CN218812024U - 掩模组件及包括掩模组件的显示装置的制造装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了掩模组件和包括掩模组件的显示装置的制造装置。本实用新型包括：掩模框架，具有开口区域并且具有槽；多个掩模片，布置于所述开口区域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿过所述开口区域，并且支承所述多个掩模片中的彼此相邻的所述掩模片，其中，当在平面上观察时，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的内部。

Description

掩模组件及包括掩模组件的显示装置的制造装置

技术领域

本实用新型的实施例涉及装置，更具体地，涉及掩模组件及包括掩模组件的显示装置的制造装置。

背景技术

基于移动性的电子设备正在被广泛地使用。近来，除了诸如移动电话的小型电子设备之外，平板PC也被广泛地用作移动电子设备。

为了支持各种功能，这种移动电子设备包括显示装置以向用户提供诸如图像或影像的视觉信息。近来，随着用于驱动显示装置的其它部件变得小型化，显示装置在电子设备中所占的比重正在逐渐增加，并且也正在开发能够从平坦状态弯曲成具有预定的角度的结构。这种显示装置可以使用掩模组件以形成薄膜。

实用新型内容

要解决的技术问题

通常，当使掩模组件和基板彼此紧贴并执行沉积时，会有基板由于掩模组件而损坏或基板的内部出现裂纹的情况。在这种情况下，不仅会导致最终产品的缺陷，而且会出现在使用最终产品时寿命缩短的问题。本实用新型的实施例提供防止基板损坏的掩模组件及包括掩模组件的显示装置的制造装置。

解决方法

本实用新型一实施例公开一种掩模组件，所述掩模组件包括：掩模框架，具有开口区域并且具有槽；多个掩模片，布置于所述开口区域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿过所述开口区域，并且支承所述多个掩模片中的彼此相邻的所述掩模片，其中，当在平面上观察时，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的内部。

在本实施例中，所述槽可以在所述多个掩模片所排列的第一方向上延伸。

在本实施例中，所述槽的侧表面中的至少一个可以是倾斜的。

在本实施例中，所述槽的侧表面中的倾斜的侧表面可以从所述槽的边沿越往所述槽的中央部分越低。

在本实施例中，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端中的至少一个可以在远离所述掩模框架的方向上突出。

在本实施例中，所述掩模组件还可以包括：第二支承框架，穿过所述开口区域，并且以与所述第一支承框架交叉的方式布置于所述掩模框架。

本实用新型另一实施例公开一种显示装置的制造装置，所述装置包括：掩模组件，与基板相对地布置；以及沉积源，以所述掩模组件为基准布置在所述基板的对面，并且向所述基板供应沉积物质，其中，所述掩模组件包括：掩模框架，具有开口区域并且具有槽；多个掩模片，布置于所述开口区域；以及第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿过所述开口区域，并且支承所述多个掩模片中的彼此相邻的所述掩模片，其中，当在平面上观察时，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的内部。

在本实施例中，所述槽可以在所述多个掩模片所排列的第一方向上延伸。

在本实施例中，所述槽的侧表面中的至少一个可以是倾斜的。

在本实施例中，所述槽的侧表面中的倾斜的侧表面可以从所述槽的边沿越往所述槽的中央部分越低。

在本实施例中，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端中的至少一个可以在远离所述掩模框架的方向上突出。

在本实施例中，所述掩模框架还可以包括：第二支承框架，穿过所述开口区域，并且以与所述第一支承框架交叉的方式布置于所述掩模框架。

在本实施例中，所述装置还可以包括：冷却板，以所述基板为中心布置在所述掩模组件的对面。

在本实施例中，所述装置还可以包括：磁力部，以所述基板为中心布置在所述掩模组件的对面。

除前述内容以外的其它方面、特征和优点将从以下的附图、本实用新型的详细说明中变得清楚。

可以使用系统、方法、计算机程序或系统、方法、计算机程序的某种组合来实施这些一般的和具体的方面。

有益效果

本实用新型的实施例所涉及的掩模组件、包括掩模组件的显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法可以在制造显示装置时减少基板的损坏。另外，本实用新型的实施例所涉及的掩模组件、包括掩模组件的显示装置的制造装置以及显示装置的制造方法可以在制造显示装置时降低缺陷率。

附图说明

图1是示出根据本实用新型一实施例的掩模组件的透视图。

图2是沿图1中所示的掩模组件的线II-II截取的剖视图。

图3和图4是示出图2中所示的掩模片的末端和第一支承框架的末端的剖视图。

图5是示出根据本实用新型一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。

图6是示出根据本实用新型一实施例的显示装置的平面图。

图7是沿图6中所示的显示装置的线VII-VII截取的剖视图。

附图标记的说明

100：显示装置的制造装置

110：腔室

121：磁力部

122：冷却板

130：支承部

140：视觉部

150：掩模组件

151：掩模框架

152：掩模片

153：第一支承框架

154：第二支承框架

160：沉积源

170：压力调节部

20：显示装置

21：基板

具体实施方式

本实用新型可以进行各种转换并且可以具有各种实施例，将在附图中例示特定的实施例并且进行详细说明。本实用新型的效果和特征以及实现效果和特征的方法将通过参照后面与附图一起详细描述的实施例而变得清楚。然而，本实用新型并不限于以下公开的实施例，而是可以以各种形态实现。

以下，将参照附图对本实用新型的实施例进行详细说明，且在参照附图说明时，与附图标记无关地，相同或对应的构成要素被赋予相同的参照符号，并省略对其的重复说明。

在以下实施例中，“第一”、“第二”等术语以将一个构成要素与另一个构成要素区分开的目的所使用，而不是以限定性的意义所使用。

在以下实施例中，除非在上下文中另外明确地指出，否则单数的表达包括复数的表达。

在以下实施例中，“包括”或“具有”等术语意味着存在说明书中所记载的特征或构成要素，并且不事先排除添加一个以上的其它特征或构成要素的可能性。

在以下实施例中，当膜、区域、构成要素等的部分被称为在另一部分“上面”或“上”时，不仅包括直接在另一部分上面的情况，而且也包括其它膜、区域、构成要素等介于中间的情况。

在附图中，为了便于说明，可能夸大或缩小了构成要素的大小。例如，在附图中示出的各个构成要素的大小和厚度是为了说明的方便而任意地示出的，因此本实用新型不限于附图中所示。

在以下实施例中，x轴、y轴和z轴不限于正交坐标系中的三个轴，且可以解释为包括其的广泛的意义。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此正交，但是也可以指代彼此不正交的彼此不同的方向。

在可以不同地实现某个实施例的情况下，可以按照与说明的顺序不同的顺序来执行特定的工艺顺序。例如，可以实质上同时执行连续说明的两个工艺，也可以以与说明的顺序相反的顺序执行上述两个工艺。

图1是示出根据本实用新型一实施例的掩模组件的透视图。图2 是沿图1中所示的掩模组件的线II-II截取的剖视图。

参照图1和图2，掩模组件150可以包括掩模框架151、掩模片152、第一支承框架153和第二支承框架154。

掩模框架151可以形成为窗框的形态。此时，掩模框架151可以包括多个框架，并且多个框架可以彼此连接。一个开口区域可以形成于如上所述的掩模框架151的中央部分，且作为另一实施例，多个孔也可以形成于掩模框架151的中央部分。此时，在多个孔形成于掩模框架151的中央部分的情况下，掩模框架151的中央部分可以形成为网格形态。然而，以下为了便于说明，将主要对一个开口区域布置在掩模框架151的中央部分的情况进行详细说明。

如上所述的掩模框架151可以包括槽151a。此时，槽151a可以布置在掩模框架151的长边上。另外，当在平面上观察时，槽151a可以布置成与掩模片152的末端和第一支承框架153的末端重叠。即，掩模片152的末端和第一支承框架153的末端可以是布置成与槽151a的底表面间隔开的形态。

掩模片152可以设置在掩模框架151上。此时，掩模片152可以通过焊接附接于掩模框架151。

掩模片152可以设置为多个，并且可以排列成在掩模框架151的一个边的方向上彼此相邻。此时，多个掩模片152可以遮蔽掩模框架151的开口的中央部分。例如，掩模片152可以布置成在掩模框架151 的长边方向上彼此相邻。

各个掩模片152可以以拉伸的状态附接于掩模框架151。例如，各个掩模片152可以在沿掩模片152的长度方向拉伸的状态下焊接固定到掩模框架151。

各个掩模片152可以包括至少一个开口部(未标记)。此时，上述多个开口部可以布置成彼此间隔开。

形成于各个掩模片152的至少一个上述开口部可以形成于整个掩模片152。作为另一实施例，形成于各个掩模片152的至少一个上述开口部可以形成一个组的形态，并且各个掩模片152中也可以形成有多个上述组。以下为了便于说明，将主要对至少一个上述开口部形成于整个掩模片152的情况进行详细说明。

如上所述的掩模片152可以包括布置在掩模片152的侧表面上并且向掩模片152的上表面突出的第一突起152a。这种第一突起152a可以布置在槽151a的上部。

第一支承框架153可以布置于掩模框架151的开口区域。第一支承框架153可以设置成与掩模框架151的一个边平行。第一支承框架 153可以布置在掩模片152之间。此时，第一支承框架153可以支承掩模片152，从而防止在掩模片152发生热变形时掩模片152因荷重等而下垂。

第一支承框架153可以包括第二突起153a，第二突起153a布置在第一支承框架153的侧表面上并且第二突起153a的一部分向第一支承框架153的上表面突出。此时，第二突起153a可以与第一突起 152a形成为一体，或者可以形成为与第一突起152a分离。另外，第二突起153a可以与第一突起152a类似地布置在槽151a的上部。

第二支承框架154可以布置于掩模框架151的开口区域。此时，第二支承框架154可以布置成与第一支承框架153交叉。例如，第一支承框架153可以与掩模框架151的边沿中的一个(例如，短边)平行地布置，且第二支承框架154可以与掩模框架151的边沿中的另一个(例如，长边)平行地布置。

如上所述的第一支承框架153和第二支承框架154中的至少一个可以至少设置为一个。此时，第一支承框架153和第二支承框架154 可以通过布置成彼此交叉来将掩模框架151的开口区域划分为多个部分。

在如上所述的情况下，第一支承框架153和第二支承框架154可以布置成彼此堆叠。例如，掩模框架151、第一支承框架153、第二支承框架154和掩模片152可以从下部到上部依次堆叠地布置。作为另一实施例，掩模框架151、第二支承框架154、第一支承框架153和掩模片152可以从下部到上部依次堆叠地布置。在这种情况下，第一支承框架153和第二支承框架154可以以部分地插入掩模框架151的形态布置。例如，掩模框架151可以包括结合槽以供第一支承框架153 和第二支承框架154插入，且第一支承框架153和第二支承框架154可以插入到这种结合槽，从而彼此不干扰。此时，第一支承框架153 和第二支承框架154可以在彼此交叉的地点相遇。特别地，第一支承框架153和第二支承框架154可以由于掩模片152的荷重、自身的荷重而彼此相遇。以下为了便于说明，将主要对掩模框架151、第一支承框架153、第二支承框架154和掩模片152从下部到上部依次堆叠布置的情况进行详细说明。

综观如上所述的掩模组件150的制造方法，可以在掩模框架151 上形成槽151a，然后可以将第一支承框架153和第二支承框架154布置到掩模框架151。

在如上所述的情况下，可以将第一支承框架153和第二支承框架 154以在长度方向上拉伸的状态布置在掩模框架151上并固定到掩模框架151。

当完成上述过程时，可以将掩模片152以在长度方向上拉伸的状态布置在掩模框架151上，然后将掩模片152固定到掩模框架151。

在固定掩模片152之后，可以切割并去除掩模片152的一部分和第一支承框架153的一部分。此时，可以同时切割掩模片152和第一支承框架153，且被切割部位可以布置在槽151a的上部。例如，掩模片152和第一支承框架153的被切割部位可以布置在槽151a的中央部分。在这种情况下，第一支承框架153上可以安置有掩模片152。

可以使用激光来执行对掩模片152和第一支承框架153的切割。此时，掩模片152的被切割部位和第一支承框架153的被切割部位发生熔化，从而形成第一突起152a和第二突起153a。这种第一突起152a 和第二突起153a可以从掩模片152的上表面突出。

如上所述的掩模组件150可以用于在基板上沉积有机物。此时，即使在掩模组件150接触基板的情况下，掩模组件150也不会损坏基板。

图3和图4是示出图2中所示的掩模片的末端和第一支承框架的末端的剖视图。

参照图3和图4，布置有掩模片152的末端和第一支承框架153 的末端的槽151a可以具有各种形状。此时，槽151a的侧表面可以倾斜地形成。例如，槽151a的倾斜可以是越往槽151a的中央越低的形态。

如图3中所示，如上所述的槽151a的侧表面的倾斜可以仅布置在槽151a的侧表面中的一个。作为另一实施例，如图4中所示，槽151a 的侧表面的倾斜可以布置在槽151a的侧表面中的两侧。在这种情况下，槽151a的倾斜表面的长度方向可以是与掩模片152的长度方向和第一支承框架153的长度方向垂直的方向。

在如上所述的情况下，当基板布置在掩模片152上时，在基板向掩模片152施加力的情况下，掩模片152的末端和第一支承框架153 的末端可以向槽151a的内部变形，使得第一突起152a和第二突起153a 不会损坏基板。

另一方面，虽然未在附图中示出，但是槽151a的侧表面可以形成为各种形状。例如，槽151a的侧表面可以形成为具有圆润的截面形状。作为另一实施例，槽151a的侧表面也可以形成为像台阶形态一样具有多个台阶。

图5是示出根据本实用新型一实施例的显示装置的制造装置的剖视图。

参照图5，显示装置的制造装置100可以包括腔室110、掩模组件150、支承部130、沉积源160、视觉部140、压力调节部170以及接触部121、122。

腔室110的内部可以形成有空间，并且可以形成为部分开放。在腔室110的开口的部分可以设置有闸阀110a以开闭开口的部分。

掩模组件150可以包括掩模框架151、掩模片152、第一支承框架 153和第二支承框架154。此时，掩模框架151、掩模片152、第一支承框架153和第二支承框架154与以上所说明的相同或相似，因此将将省略其详细说明。

掩模框架151可以安置于支承部130。此时，支承部130可以固定地设置在腔室110内部。另外，支承部130也可以改变掩模组件150 的位置从而调节基板21和掩模组件150的相对位置。

沉积源160可以设置成与掩模组件150相对。此时，沉积源160 可以固定地设置在腔室110中，且作为另一实施例，沉积源160也可以可移动地设置在腔室110中。然而，以下为了便于说明，将主要对沉积源160固定地设置在腔室110内部的情况进行详细说明。

在沉积源160的内部可以容纳有沉积物质。此时，在沉积源160 的内部可以布置有对沉积物质施加热的加热器160a。

视觉部140可以设置于腔室110以拍摄基板21和掩模组件150的位置。此时，视觉部140可以将拍摄到的图像发送到控制部(未示出)。上述控制部可以根据基板21和掩模组件150的位置通过支承部130 对准基板21和掩模组件150。作为另一实施例，上述控制部也可以在基板21插入到腔室110之前通过使用视觉部140拍摄掩模组件150的位置来调节掩模组件150的位置，并将基板21布置成与掩模组件150 的位置对应。此时，基板21可以通过腔室110外部的机械手臂等布置在掩模组件150上。作为又一实施例，上述控制部也可以根据由视觉部140测量的基板21和掩模组件150的位置对准沉积源160和掩模组件150的位置。

压力调节部170可以连接于腔室110以将腔室110内部的气体排出到外部。此时，压力调节部170可以包括连接于腔室110的连接管道171和设置于连接管道171的压力调节泵172。压力调节泵172可以根据运转将腔室110内部的压力保持在大气压或真空状态。

接触部121、122可以与基板21接触并使基板21和掩模组件150 彼此紧贴。另外，接触部121、122也可以接触基板21并调节基板21 的温度。例如，接触部121、122可以包括向掩模组件150提供磁力的磁力部121和布置在磁力部121与基板21之间的冷却板122。此时，冷却板122可以与基板21接触，并且可以在沉积物质沉积到基板21 时降低基板21的温度。

综观如上所述的显示装置的制造装置100的运转方法，可以从外部将掩模组件150插入到腔室110。可以将掩模组件150安置于支承部130。此时，掩模组件150可以通过另外设置在腔室110外部的机械手臂等从腔室110的外部进入腔室110的内部。作为另一实施例，也可以从与腔室110连接且存储掩模组件150的另外的腔室供应掩模组件150。

当完成上述过程时，可以从腔室110的外部通过机械手臂将基板 21布置到掩模组件150上。此时，可以根据由视觉部140拍摄的图像调节基板21和掩模组件150的位置。

当完成上述过程时，接触部121、122可以与基板21的一个表面接触。在这种情况下，支承部130或接触部121、122可以布置成可线性运动。作为一实施例，在支承部130升降的情况下，可以通过支承部130的上升使基板21与接触部121、122接触。作为另一实施例，在接触部121、122升降的情况下，可以通过接触部121、122的下降使接触部121、122与基板21接触。

如上所述，当接触部121、122下降时，接触部121、122可以与基板21接触并将基板21紧贴到掩模组件150。此时，将基板21紧贴到掩模组件150的方法有，接触部121、122可以对基板21施加朝向掩模组件150侧的力，或者可以向掩模组件150提供磁力从而将掩模组件150拉向接触部121、122侧，使得基板21与掩模组件150彼此紧贴。

在如上所述的情况下，掩模片152的第一突起152a和第一支承框架153的第二突起153a中的至少一个可能比掩模片152的上表面(即，与基板21接触的掩模片152的表面)更向基板21侧突出，并且第一突起152a和第二突起153a中的至少一个可能向基板21提供过大的力。

在如上所述的情况下，由于第一突起152a和第二突起153a不与槽151a的内表面接触，因此当产生如上所述的力时，布置有第一突起 152a的掩模片152的末端和布置有第二突起153a的第一支承框架153 的末端可以插入到槽151a的内部。即，当在平面上观察时，掩模片152 的末端和第一支承框架153的末端可以不布置在槽151a的边界上，而是可以布置在槽151a的内部，从而变成悬臂形态。在这种情况下，由于掩模片152的末端和第一支承框架153的末端变成可自由摇晃的结构，因此不会由于施加到基板21的力而持续地向基板21施加力，而是掩模片152的末端和第一支承框架153的末端可以变形。

在如上所述的情况下，掩模片152的末端和第一支承框架153的末端向基板21施加的力可以减小，从而防止基板21损坏。

当完成上述过程时，在加热器160a运转使得沉积物质气化或升华时，沉积物质可以通过掩模组件150并沉积到基板21。此时，冷却板 122可以运转以降低基板21的温度，从而防止沉积物质在沉积到基板 21之后脱离。另外，压力调节泵172可以运转以将腔室110内部的沉积物质排出到外部。

因此，显示装置的制造装置100及显示装置的制造方法，可以在将沉积物质沉积到基板21时防止基板21损坏。显示装置的制造装置 100及显示装置的制造方法通过防止沉积过程中的基板21的损坏，不仅可以提高产品的品质，而且可以最大限度地减少在制造过程中产生的缺陷。

显示装置的制造装置100及显示装置的制造方法可以防止制造出的显示装置的寿命因基板21的损坏而缩短。

图6是示出根据本实用新型一实施例的显示装置的平面图。图7 是沿图6中所示的显示装置的线VII-VII截取的剖视图。

参照图6和图7，在显示装置20中，显示区域DA和位于显示区域DA的周边的非显示区域可以限定在基板21上。显示区域DA中可以布置有发光部D，且非显示区域中可以布置有电源配线(未示出) 等。另外，非显示区域中可以布置有焊盘部C。

显示装置20可以包括基板21和发光部D。另外，显示装置20可以包括形成在发光部D的上部的薄膜封装层E。此时，基板21可以使用塑料材料，也可以使用诸如SUS、Ti的金属材料。另外，基板21可以使用聚酰亚胺(PI，Polyimide)。以下为了便于说明，将主要对基板 21由聚酰亚胺形成的情况进行详细说明。

发光部D可以形成在基板21上。此时，发光部D可以包括薄膜晶体管TFT，且钝化层27可以形成为覆盖薄膜晶体管TFT，且有机发光元件28可以形成在钝化层27上。

基板21可以包括单层或多层。作为一实施例，在基板21为单层的情况下，基板21可以包括聚酰亚胺(PI，polyimide)、聚醚砜(PES， polyethersulfone)、聚芳酯(polyarylate)、聚醚酰亚胺(PEI， polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN，polyethyelenene napthalate)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET，polyethyeleneterepthalate)、聚苯硫醚(PPS，polyphenylene sulfide)、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纤维素(TAC)和/或醋酸丙酸纤维素(CAP，cellulose acetate propionate) 等。作为另一实施例，基板21可以是包括包含聚合树脂的基础层以及无机层的多层结构。例如，基板21可以包括包含聚合树脂的基础层和由无机绝缘层形成的阻挡层。以下为了便于说明，将主要对基板21是包括包含聚合树脂的基础层以及无机层的多层结构的情况进行详细说明。

由有机化合物和/或无机化合物形成的缓冲层22还可以形成在基板21的上表面上，并且可以由SiO_x(x≥1)、SiN_x(x≥1)形成。

在以预定的图案排列的有源层23形成在缓冲层22上之后，有源层23被栅极绝缘层24覆盖。有源层23具有源极区域23a和漏极区域 23c，并且在它们之间还包括沟道区域23b。

这种有源层23可以形成为含有各种物质。例如，有源层23可以含有诸如非晶硅或晶体硅等无机半导体物质。作为另一示例，有源层 23可以含有氧化物半导体。作为又一示例，有源层23可以含有有机半导体物质。然而，以下为了便于说明，将主要对有源层23由非晶硅形成的情况进行详细说明。

这种有源层23可以通过在缓冲层22上形成非晶硅膜之后，对非晶硅膜进行结晶而形成多晶硅膜，并对该多晶硅膜进行图案化而形成。上述有源层23的源极区域23a和漏极区域23c可以根据驱动薄膜晶体管(未示出)和开关薄膜晶体管(未示出)等薄膜晶体管的类型而掺杂有杂质。

在栅极绝缘层24的上表面上形成有与有源层23对应的栅电极25 和覆盖栅电极25的层间绝缘层26。

接着，在层间绝缘层26和栅极绝缘层24中形成接触孔H1之后，源电极27a和漏电极27b以分别与源极区域23a和漏极区域23c接触的方式形成在层间绝缘层26上。

如此形成的上述薄膜晶体管TFT的上部形成有钝化层27，并且在该钝化层27的上部形成有机发光元件(OLED)28的像素电极28a。该像素电极28a通过形成在钝化层27中的过孔H2与薄膜晶体管TFT 的漏电极27b或源电极27a接触。上述钝化层27可以由无机物和/或有机物形成，并且可以由单层或两层以上的层形成，且钝化层27可以形成为平坦化膜以使上表面平坦而不管下部膜的弯曲，相反，钝化层 27也可以形成为根据位于下部的膜的弯曲而弯曲。另外，钝化层27优选由透明绝缘体形成，以便能够达到共振效果。

在钝化层27上形成像素电极28a之后，像素限定膜29由有机物和/或无机物形成以覆盖该像素电极28a和钝化层27，并且像素限定膜 29被开口以暴露像素电极28a。

接着，中间层28b和相对电极28c至少形成在像素电极28a上。

像素电极28a用作阳极，且相对电极28c用作阴极，当然，这些像素电极28a和相对电极28c的极性也可以相反。

像素电极28a和相对电极28c通过上述中间层28b彼此绝缘，通过向中间层28b施加不同极性的电压使有机发光层发光。

中间层28b可以包括有机发光层。作为可选的另一示例，中间层 28b可以包括有机发光层，并且除此之外，还可以包括空穴注入层(hole injection layer)、空穴传输层(hole transport layer)、电子传输层(electron transport layer)和电子注入层(electron injection layer)中的至少一种。本实施例不限于此，且中间层28b可以包括有机发光层，并且还可以包括其它各种功能层(未示出)。

此时，如上所述的中间层28b可以通过以上说明的显示装置的制造装置(未示出)形成。例如，中间层28b中的有机发光层可以通过以上说明的显示装置的制造装置形成。

另一方面，一个单位像素由多个子像素组成，且多个子像素可以发射各种颜色的光。例如，多个子像素可以包括分别发射红光、绿光和蓝光的子像素，且可以包括发射红光、绿光、蓝光和白光的子像素 (未标记)。

另一方面，如上所述的薄膜封装层E可以包括多个无机层，或者可以包括无机层和有机层。

薄膜封装层E的上述有机层可以由聚合物形成，并且可以是优选由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中的任一种形成的单层或叠层。更优选地，上述有机层可以由聚丙烯酸酯形成，并且具体地可以包括包含二丙烯酸酯类单体和三丙烯酸酯类单体在内的单体组合物经高分子化的产物。上述单体组合物还可以包括单丙烯酸酯类单体。另外，单体组合物还可以包括诸如TPO的已知的光引发剂，但不限于此。

薄膜封装层E的上述无机层可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或叠层。具体地，上述无机层可以包括SiN_x、Al₂O₃、SiO₂和TiO₂中的任一种。

薄膜封装层E中的暴露于外部的最上层可以由无机层形成，以防止对有机发光元件的透湿。

薄膜封装层E可以包括至少一个有机层插入在至少两个无机层之间的至少一个夹层结构。作为另一示例，薄膜封装层E可以包括至少一个无机层插入在至少两个有机层之间的至少一个夹层结构。作为又一示例，薄膜封装层E也可以包括至少一个有机层插入在至少两个无机层之间的夹层结构以及至少一个无机层插入在至少两个有机层之间的夹层结构。

薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28的上部依次包括第一无机层、第一有机层和第二无机层。

作为另一示例，薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28 的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层和第三无机层。

作为又一示例，薄膜封装层E可以从有机发光元件(OLED)28 的上部依次包括第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层和第四无机层。

有机发光元件(OLED)28与第一无机层之间可以附加地包括包含LiF的金属卤化物层。上述金属卤化物层可以在以溅射方式形成第一无机层时防止上述有机发光元件(OLED)28损坏。

第一有机层的面积可以小于第二无机层的面积，且第二有机层的面积也可以小于第三无机层的面积。

因此，显示装置20包括形成精密图案的中间层28b，并且中间层 28b沉积形成在正确的位置，从而可以呈现精密的图像。另外，即使重复地沉积中间层28b，显示装置20也可以形成一定的图案，从而在连续的生产中呈现均匀的品质。

如上所述，参照附图中所示的实施例对本实用新型进行了说明，但这只是示例性的，且本领域技术人员将理解，可以由此进行各种变形及实施例的变形。因此，本实用新型真正的技术保护范围应由所附的权利要求书的技术思想来确定。

Claims (10)

1.一种掩模组件，其特征在于，包括：

掩模框架，具有开口区域并且具有槽；

多个掩模片，布置于所述开口区域；以及

第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿过所述开口区域，并且支承所述多个掩模片中的彼此相邻的所述掩模片，

其中，当在平面上观察时，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的内部。

2.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，

所述槽在所述多个掩模片所排列的第一方向上延伸。

3.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，

所述槽的侧表面中的至少一个是倾斜的。

4.根据权利要求3所述的掩模组件，其特征在于，

所述槽的所述侧表面中的倾斜的侧表面从所述槽的边沿越往所述槽的中央部分越低。

5.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，

所述掩模片的所述末端和所述第一支承框架的所述末端中的至少一个在远离所述掩模框架的方向上突出。

6.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，还包括：

第二支承框架，穿过所述开口区域，并且以与所述第一支承框架交叉的方式布置于所述掩模框架。

7.一种显示装置的制造装置，其特征在于，包括：

掩模组件，与基板相对地布置；以及

沉积源，以所述掩模组件为基准布置在所述基板的对面，并且向所述基板供应沉积物质，

其中，所述掩模组件包括：

掩模框架，具有开口区域并且具有槽；

多个掩模片，布置于所述开口区域；以及

第一支承框架，所述掩模片布置在所述第一支承框架的上部，且所述第一支承框架布置成穿过所述开口区域，并且支承所述多个掩模片中的彼此相邻的所述掩模片，

其中，当在平面上观察时，所述掩模片的末端和所述第一支承框架的末端布置于所述槽的内部。

8.根据权利要求7所述的显示装置的制造装置，其特征在于，

所述槽在所述多个掩模片所排列的第一方向上延伸。

9.根据权利要求7所述的显示装置的制造装置，其特征在于，

所述槽的侧表面中的至少一个是倾斜的。

10.根据权利要求9所述的显示装置的制造装置，其特征在于，

所述槽的所述侧表面中的倾斜的侧表面从所述槽的边沿越往所述槽的中央部分越低。

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