CN113480566A - 一种含二苯基甲烷的有机硅单体及其制备的超高折射率半导体led封装材料 - Google Patents
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- CN113480566A CN113480566A CN202110833554.XA CN202110833554A CN113480566A CN 113480566 A CN113480566 A CN 113480566A CN 202110833554 A CN202110833554 A CN 202110833554A CN 113480566 A CN113480566 A CN 113480566A
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- 239000005022 packaging material Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 26
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title abstract description 19
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title abstract description 19
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 40
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 40
- -1 vinyl diphenylmethane silicon Chemical compound 0.000 claims abstract description 39
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims abstract description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 13
- DDCDEKHXBABHHI-UHFFFAOYSA-N acetylene cyclohexanol Chemical compound C1(CCCCC1)O.C#C DDCDEKHXBABHHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 22
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 22
- MUFTXXUPGWDJLU-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-enylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=C)C1=CC=CC=C1 MUFTXXUPGWDJLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 15
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 14
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 13
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- WJAVQPZUWCFKSH-UHFFFAOYSA-N benzhydryl(triethoxy)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C([Si](OCC)(OCC)OCC)C1=CC=CC=C1 WJAVQPZUWCFKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XXFJMDCSFFVEOY-UHFFFAOYSA-N benzhydryl(trimethoxy)silane Chemical compound C1(=CC=CC=C1)C(C1=CC=CC=C1)[Si](OC)(OC)OC XXFJMDCSFFVEOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 claims description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 claims description 3
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RNIXGGRLMOEPFG-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpenta-1,4-dien-3-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 RNIXGGRLMOEPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 claims description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- FIEBTXPFGLSBBJ-UHFFFAOYSA-N benzhydryl(trichloro)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C([Si](Cl)(Cl)Cl)C1=CC=CC=C1 FIEBTXPFGLSBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 3
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- LVGGQWKIBUDHNS-UHFFFAOYSA-N benzhydryl-dichloro-methylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C([Si](Cl)(Cl)C)C1=CC=CC=C1 LVGGQWKIBUDHNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MACBMYWTVIOSGT-UHFFFAOYSA-N benzhydryl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C([Si](C)(OC)OC)C1=CC=CC=C1 MACBMYWTVIOSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGUVYSKQPBATBX-UHFFFAOYSA-N benzylbenzene;hydrochloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 DGUVYSKQPBATBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- LTOKKZDSYQQAHL-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[4-(oxiran-2-yl)butyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCC1CO1 LTOKKZDSYQQAHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
- H01L33/56—Materials, e.g. epoxy or silicone resin
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/80—Siloxanes having aromatic substituents, e.g. phenyl side groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
- C08L2205/025—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure
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- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/03—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend
- C08L2205/035—Polymer mixtures characterised by other features containing three or more polymers in a blend containing four or more polymers in a blend
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- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
本发明公开了一种含二苯基甲烷的有机硅单体及其制备的超高折射率半导体LED封装材料,所述的含二苯基甲烷的有机硅单体,其化学式结构为:
Description
技术领域
本发明公开了半导体LED封装材料,具体地说,是一种一种超高折射率的半导体LED 封装材料,本发明还涉及该半导体LED封装材料的制备方法。
背景技术
LED半导体装置一般是由芯片、粘接剂、封装材料、荧光材料和热辐射材料构成。
在这些组件中,LED芯片通过其特有的p-n结构,当施加电流并且电子与空穴结合后产生光;粘接剂通常用于将其他材料粘接在一起,使芯片和封装物、封装物和基材、基材和散热片等之间起粘接固定作用;LED荧光材料是半导体装置的波长转换物质,吸收电子束、紫外线等的能量之后将所吸收的能量中所述的一部分作为可见光发射出去,以形成照明和显示所需的白光;封装材料基本功能是保护LED芯片和通过使光穿透且发射到外界。
目前,LED封装材料,一般使用的使环氧树脂和有机硅材料。近年来,在大多数情况下,有机硅封装材料,特别是苯基有机硅材料被用于高功率LED封装材料,与传统的环氧封装材料相比,有机硅材料对蓝光和紫外光更耐用,并且耐候性较高。然后由于其阻气性较差,可能会发生元器件、金属电极、反光银层的老化和腐蚀。
传统的环氧树脂由于其高透明性、足够的强度及刚度已经广泛应用于LED封装材料,但是近年来随着蓝光和紫光LED芯片的普及,环氧树脂由于其耐热性和耐光性的短板,在长期的光照条件下,环氧树脂会发生有机键的断裂重排,导致封装材料的光学性能劣化。
发明内容
为此,本发明的目的是提供一种含二苯基甲烷的有机硅封装材料,相对于传统的苯基封装材料而言,其有更高的折射率、更高的强度和刚度、更低的气体透过性,能够起到更好的保护LED封装芯片的作用。
本发明提供的第一个技术方案是这样的:
一种含二苯基甲烷的有机硅单体,其化学式结构为:
其中:R1、R2、R3代表相同或者不同的原子或者基团。
进一步的,上述的一种含二苯基甲烷的有机硅单体,所述的R1、R2、R3代表为可水解的卤素原子或者烷氧基基团的其中之一或者任意组合。
进一步的,上述的一种含二苯基甲烷的有机硅单体,所述的卤素原子为氯、溴的其中之一或者任意组合;所述的烷氧基基团为甲氧基、乙氧基、丙氧基、甲基、二苯基的其中之一或者任意组合。
本发明提供的第二个技术方案是这样的:
一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,依次通过下述步骤制备的:
1)称取10-30重量份第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂、5-35重量份的A乙烯基二苯基甲烷基硅树脂;2-3重量份第一含氢交联剂、1-2重量份第二含氢交联剂、总质量万分之一到千分之一乙炔环己醇、总质量3-10ppm催化剂;
2)将步骤1)称取的各个物质搅拌、混合均匀即得;
所述的A乙烯基二苯基甲烷基硅树脂为第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂、第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂的其中之一或者混合。
进一步的,上述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,所述的第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比2-3:1二苯基甲烷基三氯硅烷、乙烯基双封头加入甲苯中,搅拌混合均匀得预制混合物;
2)在室温下,将步骤1)得到的预制混合物缓慢滴加至由水、三乙胺、甲苯按照质量比 16-17:19-21:100混合而成混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于 50-65℃反应2-4h,冷却至室温后水洗至中性,脱低得第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂。
进一步的,上述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,所述的第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比2.2-3:1二苯基甲烷基三甲氧基硅烷、乙烯基双封头搅拌混合均匀得预制混合物;
2)在室温下,将步骤1)得到的预制混合物缓慢滴加至由水和三氟甲磺酸按照质量比 90-110:1混合而成的混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于50-60℃反应2-4h,冷却至室温后水洗至中性,脱低得第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂。
进一步的,上述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,所述的第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂通过下述步骤制备的:
1)向三口烧瓶中加入水90-120重量份、三乙胺110-130重量份、甲苯500-550重量份,并冷却至-5℃,逐渐滴加二苯基甲烷基三氯硅烷450-480重量份、乙烯基双封头170-200重量份、甲苯400-600重量份的混合液;1)滴加完毕后低于0℃搅拌08-1.2h,然后逐渐升温至 55-65℃反应2.5-3.5h,最后冷却至室温后水洗中中性,脱低获得第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂。
进一步的,上述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,所述的第一含氢交联剂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比2.5-3.5:1:2.2-3:2.5-3.5称取二(二苯基甲烷)基二氯硅烷、含氢双封头、甲苯、冰醋酸中,搅拌混合均匀得预制混合物;
2)将步骤1)得到的预制混合物在48-52℃反应22-25小时,蒸馏到大部分冰醋酸和甲醇,冷却至室温,加入去离子水,水洗至中性,脱低得到第一含氢交联剂。
进一步的,上述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,所述的第二含氢交联剂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比1.2-1.8:1:0.004-0.006:1.3-1.6称取二苯基甲烷基三乙氧基硅烷、含氢双封头、浓硫酸、甲苯,搅拌混合均匀得预制混合物;
2)在室温下,将步骤1)得到的预制混合物缓慢滴加至由水和甲苯按照质量比1:5-8 混合而成的混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于50-60℃反应2-4h,冷却至室温后水洗至中性,脱低得乙第二含氢交联剂。
本发明提供的最后一个技术方案:一种超高折射率的半导体LED封装材料是由上述方法制备得到的。
与现有技术相比,本发明提供的含二苯基甲烷的有机硅封装材料,有效解决现有LED芯片封装材料折射率低、气体阻隔性差的难题,具有更高的折射率、更高的强度和刚度、更低的气体透过性,能够起到更好的保护LED封装芯片的作用。
具体实施方式
下面通过实施例的方式进一步说明本发明,但并不构成对本发明的任何限制,任何人在本发明的权利要求范围内所做的有限次的修改仍在本发明的权利要求范围内。
实施例1
本发明提供的含二苯基甲烷的有机硅单体,其化学式结构为:
其中:R1、R2、R3代表相同或者不同的原子或者基团。
更具体地说,所述的R1、R2、R3代表为可水解的卤素原子或者烷氧基基团的其中之一或者任意组合。
所述的卤素原子为氯、溴的其中之一或者任意组合;所述的烷氧基基团为甲氧基、乙氧基、丙氧基、甲基、二苯基的其中之一或者任意组合。
比如:
合成方法举例:
(二苯基甲烷基)三氯硅烷合成方法:氯化二苯基甲烷(1mol)、镁粉(1.1mol)、溶剂四氢呋喃,少量碘单质作为引发剂,升温至50℃,滴加四氯化硅(5mol)、四氢呋喃的混合溶液,滴加完毕后反应5小时,冷却至室温,过滤滤渣,精馏得到产物;
甲基(二苯基甲烷基)二甲氧基硅烷合成方法:甲基(二苯基甲烷基)二氯硅烷(1mol)、甲醇 (3.2mol)混合升温至60℃,反应10小时,吸收掉生成的氯化氢气体,精馏得到产物;
二(二苯基甲烷基)二乙氧基硅烷合成方法:二(二苯基甲烷基)二氯硅烷(1mol)、乙醇(3.2mol)混合并升温至70℃,然后反应12小时,吸收掉生产的氯化氢气体,精馏得到产物。
需要说明的是,对于类似产品,反应条件相同,根据本领域常规技术手段替换对应合成底物基可以。
实施例2
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 30g,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A2 5g,第一含氢交联剂B1 3g,第二含氢交联剂B21g,γ-(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷0.59g,总质量万分之一的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂:3ppm。
实施例3
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 10g,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A235g,第一含氢交联剂B12g,第二含氢交联剂B22g,γ-(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷0.98g,总质量万分之二的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂3.5ppm。
实施例4
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 20g,第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A315g,第一含氢交联剂B13.5g,γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷0.35,总质量万分之二的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂5ppm。
实施例5
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 15g,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A210g,第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A318g,第一含氢交联剂B12g,第二含氢交联剂B22.5g,γ-(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷水解低聚物0.56g,总质量万分之二的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂3.9ppm。
实施例6
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 20.9g,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A25.5g,第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A325g,第一含氢交联剂B13.2g,第二含氢交联剂B21.7g,γ -(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷水解低聚物1.0g,总质量万分之二的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂4.5ppm。
实施例7
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 32g,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A25.7g,第一含氢交联剂B13g,第二含氢交联剂B21g,γ-(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷0.59g,总质量万分之一的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂3ppm
实施例8
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 22.9g,第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A318.3g,第一含氢交联剂B13.2g,γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷0.41,总质量万分之二的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂5ppm
实施例9
本发明提供的一种含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料,由下述重量份的组分混合而成的:
第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1 16.9g,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A212.3g,第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A3 5.3g,第一含氢交联剂B12.1g,第二含氢交联剂B22.4g,γ-(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷水解低聚物0.78g,总质量万分之一的乙炔环己醇,卡斯特铂金催化剂3.6ppm。
其中:
实施例2至实施例9中所述的第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1通过下述方法制得的:
称取二苯基甲烷基三氯硅烷(454.5g)、乙烯基双封头(186.4g)、甲苯(500g)搅拌混合均匀,逐渐滴加到水(81g)、三乙胺(101.19g)、甲苯(500g)的混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于60℃反应3小时,冷却至室温后水洗中中性,脱低获得第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1。
实施例2至实施例9中所述的第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A2通过下述方法制得的:
称取二苯基甲烷基三甲氧基硅烷(434.22g)、乙烯基双封头(186.4g)混合均匀,滴加到水(81g)、三氟甲磺酸(0.8g),滴加时控温不超过60℃,滴加完毕后控温60℃反应3 小时,冷却至室温加入甲苯水洗至中性,脱低得到乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A2。
实施例2至实施例9中所述的第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A3通过下述方法制得的:
向三口烧瓶中加入水(108g)、三乙胺(120.19g)、甲苯(530g),并冷却至-5℃,逐渐滴加二苯基甲烷基三氯硅烷(462.5g)、乙烯基双封头(186.4g)、甲苯(500g)混合液,滴加完毕后低于0℃搅拌1小时,然后逐渐升温至60℃反应3小时,最后冷却至室温后水洗中中性,脱低获得第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A3。
实施例2至实施例9中所述的第一含氢交联剂B1通过下述方法制得的:
称取二(二苯基甲烷)基二甲氧基硅烷(435.36g)、含氢双封头(134.32g)、甲苯(400g)、冰醋酸(450g)混合均匀,控温50℃反应24小时,蒸馏到大部分冰醋酸和甲醇,冷却至室温,加入去离子水,水洗至中性,脱低得到第一含氢交联剂B1。
实施例2至实施例9中所述的第二含氢交联剂B2通过下述方法制得的:
称取二苯基甲烷基三乙氧基硅烷(302.9g)、含氢双封头(268.64g)、浓硫酸(1.5g)甲苯(500g),滴加到水(50g)、甲苯(300g)的混合液中,滴加控温不超过60℃,滴加完毕控温60℃反应3小时,冷却至室温水洗至中性,脱低得到第二含氢交联剂B2。
实施例2至实施例9中所述的总质量为第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A1,第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A2,第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂A3,第一含氢交联剂B1,第二含氢交联剂B2,γ-(2,3-环氧丙基)丙基三甲氧基硅烷、卡斯特铂金催化总质量(如果对应实施例缺少相应组分,则无需计算该物质重量)。
为了证明本申请提供的技术方案效果,下面给出本申请提供的含二苯基甲烷的有机硅封装材料实验检测方法及其数据:
检测方法如下:
使用阿贝折射仪测试折射率,然后于150℃温度下固化1小时后测试水蒸气透过率,硬度等参数
检测数据如表1:
表1
折射率 | 硬度(邵氏D) | 水蒸气透过性(g/m<sup>2</sup>·天) | |
实施例2 | 1.6528 | 60 | 2.1 |
实施例3 | 1.6613 | 65 | 1.8 |
实施例4 | 1.6389 | 62 | 2.8 |
实施例5 | 1.6135 | 60 | 3.2 |
实施例6 | 1.6267 | 66 | 2.2 |
实施例7 | 1.6547 | 62 | 3.1 |
实施例8 | 1.6588 | 65 | 2.9 |
实施例9 | 1.6437 | 63 | 3.2 |
Claims (10)
2.根据权利要求1所述的一种含二苯基甲烷的有机硅单体,其特征在于,所述的R1、R2、R3代表为可水解的卤素原子或者烷氧基基团的其中之一或者任意组合。
3.根据权利要求2所述的一种含二苯基甲烷的有机硅单体,其特征在于,所述的卤素原子为氯、溴的其中之一或者任意组合;所述的烷氧基基团为甲氧基、乙氧基、丙氧基、甲基、二苯基的其中之一或者任意组合。
4.一种由权利要求1所述的含二苯基甲烷的有机硅单体制备超高折射率的半导体LED封装材料的方法,其特征在于,依次通过下述步骤制备的:
1)称取10-30重量份第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂、5-35重量份的A乙烯基二苯基甲烷基硅树脂;2-3重量份第一含氢交联剂、1-2重量份第二含氢交联剂、总质量万分之一到千分之一乙炔环己醇、总质量3-10ppm催化剂;
2)将步骤1)称取的各个物质搅拌、混合均匀即得;
所述的A乙烯基二苯基甲烷基硅树脂为第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂、第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂的其中之一或者混合。
5.根据权利要求4所述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,其特征在于,所述的第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比2-3:1二苯基甲烷基三氯硅烷、乙烯基双封头加入甲苯中,搅拌混合均匀得预制混合物;
2)在室温下,将步骤1)得到的预制混合物缓慢滴加至由水、三乙胺、甲苯按照质量比16-17:19-21:100混合而成混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于50-65℃反应2-4h,冷却至室温后水洗至中性,脱低得第一乙烯基二苯基甲烷基硅树脂。
6.根据权利要求4所述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,其特征在于,所述的第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比2.2-3:1二苯基甲烷基三甲氧基硅烷、乙烯基双封头搅拌混合均匀得预制混合物;
2)在室温下,将步骤1)得到的预制混合物缓慢滴加至由水和三氟甲磺酸按照质量比90-110:1混合而成的混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于50-60℃反应2-4h,冷却至室温后水洗至中性,脱低得第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂。
7.根据权利要求4所述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,其特征在于,所述的第二乙烯基二苯基甲烷基硅树脂通过下述步骤制备的:
1)向三口烧瓶中加入水90-120重量份、三乙胺110-130重量份、甲苯500-550重量份,并冷却至-5℃,逐渐滴加二苯基甲烷基三氯硅烷450-480重量份、乙烯基双封头170-200重量份、甲苯400-600重量份的混合液;1)滴加完毕后低于0℃搅拌08-1.2h,然后逐渐升温至55-65℃反应2.5-3.5h,最后冷却至室温后水洗中中性,脱低获得第三乙烯基二苯基甲烷基硅树脂。
8.根据权利要求4所述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,其特征在于,所述的第一含氢交联剂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比2.5-3.5:1:2.2-3:2.5-3.5称取二(二苯基甲烷)基二氯硅烷、含氢双封头、甲苯、冰醋酸中,搅拌混合均匀得预制混合物;
2)将步骤1)得到的预制混合物在48-52℃反应22-25小时,蒸馏到大部分冰醋酸和甲醇,冷却至室温,加入去离子水,水洗至中性,脱低得到第一含氢交联剂。
9.根据权利要求4所述的一种超高折射率的半导体LED封装材料的制备方法,其特征在于,所述的第二含氢交联剂通过下述步骤制备的:
1)按照质量比1.2-1.8:1:0.004-0.006:1.3-1.6称取二苯基甲烷基三乙氧基硅烷、含氢双封头、浓硫酸、甲苯,搅拌混合均匀得预制混合物;
2)在室温下,将步骤1)得到的预制混合物缓慢滴加至由水和甲苯按照质量比1:5-8混合而成的混合溶液中,滴加时控制温度不超过60℃,滴加完毕后控温于50-60℃反应2-4h,冷却至室温后水洗至中性,脱低得乙第二含氢交联剂。
10.一种超高折射率的半导体LED封装材料,其特征在于,由权利要求4-9-8任一所述的的方法制备得到。
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Date | Code | Title | Description |
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20211008 |