CN113651613A - 一种氧化锆陶瓷后盖及其制备方法、3d釉料 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种手机陶瓷后盖，包括氧化锆陶瓷本体和复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层；所述3D立体状釉层包括颗粒状的釉粒。本发明采用特定组成的釉料，得到了具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖。该氧化锆陶瓷后盖上复合有3D立体效果的釉层，釉层在基材表面收缩成球形等颗粒状，不仅能够在氧化锆陶瓷坯体上形成凹凸有致的立体感，具有良好的光线折射而产生亮闪效果，同时还具有良好的平整度，而且还能呈现出多种颜色的效果。本发明还通过提高配方中高膨胀氧化物含量，使基材的热膨胀系数与釉料的热膨胀系数接近，从而解决了产品变形的问题。

Description

一种氧化锆陶瓷后盖及其制备方法、3D釉料
技术领域
本发明属于手机后盖加工技术领域，涉及一种陶瓷后盖、釉料及一种陶瓷后盖制备方法，尤其涉及一种氧化锆陶瓷后盖及其制备方法、3D釉料。
背景技术
随着手机在全球的全面普及，手机行业近十几年一直保持着迅猛发展的态势，无论是在手机性能上还是在手机外观上，都不断推陈出新，从而更好的满足全社会多方面的需求。手机不仅仅在外形上越来越薄，在外观上也呈现出各种材质和各种颜色的的多方面发展的趋势。
手机的后盖板，也称背板，是手机固有的组成部件之一，而不是外加的手机外壳或手机保护套等。目前市面上，手机的后盖板通常以玻璃材质为主，近年来，后盖板出现了少量的氧化锆陶瓷后盖产品，但是均为单色单材质产品，因而，难以满足手机外观上的需求。
因而，如何找到一种适宜的方法，能够得到更多形貌或更多颜色的氧化锆陶瓷后盖，进一步拓宽氧化锆陶瓷后盖的应用宽度和应用深度，已成为业内诸多研发型企业和一线研究人员广为关注的焦点之一。
发明内容
有鉴于此，本发明要解决的技术问题在于提供一种陶瓷后盖、釉料及一种陶瓷后盖制备方法，特别是一种氧化锆陶瓷后盖，本发明提供的陶瓷后盖复合有3D立体效果的釉层，不仅能够在氧化锆陶瓷坯体上形成凹凸有致的立体感，具有良好的光线折射而产生亮闪效果，而且还能呈现出多种颜色的效果。
本发明提供了一种手机陶瓷后盖，包括氧化锆陶瓷本体和复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层；
所述3D立体状釉层包括颗粒状的釉粒。
优选的，所述3D立体状釉层具有凹凸不平的立体感宏观形貌；
所述颗粒状包括类球形、棒状和柱状中的一种或多种；
所述3D立体状釉层为非平面釉层。
优选的，所述3D立体状釉层的厚度为0.09～0.18mm；
所述颗粒的粒径为0.075～0.15mm；
所述氧化锆陶瓷本体的厚度为0.5～0.7mm。
本发明提供了一种釉料，所述釉料包括干粒釉料；
所述干粒釉料，按原料氧化物组分质量计，包括：
Figure BDA0003150444610000021
优选的，所述干粒釉料的粒径为75～150μm；
所述釉料还包括水和粘结剂；
所述粘结剂包括有机粘结剂和/或硅酸钠；
所述干粒釉料，按原料氧化物组分质量计，还包括：3～5重量份钙的氧化物、1～3重量份镁的氧化物以及0～3重量份钡的氧化物中的一种或多种；
所述釉料为手机陶瓷后盖上釉用釉料。
优选的，所述干粒釉料和水的质量比为(4～5)：4；
所述干粒釉料和有机粘结剂质量比为(4～5)：0.1；
所述有机粘结剂包括羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、环氧树脂和有机硅中的一种或多种；
所述釉料用于形成上述技术方案任意一项所述的手机陶瓷后盖中，复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层。
本发明提供了一种手机陶瓷后盖的制备方法，包括以下步骤：
1)将硅的氧化物、铝的氧化物、钾的氧化物、钠的氧化物和锌的氧化物进行混合后，经过高温熔融，球磨后，得到干粒釉料；
2)将上述步骤得到的干粒釉料、粘结剂和水再次混合后，得到釉料料浆；
所述釉料料浆包括上述技术方案中任意一项所述的釉料；
3)将上述步骤得到的釉料料浆复合在氧化锆基材坯体上，烧制成型，得到手机陶瓷后盖。
优选的，所述步骤1)的原料中还包括钙的氧化物、镁的氧化物和钡的氧化物中的一种或多种；
所述高温熔融的温度为1400～1550℃；
所述高温熔融的时间为10～15h。
优选的，所述干粒釉料的粒径为0.075～0.15mm；
所述釉料料浆的流速为25～35s；
所述复合的方式包括喷釉和/或甩釉；
所述复合的喷釉量为900～1100g/m2。
优选的，所述烧制成型的温度为1100～1250℃；
所述烧制成型的周期为40～55min。
本发明提供了一种手机陶瓷后盖，包括氧化锆陶瓷本体和复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层；所述3D立体状釉层包括颗粒状的釉粒。针对现有的氧化锆陶瓷后盖产品，均为单色单材质产品，存在颜色单一外观单调的问题，常见的方法是在氧化锆陶瓷后盖基材上复合陶瓷釉料，虽然复合陶瓷釉料能够解决颜色单一的问题，但是常规釉料在氧化锆基材上烧结后容易出现变形弯曲、釉面缩釉等产品不良的问题。这是由于釉料与氧化锆基材的热膨胀系数不一致导致(氧化锆基材的线膨胀系数在110～120*10-6mm/℃，常规釉料的线膨胀系数在55～70*10-6mm/℃)，从而直接在氧化锆基材上使用传统釉料会出现严重的产品变形(参见图1，图1为常规釉料复合在氧化锆基材上的示意图，其中热(线)膨胀系数(α)：材料在升温过程中产品尺寸随温度变化的值，单位为mm/℃)，进而影响釉料在氧化锆基材的表面张力(参见图2，σ为表面张力，σSg/σLg，主要用于测量θ角)，如表面张力过大，阻碍气体排除和溶体均化，易使釉溶体在坯体表面上滚缩，会使釉面出现缩釉或严重的针孔缺陷，尤其当釉层在釉熔化前已存在裂纹时，必然造成“缩釉(滚釉)”缺陷，而表面张力过小，又难以把釉面拉平，当表面张力和粘度均较小时，则容易产生流釉。一般釉料的表面张力约为0.3N/M左右。
基于此，本发明采用特定组成的釉料，得到了一种具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖。该氧化锆陶瓷后盖上复合有3D立体效果的釉层，釉层在基材表面收缩成球形等颗粒状，不仅能够在氧化锆陶瓷坯体上形成凹凸有致的立体感，具有良好的光线折射而产生亮闪效果，而且还能呈现出多种颜色的效果。
本发明通过合理的配方比例和制备工艺，利用釉料配方较高的表面张力，在经过1200℃左右(具体可为1180～1220℃)的高温烧结后，使釉料的润湿角(θ)>90°(图2为常用润湿角的示意图，其中润湿性：常用润湿角(θ)来表示，θ越小釉面越平，θ越大釉面越立体)，在坯体表面未完全铺展而成球形等颗粒状，在坯体表面形成凹凸有致的立体感，颗粒形表面具有良好的光线折射而产生亮闪效果，同时还具有良好的平整度；本发明还通过提高配方中高膨胀氧化物含量，使釉料的膨胀系数>100*10-6mm/℃，基材的热膨胀系数与釉料的热膨胀系数接近，从而解决了产品变形的问题。
附图说明
图1为常规釉料复合在氧化锆基材上的示意图；
图2为常用润湿角的示意图；
图3为本发明制备的手机陶瓷后盖的实物外观图；
图4为本发明中的釉料在氧化锆坯体上的使用效果和常规釉料使用效果的差异示意图；
图5为本发明制备的手机陶瓷后盖的工艺流程简要示意图；
图6为本发明实施例1制备的具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖板的外观图；
图7为本发明实施例2制备的具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖板的外观图。
具体实施方式
为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为了进一步说明本发明的特征和优点，而不是对发明权利要求的限制。
本发明所有原料，对其来源没有特别限制，在市场上购买的或按照本领域技术人员熟知的常规方法制备的即可。
本发明所有原料，对其纯度没有特别限制，本发明优选采用分析纯或手机本体后盖版制造领域使用的常规纯度。
本发明提供了一种手机陶瓷后盖，包括氧化锆陶瓷本体和复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层；
所述3D立体状釉层包括颗粒状的釉粒。
在本发明中，所述3D立体状釉层优选具有凹凸不平的立体感宏观形貌。具体的，可以为不规则3D立体纹路或3D立体脉络状。
在本发明中，所述3D立体状釉层包括颗粒状的釉粒。具体的，所述颗粒状优选包括类球形、棒状和柱状中的一种或多种，更优选为类球形、棒状和柱状中的多种，或多种不规则形状的组合。
在本发明中，所述3D立体状釉层为宏观3D釉层，即非平面釉层。需要说明的是，本发明在3D立体状釉层的颗粒状的釉粒之间具有釉层，即本发明整体是3D立体状釉层，但依然在氧化锆陶瓷本体上具有完整的层结构。
在本发明中，所述3D立体状釉层的厚度优选为0.09～0.18mm，更优选为0.11～0.16mm，更优选为0.13～0.14mm。在本发明中，如果釉层厚度过薄，釉料不能完全覆盖在坯体表面，而厚度过厚，则容易产生堆釉，造成效果重叠。
在本发明中，所述颗粒的粒径(或者是不规则3D立体纹路的纹路高度或3D立体脉络状的脉络高度)优选为0.075～0.15mm，更优选为0.085～0.14mm，更优选为0.095～0.13mm，更优选为0.105～0.12mm。在本发明中，如果粒径过大，凹凸感过强，不够细腻；而粒径过小，釉面容易铺平，没有立体效果。
在本发明中，所述氧化锆陶瓷本体的厚度优选为0.5～0.7mm，更优选为0.52～0.68mm，更优选为0.55～0.65mm，更优选为0.57～0.63mm。
本发明上述步骤提供的手机陶瓷后盖，具有全新的氧化锆陶瓷釉料效果，利用釉料配方较高的表面张力，在经过1180～1220℃高温烧结后，在坯体表面未完全铺展而成球状，在坯体表面形成凹凸有致的立体感，同时球形表面具有良好的光线折射而产生亮闪效果。在本发明中，随着烧结温度升高，釉料从球状转化为半球，再转化为平面釉料，综合考虑釉料与坯体的结合性、釉料的立体效果，选择1180～1220℃烧结温度范围，也可以为1185～1215℃，或者为1190～1210℃，或者为1195～1205℃。
参见图3，图3为本发明制备的手机陶瓷后盖的实物外观图。
本发明提供了一种釉料，所述釉料包括干粒釉料；
所述干粒釉料，按原料氧化物组分质量计，包括：
Figure BDA0003150444610000051
Figure BDA0003150444610000061
在本发明中，硅的氧化物(氧化硅)的加入量为50～60重量份，优选为52～58重量份，更优选为54～56重量份。铝的氧化物(氧化铝)的加入量为15～21重量份，优选为16～20重量份，更优选为17～19重量份。钾的氧化物(氧化钾)的加入量为5～8重量份，优选为5.5～7.5重量份，更优选为6～7重量份。钠的氧化物(氧化钠)的加入量为6～10重量份，优选为6.5～9.5重量份，更优选为7～9重量份，更优选为7.5～8.5重量份。锌的氧化物(氧化锌)的加入量为0～5重量份，优选为1～4重量份，更优选为2～3重量份。
在本发明中，硅的氧化物：釉料结构的网络形成体，具有良好硬度，机械强度，耐磨性，抗化学腐蚀性等性能，是釉料的重要组成部份；
在本发明中，铝的氧化物：釉料结构的网络中间体，使产品具有良好的机械强度，硬度，同时能保证釉料具备良好的抗热震稳定性；
在本发明中，钾/钠的氧化物：釉料结构中的助熔剂，能降低釉料的烧结温度，具有很高的膨胀系数，能够保证本发明中的坯釉的膨胀系数一致，钾的氧化物质量含量范围(5％～8％)，钠的氧化物范围(6％～10％)，钾钠之和最低值11％，最高值18％，钾钠含量低于该范围，釉料的膨胀性系数低于坯体的膨胀系数，产品呈⌒形；钾钠含量高于该范围，釉料的膨胀性系数高于坯体的膨胀系数，产品呈︶形；钾钠含量低于该范围会降低釉面整体的表面张力，釉料在烧结过程中具有流平性，使釉料不具备立体感。
在本发明中，锌的氧化物：釉料结构中的助熔剂，属于高折射金属氧化物，少量加入能提高产品光泽度。
本发明所述干粒釉料中，按原料氧化物组分质量计，优选还包括：
钙的氧化物 3～5 重量份；
镁的氧化物 1～3 重量份；
钡的氧化物 0～3 重量份中的一种或多种。
钙的氧化物(氧化钙)的加入量为3～5重量份，优选为3.2～4.8重量份，更优选为3.5～4.5重量份。镁的氧化物(氧化镁)的加入量为1～3重量份，优选为1.2～2.8重量份，更优选为1.5～2.5重量份。
钡的氧化物(氧化钡)的加入量为0～3重量份，优选为0.5～2.5重量份，更优选为1～2重量份。
在本发明中，所述干粒釉料，按原料质量计，也可以包括：
钠长石30～60重量份，钾长石15～35重量份，氧化铝0～5重量份，方解石10～15重量份，氧化锌3～5重量份，白云石2～5重量份，碳酸钠3～5重量份，碳酸钾5～7重量份，碳酸钡0～3重量份。
其中，钠长石的加入量可以优选为35～55重量份，或者为40～50重量份。钾长石的加入量可以优选为17～32重量份，或者为20～30重量份，或者为22～27重量份。氧化铝的加入量可以优选为1～4重量份，或者为2～3重量份。方解石的加入量可以优选为11～14重量份，或者为12～13重量份。氧化锌的加入量可以优选为3.2～4.8重量份，或者为3.5～4.5重量份，或者为3.7～4.3重量份。白云石的加入量可以优选为2.5～4.5重量份，或者为3～4重量份。碳酸钠的加入量可以优选为3.2～4.8重量份，或者为3.5～4.5重量份，或者为3.7～4.3重量份。碳酸钾的加入量可以优选为5.2～6.8重量份，或者为5.5～6.5重量份，或者为5.7～6.3重量份。碳酸钡的加入量可以优选为0.5～2.5重量份，或者为1～2重量份。
在本发明中，陶瓷配方的计算方法是可以将陶瓷原料通过领域内熟知的计算公式，使原料中的组分折算成各种氧化物成分进行相关性能计算。即，会有两种表达方式，原料组分或氧化物成分。。
在本发明中，所述干粒釉料的粒径优选为75～150μm，更优选为85～140μm，更优选为95～130μm，更优选为105～120μm。
在本发明中，所述釉料优选还包括水和粘结剂。
在本发明中，所述干粒釉料和水的质量比优选为(4～5)：4，更优选为(4.2～4.8)：4，更优选为(4.4～4.6)：4。
在本发明中，所述粘结剂优选包括有机粘结剂和/或硅酸钠，更优选为有机粘结剂或硅酸钠。具体的，所述有机粘结剂优选包括羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、环氧树脂和有机硅中的一种或多种，更优选为羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、环氧树脂或有机硅。
在本发明中，所述干粒釉料和有机粘结剂质量比优选为(4～5)：0.1，更优选为(4.2～4.8)：0.1，更优选为(4.4～4.6)：0.1。
本工艺采用粘结剂与干粒釉料搅拌混合工艺，不会改变干粒釉料粒径和级配，不会影响烧结产品效果，有效的解决了常规釉料使用球磨制浆工艺，釉料粒径很小(无法人为控制颗粒级别)。而且在本发明中，粘结剂主要使干粒釉料能够悬浮在釉浆中，保证施釉时干粒釉料不会沉淀，同时在施釉干燥后干粒能粘附在坯体表面，有机粘结剂在烧结后能完全去除，不会对产品造成外观不良。粘结剂含量低，干粒无法完全粘附在坯体表面，粘结剂含量高，烧结过程中容易产生大量气体，容易在产品表面产生气泡不良。
在本发明中，所述釉料优选为手机陶瓷后盖上釉用釉料。具体的，所述釉料用于形成上述技术方案任意一项所述的手机陶瓷后盖中，复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层。
本发明提供的3D干粒釉料，含有特定组分的硅的氧化物、铝的氧化物、钙的氧化物、镁的氧化物、钾的氧化物、钠的氧化物、锌的氧化物以及钡的氧化物等，其中，氧化铝可以保证釉面具有较好的硬度和耐磨性；氧化硅是釉料的主要成分，具有良好的机械强度，耐磨性；氧化锌可以保证本案配方的高光泽度，保证效果；氧化钠可以调整膨胀系数和表面张力，保证产品不变形和立体感；氧化钾可以调整膨胀系数和表面张力，保证产品不变形和立体感，同时利用混合碱效应降低产品的烧结温度。
参见图4，图4为本发明中的釉料在氧化锆坯体上的使用效果和常规釉料使用效果的差异示意图。
在领域中，常规釉料属于2D平面效果，而本发明的釉料属于3D立体效果，釉料润湿角>90°，从而具有特定的3D立体效果。
本发明提供了一种手机陶瓷后盖的制备方法，包括以下步骤：
1)将硅的氧化物、铝的氧化物、钾的氧化物、钠的氧化物和锌的氧化物进行混合后，经过高温熔融，球磨后，得到干粒釉料；
2)将上述步骤得到的干粒釉料、粘结剂和水再次混合后，得到釉料料浆；
所述釉料料浆包括上述技术方案中任意一项所述的釉料；
3)将上述步骤得到的釉料料浆复合在氧化锆基材坯体上，烧制成型，得到手机陶瓷后盖。
本发明首先将硅的氧化物、铝的氧化物、钾的氧化物、钠的氧化物和锌的氧化物进行混合后，经过高温熔融，球磨后，得到干粒釉料。
在本发明中，所述步骤1)的原料中优选还包括钙的氧化物、镁的氧化物和钡的氧化物中的一种或多种，更优选为钙的氧化物、镁的氧化物和钡的氧化物中的多种。
在本发明中，所述高温熔融的温度优选为1400～1550℃，更优选为1420～1530℃，更优选为1450～1500℃。
在本发明中，所述高温熔融的时间优选为10～15h，更优选为11～14h，更优选为12～13h。
在本发明中，所述干粒釉料的粒径优选为0.075～0.15mm(100～200目)，更优选为0.085～0.14mm，更优选为0.095～0.13mm，更优选为0.105～0.12mm。
本发明再将上述步骤得到的干粒釉料、粘结剂和水再次混合后，得到釉料料浆。
在本发明中，所述釉料料浆的流速优选为25～35s，更优选为27～33s，更优选为29～31s。
在本发明中流速的测试过程具体为：测试设备：涂4流速杯(在一定温度条件下，测量定量试样从规定直径的孔全部流出的时间：以s表示。)
本发明最后将上述步骤得到的釉料料浆复合在氧化锆基材坯体上，烧制成型，得到手机陶瓷后盖。
在本发明中，所述复合的方式优选包括喷釉和/或甩釉，更优选为喷釉或甩釉。
在本发明中，所述复合的喷釉量优选为900～1100g/m2，更优选为920～1080g/m2，更优选为950～1050g/m2，更优选为980～1020g/m2。
在本发明中，所述烧制成型的温度优选为1100～1250℃，更优选为1120～1230℃，更优选为1150～1200℃。
在本发明中，所述烧制成型的周期优选为40～55min，更优选为42～53min，更优选为45～50min。
本发明为完整和细化整体制备方案，更好的保证手机陶瓷后盖的特定外观和性能，所述手机陶瓷后盖的制备方法具体可以为以下步骤：
A、制备3D干粒釉料；
B、向容器中按比例配置好粘结剂和水，充分搅拌均匀，再加入本案所用3D干粒釉料，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料料浆备用。
C、在氧化锆基材上布施3D釉料料浆；
D、烧制成型后制得3D釉料效果手机后盖板。
本发明中的釉料含有Si/Al/K/Na，其中优选控制K>6％，Na>8％，釉料细度控制在75～120μm，氧化锆纯度>95％，再通过原料混合、1400℃熔融、水淬、干法球磨、分级(75～120μm)、湿法混合(有机粘结剂)以及施釉(喷釉/甩釉等均可)等步骤制备得到具有3D釉料效果的手机后盖板。本发明通过改变K/Na等含量来调整产品变形量，将釉料熔融后再进行破碎分级，保证产品3D效果，釉料分级在特定的粒径范围内，分级时已经制备成球状颗粒形状，湿法混合能够增加施釉时的吸附力，不影响釉料形态，烧结后釉料颗粒部分熔融在坯体表面，保证产品有良好的立体感，而且产品平整无翘曲。
参见图5，图5为本发明制备的手机陶瓷后盖的工艺流程简要示意图。
本发明上述步骤提供了一种氧化锆陶瓷后盖及其制备方法、3D釉料。本发明采用特定组成的釉料，在手机后盖板(氧化锆基板)上制作一种新型3D立体效果，得到了一种具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖。该氧化锆陶瓷后盖上复合有3D立体效果的釉层，釉料在基材表面收缩成球形等颗粒状或纹路状而形成立体效果。本发明不仅能够在氧化锆陶瓷坯体上形成凹凸有致的立体感，具有良好的光线折射而产生亮闪效果，而且还能呈现出多种颜色的效果。
本发明通过合理的配方比例和制备工艺，利用釉料配方较高的表面张力，使釉料的润湿角(θ)>90°，在经过1200℃左右的高温烧结后，在坯体表面未完全铺展而成球形等颗粒状或纹路状，在坯体表面形成凹凸有致的立体感，颗粒形表面具有良好的光线折射而产生亮闪效果，同时还具有良好的平整度；本发明还通过提高配方中高膨胀氧化物含量，改进了常规配方釉料的热膨胀系数(55*10-6～70*10-6mm/℃)，将釉料的热膨胀系数提高至100*10-6mm/℃以上，与氧化锆基材的热膨胀系数(110*10-6～120*10-6mm/℃)相接近，从而解决了产品变形的问题。
实验结果表明，采用常规釉料和常规工艺，釉料膨胀系数为70*10-6mm/℃，产品平整度为60°，翘曲严重，无立体感；而采用本发明的技术方案制备的氧化锆陶瓷后盖板，膨胀系数为110*10-6mm/℃，产品平整度可达到1°，具有优异的立体感。
为了进一步说明本发明，以下结合实施例对本发明提供的一种陶瓷后盖、釉料及一种陶瓷后盖制备方法进行了详细描述，但是应当理解，这些实施例是在以本发明技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，只是为进一步说明本发明的特征和优点，而不是对本发明权利要求的限制，本发明的保护范围也不限于下述的实施例。
实施例1
钠长石：55份，钾长石18份，氧化铝1份，方解石10份，氧化锌3份，白云石3份，碳酸钠5份，碳酸钾5份；
对应氧化物组分：氧化硅58份，氧化铝20份，氧化钙5份，氧化镁2份，氧化钾5份，氧化钠8份，氧化锌2份；
陶瓷后盖的制备方法如下：
A、制备3D干粒釉料：
将上述原料进行机械混合后，经过高温熔融(1500℃)10小时，水淬、干法球磨、分级(75～120μm)使用分级筛对干粒进行分级处理。
B、制备釉料：
向容器中按比例配置好羧甲基纤维素钠和水，充分搅拌均匀，再加入3D干粒釉料，釉料：羧甲基纤维素钠：水＝5：0.1：4，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料备用。
C、施釉：
在氧化锆基材上布施本3D釉料，采用喷釉或甩釉，喷釉量为1000g/m2。
D、烧制成型：
烧制成型后制得3D釉料效果手机盖板，烧制成型的温度优选为1220℃。烧制成型的周期优选为50min。
参见图6，图6为本发明实施例1制备的具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖板的外观图。
实施例2
钠长石：35份，钾长石30份，氧化铝2份，方解石9份，氧化锌5份，白云石5份，碳酸钠5份，碳酸钾7份，氧化钡2份；
对应氧化物组分：氧化硅55份，氧化铝15份，氧化钙5份，氧化镁3份，氧化钾8份，氧化钠7份，氧化锌5份，氧化钡2份；
陶瓷后盖的制备方法如下：
A、制备3D干粒釉料：
将上述原料进行机械混合后，经过高温熔融(1480℃)12小时，水淬、干法球磨、分级(75～120μm)使用分级筛对干粒进行分级处理。
B、制备釉料：
向容器中按比例配置好环氧树脂和水，充分搅拌均匀，再加入本案所用3D干粒釉料，釉料：环氧树脂：水＝4.6:0.1:4，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料备用。
C、施釉：
在氧化锆基材上布施本3D釉料，采用喷釉或甩釉，喷釉量为1100g/m2。
D、烧制成型：
烧制成型后制得3D釉料效果手机盖板，烧制成型的温度优选为1180℃。烧制成型的周期优选为55min。
参见图7，图7为本发明实施例2制备的具有3D立体效果的氧化锆陶瓷后盖板的外观图。
实施例3
钠长石：40份，钾长石30份，石英粉6份，氧化铝4份，碳酸钠9份，碳酸钾6份，氧化锌5份；
对应氧化物组分：氧化硅60份，氧化铝21份，氧化钾5份，氧化钠10份，氧化锌4份；
陶瓷后盖的制备方法如下：
A、制备3D干粒釉料：
将上述原料进行机械混合后，经过高温熔融(1500℃)12小时，水淬、干法球磨、分级(75～120μm)使用分级筛对干粒进行分级处理。
B、制备釉料：
向容器中按比例配置好硅酸钠和水，充分搅拌均匀，再加入本案所用3D干粒釉料，釉料：硅酸钠：水＝4.8:0.1:4，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料备用。
C、施釉：
在氧化锆基材上布施本3D釉料，采用喷釉或甩釉，喷釉量为1050g/m2。
D、烧制成型：
烧制成型后制得3D釉料效果手机盖板，烧制成型的温度优选为1200℃。烧制成型的周期优选为55min。
实施例4
釉料配方：
氧化物组分：氧化硅50份，氧化铝20份，氧化钾8份，氧化钠6份，氧化锌5份，氧化钙5份，氧化镁3份，氧化钡3份；
陶瓷后盖的制备方法如下：
A、制备3D干粒釉料:
将上述原料进行机械混合后，经过高温熔融(1500℃)12小时，水淬、干法球磨、分级(75～150μm)使用分级筛对干粒进行分级处理。
B、制备釉料：
向容器中按比例配置好三聚磷酸钠和水，充分搅拌均匀，再加入本案所用3D干粒釉料，釉料：三聚磷酸钠：水＝4:0.1:4，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料备用。
C、施釉：
在氧化锆基材上布施本3D釉料，采用喷釉或甩釉，喷釉量为1050g/m2，
D、烧制成型：
烧制成型后制得3D釉料效果手机盖板，烧制成型的温度优选为1200℃。烧制成型的周期优选为55min。
对比例1
常规釉料配方：石英：25份，氧化铝3份，钾长石25份，钠长石15份，方解石15份，高岭土10份，氧化锌5份，白云石2份；
对应氧化物组分：氧化硅60份，氧化铝17份，氧化钙12份，氧化镁2份，氧化钾5份，氧化钠1份，氧化锌3份。
陶瓷后盖的制备方法如下：
A、制备3D干粒釉料：
将上述原料进行机械混合后，经过高温熔融(1500℃)10小时，水淬、干法球磨、分级(75～120μm)使用分级筛对干粒进行分级处理。
B、制备釉料：
向容器中按比例配置好羧甲基纤维素钠和水，充分搅拌均匀，再加入3D干粒釉料，釉料：羧甲基纤维素钠：水＝5：0.1：4，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料备用。
C、施釉：
在氧化锆基材上布施本3D釉料，采用喷釉或甩釉，喷釉量为1000g/m2。
D、烧制成型：
烧制成型后制得3D釉料效果手机盖板，烧制成型的温度优选为1220℃。烧制成型的周期优选为50min。
对比例2
高膨釉料配方：石英：22份，氧化铝1份，钾长石30份，钠长石27份，方解石10份，高岭土5份，氧化锌3份，白云石2份；
对应氧化物组分：氧化硅66份，氧化铝15份，氧化钙6.5份，氧化镁2份，氧化钾6份，氧化钠1.5份，氧化锌3份。
陶瓷后盖的制备方法如下：
A、制备3D干粒釉料：
将上述原料进行机械混合后，经过高温熔融(1500℃)10小时，水淬、干法球磨、分级(75～120μm)使用分级筛对干粒进行分级处理。
B、制备釉料：
向容器中按比例配置好羧甲基纤维素钠和水，充分搅拌均匀，再加入3D干粒釉料，釉料：羧甲基纤维素钠：水＝5：0.1：4，通过充分搅拌后，经过过筛除铁后，制备釉料备用。
C、施釉：
在氧化锆基材上布施本3D釉料，采用喷釉或甩釉，喷釉量为1000g/m2。
D、烧制成型：
烧制成型后制得3D釉料效果手机盖板，烧制成型的温度优选为1220℃。烧制成型的周期优选为50min。
对比例3
与实施例1的釉料配方相同，区别点是分级(小于75微米)，工艺与实施例1相同。
对比例4
与实施例1的釉料配方相同，区别点是分级(大于150微米)，工艺与实施例1相同。
对比例5
与实施例1的釉料配方相同，但其具体步骤为：
A、制备釉料：
将上述原料按比例加入球磨机中，料水比(2:1)，球磨时间15min，球磨后过筛小于35微米(200M)，除铁，制备成釉浆。
B、施釉：
采用喷釉或甩釉，喷釉量为1100g/m2，
C、烧制成型：
烧制成型的温度优选为1200℃，烧制成型的周期优选为55min。
对比例6
与实施例1的区别点是氧化钾2份，氧化钠11份。
对比例7
与实施例1的区别点是氧化钾9份，氧化钠4份。
对本发明实施例和对比例提供的技术方案进行比对试验。
通过对各种实施方案进行效果对比，常规制釉工艺进行相关实验，无法制备出有立体效果的相关釉料，常规釉料通过相同的制釉方案也不能制备出满足立体效果且平整度OK的产品，相关实验结果如表1所示。
参见表1，表1为本发明实施例和对比例提供的技术方案实施效果的性能对比。
表1
Figure BDA0003150444610000151
Figure BDA0003150444610000161
以上对本发明提供的一种氧化锆陶瓷后盖及其制备方法、3D釉料进行了详细的介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，包括最佳方式，并且也使得本领域的任何技术人员都能够实践本发明，包括制造和使用任何装置或系统，和实施任何结合的方法。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以对本发明进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。本发明专利保护的范围通过权利要求来限定，并可包括本领域技术人员能够想到的其他实施例。如果这些其他实施例具有不是不同于权利要求文字表述的结构要素，或者如果它们包括与权利要求的文字表述无实质差异的等同结构要素，那么这些其他实施例也应包含在权利要求的范围内。

Claims (10)

1.一种手机陶瓷后盖，其特征在于，包括氧化锆陶瓷本体和复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层；
所述3D立体状釉层包括颗粒状的釉粒。
2.根据权利要求1所述的手机陶瓷后盖，其特征在于，所述3D立体状釉层具有凹凸不平的立体感宏观形貌；
所述颗粒状包括类球形、棒状和柱状中的一种或多种；
所述3D立体状釉层为非平面釉层。
3.根据权利要求1所述的手机陶瓷后盖，其特征在于，所述3D立体状釉层的厚度为0.09～0.18mm；
所述颗粒的粒径为0.075～0.15mm；
所述氧化锆陶瓷本体的厚度为0.5～0.7mm。
4.一种釉料，其特征在于，所述釉料包括干粒釉料；
所述干粒釉料，按原料氧化物组分质量计，包括：
Figure FDA0003150444600000011
5.根据权利要求4所述的釉料，其特征在于，所述干粒釉料的粒径为75～150μm；
所述釉料还包括水和粘结剂；
所述粘结剂包括有机粘结剂和/或硅酸钠；
所述干粒釉料，按原料氧化物组分质量计，还包括：3～5重量份钙的氧化物、1～3重量份镁的氧化物以及0～3重量份钡的氧化物中的一种或多种；
所述釉料为手机陶瓷后盖上釉用釉料。
6.根据权利要求5所述的釉料，其特征在于，所述干粒釉料和水的质量比为(4～5)：4；
所述干粒釉料和有机粘结剂质量比为(4～5)：0.1；
所述有机粘结剂包括羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、环氧树脂和有机硅中的一种或多种；
所述釉料用于形成权利要求1～3任意一项所述的手机陶瓷后盖中，复合在氧化锆陶瓷表面的3D立体状釉层。
7.一种手机陶瓷后盖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1)将硅的氧化物、铝的氧化物、钾的氧化物、钠的氧化物和锌的氧化物进行混合后，经过高温熔融，球磨后，得到干粒釉料；
2)将上述步骤得到的干粒釉料、粘结剂和水再次混合后，得到釉料料浆；
所述釉料料浆包括权利要求4～6中任意一项所述的釉料；
3)将上述步骤得到的釉料料浆复合在氧化锆基材坯体上，烧制成型，得到手机陶瓷后盖。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述步骤1)的原料中还包括钙的氧化物、镁的氧化物和钡的氧化物中的一种或多种；
所述高温熔融的温度为1400～1550℃；
所述高温熔融的时间为10～15h。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述干粒釉料的粒径为0.075～0.15mm；
所述釉料料浆的流速为25～35s；
所述复合的方式包括喷釉和/或甩釉；
所述复合的喷釉量为900～1100g/m2。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述烧制成型的温度为1100～1250℃；
所述烧制成型的周期为40～55min。
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