CN113579604A - 掩模板夹持装置以及张网设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种掩模板夹持装置以及包括所述掩模板夹持装置的张网设备。所述掩模板夹持装置在夹持块上设置有至少两个沟槽,所述沟槽的深度方向和长度方向均与所述掩模板的厚度方向垂直,所述沟槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交叠。沟槽的设置使得夹持块具有一定的柔性,柔性夹持块在夹持过程中可以根据应力情况进行自适应调整,使作用于掩模板上的夹持力更加均衡,减小所夹持的掩模板的变形量,在夹持精密掩模板时,可以提高像素套合精度。
Description
技术领域
本发明涉及夹持装置领域,尤其涉及一种掩模板夹持装置以及一种张网设备。
背景技术
真空镀膜(vacuum evaporation)设备是一种常用的成膜设备,具体是将待沉积材料和待沉积基板置于真空室中,加热待沉积材料使之蒸发或升华,并在待沉积基板上成膜的工艺。为了使待沉积材料沉积于基板上的某些特定区域,例如有机电致发光器件(OLED)面板的像素区,通常在真空镀膜设备的真空室安装蒸镀用的金属精密掩模板(FMM),这种掩模板上形成有众多像素孔,受热蒸发的待沉积材料通过掩模板上的像素孔沉积在基板上对应的像素区。
在将厚度薄(通常小于1mm)、图形复杂的精密掩模板安装于真空镀膜设备进行使用之前,通常需要对其将进行稳定的夹持并进行张网焊接,将精密掩模板固定在掩模板框架(mask frame)上。但是,发明人发现,利用现有的夹持装置在夹持精密掩模板的过程中,精密掩模板在夹持过程中容易发生平移、旋转,甚至掩模板表面会出现褶皱(或称波形),这会导致在张网焊接时精密掩模板上的像素孔的大小和位置出现偏移,从而降低精密掩模板的像素套合精度及张网质量,在应用于OLED面板的蒸镀工艺时,由于精密掩模板的像素套合精度下降,对所制作的OLED面板的质量造成了不良影响。
发明内容
为了降低在夹持过程中掩模板发生平移、旋转、波形等变形情况的发生,本发明提供了一种掩模板夹持装置。另外还提供了一种包括所述掩模板夹持装置的张网设备。
本发明提供的掩模板夹持装置,包括包括用来接触掩模板以夹持所述掩模板的夹持块,所述夹持块上设置有至少两个沟槽,所述沟槽的深度方向和长度方向均与所述掩模板的厚度方向垂直,所述沟槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交叠。
可选的,所述沟槽沿其长度方向贯穿相应的所述夹持块。
可选的,同一夹持块上的相邻两个所述沟槽的深度方向相反。
可选的,所述沟槽底部的垂直于所述长度方向的剖面为圆形或椭圆形。
可选的,所述夹持块包括用来分别接触所述掩模板两个表面且相对设置的上夹持块和下夹持块,所述上夹持块在一驱动机构的控制下能够沿所述掩模板的厚度方向靠近或远离所述下夹持块,所述上夹持块和所述下夹持块中的至少一个的端部各设置有两个所述沟槽。
可选的,在所述上夹持块和所述下夹持块均设置有所述沟槽时,位于所述上夹持块最下端的沟槽和位于所述下夹持块最上端的沟槽的深度方向相反。
可选的,所述驱动机构包括电机、主动块和压杆,所述压杆通过导向轴承连接所述主动块,所述上夹持块设置于所述压杆的一端,所述主动块具有一斜孔,所述导向轴承可滑动地嵌设于所述斜孔内,所述主动块在所述电机的驱动下移动并带动所述压杆和所述上夹持块沿所述掩模板的厚度方向移动。
可选的,所述沟槽的深度方向与所述主动块的移动方向相同,或者,所述沟槽的深度方向与所述主动块和所述上夹持块的移动方向均垂直。
可选的,所述驱动机构还包括设置于所述压杆另一端的压杆轴以及轴套,所述压杆轴的轴向与所述上夹持块的移动方向相同,所述压杆轴可活动地插入所述轴套。
可选的,所述压杆轴上套设有垫圈,当所述压杆轴下降到最底端时,所述垫圈塞于所述压杆和所述轴套之间的间隙。
可选的,所述掩模板夹持装置还包括基础框架,所述主动块设置于所述基础框架内,所述上夹持块和所述下夹持块设置于所述基础框架外;所述基础框架内设置有导向杆,所述主动块套设于所述导向杆上。
可选的,所述基础框架的与所述上夹持块相对的外表面平行于所述上夹持块的移动方向,所述上夹持块上设置有滑动件,所述滑动件随所述上夹持块的移动而沿所述基础框架的外表面移动。
本发明另外提供一种张网设备,所述张网设备包括上述掩模板夹持装置。
本发明提供的掩模板夹持装置在夹持块上设置有至少两个沟槽,所述沟槽的深度方向和长度方向均与所述掩模板的厚度方向垂直,所述沟槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交叠。沟槽的设置使得夹持块具有一定的柔性,柔性夹持块在夹持过程中可以根据应力情况进行自适应调整,使作用于掩模板上的夹持力更加均衡,减小所夹持的掩模板的变形量,可以减小或避免在夹持过程中掩模板发生平移、旋转、波形等变形情况的发生。
本发明提供的张网设备包括上述掩模板夹持装置,提高张网后得到的掩模板的质量,当所述掩模板为精密掩模板时,由于精密掩模板的不良变形减小,因而有利于提高精密掩模板上像素孔的精度以及像素套合精度,进而有利于提高利用所述精密掩模板制造的OLED面板的质量。
附图说明
图1是本发明一实施例的掩模板夹持装置的示意图。
图2是图1所示的掩模板夹持装置在第一视角下的示意图。
图3是图1所示的掩模板夹持装置在第二视角下的示意图。
图4是本发明另一实施例的掩模板夹持装置的示意图。
图5是本发明另一实施例的掩模板夹持装置的示意图。
图6A至图6D是本发明一实施例的掩模板夹持装置中上夹持块的示意图。
图7是采用图6A所示的上夹持块进行夹持试验得到的Y向形变趋势比较图。
图8是采用图6B所示的上夹持块进行夹持试验得到的Y向形变趋势比较图。
附图标记说明:
11-电机;12-丝杠螺母;13-主动块;13a-斜孔;14-限位传感器;15-上夹持块;16-下夹持块;17-压杆轴;18-轴套;19-垫圈;20-基础框架;21-夹持轴承;22-压杆;23-导向轴承;24-导向杆;30-沟槽。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下参照附图并举实施例,对本发明进一步详细说明。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
本发明的掩模板夹持装置可以用来夹持具有较高精度要求的掩模板,例如可夹持在OLED发光层制作中使用的精密掩模板(FMM)。所述掩模板夹持装置可以包括一组或两组以上夹持块,每组夹持块均包括位置相对的两个夹持块,称为上夹持块和下夹持块,并且上下夹持块之间的距离可以通过驱动机构调节,这样,在夹持掩模板时,可以在掩模板周边的若干(例如二个、四个、六个等)位置分别设置一组夹持块,其中上下夹持块分别位于掩模板的两个表面,当上下夹持块彼此相向靠近到一定程度,接触并夹持住掩模板,则便于可以对掩模板执行另外的动作例如张网等。所述掩模板可以是精度较低的开放掩模板(openmask),也可以是精度较高的精密掩模板,所述掩模板可以采用金属及非金属材质。
图1至图5示意地展示了本发明实施例中的掩模板夹持装置的结构。参见图1至图5,本发明实施例中的掩模板夹持装置包括用来接触掩模板(未示出)以夹持所述掩模板的夹持块(如图1所示的上夹持块15或下夹持块16,或者另一夹持位置的某一夹持块),所述夹持块上设置有至少两个沟槽30,所述沟槽30的深度方向和长度方向均与所述掩模板的厚度方向垂直,所述沟槽30沿所述掩模板的厚度方向排列且在沟槽深度方向相互交叠。
具体的,参见图1,一实施例中,所述掩模板夹持装置包括驱动机构以及用来分别接触所述掩模板两个表面且相对设置的上夹持块15和下夹持块16,所述上夹持块15在所述驱动机构的控制下能够沿所述掩模板的厚度方向移动以靠近或远离所述下夹持块16,所述上夹持块16在靠近所述下夹持块16的端部,或者所述下夹持块16在靠近所述上夹持块15的端部,或者在所述上夹持块16和所述下夹持块16相对的端部,各设置有至少两个沟槽30。
应当理解的是,本发明实施例所述的“上夹持块”和“下夹持块”中具有空间相对术语,目的是利用一种相对位置关系区分如实施例各附图所示的掩模板夹持装置中的夹持块,但是这些空间相对术语仍然包括掩模板夹持装置在使用或操作中的其它方位。例如若附图中的装置被上下翻转,则实施例中的“上夹持块”也可以位于“下夹持块”之下。
具体的,参见图1,一实施例中,上夹持块15可以在驱动机构的作用下靠近下夹持块16或者远离下夹持块16,即上夹持块15可以进行升降移动,以使得与下夹持块16之间的距离拉近或者增大。当将掩模板插入上夹持块15和下夹持块16之间后,可以利用驱动机构使上夹持块15逐渐朝向下夹持块16移动,直至使得掩模板在上下压力的作用下移动受限,即实现了夹持,而在需要释放掩模板时,上夹持块15远离下夹持块16移动,即从掩模板表面移开。本实施例中,下夹持块16在夹持及释放掩模板的过程中保持固定不动。但不限于此,一实施例中,下夹持块16也可以通过驱动机构进行控制,通过相对于上夹持块15移动,以改变其与上夹持块15之间的距离。
作为示例,参见图1,上述驱动机构利用电机驱动,并带动上夹持块15进行上述升降移动。具体的,所述驱动机构主要包括电机11、主动块13和压杆22。电机11可采用直线电机,具体例如为丝杆电机,其包括丝杠螺母12以及丝杠,主动块13设置在电机11的移动端例如丝杠上,从而可以通过电机11的驱动使主动块13沿图1中的水平方向(记为第一方向AB)移动。实施例中,为了更佳地控制主动块13的移动范围,驱动机构还包括导向杆24,导向杆24沿第一方向AB设置,主动块13可滑动地套设在导向杆24上,可以避免出现主动块13沿第一方向AB移动时左右摇摆的情况。此外,实施例的掩模板夹持装置可包括一基础框架20,所述导向杆24可以设置在所述基础框架20上。一实施例中,基础框架20上设置有限位传感器14,用于限制电机11移动端的最大移动距离。
本实施例中,为了使上夹持块15在主动块13的带动下移动,进一步的,上述主动块13上形成有一斜孔13a,斜孔13a的内表面为斜面,也即斜孔13a的长度方向包括分别沿图1中的水平方向(即第一方向AB)和竖直方向(记为第二方向CD,即要夹持的掩模板的厚度方向)的两个分量。具体的,斜孔13a可以设置为如图1所示的左边低右边高的形状,也可以设置为左边高右边低的形状,可以根据整体设计选择。所述压杆22主体与导向轴承23连接,所述导向轴承23可滑动地嵌设于所述斜孔13a内,即压杆22通过导向轴承23与所述主动块13连接,在主动块13沿第一方向AB移动时,导向轴承23在斜孔13a内滑动,带动压杆22移动,在限定压杆22在第一方向AB的位置的情况下,可以使压杆22主要在第二方向CD上移动。上述上夹持块15可以设置于所述压杆22的一端,即随着主动块13在第一方向AB的移动,上夹持块15在第二方向CD上作升降移动。此处对驱动机构的工作描述仅是举例,在另外的实施例中,夹持块的移动也可以采用其它工作方式的驱动机构实现。
本发明实施例中,通过设置沟槽30,使得所述上夹持块15和/或所述下夹持块16具有了一定柔性,可以在夹持掩模板时根据应力情况进行应变的自适应调整,使得作用于掩模板上的夹持力更加均衡,从而减小所夹持的掩模板的变形量。所述上夹持块15和/或所述下夹持块16的材料可以为金属(例如不锈钢)或者高分子树脂等。
具体的,参见图1至图5,为了获得适当的柔性,掩模板夹持装置在上夹持块15的靠近下表面的部分和下夹持块16的靠近上表面的部分中的至少一处设置有至少两个沟槽30,所述沟槽30的开槽方向即深度方向沿图1中的水平方向,即与所述上夹持块15的移动方向基本垂直,而沟槽30的长度方向(与深度方向和宽度方向垂直)沿要夹持的掩模板所在平面延伸,为了充分地进行自适应调整,所述沟槽30沿其长度方向贯穿相应的夹持块。并且,为了灵活调节同一直线方向上的应力,同一夹持块上的相邻两个所述沟槽30的深度方向相反。此外,对于在相对的上夹持块15和下夹持块16上均设置沟槽30的情形,位于上夹持块15最下端的沟槽30和位于下夹持块16最上端的沟槽30可以设置为深度方向相反,目的是通过不同方向的自适应调整降低两个夹持块的应变对掩模板的影响。
沟槽30内部为空气隙,在夹持掩模板时,沟槽30的设置使得夹持块可以对由于夹持压力而在夹持块内部产生的应变进行自调整,从而作用于掩模板上的夹持力更加均衡,在设置两组以上的夹持块的情况下,利用夹持块的这种自适应调整功能,有助于使各组夹持块对掩模板实际形成的夹持力更加均衡,降低在夹持过程中掩模板发生平移、旋转、波形等变形情况的程度,即有助于减小掩模板的变形量,满足工艺要求。
上述沟槽30的位置以及深度均可以根据实际需要设置。例如,图1至图3所示的实施例中,仅在上夹持块15的下端设置了沟槽30,在图4所示的实施例中,仅在下夹持块16的上端设置了沟槽30,而在图5所示的实施例中,在上夹持块15的下端和下夹持块16的上端均设置了沟槽30。
参见图1,在上夹持块15的下端设置有两个沟槽30,且两个沟槽30的深度方向(或开口方向)相反,两个沟槽30在深度方向彼此交叠。本发明不限于此,所述上夹持块15或下夹持块16上设置的沟槽30也可以大于两个,各个沟槽30沿第二方向CD间隔设置,可以提高柔性夹持块的自适应调整能力。
图6A至图6D是本发明一实施例的掩模板夹持装置中上夹持块的示意图,其中以上夹持块15为例,示意了上夹持块15和/或下夹持块16中的四种示例性沟槽排布方式。参见图6A,在上夹持块15的下端设置了两个沟槽30,分别为相对靠上方的上沟槽和相对靠下方的下沟槽,上沟槽和下沟槽的深度方向相反,即以Z字型方式开槽。沟槽的深度方向均垂直于上夹持块15的移动方向,并且上沟槽和下沟槽在深度方向上具有交叠的部分。上沟槽和下沟槽的宽度(即气隙的宽度)约0.1mm~1mm,例如约0.8mm,上下沟槽之间的间距约1mm~10mm,具体可以根据需要设计。下沟槽下方的夹持块部分用于与掩模板表面接触,其大小可以根据与掩模板的接触面的设计具体确定。此外,每个沟槽30的底部开口可以略大,以充分调节应力,例如,沟槽30底部的垂直于其长度方向的剖面可以是圆形或椭圆形。相对于图6A所示的情形,图6B所示的沟槽深度较大,且上下沟槽的交叠区域较大,相对来说柔性也较大。图6C所示的下沟槽相较于图6B所示的下沟槽浅一些,与掩模板表面接触的宽度较小。图6A至图6C所示的沟槽深度方向与所述主动块13的移动方向相同,但不限于此,可以根据设计需要选择不同的开槽方式。参见图6D,一实施例中,上下沟槽的深度方向垂直于第一方向AB和第二方向CD组成的平面,即沟槽30的深度方向与上述主动块13和上夹持块15的移动方向均垂直。
参见图1,一实施例的掩模板夹持装置中,为了限制压杆22的活动范围,所述掩模板夹持装置还包括设置于所述压杆22一端的压杆轴17以及轴套18,所述压杆轴17的轴向与所述上夹持块15的移动方向相同,即按照夹持状态下掩模板的厚度方向设置,所述压杆轴17可活动地插入所述轴套18。该实施例中,压杆轴17和上夹持块15在压杆22上的位置分别位于导向轴承23的两侧。轴套18可以固设在基础框架20上。
考虑到压杆轴17在轴套18中是可活动的,二者之间具有机械间隙,在上夹持块15下降使掩模板被夹持住时,压杆轴17会产生不确定方向的倾斜,导致压杆22也会产生不确定方向的倾斜,进而容易造成上夹持块13施加在掩模板上的夹持力方向发生变化,对于掩模板的平整性和受力均匀性不利。为此,一实施例中,在压杆轴17上套设有位于轴套18上方的垫圈19,当所述压杆22下降到最底端即上夹持块15处于夹持掩模板的状态时,所述垫圈19塞于所述压杆22和所述轴套18之间的间隙,以降低压杆22的倾斜度。具体的,所述垫圈19可以以过盈配合方式卡设在压杆轴17外表面,垫圈19具有一定柔性,当压杆22以及压杆轴17向下移动直到上夹持块15移动到夹持位置时,垫圈19停在压杆22与轴套18之间,受到挤压而填充压杆22与轴套18之间的间隙,从而可以有效降低压杆轴17以及压杆22的倾斜度,有利于提高夹持的稳定性,也有利于提高夹持动作的可重复性。垫圈19的厚度可以等于或略大于压杆22下降到最底端时压杆22下表面与轴套18上表面的间距。垫圈19可以是圆形垫圈,也可以是C形垫圈,C型垫圈便于拆换。此外,垫圈19可以是金属材质或者高分子材质,例如可选用不锈钢、黄铜、铝合金、尼龙等材料制成。
参见图1,一实施例中,基础框架20为方形框,上述主动块13、导向杆24、压杆轴17、轴套18以及压杆22的一部分均设置在框内,上夹持块15连接压杆22位于框外的部分因而位于框外,下夹持块16设置在框外且可拆卸地与基础框架20连接。图6A至图6D中,上夹持块15在沟槽30上方的凹槽以及贯穿所述凹槽两个圆孔可用来与压杆22可拆卸地连接。
进一步的,所述基础框架20的与所述上夹持块15相对的外表面平行于所述上夹持块15的移动方向(即上述第二方向CD),并且,在所述上夹持块15上可设置有滑动件,所述滑动件随所述上夹持块15的移动而沿所述基础框架20的外表面移动。在夹持掩模板的过程中,可以利用所述滑动件在基础框架20外表面的可滑动性,有效地减少基础框架20变形,进而避免上夹持块15后缩,结合上夹持块15和/或下夹持块16的自适应形变的特点,可以较大幅度地改善掩模板发生平移、旋转或者波形等现象的发生。
具体的,结合图1和图6A,上夹持块15在沟槽30右侧设置的滑动件例如为夹持轴承21,所述夹持轴承21的轴向垂直于所述主动块13和所述上夹持块15的移动方向且侧面贴附于所述基础框架20的外表面,在上夹持块15向下移动时,夹持轴承21沿所述基础框架20的外表面移动。在另一实施例中,即夹持过程中可以利用滚轮与基础框架20外表面接触,或者在所述基础框架20的与所述上夹持块15相对的外表面设置导轨,并将与所述导轨匹配的滑块设置在上夹持块15上,也可以起到避免上夹持块15后缩的作用。
本申请发明人利用上述掩模板夹持装置,对精密掩模板进行了夹持试验。所采用的掩模板夹持装置如图1至图3所示,其中上夹持块15分别采用了如图6A和图6B所示的设计。图7是采用图6A所示的上夹持块进行夹持试验得到的Y向形变趋势比较图。图8是采用图6B所示的上夹持块进行夹持试验得到的Y向形变趋势比较图。参见图7和图8,其中横坐标为掩模板像素孔在Y向(与上述实施例中的第一方向AB和第二方向CD垂直的方向)上的坐标,位于上方的图(包括图7的上图“Y与名义位置offset”及图8的上图“Y1与名义位置offset”)中的纵坐标为夹持前后Y向上的掩模板像素孔位置与设计位置(即名义位置)之间的偏差(offset),该偏差体现了掩模板与OLED基板的像素套合精度大小,该偏差越大,像素套合精度越低。位于下方的图的纵坐标为夹持前后的偏差变化。通过图7和图8可以看出,通过设置柔性的上夹持块,夹持前后的像素套合偏差的变化基本可以控制在0.002mm(对应图7的下图ΔY)和0.035mm(对应图8的下图ΔY1)内。实验结果显示,相较于如图6B所示的上夹持块形状,利用如图6A所示的上夹持块进行夹持时,对像素套合精度的影响较小,说明掩模板较不容易发生变形。
综合以上说明可以看出,本发明实施例的掩模板夹持装置,在用来接触掩模板以夹持所述掩模板的夹持块上设置了沟槽30,使得相应的夹持块具有可一定的柔性,在夹持过程中可以根据应力情况进行自适应调整,使作用于掩模板上的夹持力更加均衡,减小所夹持的掩模板的变形量,可以减小或避免在夹持过程中掩模板发生平移、旋转、波形等变形情况的发生,提高张网后得到的掩模板的质量,当所述掩模板为精密掩模板(FMM)时,采用上述掩模板夹持装置可以使得精密掩模板的不良变形减小,因而有利于提高精密掩模板上像素孔的精度以及像素套合精度,也有利于提高OLED面板的质量。
本发明实施例还一种张网设备,所述张网设备包括上述的掩模板夹持装置。所述张网设备可以利用上述掩模板夹持装置夹持精密掩模板的边缘,进而通过张网组件施加适当的拉力,以进行张网焊接,将精密掩模板固定在掩模板框架上。根据上面的描述,本发明实施例的掩模板夹持装置可以对夹持块内部的应变进行自适应调节,从而有助于保证精密掩模板的平整性,减小精密掩模板的变形量,使精密掩模板的变形量保持在可以通过张网环节矫正到张网精度以内。
需要说明的是,本说明书中的实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与在前实施例的不同之处,各个实施例之间相同和相似的地方互相参见即可。
可以理解的是,以上实施例仅用以描述本发明的技术方案而非限制,对于任何熟悉本领域的技术人员而言,在不脱离本发明技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案作出可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均仍属于本发明技术方案保护的范围内。
Claims (13)
1.一种掩模板夹持装置,其特征在于,包括用来接触掩模板以夹持所述掩模板的夹持块,所述夹持块上设置有至少两个沟槽,所述沟槽的深度方向和长度方向均与所述掩模板的厚度方向垂直,所述沟槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交叠。
2.如权利要求1所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述沟槽沿其长度方向贯穿相应的所述夹持块。
3.如权利要求1所述的掩模板夹持装置,其特征在于,同一夹持块上的相邻两个所述沟槽的深度方向相反。
4.如权利要求1所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述沟槽底部的垂直于所述长度方向的剖面为圆形或椭圆形。
5.如权利要求1所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述夹持块包括用来分别接触所述掩模板两个表面且相对设置的上夹持块和下夹持块,所述上夹持块在一驱动机构的控制下能够沿所述掩模板的厚度方向靠近或远离所述下夹持块,所述上夹持块和所述下夹持块中的至少一个的端部各设置有两个所述沟槽。
6.如权利要求5所述的掩模板夹持装置,其特征在于,在所述上夹持块和所述下夹持块均设置有所述沟槽时,位于所述上夹持块最下端的沟槽和位于所述下夹持块最上端的沟槽的深度方向相反。
7.如权利要求5所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述驱动机构包括电机、主动块和压杆,所述压杆通过导向轴承连接所述主动块,所述上夹持块设置于所述压杆的一端,所述主动块具有一斜孔,所述导向轴承可滑动地嵌设于所述斜孔内,所述主动块在所述电机的驱动下移动并带动所述压杆和所述上夹持块沿所述掩模板的厚度方向移动。
8.如权利要求7所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述沟槽的深度方向与所述主动块的移动方向相同,或者,所述沟槽的深度方向与所述主动块和所述上夹持块的移动方向均垂直。
9.如权利要求7所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述驱动机构还包括设置于所述压杆另一端的压杆轴以及轴套,所述压杆轴的轴向与所述上夹持块的移动方向相同,所述压杆轴可活动地插入所述轴套。
10.如权利要求7所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述压杆轴上套设有垫圈,当所述压杆轴下降到最底端时,所述垫圈塞于所述压杆和所述轴套之间的间隙。
11.如权利要求7所述的掩模板夹持装置,其特征在于,还包括基础框架,所述主动块设置于所述基础框架内,所述上夹持块和所述下夹持块设置于所述基础框架外;所述基础框架内设置有导向杆,所述主动块套设于所述导向杆上。
12.如权利要求11所述的掩模板夹持装置,其特征在于,所述基础框架的与所述上夹持块相对的外表面平行于所述上夹持块的移动方向,所述上夹持块上设置有滑动件,所述滑动件随所述上夹持块的移动而沿所述基础框架的外表面移动。
13.一种张网设备,其特征在于,包括如权利要求1至12任一项所述的掩模板夹持装置。
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