CN113534523B - 彩膜基板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请适用于显示面板技术领域，提供了一种彩膜基板及其制作方法，彩膜基板包括第一衬底基板、第一偏光片、彩色滤光层以及蓝光吸收薄膜。第一衬底基板的上表面设置有第一偏光片，第一衬底基板的远离第一偏光片的一侧设置有彩色滤光层，蓝光吸收薄膜设置于第一衬底基板和彩色滤光层之间，或者，蓝光吸收薄膜设置于第一衬底基板和第一偏光片之间；本实施例中彩膜基板，将蓝光吸收薄膜设置于第一衬底基板和彩色滤光层之间，或者将蓝光吸收薄膜设置于第一衬底基板和第一偏光片之间，该蓝光吸收薄膜可以有效地过滤掉400nm‑450nm之间的高能短波蓝光，同时对于其他波长的光能够保持较高的穿透率，可以减弱或消除蓝光对人眼造成的损害。
Description
技术领域
本申请属于显示面板技术领域，更具体地说，是涉及一种彩膜基板及其制作方法。
背景技术
现有的各种电子显示设备，通常被称为薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD，ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display)。TFT-LCD主要包括阵列基板、彩膜基板以及配置于两基板之间的液晶层(LCL，Liquid Crystal Layer)，其工作原理主要是通过在两片基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转。传统的显示面板实现彩色显示的同时，透过的是可见光全波段波长的光，无法过滤掉其中对人类有伤害作用的高能短波蓝光，其中，高能短波蓝光是指波长在400nm～450nm之间的蓝光，这段蓝光可直接对眼部神经造成不可逆转的伤害，尤其是435nm-440nm之间的蓝光对眼睛的危害是最大的，可能导致近视、白内障和黄斑病变等。然而，我们日常接触的电视、笔记本、手机等各种电子显示设备，在为我们带来方便的同时，也让我们的眼睛在无形之中遭受大量高能短波蓝光的伤害。
为实现保护人眼，现有的方式是在显示面板外靠近人眼侧贴附防蓝光保护膜，当贴附保护膜可能造成色偏或者反光等问题，会降低用户对产品的体验感。
发明内容
本申请的目的在于提供一种彩膜基板及显示装置，旨在解决现有的在显示面板外靠近人眼侧贴附防蓝光保护膜容易造成色偏或反光的技术问题。
本申请是这样实现的，一种彩膜基板，包括第一衬底基板、第一偏光片以及彩色滤光层，所述第一偏光片设置于所述第一衬底基板上，所述彩膜基板还包括：
蓝光吸收薄膜，所述蓝光吸收薄膜设置于所述第一衬底基板和所述彩色滤光层之间，或者所述蓝光吸收薄膜设置于所述第一衬底基板和所述第一偏光片。之间。
在一个实施例中，所述蓝光吸收薄膜的黄色指数为1-15。
在一个实施例中，所述蓝光吸收薄膜的黄色指数为3-10，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-3.0um。
在一个实施例中，所述蓝光吸收薄膜的雾度小于0.8％。
在一个实施例中，所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.1％-0.2％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-2.0um。
在一个实施例中，所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.4％-0.6％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为2.5-3.0um。
在一个实施例中，所述蓝光吸收薄膜具有大于300℃的玻璃转变温度。
本申请还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括如下步骤：
提供第一衬底基板；
在所述第一衬底基板的下表面制备一层蓝光吸收薄膜，在所述蓝光吸收薄膜的背离所述第一衬底基板的一侧制备一层彩色滤光层；或者
在所述第一衬底基板的上表面制备一层蓝光吸收薄膜，在所述蓝光吸收薄膜的背离第一衬底基板的一侧制备一层第一偏光片。
在本申请的一个实施例中，在所述蓝光吸收薄膜的制备步骤中，在所述第一衬底基板上贴附蓝光吸收薄膜，或者在所述第一衬底基板上采用涂布方式制备出一层蓝光吸收薄膜。
在本申请的一个实施例中，在所述蓝光吸收薄膜制备步骤中，对所述蓝光吸收薄膜进行预烘烤，所述预烘烤的温度范围为70～100℃；
对所述蓝光吸收薄膜进行固烤，所述固烤的温度范围为210～240℃。
本申请提供的彩膜基板和显示装置的有益效果在于：与现有技术相比，将蓝光吸收薄膜设置于第一衬底基板和彩色滤光层之间，或者将蓝光吸收薄膜设置于第一衬底基板和第一偏光片之间，在彩膜基板和彩色滤光层之间设置一层蓝光吸收薄膜。该蓝光吸收薄膜可以有效地过滤掉400nm-450nm之间的高能短波蓝光，同时对于其他波长的光能够保持较高的穿透率，因此彩色滤光层合成的图案在到达人眼时经过过滤，可以减弱或消除蓝光对人眼造成的损害。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请第一种实施例提供的显示面板的剖视结构示意图；
图2是本申请第一种实施例提供的彩膜基板的剖视结构示意图；
图3是本申请第二种实施例提供的显示面板的剖视结构示意图；
图4是本申请第二种实施例提供的彩膜基板的剖视结构示意图；
图5为本申请第一种实施例提供的彩膜基板的制作方法的示意图；
图6为本申请第二种实施例提供的彩膜基板的制作方法的示意图。
其中，图中各附图标记：
1-彩膜基板；11-第一衬底基板；12-第一偏光片；13-彩色滤光层；131-黑矩阵图案；132-色阻图案；14-蓝光吸收薄膜；15-第一配向膜；16-柱状间隔物；
2-阵列基板；21-第二衬底基板；22-第二偏光片；23-薄膜晶体管器件电路；24-第二配向膜；
3-背光模组；
4-液晶层。
具体实施方式
为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以直接或者间接位于该另一个部件上。当一个部件被称为“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置为基于附图所示的方位或位置，仅是为了便于描述，不能理解为对本技术方案的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
为了说明本申请所述的技术方案，以下结合具体附图及实施例进行详细说明。
请参阅图1及图3，现对本申请提供的彩膜基板1进行说明。本实施例中的彩膜基板1包括第一衬底基板11，该第一衬底基板11为透明基板，具体可以是玻璃基板或者塑料基板等，可以根据具体需求进行选择。
具体地，进一步结合图2及图4，第一衬底基板11的上表面设置有第一偏光片12，第一衬底基板11的远离第一偏光片12的一侧设置有彩色滤光层13，其中，上表面指的是面向人眼的面。TFT-LCD通常采用白色背光，从背光模组3发出来的光经过TFT-LCD的彩色滤光层13转换成红绿蓝三基色，通过三基色混合成不同颜色的光便形成彩色图案，背光发出的白光是混合光，也就是我们能看见的可见光，其波长范围380nm～780nm，此外合成的彩色图案，其波长通常也分布在380-780nm，因此，包括背光及合成后的光线均包含400-450nm之间的高能短波蓝光，其中，435-445nm的光对人眼的伤害最大。
基于不同位置的蓝光吸收薄膜提供如下实施例：
实施例一：
进一步地，参见图2，该彩膜基板1还包括蓝光吸收薄膜14，蓝光吸收薄膜14设置于第一衬底基板11和彩色滤光层13之间。该蓝光吸收薄膜14可以有效地过滤掉400nm-450nm之间的高能短波蓝光，同时对于其他波长的光能够保持较高的穿透率，因此彩色滤光层13合成的图案在到达人眼时经过过滤，可以减弱或消除蓝光对人眼造成的损害。
需要说明的是，第一衬底基板11通常为无碱玻璃材质，但不可避免地含有Na+、K+、Mg2+等离子，将蓝光吸收薄膜14作为彩色滤光层13的基底，可以阻断第一衬底基板11中的金属离子扩散至彩色滤光层13中，进一步地阻断第一衬底基板11中的金属离子扩散至液晶层4，彩色滤光层13或者液晶层4中含有的金属离子是引起残像等信赖性不良的原因之一，故可提高产品使用过程的信赖性；蓝光吸收薄膜14具有不同于第一衬底基板11的折射率和雾度特性，可以减少光反射或扩散到阵列基板2侧，因阵列基板2侧的薄膜晶体管(TFT，ThinFilm Transistor)器件电路23通常为底栅结构，而TFT器件电路23对光敏感，如此可以弱化光照对TFT器件电路23的影响，提高了TFT器件电路23的工作稳定性。
具体地，在本实施例中，该蓝光吸收薄膜14材质为透明有机树脂，以此材料作为彩色滤光层13的基底材料，可以增强彩色滤光层13色阻材料的粘着力，提高产品使用过程的信赖性。该蓝光吸收薄膜14可以是聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯或者聚甲基丙烯酸甲酯等树脂材料。
实施例二：
进一步结合图4，蓝光吸收薄膜14设置于第一衬底基板11和第一偏光片12之间，该蓝光吸收薄膜14可以有效地过滤掉400nm-450nm之间的高能短波蓝光，同时对于其他波长的光能够保持较高的穿透率，因此彩色滤光层13合成的图案在到达人眼时经过过滤，可以减弱或消除蓝光对人眼造成的损害。
需要说明的是，在本实施例中，首先该蓝光吸收薄膜14材质为一种透明有机树脂，具有疏水性，同时光学稳定性和热学稳定性优良，以该材料作为第一衬底基板11和第一偏光片12之间的基底层，可以增强第一偏光片12的粘着力，同时保护第一偏光片12内部的三醋酸纤维素(TAC，Tri acetyl Cellulose)，三醋酸纤维素具有较强的吸水性，在湿热环境中容易收缩变形，通过设置具有疏水性的蓝光吸收薄膜14，从而可以提高产品使用过程的信赖性；其次，蓝光吸收薄膜14具有不同于第一衬底基板11和第一偏光片12的折射率和雾度特性，可以减少光反射或散射到阵列基板2侧，因阵列基板2侧TFT器件电路23通常为底栅结构，如此便可以弱化光照对TFT器件电路23的影响，提高TFT器件电路工作稳定性；最后，利用蓝光吸收薄膜14的雾度特性，可以改善反光和在大视角下的观看体验，防止大视角下的色偏。
在制作蓝光吸收薄膜14阶段，同样选取高穿透同时能够有效过滤蓝光的材料，对此需要对部分的材料特性做出要求，以下材料特性适用于上述任意实施例中的蓝光吸收薄膜14。其中，该蓝光吸收薄膜14使得400-450nm外的其他可见光平均透光率大于85％，优选地，该透光率大于90％，且该蓝光吸收薄膜14能够过滤400-450nm之间的短波蓝光，可吸收超过70％的该波段波长。
在一个实施例中，该蓝光吸收薄膜14经过固化成型后呈淡黄色，该蓝光吸收薄膜14的黄色指数为1-15。其中，该黄色指数是指高分子材料偏离白色的程度，或发黄的程度，黄色指数可用来控制某些产品质量或老化程度。在具体应用中，该蓝光吸收薄膜14的黄色指数为1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14或15。优选地，该蓝光吸收薄膜14的黄色指数为3-10，能够更好地吸收蓝光。其中，蓝光吸收薄膜14的黄色指数过大会影响其他波长的透过率，过小不能很好地吸收蓝光。
具体地，在本实施例中，现有的显示产品在其使用过程中不可避免存在老化、出现色差，利用蓝光吸收薄膜14的黄色指数特性，该蓝光吸收薄膜14的膜厚可以控制在1.5-3um，其黄色指数在3-10之间，因其具备一定黄色指数，产品在出厂前均需要确认光学品味，即基于带有蓝光吸收薄膜14的产品需确定光学品味，这样可以改善在产品长期使用过程中出现颜色老化、色差、品质恶化，提高产品的使用寿命。
在具体应用中，该蓝光吸收薄膜14的膜厚为1.5um、2.0um、2.5um或者3um，该蓝光吸收薄膜14的黄色指数为3、4、5、6、7、8、9或10，可以根据具体需求进行选择合适的组合。
在本申请的另一个实施例中，当蓝光吸收薄膜14设置于第一衬底基板11与彩色滤光层13之间时，可以将蓝光吸收薄膜14的膜厚控制在1.0-3.0um，以蓝光吸收薄膜14作为基底材质，有利于彩色滤光层13的不良修复工作，因为彩色滤光层13的不良修复通常采用激光烧蚀技术、研磨技术或者光阻滴注技术，而该蓝光吸收薄膜14和彩色滤光层13的材质均为一种透明有机树脂，在和彩色滤光层13同属有机树脂的基底上做修复，能够提高修补后的品质，提高修补的成功率。
进一步地，蓝光吸收薄膜14的雾度小于0.8％。其中，雾度指的是偏离入射光2.5°角以上的透射光强占总透射光强的百分数，雾度越大意味着薄膜光泽以及透明度尤其是成像度下降，雾度过小对蓝光的吸收能力也会变小，将雾度设置在上述范围内，即可以保证薄膜的光泽、透明度以及成像度，又可以保证该蓝光吸收薄膜14的蓝光吸收的效果。
在本申请的一个实施例中，该蓝光吸收薄膜14的雾度在0.1％-0.2％时，该蓝光吸收薄膜14的膜厚为1.5-2.0um。在具体应用中，该蓝光吸收薄膜14的雾度在0.1％、0.15％或者0.2％，该蓝光吸收薄膜14的膜厚为1.5um或者2.0um，可以根据具体需求选择蓝光吸收薄膜14的雾度和膜厚组合，如此可以达到60％以上的短波蓝光过滤能力，同时显示画面柔和，提高了观看品质。
在本申请的一个实施例中，利用蓝光吸收薄膜14的材料特性，该蓝光吸收薄膜14的膜厚可以适当增加到2.5-3.0um，该蓝光吸收薄膜14的雾度在0.4％-0.6％之间，在具体应用中，该蓝光吸收薄膜14的膜厚为2.5um或者3.0um，该蓝光吸收薄膜14的雾度为0.4％、0.45％、0.5％、0.55％或者0.6％，可以根据具体需求选择蓝光吸收薄膜14的雾度和膜厚进行组合，由于该蓝光吸收薄膜14具有一定的雾度，可以改善在大视角下的观看体验，防止大视角下的反光及色偏。
在本申请的一个实施例中，该蓝光吸收薄膜14具有大于300℃的玻璃转变温度，其中，玻璃转变温度指的是指玻璃态转变为高弹态所对应的温度。玻璃化转变是非晶态高分子材料固有的性质，是高分子运动形式转变的宏观体现，它直接影响到材料的使用性能和工艺性能，因此长期以来它都是高分子物理研究的主要内容。玻璃化温度(Tg)是分子链段能运动的最低温度，其高低与分子链的柔性有直接关系，分子链柔性越大，玻璃化温度就低；分子链刚性大，玻璃化温度就高，该蓝光吸收薄膜14有超过300℃的玻璃转变温度，可以保证在蓝光吸收薄膜14完成后的其他制程不受影响。
需要说明的是，如果选择在贴附第一偏光片12之间制作该蓝光吸收薄膜14，其玻璃转变温度要求在250℃以上即可，因后续不存在250℃以上的高温。其中，可以选择在阵列基板2和彩膜基板1对组后，或者贴附第一偏光片12之间制作蓝光吸收薄膜14，可以根据具体需求进行选择。
本申请还提供了一种彩膜基板1的制作方法，该制作方法用于制作上述任意实施例中的彩膜基板1。
基于彩膜基板1的不同制作方法提供如下实施例：
实施例一：
如图1、图2及图5所示，本申请提供的彩膜基板1的制作方法，包括：
步骤S1：如图5所示，在第一衬底基板11的下表面制备一层蓝光吸收薄膜14；
具体地，在本实施例中，提供第一衬底基板11，在第一衬底基板11的背离人眼的一侧设置有蓝光吸收薄膜14，其中，该设置方法可以在第一衬底基板11的下表面贴附一层蓝光吸收薄膜14。
当然，在其他实施例中，可以在第一衬底基板11上采用涂布设备在第一衬底基板11的下表面涂布一层蓝光吸收薄膜14，在涂布的过程中，可以通过调整蓝光吸收薄膜14的膜厚，通过光谱测量，选择合适的膜厚。优选地，膜厚控制在1.0-3.0um，该蓝光吸收薄膜14的蓝光过滤能力大于70％，可以有效防护对人眼造成损害。
步骤S2：如图5所示，在蓝光吸收薄膜14的背离第一衬底基板11的一侧制备一层彩色滤光层13。
具体地，在该步骤中，即在蓝色吸收薄膜的背离第一衬底基板11的一侧涂布黑矩阵材料，然后经过曝光和显影工艺，在第一衬底基板11上形成黑矩阵图案131；涂布一种色阻，然后经过曝光和显影工艺，在第一衬底基板11上形成了一层色阻图案132，接着再涂布另外一种色阻，经过同样工艺步骤，最后完成R、G和B三种色阻的图案，即形成彩色滤光层13；随后在彩色滤光层13上形成柱状间隔物16，最后再制作一层配向膜材料，配向膜配向可以采用光配向工艺或摩擦配向工艺，在此不做限制，若采用摩擦配向工艺，可以采用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，即形成第一配向膜15，以使液晶分子将来能够沿着配向层的摩擦方向排列，保证液晶分子排列的一致性。
需要说明的是，在配向膜制作完成之后，进行密封胶涂布，其目的是为了让彩膜基板1与阵列基板2粘合固定，同时也能防止液晶外流，随后将成盒后的液晶盒安装于背光模组3上。其中，该实施例中的阵列基板2包括第二衬底基板21、第二偏光片22、薄膜晶体管器件电路23以及第二配向膜24，在第二衬底基板21的上表面形成薄膜晶体管器件电路23、并在薄膜晶体管器件电路23上制作一层配向膜材料，配向膜配向可以采用光配向工艺或摩擦配向工艺，在此不做限制，若采用摩擦配向工艺，可以采用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，即形成第二配向膜24，以使液晶分子将来能够沿着配向层的摩擦方向排列，保证液晶分子排列的一致性，随后在第二衬底基板21的背面贴附第二偏光片22。
步骤S3：如图5所示，在第一衬底基板11的背离蓝光吸收薄膜14的一侧贴附一层第一偏光片12。
进一步地，在蓝光吸收薄膜14制备步骤S1中：
步骤S11：对蓝光吸收薄膜14进行预烘烤，该预烘烤的温度范围为70-100℃；
具体地，该预烘烤的温度为70℃、75℃、80℃、85℃、90℃、95℃或者100℃，可以根据具体需求进行选择，优选地，该预烘烤的温度为90℃，合适的温度能够更好地保护蓝光吸收薄膜14中的聚合物单体免受破坏，保持蓝光过滤能力的同时具备基底功能。
步骤S12：对蓝光吸收薄膜14进行固烤，该固烤的温度范围为210-240℃；
具体地，该固烤的温度为210℃、215℃、220℃、225℃、230℃、235℃或240℃，可以根据具体需求进行选择，优选地，固烤的温度为230℃，合适的温度能够更好地保护蓝光吸收薄膜14中的聚合物单体免收破坏，保持蓝光过滤能力的同时具备基底功能。
实施例二：
请参阅图3、图4及图6，本申请提供的彩膜基板1的制作方法，包括：
步骤S1：如图6所示，在第一衬底基板11的上表面制备一层蓝光吸收薄膜14；
具体地，在本实施例中，提供第一衬底基板11，在第一衬底基板11的朝向人眼的一侧设置有蓝光吸收薄膜14，其中，该制备方法可以在第一衬底基板11上贴附一层蓝光吸收薄膜14。
当然，在其他实施例中，可以在第一衬底基板11上采用涂布设备在第一衬底基板11上涂布一层蓝光吸收薄膜14，在涂布的过程中，可以通过调整蓝光吸收薄膜14的膜厚，通过光谱测量，选择合适的膜厚。优选地，膜厚控制在1.0-3.0um，该蓝光吸收薄膜14的蓝光过滤能力大于70％，可以有效防护对人眼造成损害。
步骤S2：如图6所示，在蓝光吸收薄膜14的背离第一衬底基板11的一侧制备一层第一偏光片12。
步骤S3：如图6所示，在第一衬底基板11的背离蓝光吸收薄膜14的一侧制备一层彩色滤光层13；
具体地，结合图3、图4及图6，在第一衬底基板11的背离蓝光吸收薄膜14的一侧涂布黑矩阵材料，然后经过曝光和显影工艺，在第一衬底基板11上形成黑矩阵图案131，涂布一种色阻，然后经过曝光和显影工艺，在第一衬底基板11上形成了一层色阻图案132，接着再涂布另外一种色阻，经过同样工艺步骤，最后完成R、G和B三种色阻的图案，即形成彩色滤光层13；随后在彩色滤光层13上形成柱状间隔物16，最后再制作一层配向膜材料，配向膜配向可以采用光配向工艺或摩擦配向工艺，在此不做限制，若采用摩擦配向工艺，可以采用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，即形成第一配向膜15，以使液晶分子将来能够沿着配向层的摩擦方向排列，保证液晶分子排列的一致性。
需要说明的是，在配向膜制作完成之后，进行密封胶涂布，其目的是为了让彩膜基板1与阵列基板2粘合固定，同时也能防止液晶外流，随后将成盒后的液晶盒安装于背光模组3上。其中，该实施例中的阵列基板2包括第二衬底基板21、第二偏光片22、薄膜晶体管器件电路23以及第二配向膜24，在第二衬底基板21的上表面形成薄膜晶体管器件电路23、并在薄膜晶体管器件电路23上制作一层配向膜材料，配向膜配向可以采用光配向工艺或摩擦配向工艺，在此不做限制，若采用摩擦配向工艺，可以采用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，即形成第二配向膜24，以使液晶分子将来能够沿着配向层的摩擦方向排列，保证液晶分子排列的一致性，随后在第二衬底基板21的背面贴附第二偏光片22。
进一步地，在蓝光吸收薄膜14制备步骤S1中：
步骤S11：对蓝光吸收薄膜14进行预烘烤，该预烘烤的温度范围为70-100℃；
具体地，该预烘烤的温度为70℃、75℃、80℃、85℃、90℃、95℃或者100℃，可以根据具体需求进行选择，优选地，该预烘烤的温度为90℃，合适的温度能够更好地保护蓝光吸收薄膜14中的聚合物单体免受破坏，保持蓝光过滤能力的同时具备基底功能。
步骤S12：对蓝光吸收薄膜14进行固烤，该固烤的温度范围为210-240℃；
具体地，该固烤的温度为210℃、215℃、220℃、225℃、230℃、235℃或240℃，可以根据具体需求进行选择，优选地，固烤的温度为230℃，合适的温度能够更好地保护蓝光吸收薄膜14中的聚合物单体免收破坏，保持蓝光过滤能力的同时具备基底功能。
本申请提供的彩膜基板1的制作方法的有益效果在于，通过制作上述任意实施例中的彩膜基板1，通过设置蓝光吸收薄膜14，该蓝光吸收薄膜14可以有效地过滤掉400nm-450nm之间的高能短波蓝光，同时对于其他波长的光能够保持较高的穿透率，因此彩色滤光层13合成的图案在到达人眼时经过过滤，可以减弱或消除蓝光对人眼造成的损害。
以上所述仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种彩膜基板，包括第一衬底基板、第一偏光片以及彩色滤光层，所述第一偏光片设置于所述第一衬底基板上，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
蓝光吸收薄膜，所述蓝光吸收薄膜设置于所述第一衬底基板和所述彩色滤光层之间，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够阻断所述第一衬底基板的金属离子扩散到所述彩色滤光层，或者所述蓝光吸收薄膜设置于所述第一衬底基板和所述第一偏光片之间，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够增强所述第一偏光片的粘着力，且用于保护所述第一偏光片内部的三醋酸纤维素；
其中，所述蓝光吸收薄膜为经过固化成型的透明有机树脂，所述蓝光吸收薄膜的折射率与所述第一衬底基板的折射率相异，所述蓝光吸收薄膜的雾度与所述第一衬底基板的雾度相异，用于减少光反射或扩散到阵列基板侧，所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.1％-0.2％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-2.0um；或者所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.4％-0.6％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为2.5-3.0um。
2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝光吸收薄膜的黄色指数为1-15。
3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝光吸收薄膜的黄色指数为3-10，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-3.0um。
4.如权利要求1至3任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝光吸收薄膜具有大于300℃的玻璃转变温度。
5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
提供第一衬底基板；
在所述第一衬底基板的下表面制备一层蓝光吸收薄膜，在所述蓝光吸收薄膜的背离所述第一衬底基板的一侧制备一层彩色滤光层，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够阻断第一衬底基板的金属离子扩散到所述彩色滤光层；或者
在所述第一衬底基板的上表面制备一层蓝光吸收薄膜，在所述蓝光吸收薄膜的背离第一衬底基板的一侧制备一层第一偏光片，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够增强第一偏光片的粘着力，且用于保护所述第一偏光片内部的三醋酸纤维素；
其中，所述蓝光吸收薄膜的折射率与所述第一衬底基板的折射率相异，所述蓝光吸收薄膜的雾度与所述第一衬底基板的雾度相异，用于减少光反射或扩散到阵列基板侧，所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.1％-0.2％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-2.0um；或者所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.4％-0.6％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为2.5-3.0um。
6.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述蓝光吸收薄膜的制备步骤中，在所述第一衬底基板上贴附所述蓝光吸收薄膜，或者在所述第一衬底基板上采用涂布方式制备出一层所述蓝光吸收薄膜。
7.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述蓝光吸收薄膜制备步骤中，对所述蓝光吸收薄膜进行预烘烤，所述预烘烤的温度范围为70～100℃；
对所述蓝光吸收薄膜进行固烤，所述固烤的温度范围为210～240℃。
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