,形状以及大小中的至少一个)和第三开口部AR2-2的形态彼此不同,从而第一支撑部件231以及第二支撑部件232可能非对称地布置于第一开口部211内部。此时,第一支撑部件231以及第二支撑部件232以施加张力的状态布置于掩模框架210,从而若如上地施加热,则可能会发生较多的变形。在这样的情况下,第二开口部AR1-2和第三开口部AR2-2的形态与预设的形态不同,从而可能无法在显示基板执行精密的沉积。
此时,第一划分部件233和第二划分部件234是施加有比第一支撑部件231以及第二支撑部件232的张力较弱的张力的状态,并且第一划分部件233的宽度和第二划分部件234的宽度比第一支撑部件231的宽度和第二支撑部件232的宽度大,从而借由热变形的变形可以发生得更小。
参照图9,如上地布置第一划分部件233以及第二划分部件234之后,可以将掩模片220拉伸而固定于掩模框架210。此时,将第一掩模片221和第二掩模片222分别拉伸而布置于掩模框架210之后,可以利用焊接将第一掩模片221和第二掩模片222固定于掩模框架210。在这样的情况下,第一掩模片221和第二掩模片222可以彼此相邻,第一掩模片221可以遮蔽第二开口部AR1-2,第二掩模片222可以遮蔽第三开口部AR2-2。
因此,掩模组件的制造方法能够制造具有对应于预设值的第二开口部AR1-2和第三开口部AR2-2的掩模组件200。
图10是示出根据本发明的另一实施例的掩模组件的平面图。
参照图10,掩模组件200可以包括掩模框架210、支撑部件231、232以及划分部件233、234。此时,掩模框架210、支撑部件231、232以及划分部件233、234可以与上述内容相同或者类似。支撑部件231、232可以包括第一支撑部件231和第二支撑部件232,划分部件233、234可以包括第一划分部件233和第二划分部件234。
如上的掩模组件200的制造方法可以包括与在上述内容所述的图3至图8所示的内容相同或者类似的顺序。
通过如上的掩模组件200可以在显示基板D形成对向电极。此时,第二开口部AR1-2以及第三开口部AR2-2可以包括彼此不同的大小以及形状中的至少一个。
因此,掩模组件200能够在显示基板D的预设的区域形成对向电极。
图11是示出根据本发明的一实施例的显示装置的平面图。图12是沿图11的A-A'线截取的剖视图。
参照图11以及图12,显示装置20可以在基板21上限定显示区域DA和显示区域DA的外围的非显示区域NDA。在显示区域DA可以布置发光部,在非显示区域NDA可以布置电源配线(未图示)等。并且,在非显示区域NDA可以布置垫部C。
显示装置20可以包括显示基板D以及封装部件(未图示)。此时,显示基板D可以包括基板21、薄膜晶体管TFT、钝化膜27以及像素电极28A。作为另一实施例,显示基板D也能够包括基板21、薄膜晶体管TFT、钝化膜27、像素电极28A以及中间层28B中的至少一个层。作为一实施例,所述封装部件可以包括:封装基板(未图示),布置为面对基板21;以及密封部件(未图示),布置于基板21和所述封装基板之间。此时,布置于基板21上的有机发光元件(organic light-emitting diode)28可以利用所述密封部件和所述封装基板密封。作为另一实施例,所述封装部件可以包括薄膜封装层E。以下为了便于说明,以显示基板D包括基板21、薄膜晶体管TFT、钝化膜27以及像素电极28A的情形作为中心进行详细说明。并且,为了便于说明,以所述封装部件包括薄膜封装层E的情形作为中心进行详细说明。
基板21可以包括玻璃或者高分子树脂。高分子树脂可以包括诸如聚醚砜(polyethersulfone)、聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚醚酰亚胺(polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene napthalate)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethyleneterepthalate)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide)、聚芳酯(polyarylate)、聚酰亚胺(polyimide)、聚碳酸酯(polycarbonate)或者醋酸丙酸纤维素(CAP:cellulose acetate propionate)的高分子树脂。包括高分子树脂的基板21可以具有柔性、可卷曲或者可弯曲特性。基板21可以是包括包含有上述的高分子树脂的层以及无机层(未图示)的多层结构。
在基板21上可以形成薄膜晶体管TFT,以覆盖薄膜晶体管TFT的方式形成钝化膜27,并且在此钝化膜27上可以形成有机发光元件28。
在基板21的上表面还可以形成利用有机化合物和/或无机化合物构成的缓冲层22,可以利用SiOx(x≥1)、SiNx(x≥1)形成。
在此缓冲层22上形成以预定的图案排列的活性层23之后,活性层23被栅极绝缘层24埋设。活性层23具有源极区域23A和漏极区域23C,在其之间还包括沟道区域23B。
这样的活性层23可以形成为含有多种物质。例如,活性层23可以含有诸如非结晶硅或者结晶硅的无机半导体物质。作为另一示例,活性层23可以含有氧化物半导体。作为又一示例,活性层23可以含有有机半导体物质。然而,为了便于说明,下面以活性层23利用非结晶硅形成的情形作为中心进行详细说明。
这样的活性层23可以以如下方式形成:在缓冲层22上形成非结晶硅膜之后,将此结晶化而形成为多结晶硅膜,并将此多结晶硅膜图案化。所述活性层23根据驱动TFT(未图示)、开关TFT(未图示)等TFT种类而使其源极区域23A以及漏极区域23C被掺杂物掺杂。
在栅极绝缘层24的上表面形成有与活性层23对应的栅极电极25和埋设其的层间绝缘层26。
并且,在层间绝缘层26和栅极绝缘层24形成接触孔H1之后,在层间绝缘层26上分别以与源极区域23A以及漏极区域23C接触的方式形成源极电极27A以及漏极电极27B。
在这样形成的所述薄膜晶体管的上部形成钝化膜27,在此钝化膜27上部形成有机发光元件(OLED)28的像素电极28A。此像素电极28A借由形成于钝化膜27的过孔H2而与TFT的漏极电极27B接触。所述钝化膜27可以形成为无机物和/或有机物、单层或者2层以上,也可以以与下部膜的弯曲无关地使上表面平坦的方式形成为平坦化膜,相反,可以形成为根据位于下部的膜的弯曲而弯曲。并且,优选地,此钝化膜27利用透明绝缘体形成,以能够实现共振效果。
在钝化膜27上形成像素电极28A之后,利用有机物和/或无机物形成像素定义膜29来覆盖此像素电极28A以及钝化膜27,并且像素定义膜29被开口来暴露像素电极28A。
并且,至少在所述像素电极28A上形成中间层28B以及对向电极28C。作为另一实施例,对向电极28C也可以形成于显示基板D的整个表面。在这样的情况下,对向电极28C可以形成于中间层28B、像素定义膜29上。为了便于说明,下面以对向电极28C形成于中间层28B、像素定义膜29上的情形作为中心进行详细说明。
像素电极28A起到阳极电极的功能,对向电极28C起到阴极电极的功能,当然,这些像素电极28A和对向电极28C的极性相反也无妨。
像素电极28A和对向电极28C借由所述中间层28B而彼此绝缘,并且对中间层28B施加彼此不同极性的电压而在有机发光层实现发光。
中间层28B可以配备有机发光层。作为选择性的另一示例,中间层28B可以配备有有机发光层(organic emission layer),此外还可以配备有空穴注入层(HIL:holeinjection layer)、空穴传输层(hole transport layer)、电子传输层(electrontransport layer)以及电子注入层(electron injection layer)中的至少一个。本实施例并不局限于此,中间层28B可以配备有有机发光层,并且还可以配备有其他多种功能层(未图示)。
如上的中间层28B可以配备为多个,多个中间层28B可以形成显示区域DA。此时,多个中间层28B可以布置为在显示区域DA内部彼此相隔。
另外,一个单位像素利用多个子像素构成,多个子像素可以发出多种颜色的光。例如,多个子像素可以配备有分别发出红色、绿色以及蓝色的光的子像素,可以配备有发出红色、绿色、蓝色以及白色的光的子像素(未标记)。这样的每个子像素分别可以包括在上述内容中所述的像素电极28A、中间层28B以及对向电极28C。
上文所述的显示装置的制造装置100可以在显示基板D形成多种层。例如,所述显示装置的制造装置100可以在显示基板D形成中间层28B中的至少一个层。具体地,显示装置的制造装置100可以形成中间层28B中的有机发光层、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层以及功能层中的至少一个。作为另一实施例,所述显示装置的制造装置100也能够在显示基板D形成对向电极28C。此时,显示基板D可以意味着从基板21至在上文说明的中间层28B中的至少一个层。
另外,薄膜封装层E可以包括多个无机层,或者包括无机层以及有机层。
薄膜封装层E的所述有机层可以包括聚合物(polymer)系列的物质。作为聚合物系列的材质可以包括聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚乙烯磺酸盐、聚甲醛、聚芳酯、六甲基二硅氧烷、丙烯酸系树脂(例如,聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯酸等)或者其任意的组合。
薄膜封装层E的所述无机层可以包括氧化铝、氧化钛、氧化钽、氧化铪、氧化锌、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的一个以上的无机绝缘物。
为了防止针对有机发光元件的湿气渗透,薄膜封装层E中暴露于外部的最上层可以形成为无机层。
薄膜封装层E可以包括至少一个在至少2个无机层之间插入有至少1个有机层的三明治结构。作为另一示例,薄膜封装层E可以包括至少一个在至少2个有机层之间插入有至少1个无机层的三明治结构。作为又一示例,薄膜封装层E也可以包括在至少2个无机层之间插入有至少1个有机层的三明治结构以及在至少2个有机层之间插入有至少1个无机层的三明治结构。
薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层。
作为另一示例,薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层。
作为又一示例,薄膜封装层E可以从所述有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层、第四无机层。
在有机发光元件(OLED)28和第一无机层之间可以追加包括有包含LiF的卤化金属层。所述卤化金属层可以防止当以溅镀的方式形成第一无机层时所述有机发光元件(OLED)28受损。
第一有机层的面积可以比第二无机层的面积小,所述第二有机层的面积也可以比第三无机层的面积小。
如上所述,在无机层配备为多个的情况下,无机层可以在显示装置20的边缘区域以彼此直接接触的方式沉积,并可以使有机层不会暴露于外部。
因此,显示装置20可以实现精密的图像。
如此,以附图中所示的一实施例为参考说明了本发明,但这仅为示例性的,只要是在本技术领域中具有普通知识的人便可以理解,可以据此进行多种变形及实施例的变形。因此,本发明的真正的技术保护范围应当根据记载的权利要求书的技术思想而被确定。

Claims (10)

1.一种掩模组件,包括:
掩模框架,配备有第一开口部;
支撑部件,沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向排列,并且布置于所述掩模框架,以将所述第一开口部划分为至少一个第二开口部以及至少一个第三开口部;以及
划分部件,布置为与所述支撑部件重叠。
2.如权利要求1所述的掩模组件,其中,
所述支撑部件的宽度为所述划分部件的宽度以下。
3.如权利要求1所述的掩模组件,其中,
所述支撑部件包括:
第一支撑部件,沿所述第一方向排列;以及
第二支撑部件,沿所述第二方向排列。
4.如权利要求3所述的掩模组件,其中,
所述划分部件包括:
第一划分部件,布置于所述第一支撑部件上;以及
第二划分部件,布置于所述第二支撑部件上。
5.如权利要求1所述的掩模组件,其中,
在平面上,所述第二开口部的面积与所述第三开口部的面积彼此不同。
6.如权利要求1所述的掩模组件,还包括:
掩模片,遮蔽所述第二开口部和所述第三开口部中的至少一个。
7.如权利要求6所述的掩模组件,其中,
所述掩模片包括:
第一掩模片,遮蔽所述第二开口部;以及
第二掩模片,遮蔽所述第三开口部。
8.一种显示装置的制造装置,包括
掩模组件;
腔体,布置有所述掩模组件以及基板;以及
沉积源,以面对所述掩模组件的方式布置于所述腔体内部,
所述掩模组件包括:
掩模框架,配备有第一开口部;
支撑部件,沿第一方向以及第二方向中的至少一个方向排列,并且布置于所述掩模框架,以将所述第一开口部划分为至少一个第二开口部以及至少一个第三开口部;以及
划分部件,布置为与所述支撑部件重叠。
9.如权利要求8所述的显示装置的制造装置,其中,
所述支撑部件的宽度为所述划分部件的宽度以下。
10.如权利要求8所述的显示装置的制造装置,其中,
所述支撑部件包括:
第一支撑部件,沿所述第一方向排列;以及
第二支撑部件,沿所述第二方向排列。
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