CN113554947B - 一种显示面板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示面板及其制作方法，所述制作方法包括：提供一衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区；在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱；在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层，所述封装层完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域。根据本发明实施例的制作方法，通过使形成的封装层完全覆盖最内圈的隔离柱以及最内圈隔离柱朝向开孔区的一侧表面与衬底的交界区域，可以有效确保开孔区和隔离柱区的封装效果，避免了水汽由开孔区入侵。

Description

一种显示面板及其制作方法

技术领域

本发明涉及显示面板技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法。

背景技术

在现有可拉伸面板工艺流程中，实现可拉伸的关键技术是在屏内有效显示区域内设置规律的微孔以提供拉伸时的变形量。但是，由于微孔的存在，使原本的柔性基板与玻璃之间的接触关系被消除形成为通孔，而变成封装层与玻璃直接接触，在剥离制程中，由于两者无法分离导致了器件的剥离损坏。一种改进的工艺为，调整为柔性基板后刻蚀，先保留一部分厚度的柔性基板，后续再刻蚀掉剩余的柔性基板形成通孔，但在后刻蚀工艺过程中，开孔区外围的隔离柱的存在导致了靠近开孔区的封装层被部分刻蚀，形成封装缺陷。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种显示面板及其制作方法，能够解决现有技术中显示面板靠近开孔区的封装层无法全部覆盖隔离柱继而形成封装缺陷的问题。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

本发明一方面实施例提供了一种显示面板的制作方法，所述方法包括：

提供一衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区；

在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱；

在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层，所述封装层完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域。

可选的，所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱，包括：

在所述衬底上形成有机层，对所述有机层进行图案化处理以形成位于所述开孔区的第一开孔，所述第一开孔贯穿所述有机层以及至少部分所述衬底；

在所述有机层上形成无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理以形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱。

可选的，位于最内圈的所述隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底靠近所述隔离柱的一侧表面所成的角度大于70°。

可选的，形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱的过程中，采用的刻蚀液对所述有机层的刻蚀速率大于对所述无机层的刻蚀速率。

可选的，所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱，包括：

在所述衬底上依次形成有机层和无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理，形成位于所述开孔区的第一开孔以及形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱。

可选的，位于最内圈的所述隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面形成为所述第一开孔的部分孔壁。

可选的，所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔之后，所述方法还包括：

在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱的同时，在所述第一开孔内形成至少一个填充体。

可选的，所述在所述第一开孔内形成至少一个填充体包括：

在所述衬底上依次形成有机层和无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理，形成位于所述开孔区的至少一个填充体。

可选的，所述在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层之后，所述方法还包括：

对所述开孔区内的封装层进行刻蚀；

对所述开孔区中未被所述填充体遮挡的衬底进行刻蚀，在所述开孔区形成通孔，所述通孔贯穿所述衬底。

本发明另一方面实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括：

衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区；

位于所述衬底的开孔区的第一开孔，以及位于所述衬底的隔离柱区的至少一圈隔离柱；

覆盖所述衬底的隔离柱区的封装层，其中，覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面上的封装层连续。

本发明上述技术方案的有益效果如下：

根据本发明实施例的制作方法，通过使形成的封装层完全覆盖最内圈的隔离柱以及最内圈隔离柱朝向开孔区的一侧表面与衬底的交界区域，可以有效确保开孔区和隔离柱区的封装效果，避免了水汽由开孔区入侵。

附图说明

图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图；

图2为本发明实施例提供的在有机层上形成无机层的示意图；

图3为本发明实施例提供的对无机层进行图案化处理后的示意图；

图4为本发明实施例提供的对有机层进行图案化处理后的示意图；

图5为本发明实施例提供的隔离柱被过刻蚀的示意图；

图6为本发明实施例提供的在衬底上依次形成有机层和无机层的示意图；

图7为本发明实施例提供的同步形成第一开孔以及隔离柱的示意图

图8为本发明实施例提供的形成第一开孔的示意图；

图9为本发明实施例提供的形成隔离柱和填充体的示意图；

图10为本发明实施例提供的去除开孔区的封装层的示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参考图1，图1为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程示意图。如图1所示，本发明一方面实施例提供了一种显示面板的制作方法，所述制作方法包括以下步骤：

步骤101：提供一衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区。

其中，所述显示区域还可以设置有多个像素岛区，所述多个像素岛区呈阵列分布，所述像素岛区用于形成像素结构，以实现显示功能；开孔区可以设置于相邻的像素岛区之间，从而提供显示面板拉伸时的变形量；为了防止水汽从开孔区入侵像素岛区内的结构，在开孔区的外围还设置有隔离柱区，隔离柱区用于将开孔区封闭，起到隔绝水汽入侵路径的作用。

步骤102：在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱。

本发明实施例中，所述衬底可以为柔性基板，所述柔性基板可以设置于玻璃基板上，所述柔性基板可以包括PI(Polyimide，聚酰亚胺)膜层，当然，所述柔性基板还可以包括设置于PI膜层上的缓冲层；可选的，所述柔性基板可以为单层结构或者双层结构，单层结构即仅在玻璃基板上形成一层PI膜层，该PI膜层上可以设置一层缓冲层，双层结构即在玻璃基板上形成两层PI膜层，两层PI膜层之间设置无机层隔开，最上层的PI膜层上可以设置一层缓冲层。在所述衬底的开孔区形成第一开孔时，所述第一开孔的深度可以等于所述柔性基板的至少部分厚度，也即，所述第一开孔可以贯穿所述柔性基板，也可以不贯穿所述柔性基板。所述隔离柱区内的隔离柱至少为一圈，在所述隔离柱为多圈时，多圈隔离柱将所述第一开孔一圈圈围住，可以知道，当具有多圈隔离柱时，可以提高防水密封效果，对水汽的隔绝效果更佳。

步骤103：在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层，所述封装层完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域。

本步骤中，在开孔区以及隔离柱区形成封装层时，所述封装层至少完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域，也就是说，所述封装层在所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域连续无断点，由此，在封装层的完全覆盖下，水汽无法从开孔区经由隔离柱区入侵损坏显示器件，从而有效提高了显示面板的使用寿命。

本发明实施例中，通过使形成的封装层完全覆盖最内圈的隔离柱以及最内圈隔离柱朝向开孔区的一侧表面与衬底的交界区域，可以有效确保开孔区和隔离柱区的封装效果，避免了水汽由开孔区入侵。

在本发明的一些实施例中，所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱，包括：

在所述衬底上形成有机层，对所述有机层进行图案化处理以形成位于所述开孔区的第一开孔，所述第一开孔贯穿所述有机层以及至少部分所述衬底；

在所述有机层上形成无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理以形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱。

也就是说，本发明实施例中，可以先在所述衬底的开孔区形成第一开孔，之后再在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱。

请参考图2至图4，图2为本发明实施例提供的在有机层上形成无机层的示意图，图3为本发明实施例提供的对无机层进行图案化处理后的示意图，图4为本发明实施例提供的对有机层进行图案化处理后的示意图。如图2至图4所示，示例性的，本发明实施例中的衬底包括PI膜层22，以及设置于PI膜层22上的缓冲层23，PI膜层22可以设置于玻璃基板21上，上述步骤中，在衬底上形成有机层24，所述有机层24又可以称为平坦层(Planarizing，PLN)，再对有机层24以及衬底进行图案化处，即在所述衬底的开孔区形成了第一开孔26，此时第一开孔26贯穿有机层24以及部分衬底(包括PI膜层22以及缓冲层23)，所述图案化处理具体可采用黄光(Photo)工艺、刻蚀(Etch)工艺与湿法剥离(Strip)工艺等等。之后，继续在有机层24上形成一层无机层25，并继续对所述无机层25进行图案化处理，图3中双向箭头标识的刻蚀区即为对所述无机层25进行刻蚀的区域，无机层25又可以称为钝化层(passivationlayer，PVX)。接着继续对所述有机层24进行图案化处理，最终形成如图4所示的位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱27，隔离柱27即由图案化处理后的有机层24和无机层25构成。

请参考图5，为本发明实施例提供的隔离柱被过刻蚀的示意图。如图5所示，相关技术中，在形成开孔之后，有机层朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底会形成一定坡度，若后续对无机层和有机层进行刻蚀时，设计的刻蚀区不包括有机层朝向所述开孔区的一侧表面，则由于有机层朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底之间坡度的存在以及由于开孔区的存在，刻蚀液会在开孔区内集中，有机层和/或无机层会在该侧表面与所述衬底的交界位置被过刻蚀从而破坏原有形状，后续形成封装层28时，封装层28将在最内圈隔离柱朝向所述开孔区的一侧表面与衬底的交界区域断开，从而形成封装缺陷。因此，本发明的一些实施例中，上述对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理以形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱的过程中，设计的刻蚀区包括有机层朝向所述开孔区的一侧表面，从而在形成隔离柱时将斜坡刻蚀，由此形成的隔离柱朝向所述开孔区的一侧表面无斜坡，增加了平面区域的面积。可选的，位于最内圈的所述隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底靠近所述隔离柱的一侧表面所成的角度大于70°，也即隔离柱区中最内圈的隔离柱27的朝向所述开孔区的一侧表面基本垂直于所述衬底。由此，后续在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层时，所述封装层能够完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域，避免了封装缺陷的产生。

本发明的另一些实施例中，形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱的过程中，采用刻蚀液对所述有机层以及所述无机层进行刻蚀，其中，采用的刻蚀液对所述有机层的刻蚀速率大于对所述无机层的刻蚀速率，从而使得形成的隔离柱具有上宽下窄的形状，使得发光层在此断开，以隔绝水汽入侵路径。

本发明的一些实施例中，所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱，包括：

在所述衬底上依次形成有机层和无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理，形成位于所述开孔区的第一开孔以及形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱。

也就是说，本发明实施例中，所述第一开孔和所述至少一圈隔离柱同步形成。

请参考图6和图7，图6为本发明实施例提供的在衬底上依次形成有机层和无机层的示意图，图7为本发明实施例提供的同步形成第一开孔以及隔离柱的示意图。如图6和图7所示，可选的，在所述衬底上依次形成有机层24和无机层25，之后，设计的刻蚀区对应开孔区内要开设的第一开孔的尺寸以及相邻待形成隔离柱之间的空隙，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理，在自上而下的刻蚀过程中，在隔离柱区形成了至少一圈隔离柱27，在开孔区形成了第一开孔26。本发明实施例中，省去了在衬底上形成有机层24后对其进行图案化处理形成第一开孔26的步骤，从而避免了最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底之间形成斜坡，继而使得后续在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层时，所述封装层能够完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域，避免了封装缺陷的产生。

在一些实施例中，可选的，位于最内圈的所述隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面形成为所述第一开孔的部分孔壁，此时第一开孔26贯穿有机层24以及部分衬底(包括PI膜层22以及缓冲层23)。

下面以另一例实施例介绍上述的显示面板的制作方法。

本发明的另一些实施例中，所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔之后，所述方法还包括：

在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱的同时，在所述第一开孔内形成至少一个填充体。

其中，所述在所述第一开孔内形成至少一个填充体包括：

在所述衬底上依次形成有机层和无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理，形成位于所述开孔区的至少一个填充体。

请参考图8和图9，图8为本发明实施例提供的形成第一开孔的示意图，图9为本发明实施例提供的形成隔离柱和填充体的示意图。如图8和图9所示，在本发明的另一些实施例中，示例性的，所述衬底包括依次叠设的第一PI膜层32、中间层33、第二PI膜层34以及缓冲层35，所述衬底可以设置于所述玻璃基板31上，在制作所述显示面板时，先在衬底的开孔区形成第一开孔36，第一开孔36贯穿缓冲层35、并深入到第二PI膜层34的部分，也可以贯穿所述第二PI膜层34并下探至第一PI膜层32，还可以贯穿第一PI膜层32、第二PI膜层34以及两者之间的所有层；接着，在所述衬底上依次形成有机层和无机层，所述有机层又可以称为平坦层(Planarizing，PLN)，所述无机层又可以称为钝化层(passivation layer，PVX)；之后，对所述有机层以及无机层进行图案化处理，最终形成如图9所示的位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱37以及位于开孔区的至少一个填充体38，隔离柱37和填充体38即由图案化处理后的有机层和无机层构成。

本发明实施例中，通过在开孔区设置填充体，可以支撑后续制程的胶厚，即降低后续制程中用到的各种胶的流动性，并且，由于填充体38占据了开孔区的部分空间，减少了光刻胶等在开孔区的堆积，进而保证了隔离柱区的隔离柱上的光刻胶等的厚度(也即在采用的胶的总量一定的情况下，若开孔区内的胶的量减少，则其他区域的胶的量会有所增加)，在后续对开孔区的封装层进行刻蚀的过程中，不会刻蚀到隔离柱区的隔离柱上的封装层。

在一些实施例中，隔离柱37和填充体38的结构形状可以相同。

可选的，形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱的过程中，采用刻蚀液对所述有机层以及所述无机层进行刻蚀，其中，采用的刻蚀液对所述有机层的刻蚀速率大于对所述无机层的刻蚀速率，从而使得形成的隔离柱37具有上宽下窄的形状，使得发光层在此断开，以隔绝水汽入侵路径。而相应的，填充体38也具有相应的结构特征。

所述在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层之后，所述方法还包括：

对所述开孔区内的封装层进行刻蚀；

对所述开孔区中未被所述填充体遮挡的衬底进行刻蚀，在所述开孔区形成通孔，所述通孔贯穿所述衬底。

请参考图10，图10为本发明实施例提供的去除开孔区的封装层的示意图。如图10所示，在开孔区形成填充体38以及在隔离柱区形成隔离柱37之后，在所述衬底上继续形成封装层39，封装层39覆盖所述开孔区以及所述隔离柱区；之后，对开孔区内的封装层39进行刻蚀，刻蚀的范围比开孔区的面积略小，即自开孔区的边缘向内收缩一定范围，以免刻蚀到最内圈隔离柱上的封装层39，而且，由于填充体38占据了开孔区的部分空间，减少了光刻胶等在开孔区的堆积，进而保证了隔离柱区的隔离柱上的光刻胶等的厚度(也即在采用的胶的总量一定的情况下，若开孔区内的胶的量减少，则其他区域的胶的量会有所增加)，在后续对开孔区的封装层进行刻蚀的过程中，不会刻蚀到隔离柱区的隔离柱上的封装层，最终得到的封装层能够完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域，避免了封装缺陷的产生。

可选的，最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面上的封装层延伸搭接到开孔区内最外圈的所述填充体背离所述衬底的一侧表面上，以形成良好的密封效果。需要注意的是，此时，最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面可以具有坡度(所述坡度定义为小于预设阈值，例如70°)，也可以不具有坡度。

本发明实施例中，在对所述开孔区内的封装层进行刻蚀后，还进一步对所述开孔区中未被所述填充体遮挡的衬底进行刻蚀，在所述开孔区形成通孔，所述通孔贯穿所述衬底(包括第一PI膜层32、中间层33、第二PI膜层34以及缓冲层35)，以图10为例，开孔区的相邻两个填充体38之间的衬底将被刻蚀，仅留下开孔区最外围的一圈填充体38，其他填充体38将被独立割离开来。通过将该部分衬底刻蚀去除，可以方便后续剥离制程中器件与玻璃基板的剥离，即起到减少接触面积，减少粘接力的作用，降低了器件的剥离损坏概率。

本发明实施例中，无论是通过避免最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面形成坡度，还是通过在开孔区设置填充体，最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界位置都不会发生过刻蚀，后续形成封装层时，封装层在最内圈隔离柱朝向所述开孔区的一侧表面与衬底的交界区域也不会断开，即所述封装层可以完全覆盖最内圈的隔离柱以及最内圈隔离柱朝向开孔区的一侧表面与衬底的交界区域，从而有效确保开孔区和隔离柱区的封装效果，避免了水汽由开孔区入侵。

本发明另一方面实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括：

衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区；

位于所述衬底的开孔区的第一开孔，以及位于所述衬底的隔离柱区的至少一圈隔离柱；

覆盖所述衬底的隔离柱区的封装层，其中，覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面上的封装层连续。

本发明实施例中，通过使形成的封装层完全覆盖最内圈的隔离柱以及最内圈隔离柱朝向开孔区的一侧表面与衬底的交界区域，可以有效确保开孔区和隔离柱区的封装效果，避免了水汽由开孔区入侵。

本发明实施例中的显示面板可以采用上述任一显示面板的制作方法制备得到，且能达到相同的技术效果，为避免重复，这里不再赘述。

以上所述是本发明的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供一衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区；

在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱；

在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层，所述封装层完全覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面以及所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底的交界区域；

所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔，以及在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱，包括：

在所述衬底上形成有机层，对所述有机层进行图案化处理以形成位于所述开孔区的第一开孔，所述第一开孔贯穿所述有机层以及至少部分所述衬底；

在所述有机层上形成无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理以形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱；

位于最内圈的所述隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面与所述衬底靠近所述隔离柱的一侧表面所成的角度大于70°；

所述在所述衬底的开孔区形成第一开孔之后，所述方法还包括：

在所述衬底的隔离柱区形成至少一圈隔离柱的同时，在所述第一开孔内形成至少一个填充体；

所述在所述第一开孔内形成至少一个填充体包括：

在所述衬底上依次形成有机层和无机层，对所述无机层以及所述有机层进行图案化处理，形成位于所述开孔区的至少一个填充体。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成位于所述隔离柱区的至少一圈隔离柱的过程中，采用的刻蚀液对所述有机层的刻蚀速率大于对所述无机层的刻蚀速率。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，位于最内圈的所述隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面形成为所述第一开孔的部分孔壁。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述衬底的开孔区以及隔离柱区形成封装层之后，所述方法还包括：

对所述开孔区内的封装层进行刻蚀；

对所述开孔区中未被所述填充体遮挡的衬底进行刻蚀，在所述开孔区形成通孔，所述通孔贯穿所述衬底。

5.一种显示面板，由权利要求1-4任一项所述的显示面板的制作方法制作而成，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底包括显示区域，所述显示区域包括开孔区和围绕所述开孔区的隔离柱区；

位于所述衬底的开孔区的第一开孔，以及位于所述衬底的隔离柱区的至少一圈隔离柱；

覆盖所述衬底的隔离柱区的封装层，其中，覆盖所述隔离柱区的最内圈隔离柱的朝向所述开孔区的一侧表面上的封装层连续。