CN113703280A - 曝光方法以及曝光装置 - Google Patents

曝光方法以及曝光装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113703280A
CN113703280A CN202111052400.3A CN202111052400A CN113703280A CN 113703280 A CN113703280 A CN 113703280A CN 202111052400 A CN202111052400 A CN 202111052400A CN 113703280 A CN113703280 A CN 113703280A
Authority
CN
China
Prior art keywords
cylindrical
light source
central axis
exposure
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111052400.3A
Other languages
English (en)
Inventor
侯广杰
叶小龙
王栋
谢超
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Longtu Photomask Co ltd
Original Assignee
Shenzhen Longtu Photomask Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Longtu Photomask Co ltd filed Critical Shenzhen Longtu Photomask Co ltd
Priority to CN202111052400.3A priority Critical patent/CN113703280A/zh
Publication of CN113703280A publication Critical patent/CN113703280A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70783—Handling stress or warp of chucks, masks or workpieces, e.g. to compensate for imaging errors or considerations related to warpage of masks or workpieces due to their own weight

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本发明属于曝光技术领域，尤其涉及一种曝光方法以及曝光装置，其中，曝光方法包括：将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材；将曝光装置置入到圆筒基材的内筒腔，并对圆筒基材内壁进行曝光，其中，曝光装置包括圆筒状掩模版以及设于圆筒状掩模版内筒腔的光源，圆筒状掩模版的中心轴线与圆筒基材的中心轴线重合，光源能够在周向上发光。本发明能够避免了将柔性曝光材料弯曲呈筒状的过程对圆筒基材内壁的曝光图案造成破坏。

Description

曝光方法以及曝光装置
技术领域
本发明属于曝光技术领域，尤其涉及一种用于对由曝光材料弯曲形成的圆筒基材内壁进行曝光的曝光方法以及曝光装置。
背景技术
现有技术中，对于曝光材料弯曲形成的圆筒基材内壁的曝光，是利用先常规光学掩模版进行接触式平面曝光，然后再将曝光材料弯曲形成的圆筒基材，其中，在弯曲形成圆筒基材的过程中，容易圆筒基材内壁的曝光图案造成破坏，导致废料率高，增加了制造成本。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种曝光方法，其旨在解决废料率高的问题。
本发明是这样实现的：
一种曝光方法，包括：
将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材；
将曝光装置置入到所述圆筒基材的内筒腔，并对所述圆筒基材内壁进行曝光，其中，所述曝光装置包括圆筒状掩模版以及设于所述圆筒状掩模版内筒腔的光源，所述圆筒状掩模版的中心轴线与所述圆筒基材的中心轴线重合，所述光源能够在周向上发光。
可选地，所述圆筒基材在轴向上的长度大于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度，所述曝光装置还包括遮光结构，所述遮光结构用于限制所述光源发出的光从所述圆筒状掩模版的两筒口射出；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行一次曝光后，还驱动所述曝光装置在所述圆筒状掩模版的轴向上移动预设距离，并对所述圆筒基材内壁再次曝光，其中，所述预设距离大于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度。
可选地，所述圆筒状掩模版的掩模层设于内壁。
可选地，所述光源呈柱状，且中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线重合，所述光源在轴向上的长度小于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源在所述圆筒状掩模版的中心轴线上往复移动。
可选地，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度等于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动。
可选地，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度晓于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源沿平行于所述圆筒状掩模版的中心轴线的方向往复移动。
本发明还提供一种曝光装置，包括圆筒状掩模版以及设于所述圆筒状掩模版内筒腔的光源，所述圆筒状掩模版的中心轴线与所述圆筒基材的中心轴线重合，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度等于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度，所述光源能够在周向上发光，且还能够绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动。
本发明还提供一种曝光装置，其特征在于，包括圆筒状掩模版以及设于所述圆筒状掩模版内筒腔的光源，所述圆筒状掩模版的中心轴线与所述圆筒基材的中心轴线重合，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度小于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度，所述光源能够在周向上发光，且还能够绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动，所述光源能够沿平行于所述圆筒状掩模版的中心轴线的方向往复移动。
本发明是先将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材，然后再进行曝光，如此，避免了将柔性曝光材料弯曲呈筒状的过程对圆筒基材内壁的曝光图案造成破坏。
此外，在将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材后，对圆筒基材进行质检，如圆筒基材质检合格，则进行曝光，如圆筒基材质检不合格，则不进行曝光，如此，减少了对在形成阶段既已不合格的圆筒基材进行曝光的过程，提高了曝光效率，减少无效曝光。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例一提供的曝光方法的流程图；
图2是本发明实施例一中圆筒基材、圆筒状掩模版和光源之间的位置关系示意图；
图3是本发明实施例二中圆筒基材、圆筒状掩模版和光源之间的位置关系示意图。
附图标号说明：
Figure BDA0003253269680000031
Figure BDA0003253269680000041
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例一
本发明实施例提供一种曝光方法，用于对由曝光材料弯曲形成的圆筒基材100内壁进行曝光。
请参阅图1和图2，该曝光方法包括：
将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材100。
在本实施例中，曝光材料的结构形状优选为片状。
在此需要说明的是，将柔性片状弯曲呈圆筒状属于较为成熟的技术，在此不展开细说。
将曝光装置200置入到圆筒基材100的内筒腔，并对圆筒基材100内壁进行曝光，其中，曝光装置200包括圆筒状掩模版210以及设于圆筒状掩模版210内筒腔的光源220，圆筒状掩模版210的中心轴线与圆筒基材100的中心轴线重合，光源220能够在周向上发光。
此过程中，光源220将根据圆筒状掩模版210的掩模图形进行透光，从而对圆筒基材100内壁进行曝光。
本发明是先将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材100，然后再进行曝光，也即是对圆筒基材100的曝光后置，如此，避免了将柔性曝光材料弯曲呈筒状的过程对圆筒基材100内壁的曝光图案造成破坏。
此外，在将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材100后，对圆筒基材100进行质检，如圆筒基材100质检合格，则进行曝光，如圆筒基材100质检不合格，则不进行曝光，如此，减少了对在形成阶段既已不合格的圆筒基材100进行曝光的过程，提高了曝光效率，减少无效曝光。
在本发明实施例中，圆筒基材100在轴向上的长度大于圆筒状掩模版210在轴向上的长度，曝光装置200还包括遮光结构，遮光结构用于限制光源220发出的光从圆筒状掩模版210的两筒口射出；
在曝光装置200对圆筒基材100内壁进行一次曝光后，还驱动曝光装置200在圆筒状掩模版210的轴向上移动预设距离，并对圆筒基材100内壁再次曝光，其中，预设距离大于圆筒状掩模版210在轴向上的长度。
在此需要说明的是，由于圆筒状掩模版210的制造成本较高，其制造成本随尺寸而成类几何指数增加，其成本的增加是非线性的，因此，控制圆筒状掩模版210的尺寸能够有效控制曝光装置200的制造成本。
而基于此结构设计，可通过在对圆筒基材100进行多次曝光来完成对圆筒基材100的曝光，并在保证对圆筒基材100曝光的前提下，使得圆筒状掩模版210在轴向上的长度无需与圆筒基材100在轴向上的长度相等，而是小于圆筒基材100在轴向上的长度，从而减少曝光装置200的尺寸，从而降低曝光装置200的制造成。
在本发明实施例中，圆筒状掩模版210的掩模层设于外壁，基于此，光线是在经过圆筒状掩模版210的主体之后才经过掩模层，如此，能够避免圆筒状掩模版210本身对光线的折射而影响光线射出的形状，从而保证曝光图形质量。
在本发明实施例中，光源220呈柱状，且中心轴线与圆筒状掩模版210的中心轴线重合，光源220在轴向上的长度小于圆筒状掩模版210在轴向上的长度；
在曝光装置200对圆筒基材100内壁进行曝光的过程中，驱动光源220在圆筒状掩模版210的中心轴线上往复移动。
基于此，能够在保证曝光质量的前提下，减小光源220的尺寸，从而降低曝光装置200的制造成本，进而降低采用该曝光方法对圆筒基材100内壁进行曝光的成本。
实施例二
请参阅图3，本实施例与实施例一的区别在于，光源220呈柱状，光源220的中心轴线与圆筒状掩模版210的中心轴线平行且间隔，光源220在轴向上的长度等于圆筒状掩模版210在轴向上的长度；
在曝光装置200对圆筒基材100内壁进行曝光的过程中，驱动光源220绕圆筒状掩模版210的中心轴线转动。
在此需要说明的是，光源220与曝光材料之间的距离越近，曝光的强度则越强。
对于需要特定曝光强度进行曝光的圆筒基材100，与此同时，如果光源220在圆筒状掩模版210的中心轴线处又存在曝光强度不足时，基于此本发明，能够在满足圆筒基材100内壁曝光强度的前提下，保证圆筒基材100内壁各处的曝光效果相同。
实施例三
本实施例与实施例二的区别在于，光源220呈柱状，光源220的中心轴线与圆筒状掩模版210的中心轴线平行且间隔，光源220在轴向上的长度晓于圆筒状掩模版210在轴向上的长度；
在曝光装置200对圆筒基材100内壁进行曝光的过程中，驱动光源220绕圆筒状掩模版210的中心轴线转动；
在曝光装置200对圆筒基材100内壁进行曝光的过程中，驱动光源220沿平行于圆筒状掩模版210的中心轴线的方向往复移动。
基于此，能够在保证曝光质量的前提下，减小光源220的尺寸，从而降低曝光装置200的制造成本，进而降低采用该曝光方法对圆筒基材100内壁进行曝光的成本。
在本实施例中，光源220呈圆柱状。
实施例四
本实施例提供一种曝光装置200，包括圆筒状掩模版210以及设于圆筒状掩模版210内筒腔的光源220，圆筒状掩模版210的中心轴线与圆筒基材100的中心轴线重合，光源220呈柱状，光源220的中心轴线与圆筒状掩模版210的中心轴线平行且间隔，光源220在轴向上的长度等于圆筒状掩模版210在轴向上的长度，光源220能够在周向上发光，且还能够绕圆筒状掩模版210的中心轴线转动。
该曝光装置200具体使用方法可参照实施例二，其技术效果可参考实施例二。
实施例五
本实施例提供一种曝光装置200，包括圆筒状掩模版210以及设于圆筒状掩模版210内筒腔的光源220，圆筒状掩模版210的中心轴线与圆筒基材100的中心轴线重合，光源220呈柱状，光源220的中心轴线与圆筒状掩模版210的中心轴线平行且间隔，光源220在轴向上的长度小于圆筒状掩模版210在轴向上的长度，光源220能够在周向上发光，且还能够绕圆筒状掩模版210的中心轴线转动，光源220能够沿平行于圆筒状掩模版210的中心轴线的方向往复移动。
该曝光装置200具体使用方法可参照实施例三，其技术效果可参考实施例三。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种曝光方法，其特征在于，包括：
将柔性曝光材料弯曲形成的圆筒基材；
将曝光装置置入到所述圆筒基材的内筒腔，并对所述圆筒基材内壁进行曝光，其中，所述曝光装置包括圆筒状掩模版以及设于所述圆筒状掩模版内筒腔的光源，所述圆筒状掩模版的中心轴线与所述圆筒基材的中心轴线重合，所述光源能够在周向上发光。
2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述圆筒基材在轴向上的长度大于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度，所述曝光装置还包括遮光结构，所述遮光结构用于限制所述光源发出的光从所述圆筒状掩模版的两筒口射出；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行一次曝光后，还驱动所述曝光装置在所述圆筒状掩模版的轴向上移动预设距离，并对所述圆筒基材内壁再次曝光，其中，所述预设距离大于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度。
3.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述圆筒状掩模版的掩模层设于内壁。
4.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光源呈柱状，且中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线重合，所述光源在轴向上的长度小于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源在所述圆筒状掩模版的中心轴线上往复移动。
5.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度等于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动。
6.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度晓于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动；
在所述曝光装置对所述圆筒基材内壁进行曝光的过程中，驱动所述光源沿平行于所述圆筒状掩模版的中心轴线的方向往复移动。
7.一种曝光装置，其特征在于，包括圆筒状掩模版以及设于所述圆筒状掩模版内筒腔的光源，所述圆筒状掩模版的中心轴线与所述圆筒基材的中心轴线重合，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度等于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度，所述光源能够在周向上发光，且还能够绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动。
8.一种曝光装置，其特征在于，包括圆筒状掩模版以及设于所述圆筒状掩模版内筒腔的光源，所述圆筒状掩模版的中心轴线与所述圆筒基材的中心轴线重合，所述光源呈柱状，所述光源的中心轴线与所述圆筒状掩模版的中心轴线平行且间隔，所述光源在轴向上的长度小于所述圆筒状掩模版在轴向上的长度，所述光源能够在周向上发光，且还能够绕所述圆筒状掩模版的中心轴线转动，所述光源能够沿平行于所述圆筒状掩模版的中心轴线的方向往复移动。
CN202111052400.3A 2021-09-08 2021-09-08 曝光方法以及曝光装置 Pending CN113703280A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111052400.3A CN113703280A (zh) 2021-09-08 2021-09-08 曝光方法以及曝光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111052400.3A CN113703280A (zh) 2021-09-08 2021-09-08 曝光方法以及曝光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113703280A true CN113703280A (zh) 2021-11-26

Family

ID=78659382

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111052400.3A Pending CN113703280A (zh) 2021-09-08 2021-09-08 曝光方法以及曝光装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113703280A (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1906538A (zh) * 2004-01-30 2007-01-31 麦克德米德印刷方案股份有限公司 光敏印刷套筒及其形成方法
JP2007299918A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Nikon Corp 露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法
CN102129162A (zh) * 2011-03-31 2011-07-20 宁夏小牛影像设备有限公司 三架小车式相纸输送装置
JP2012220760A (ja) * 2011-04-11 2012-11-12 Shinwa Industry Co Ltd 筒状体マスク及びこれを使用した露光装置
US20140253893A1 (en) * 2013-03-05 2014-09-11 Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation Cylindrical reticle system, exposure apparatus and exposure method
CN204031606U (zh) * 2014-06-24 2014-12-17 上海英内电子标签有限公司 一种铝蚀刻柔性线路板连续生产装置
JP2016018069A (ja) * 2014-07-08 2016-02-01 旭硝子株式会社 露光方法および露光装置
CN106773527A (zh) * 2016-12-28 2017-05-31 东旭科技集团有限公司 掩膜板、曝光机和玻璃基板的曝光方法
CN109143792A (zh) * 2018-09-03 2019-01-04 中山新诺科技股份有限公司 一种空心柱立体结构的图形加工方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1906538A (zh) * 2004-01-30 2007-01-31 麦克德米德印刷方案股份有限公司 光敏印刷套筒及其形成方法
JP2007299918A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Nikon Corp 露光装置及び方法、露光用マスク、並びにデバイス製造方法
CN102129162A (zh) * 2011-03-31 2011-07-20 宁夏小牛影像设备有限公司 三架小车式相纸输送装置
JP2012220760A (ja) * 2011-04-11 2012-11-12 Shinwa Industry Co Ltd 筒状体マスク及びこれを使用した露光装置
US20140253893A1 (en) * 2013-03-05 2014-09-11 Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation Cylindrical reticle system, exposure apparatus and exposure method
CN204031606U (zh) * 2014-06-24 2014-12-17 上海英内电子标签有限公司 一种铝蚀刻柔性线路板连续生产装置
JP2016018069A (ja) * 2014-07-08 2016-02-01 旭硝子株式会社 露光方法および露光装置
CN106773527A (zh) * 2016-12-28 2017-05-31 东旭科技集团有限公司 掩膜板、曝光机和玻璃基板的曝光方法
CN109143792A (zh) * 2018-09-03 2019-01-04 中山新诺科技股份有限公司 一种空心柱立体结构的图形加工方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1690862A (zh) 描绘图形、抗蚀剂图形的形成方法和曝光装置控制方法
US20170307981A1 (en) Exposure method and exposure machine
US3559546A (en) Cathode ray tube screen exposure
CN113703280A (zh) 曝光方法以及曝光装置
CN108508694B (zh) 掩膜装置和曝光设备
JP2007096254A (ja) 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2007025613A (ja) 露光用光源
US3667947A (en) Color crt screen exposure method
JP2005257740A5 (zh)
US8497061B2 (en) Method for replicating production of 3D parallax barrier
JP2013171088A (ja) プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光形成方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP5554753B2 (ja) 露光方法及びその装置
CN1275797A (zh) 电子束曝光掩模和用该掩模制造半导体器件的方法
JP5398318B2 (ja) 露光装置および電子デバイスの製造方法
CN212134984U (zh) 透镜转印滚轮及透镜转印层
JPS60178451A (ja) 露光装置
JPH02149837A (ja) 投影型画像表示装置
CN106292189A (zh) 一种照明系统
CN1079555A (zh) 圆柱表面投影式曝光方法
CN214542910U (zh) 照明投射器及电子设备
US4414318A (en) Method of exposing to light fluorescent screens of color picture tubes
CN207992682U (zh) 一种用于直写光刻设备中的mems光阑打标装置
JPS62281230A (ja) カラ−受像管螢光面の露光装置
KR102040341B1 (ko) 조명 장치
JPS5828161A (ja) カラーブラウン管

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20211126