CN113574202B - 蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置 - Google Patents

蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种通用性好,维护性佳的蒸镀单元。本发明的蒸镀单元(VU),其具有:收纳蒸镀物质(Vm)的收纳箱(3);以及加热收纳箱内的蒸镀物质的加热装置(4);在收纳箱的一面上形成释放因加热而升华或气化了的蒸镀物质的释放开口(34c),蒸镀单元还具有移动装置(5),其设置在一面开口的容置室(30)内,以朝容置室的开口的方向为上,以使释放开口的位相与该开口相一致的姿态将蒸镀单元设置在容置室内,所述移动装置使蒸镀单元在上下方向上进退。

Description

蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置
技术领域
本发明涉及一种具有收纳蒸镀物质的收纳箱和加热收纳箱内蒸镀物质的加热装置的、在收纳箱的一面上形成释放因加热而升华或气化的蒸镀物质的释放开口的蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置,特别是涉及一种适于对卷绕在辊筒上的片状基材成膜的装置。
背景技术
例如通过专利文献1已知例如在以规定速度移动(移行)的、宽度较宽的片状的基材或基板等被蒸镀物上成膜的蒸镀单元。该蒸镀单元具有:收纳蒸镀物质的收纳箱;以及加热该收纳箱内的蒸镀物质的加热装置。在收纳箱(上表面)的盖部上,筒状的释放开口留出规定间隔地排列设置在基材的宽度方向上(所谓的线源)。并且,通过在真空气氛的真空室(主室)内加热收纳箱,从各释放开口释放升华或气化了的蒸镀物质,按照规定的余弦定理从其释放开口呈穹顶状扩散的同时朝被蒸镀物飞散从而蒸镀在其上。
这样的蒸镀单元的收纳箱通常固定配置在真空室内。因此,当组装蒸镀单元并设计真空蒸镀装置时,通常会考虑使用的蒸镀物质的种类、与每单位时间的来自加热装置的加热量相对应的蒸镀物质对收纳箱的飞散分布,而设置释放开口和被蒸镀物之间的距离。但是,一方面,即使是相同的蒸镀物质,由于其加热量(加热温度)不同,在收纳箱内升华或气化的蒸镀物质的量会有变化,从而其飞散分布也会有变化,另一方面,当蒸镀物质不同时,即使适当控制加热量使在收纳箱内升华或气化的蒸镀物质的量一样,但因其种类不同,飞散分布也会有变化。因此,将收纳箱固定配置在真空室内,缺少通用性。而且,蒸镀时,由于包括释放开口在内,蒸镀物质也会在收纳箱上附着堆积,因此要定期进行包括收纳箱的清洁在内的维护工作,但在设置有多个部件的真空室内进行维护的话,维护工作的可操作性差。
现有技术文献
专利文献
【专利文献1】日本专利公开2014-77193号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
鉴于上述内容,本发明的目的是提供一种通用性好,维护性佳的蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置。
解决技术问题的手段
为解决上述技术问题,本发明的蒸镀单元,其具有:收纳蒸镀物质的收纳箱;以及加热收纳箱内的蒸镀物质的加热装置;在收纳箱的一面上形成释放因加热而升华或气化了的蒸镀物质的释放开口,所述蒸镀单元还具有移动装置,其设置在一面开口的容置室内,在容置室内使蒸镀单元在上下方向上进退,所述收纳箱具有:上表面开口的外容器;固定在外容器的内壁面上的支撑架;配置在支撑架内侧并收纳蒸镀物质的内容器;以及覆盖外容器和内容器的上表面的开口、形成有释放开口的盖体;在支撑架的规定位置上,朝其内侧突出设置多根支撑销,当将内容器容置于外容器内时,各支撑销支撑内容器。
再有,为解决上述技术问题,具有上述蒸镀单元的本发明的真空蒸镀装置,其特征在于:具有带辊筒的真空室,从真空室上开设的安装开口一侧将所述容置室装配到该开口上,所述蒸镀单元以所述收纳箱的所述释放开口相对于辊筒的轴线正交的姿态安装。此时,可采取的结构是通过所述移动装置使所述释放开口和卷绕在所述辊筒上的片状基材的距离在蒸镀单元的上下移动的行程范围内变化,自由调节所述收纳箱内升华或气化了的蒸镀物质的飞散分布。
采用上述方式,由于在容置室中设置蒸镀单元并进行模块化,因此,例如,主室(真空室)具有辊筒,对该辊筒上卷绕的片状基材的部分实施成膜,在该主室上开设安装开口,只通过从该安装开口侧将容置室装配到该安装开口上,就可使蒸镀单元以收纳箱的释放开口相对于辊筒的轴线正交的姿态安装。并且,如果通过移动装置使蒸镀单元在上下方向上移动的话,则可使释放开口相对于辊筒(进而其上卷绕的片状基材的部分)接近或远离,即可使释放开口和被蒸镀物的距离在蒸镀单元的上下移动的行程范围内任意变化。从而,例如可根据蒸镀物质的种类或加热温度,调节升华或气化了的蒸镀物质的飞散分布。而且,在维护时,由于可从主室的安装开口按容置室来拆除蒸镀单元,因此相比上述以往例子的方式,可提高维护的可操作性。进而,由于采用支撑销来支撑内容器,因此热传导造成的热损失减小从而可效率良好地加热内容器。此时,如果预先通过电解剖光对外容器的内表面进行镜面处理的话,则在通过加热装置加热内容器时,外容器的内表面起到作为反射热量的反射器的作用,辐射热增加从而可以以更好的效率加热内容器,是有利的。
在本发明的真空蒸镀装置中优选以所述辊筒的轴线方向为X轴方向,以上下方向为Z轴方向,以与X轴和Z轴正交的方向为Y轴方向,所述盖体其长边在X轴方向上且其呈板状,所述真空蒸镀装置还具有限制装置,其一边允许朝所述盖体的Y轴方向的热变形和绕Z轴的旋转,一边限制朝X轴方向和Y轴方向的变形。此时,所述限制装置可构成为具有:第一和第二两个限制部,其在所述蒸镀单元位于蒸镀位置处时于X轴方向中央区域上释放开口的外边缘部相对设置;以及第三限制部,其在X轴方向两端部上位于释放开口的外边缘部。
再有,蒸镀时,有时会对形成释放开口的盖体进行冷却,这种情况下,有时会在收纳箱(内容器)上产生温度梯度,与每单位时间来自加热装置的加热量对应的收纳箱内升华或气化的蒸镀物质的量会发生变化,进而飞散分布发生变化。因此,在本发明中,优选所述加热装置由采用所述支撑架保持并与所述内容器的外壁面相对配置的多个护套加热器构成,将所述内容器的外壁分成多个区域,可采用规定电流值对分别与各区域相对配置的各护套加热器通电。由此,如果按区域适当设置电流值而调整来自护套加热器的加热量的话,可尽量抑制收纳箱(内容器)上产生的温度梯度,是有利的。
附图说明
图1是示出设置了本实施方式的蒸镀单元且该蒸镀单元在退避位置的真空蒸镀装置的剖视示意图。
图2是示出设置了本实施方式的蒸镀单元且该蒸镀单元在蒸镀位置的真空蒸镀装置的剖视示意图。
图3是沿图2的III-III线的局部剖视图。
图4是示出一体安装了加热装置的蒸镀单元的收纳箱的立体图。
图5是图4的V-V线的剖视图。
图6是示出移动第二隔壁的机构在其遮挡位置的局部分解立体图。
图7是移动第二隔壁的机构在其退避位置的局部分解立体图。
图8是示出蒸镀单元的收纳箱的变形例的立体图。示出移动第二隔壁的机构在其退避位置的局部分解立体图。
具体实施方式
以下参照附图,以适用于所谓卷绕式真空蒸镀装置的情况为例,说明本发明的实施方式的蒸镀单元及具有该蒸镀单元的真空蒸镀装置。以下,采用辊筒的轴线方向与水平方向一致的姿态,将该辊筒收纳在作为真空室的主室内,以轴线方向为X轴方向,以同一水平面内与X轴正交的方向为Y轴方向,以与X轴和Y轴正交的垂直方向为Z轴方向,并且,“上”、“下”这类方向以图1为基准。
参照图1~图3,本实施方式的真空蒸镀装置Cm具有主室1。主室1上连接有省略图示的涡轮分子泵、旋转泵等构成的真空泵,可形成真空气氛(例如10-5Pa)。在主室1的下表面中央,形成有朝下方突出的突出部11,其在图1所示的剖面视角具有半正六角形轮廓。在X轴方向上延伸的突出部11的各平坦面12上,形成与后面提到的辊筒2相对的安装开口13,可经安装开口13装卸自由地装配本实施方式的蒸镀单元VU。
在主室1的上部空间中,为了向辊筒2引导从图外的送料辊移送来的片状基材Sw,将环绕辊筒2的片状基材Sw向图外的卷绕辊移送,因此配置有多个引导辊Gr。此外,虽未特别图示说明,但在主室1中,相连设置上游侧室和下游侧室,在上游侧室中设置送料辊,其卷绕有片状基材Sw并将其以固定的速度输送,在下游侧室中设置有卷绕辊,其卷绕通过在主室1中绕辊筒2周围运行而成膜的已成膜完毕的片状基材Sw。作为对片状基材Sw进行从输送到卷绕的机构,可使用公知产品,因此省略更多的详细说明。
辊筒2具有旋转轴21,旋转轴21由主室1内在X轴方向(轴线方向)上留出间隔地配置的两个轴承装置Bm轴支撑,由主室1外配置的电机M1按规定的旋转速度旋转驱动。轴承装置Bm虽未特别详细图示,但其径向内侧的内轴承和径向外侧的外轴承一体组装在筐体上,内轴承对旋转轴21进行轴支撑,并且外轴承旋转自由地支撑后面提到的第二隔壁的旋转臂。虽未特别图示说明,但辊筒2中内置有用公知方法加热或冷却片状基材Sw的机构。
各蒸镀单元VU具有构造相同、一面开口以形成连通开口30a的容置室30,容置室30围绕安装开口13设置,分别从主室1的平坦面12外侧安装在其上。在容置室30上,设置有以后面提到的释放开口34c的相位与连通开口30a一致的姿态收纳的收纳箱3,收纳箱3上一体安装有加热其内部的蒸镀物质Vm的加热装置4。作为蒸镀物质Vm,根据要在片状基材Sw上形成的薄膜,使用金属材料或有机材料。在本实施方式中,以两个蒸镀单元VU分别装配在位于垂直方向下方的一侧的平坦面12(图1中是右侧)和相对于水平面倾斜的另一侧的平坦面12(图1中是左侧)上为例进行说明,但并不限于此,例如也可在全部的平坦面12上装配蒸镀单元VU,或者只在位于垂直方向下方的平坦面12上装配蒸镀单元VU。此时,在未装配有蒸镀单元VU的安装开口13上,装配对其进行堵塞的盖体(在图1和图2中对其进行了省略)。
也参照图4和图5,当以在位于垂直方向下方的平坦面12上装配收纳箱3为例进行说明时,收纳箱3例如是不锈钢材质的,由外容器31、支撑架32、内容器33和盖体34构成,所述外容器31的上表面(与辊筒2相对的面)开口,由板状部件32a、32b组装为网格状而成的所述支撑架32以覆盖除上表面外的外容器31的内壁面的方式固定在外容器31上,所述内容器33配置在支撑架32内侧,收纳蒸镀物质Vm,盖体34覆盖外容器31和内容器33的上表面的开口。外容器31和内容器33在图1所示剖面视角具有彼此相似的有底长方体形轮廓,外容器31和内容器33的X轴方向长度设置为大于等于辊筒2的母线(X轴方向)长度(图3参照)。外容器31和内容器33的Y轴方向长度(宽)考虑片状基材Sw的宽度(具体而言是对基材Sw在X轴方向上蒸镀的范围)和蒸镀速率等适当设置。
再有,在支撑架32的规定位置上,朝其内侧突出地竖直设置多根作为支撑销的螺栓35,当将内容器33插入到外容器31内侧时,内容器33只受到各螺栓35的头部的支撑。与辊筒2的外周面相对的盖体34构成为由分别彼此平行的两条横边34a和纵边34b构成的板材以与辊筒2的外周面相一致的曲率弯曲,在其中央,开设有与内容器33的上表面的开口匹配的单个释放开口34c。使释放开口34c的内边缘部固定在内容器33的上端,使内容器33和盖体34一体化。并且,当与图4中虚拟线所示的盖体34一体的内容器33从外容器31的上表面开口侧插入外容器31中时,该外容器31的上表面的开口被盖体34堵住。再有,在容置室30的外壁面上设置由直线电机或气缸构成的移动装置5,贯穿其外壁面并在其内部延伸的移动装置5的驱动轴51与收纳箱3连结。由此,蒸镀单元VU的收纳箱3通过移动装置5在上下方向(即盖体34的释放开口34c的孔轴相对于辊筒2的轴线正交的方向)上进退。
加热装置4采用配置为覆盖内容器33的X轴方向的两外侧壁面、Y轴方向的两外侧壁面以及内容器33的下外壁整体的多个护套加热器41构成,由支撑架32固定。从而当在真空气氛中对收纳有蒸镀物质Vm的内容器33在插入到外容器31中的状态下用加热装置4的各护套加热器41进行加热时,蒸镀物质Vm在内容器33内升华或气化,该升华或气化了的蒸镀物质从释放开口34c释放。此处,在通过辊筒2中内置的冷却机构冷却片状基材Sw的同时进行蒸镀,在这种情况下,由于盖体34通过辐射冷却被冷却,因此内容器33上有可能产生上下方向的温度梯度。在本实施方式中,将内容器33的外壁分成四个区域,即内容器33的Y轴方向两外侧壁的上部、内容器33的Y轴方向的两外侧壁的中央部、内容器33的Y轴方向两外侧壁的下部及内容器33的下外壁、以及内容器33的X轴方向两外侧壁,与各区域相对的护套加热器为第一~第四各护套加热器41a、41b、41c、41d,将第一~第四各护套加热器41a、41b、41c、41d分别与第一~第四各电源装置Ps1、Ps2、Ps3、Ps4连接。并且,通过第一~第四各电源装置Ps1、Ps2、Ps3、Ps4给第一~第四各护套加热器41a、41b、41c、41d通电时,能以不同电流值对各护套加热器通电。由此,如果对每个区域适当设置电流值,从而调节来自第一~第四各护套加热器41a、41b、41c、41d的加热量的话,可尽量抑制在内容器33上产生温度梯度,是有利的。
采用上述实施方式,由于在容置室30上设置蒸镀单元VU并进行模块化,因此只通过将容置室30装配在主室1的安装开口13上,就使蒸镀单元VU以其释放开口34c朝向卷绕在辊筒2上的片状基材Sw的姿态安装。再有,由于通过各螺栓35的头部支撑内容器33,因此热传导造成的热量损失减小,可效率良好地加热内容器33。此时,如果例如通过电解剖光预先对外容器31的内表面进行镜面处理的话,则在通过各护套加热器41加热内容器33时,外容器31的内表面起到作为反射热量的反射器的作用,辐射热增加,可效率更好地加热内容器33。蒸镀物质Vm对收纳箱3的内容器33的填充率例如可考虑蒸镀物质Vm的种类、在到收纳箱3中填充的蒸镀物质Vm全部升华或气化为止的期间内的内容器33的内压变动所伴随的蒸镀速率的变化量而适当设置在20~40%的范围内。
再有,由于在容置室30的外壁面上设置了移动装置5,所以在对安装开口13装配了容置室30后,蒸镀单元VU的收纳箱3通过移动装置5在远离位置和蒸镀位置之间自由移动,所述远离位置如图1所示,是盖体34从辊筒2的外周面远离的位置;所述蒸镀位置如图2所示,是盖体34留出以上述曲率弯曲的间隙(以下称之为“第二间隙Gp2”)接近辊筒2的外周面的位置;此时,可使释放开口34c和卷绕在辊筒2上的片状基材Sw的距离(即第二间隙Gp2的尺寸)在移动装置5的行程范围内任意变化。第二间隙Gp2为盖体34和与之相对的辊筒2的部分所限定的蒸镀空间。
在主室1内分别设置有固定隔壁6a、6b、6c、6d,其位于辊筒2周围,固定在主室1的内侧壁上,在X轴方向上延伸,通过固定隔壁6a、6b、6c、6d,在主室1内分别限定与容置室30相通的容纳蒸镀单元VU的蒸镀室Vs。此时,虽未特别图示说明,但优选构成为可独立于主室1地对蒸镀室Vs内进行真空排气。主室1内还分别设置有第二隔壁7a、7b,其间隔以上述曲率弯曲的间隙(以下称之为“第一间隙Gp1”)覆盖辊筒2的外筒部分(参照图2),以第一间隙Gp1为边界蒸镀室Vs和与该蒸镀室Vs相邻的主室1内的相邻室As(例如片状基材Sw的运输空间)彼此连通,通过第二隔壁7a、7b确定蒸镀室Vs和相邻室As之间的电导值。
也参照图6和图7,第二隔壁7a、7b例如采用以上述曲率弯曲的不锈钢材质的板材构成,分别架设在各旋转臂71、72的前端间,所述各旋转臂71、72分别由留出间隔地配置在X轴方向上的各轴承装置Bm的外轴承(未图示)旋转自由地支撑。在各轴承装置Bm的外周面上,以规定节距分别形成齿73a、73b,在各齿73a、73b上,啮合有以图外的电机驱动的齿条74a、74b(参照图3)。当通过电机使齿条74a、74b在Y轴方向上移动时,第二隔壁7a、7b沿辊筒2的外周面在相反的方向上旋转。此时,在各旋转臂71、72的彼此相对的面上实施沉头孔加工,留出第一间隙部S1地重叠沉头孔加工面71a、71b,从而两第二隔壁7a、7b分别可在辊筒2周围保持第一间隙Gp1地移动。由此,第二隔壁7a、7b以辊筒2的旋转轴21作为旋转中心,在遮挡与盖体34的释放开口34a相对的辊筒2的部分的遮挡位置和周向上远离蒸镀单元VU的退避位置之间自由转动。此时,主室1的内壁面形成为:在包括第二隔壁7a、7b的遮挡位置及退避位置的第二隔壁7a、7b的转动路径上,在各第二隔壁7a、7b的X轴方向(轴线方向)的端面和与之相对的主室1的内壁面之间形成第二间隙部S2,并且在各第二隔壁7a、7b的外周面和主室1的内壁面之间形成第三间隙部S3。
在图1所示的蒸镀单元VU位于远离位置,第二隔壁7a、7b位于遮挡位置时,蒸镀室Vs和相邻室As只通过第一间隙部S1~第三间隙部S3连通(参照图7),但根据装置构成上不可避免的第二间隙部S2及第三间隙部S3的尺寸、预先实验所需的相邻室As的压力和蒸镀室Vs的压力之间的压力差,例如适当设置沉头孔加工面71a、71b的面积使得第一间隙部S1的电导值是规定値的话,则能够可靠地将蒸镀室Vs和相邻室As气氛分离。另一方面,在从图1所示的状态使第二隔壁7a、7b移动到退避位置的状态下,蒸镀室Vs和相邻室As除第一间隙部S1~第三间隙部S3外还通过第一间隙Gp1彼此联通,但与上述同样地,根据相邻室As的压力和蒸镀室Vs的压力的压力差、对辊筒2的旋转所带来的片状基材Sw的通过而言不可避免的第一间隙Gp1的尺寸,而适当设置第二隔壁7a、7b的周向长度,使得该第一间隙Gp1的电导值是规定値的话,则能够可靠地将蒸镀室Vs和相邻室As气氛分离。并且,即使如图2所示地分别使蒸镀单元VU移动到蒸镀位置,第二隔壁7a、7b移动到退避位置,作为蒸镀空间的第二间隙Gp2也会维持与相邻室As彼此气氛分离的状态。此外,虽未特别图示说明,但也可构成为在第二隔壁7a、7b内形成循环冷媒的冷媒循环路径,在将第二隔壁7a、7b移动到遮挡位置后,经轴承装置Bm使冷媒在冷媒循环路径中循环,可将第二隔壁7a、7b冷却到规定温度。
再有,在第二隔壁7a、7b周向的端面上分别安装有隔壁板75a、75b、75c、75d,其长度大于等于辊筒2的母线方向长度。一方面,在图1所示的第二隔壁7a、7b的遮挡位置上,各隔壁板75a、75b、75c、75d分别与固定隔壁6a、6b、6c的径向内端面抵接,另一方面,在使第二隔壁7a、7b在彼此相反的方向上转动的、图2所示的第二隔壁7a、7b的退避位置上,一个第二隔壁7a的隔壁板75b抵接固定隔壁6a,另一个第二隔壁7b的隔壁板75c抵接固定隔壁6c。并且,当第二隔壁7a、7b在退避位置上使蒸镀单元VU的收纳箱3进入蒸镀位置时,盖体34的各横边34a、34a分别与各第二隔壁7a、7b的各隔壁板75a、75d抵接,在辊筒2周围,第一间隙Gp1和第二间隙Gp2彼此连通(参照图2)。
在上述真空蒸镀装置Cm中,在使片状基材Sw运行的同时蒸镀辊筒2上卷绕的片状基材Sw的部分时,首先,将内置有蒸镀单元VU的容置室30从主室1的安装开口13的外侧装配在安装开口上。并且,将包括蒸镀室Vs的主室1真空排气到规定压力。此时,分别使蒸镀单元VU的收纳箱3移动到远离位置,使各第二隔壁7a、7b移动到遮挡位置。在该状态下通过加热装置4加热蒸镀物质Vm。如此,在收纳箱3内,蒸镀物质Vm升华或气化,其蒸镀量根据加热装置4的加热量而逐渐稳定,但在此之前,收纳箱3内升华或气化了的蒸镀物质的一部分从盖体34的释放开口34c向片状基材Sw释放,分别附着到第二隔壁7a、7b上。接着,当收纳箱3内的蒸镀物质Vm的蒸镀量稳定时,分别使各第二隔壁7a、7b移动到退避位置,之后,使蒸镀单元VU的收纳箱3移动到蒸镀位置。由此,在主室1内形成蒸镀空间,当通过基材移动装置使片状基材Sw移动时,从释放开口34c释放的蒸镀物质附着、堆积到在辊筒2上卷绕的片状基材Sw的部分上,被连续地蒸镀。
蒸镀时,由于使蒸镀室Vs和相邻室As气氛分离,因此从释放开口34c经作为蒸镀空间的第二间隙Gp2,通过第一间隙Gp1到达相邻空间As的路径的密封度提高。从而,即使为了得到极高的成膜速率而将释放开口34c的开口面积设置得较大,也会一方面从释放开口34c释放的蒸镀物质在大范围内扩散前经第二间隙Gp2附着堆积在片状基材Sw的部分上,另一方面从释放开口34c向第二间隙Gp2释放的蒸镀物质中无助于对基材Sw的蒸镀的物质返回到内容器33中。由此,能尽量抑制绕到包括相邻室As的主室1内在片状基材Sw以外的部分(部件)上镀膜这类的情况,进而可防止蒸镀物质Vm的浪费。最后,在维护时,在从主室1的安装开口13拆除了容置室30的状态下实施维护。
以上对本发明的实施方式进行了说明,但本发明并不限于上述实施方式,只要不脱离本发明的主旨,可进行各种变形。在上述实施方式中,采用直线电机、气缸等移动装置5使蒸镀单元VU的收纳箱3相对于辊筒2的外周面直接进退,但也可在容置室30内设置引导其移动的公知的引导机构。再有,蒸镀单元VU的收纳箱3是在上下方向即盖体34的释放开口34c的孔轴相对于辊筒2的轴线正交的方向上进退,但并不限于此,例如可考虑从释放开口34c释放的蒸镀物质Vm的飞散分布而进行适当改变。
再有,在上述实施方式中,以设置单个释放开口34c为例进行了说明,但并不限于此,也可在片状基材Sw的宽度方向上以规定间隔排列设置多个筒状的释放开口。此时,不只是筒状的各释放开口的孔轴相对于辊筒2的轴线正交,有时各释放开口会在盖体上形成为以规定角度倾斜,因此与之相应地,可适当改变容置室内的蒸镀单元的姿态或容置室内的蒸镀单元的移动方向。进而,在上述实施方式中,以安装在具有辊筒2并对卷绕在其上的片状的基材Sw的部分实施成膜的主室1上开设的安装开口上的情况为例进行了说明,但并不仅限于此,例如本发明也可适用于以矩形基板作为被蒸镀物、具有依次运输多块基板的运输机构的真空蒸镀装置,此时,蒸镀单元例如以收纳箱的释放开口相对于基板的成膜面正交的姿态安装在容置室内。
再有,在上述实施方式中,在将蒸镀单元VU的收纳箱3移动到蒸镀位置,从释放开口34c释放蒸镀物质Vm,蒸镀到辊筒2上卷绕的片状基材Sw的部分上时,盖体34本身也可起到作为限定对片状基材Sw部分的蒸镀范围的掩膜的作用。另一方面,盖体34即使通过辐射冷却被冷却,但由于被固定在受到加热的内容器33的上端并一体化,因此有时会热变形(膨胀)。此时,盖体34由于长边在X轴方向上以大于等于辊筒2的母线(X轴方向)长度的关系设置,因此根据此时的温度条件在X轴方向上的热变形比Y轴方向更显著。
在变形例涉及的方式中,如图8所示,允许盖体34向Y轴方向移位(热变形)及绕Z轴旋转,但设置了不允许向X轴方向及Z轴方向变形的限制装置。限制装置例如具有:第一和第二两限制部8a、8b,其在X轴方向中央区域上与盖体34的外边缘部相对设置;以及一对第三限制部8c,其在X轴方向两端部设置在盖体34的外边缘部上。第一和第二各限制部8a具有:柱状的突片81a、82a,其设置在盖体34上表面的规定位置上;以及接收部件82a、82b,其与各突片81a、82a对应地固定配置在主室(未图示)内,具有分别接收各突片81a、82a的接收孔821、822。
当通过移动装置5将蒸镀单元VU的收纳箱3移动到蒸镀位置时,各突片81a、81b分别被插入到各接收孔821、822内。此时,接收孔821具有长边在Y轴方向上的椭圆形轮廓,使得允许向Y轴方向的位移,但不允许向X轴方向的变形,再有,接收孔822具有圆形轮廓,使得允许绕Z轴的旋转,不允许向Z轴方向的位移。再有,第三限制部8c由以与盖体34一致的曲率弯曲的按压片构成,当通过移动装置5使蒸镀单元VU的收纳箱3移动到蒸镀位置时,与盖体34抵接,限制盖体34向Z轴方向的位移。此外,限制装置也可设置在盖体34的下表面和支撑架32的上表面之间。
附图标记说明
Sw.片状基材(被蒸镀物),Vm.蒸镀物质,VU.蒸镀单元,1.主室(真空室),13.安装开口,3.收纳箱,30.容置室,30a.连通开口,31.外容器,32支撑架,33.内容器,34.盖体,34c.释放开口,35.螺栓(支撑销),4.加热装置,41a、41b、41c、41d.护套加热器,5.移动装置。

Claims (5)

1.一种具有带辊筒的真空室以及蒸镀单元的真空蒸镀装置,所述蒸镀单元具有收纳蒸镀物质的收纳箱以及加热收纳箱内的蒸镀物质的加热装置,在收纳箱的一面上形成有释放因加热而升华或气化了的蒸镀物质的释放开口,其特征在于:
蒸镀单元还具有移动装置,其设置在一面开口的容置室内,以朝容置室开口的方向为上,在容置室内使蒸镀单元在上下方向上进退,所述容置室从所述真空室上开设的安装开口的开口侧装配到该安装开口上;
所述收纳箱具有:上表面开口的外容器;固定在外容器的内壁面上的支撑架;配置在支撑架内侧并收纳蒸镀物质的内容器;以及覆盖外容器和内容器的上表面的开口的、形成有释放开口的盖体;
以所述辊筒的轴线方向为X轴方向,以上下方向为Z轴方向,以与X轴和Z轴正交的方向为Y轴方向,所述盖体其长边在X轴方向上且其呈板状,所述真空蒸镀装置还具有限制装置,其一边允许朝所述盖体的Y轴方向的热变形和绕Z轴的旋转,一边限制朝X轴方向和Z轴方向的变形。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
所述限制装置具有:第一和第二两个限制部,其在所述蒸镀单元移动到蒸镀位置处时于X轴方向中央区域上释放开口的外边缘部相对设置;以及第三限制部,其在X轴方向两端部上位于释放开口的外边缘部。
3.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
在支撑架的规定位置上,朝其内侧突出设置多根支撑销,当将内容器容置于外容器内时,各支撑销支撑内容器。
4.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置,其特征在于:所述加热装置由采用所述支撑架保持并与所述内容器的外壁面相对配置的多个护套加热器构成,将所述内容器的外壁分成多个区域,可采用规定电流值对分别与各区域相对配置的各护套加热器通电。
5.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀装置,其特征在于:
所述蒸镀单元以所述收纳箱的所述释放开口相对于辊筒的轴线正交的姿态安装;
通过所述移动装置使所述释放开口和卷绕在所述辊筒上的片状基材的距离在蒸镀单元的上下移动的行程范围内变化,自由调节所述收纳箱内升华或气化了的蒸镀物质的飞散分布。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004035964A (ja) * 2002-07-04 2004-02-05 Tokki Corp 蒸着装置
JP2005029837A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Showa Shinku:Kk 真空蒸着装置の蒸発源移動機構
JP2011168805A (ja) * 2010-02-16 2011-09-01 Hitachi High-Technologies Corp 蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置
CN102277557A (zh) * 2010-06-09 2011-12-14 日立造船株式会社 真空蒸镀装置中蒸镀材料的蒸发或升华方法及坩埚装置
CN102482763A (zh) * 2010-06-16 2012-05-30 松下电器产业株式会社 薄膜的制造方法
JP2015021169A (ja) * 2013-07-19 2015-02-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ 蒸着装置及び蒸着方法
CN112368413A (zh) * 2019-03-12 2021-02-12 株式会社爱发科 真空蒸镀装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY143286A (en) * 1996-05-21 2011-04-15 Panasonic Corp Thin film, method and apparatus for forming the same, and electronic component incorporating the same
US6202591B1 (en) 1998-11-12 2001-03-20 Flex Products, Inc. Linear aperture deposition apparatus and coating process
JP6049355B2 (ja) * 2012-08-29 2016-12-21 キヤノントッキ株式会社 蒸発源
JP6223675B2 (ja) * 2012-11-29 2017-11-01 株式会社オプトラン 真空蒸着源及びそれを用いた真空蒸着方法
TWI624554B (zh) * 2015-08-21 2018-05-21 弗里松股份有限公司 蒸發源
JP6930878B2 (ja) 2017-08-28 2021-09-01 株式会社アルバック 真空処理装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004035964A (ja) * 2002-07-04 2004-02-05 Tokki Corp 蒸着装置
JP2005029837A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Showa Shinku:Kk 真空蒸着装置の蒸発源移動機構
JP2011168805A (ja) * 2010-02-16 2011-09-01 Hitachi High-Technologies Corp 蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置
CN102277557A (zh) * 2010-06-09 2011-12-14 日立造船株式会社 真空蒸镀装置中蒸镀材料的蒸发或升华方法及坩埚装置
CN102482763A (zh) * 2010-06-16 2012-05-30 松下电器产业株式会社 薄膜的制造方法
JP2015021169A (ja) * 2013-07-19 2015-02-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ 蒸着装置及び蒸着方法
CN112368413A (zh) * 2019-03-12 2021-02-12 株式会社爱发科 真空蒸镀装置

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