CN113448206A - 发光装置以及描绘装置 - Google Patents

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粕谷洋介
大塚勤
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Abstract

本发明提供发光装置以及描绘装置。发光装置具有:基体,其沿一个方向延伸;发光部,其在所述基体的表面侧沿所述一个方向错开配置有多个,其中,多个光源沿着所述一个方向被沿所述一个方向延伸的支承体支承;以及流路,其以包围所述发光部的至少一部分的方式配置于所述基体的表面侧,并且使空气沿着所述一个方向流动。

Description

发光装置以及描绘装置
技术领域
本公开涉及发光装置以及描绘装置。
背景技术
在下述日本特开2017-177664号公报中公开有曝光装置,该曝光装置具有:第1曝光头,其具有:多个第1发光元件,在第1方向上排列,并分别发出第1光;第1光学系统,在与所述第1方向交叉的第2方向上与所述多个第1发光元件相对配置,并分别对分别从所述多个第1发光元件发出的多个所述第1光进行成像;第1联轴器;以及第1基体,支承所述多个第1发光元件、所述第1光学系统以及所述第1联轴器;以及第2曝光头,其具有:多个第2发光元件,在所述第1方向上排列,并分别发出第2光;第2光学系统,在所述第2方向上与所述多个第2发光元件相对配置,并分别对分别从所述多个第2发光元件发出的多个所述第2光进行成像;第2联轴器,与所述第1联轴器嵌合;以及第2基体,支承所述多个第2发光元件、所述第2光学系统以及所述第2联轴器。在曝光装置中,所述第1联轴器设置于所述第1基体中的与所述第1光学系统的成像位置相应的第1位置,所述第2联轴器设置于所述第2基体中的与所述第2光学系统的成像位置相应的第2位置。
发明内容
本公开的目的在于,得到与在基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比减小发光装置的宽度方向的尺寸的发光装置以及描绘装置。
根据本公开的第1方案,提供一种发光装置,其具有:基体,其沿一个方向延伸;发光部,其在所述基体的表面侧沿所述一个方向错开配置有多个,其中,多个光源沿所述一个方向被沿所述一个方向延伸的支承体支承;以及流路,其以包围所述发光部的至少一部分的方式配置于所述基体的表面侧,并且使空气沿着所述一个方向流动。
根据本公开的第2方案,在所述基体中的所述发光部侧安装有罩,在所述罩与所述表面之间构成所述流路。
根据本公开的第3方案,所述罩设置于从侧面观察时与多个所述发光部重合的位置处。
根据本公开的第4方案,所述罩具有:侧壁部,其配置于所述基体的与所述一个方向交叉的宽度方向的端部侧;覆盖部,其覆盖所述发光部中的与所述基体相反的一侧的面;以及开口,其设置于所述覆盖部,并且使来自多个所述光源的光通过。
根据本公开的第5方案,在所述发光部设置有使来自多个所述光源的光通过的透镜面,所述侧壁部的高度比所述透镜面的高度高,并且所述覆盖部中的所述宽度方向的中央部侧比所述宽度方向的端部侧低。
根据本公开的第6方案,所述基体由金属块构成。
根据本公开的第7方案,所述支承体由金属块构成。
根据本公开的第8方案,所述发光部具有发光元件,所述发光元件配置在所述支承体中的与所述基体相反的表面侧。
根据本公开的第9方案,提供一种描绘装置,其具有:所述发光装置;以及区域,其在与所述一个方向交叉的方向上相对于所述发光装置相对移动,并且被照射来自所述发光装置的光且配置有感光材料。
根据本公开的第10方案,所述区域设置于沿周向旋转的圆筒状部件的表面。
(效果)
根据所述第1方案,与在基体的宽度方向外侧设置流路的情况相比,减小发光装置的宽度方向的尺寸。
根据所述第2方案,与在发光部安装有罩的情况相比,罩的安装结构变得简单。
根据所述第3方案,与从侧面观察时多个发光部的一部分从罩露出的情况相比,能够通过空气冷却多个发光部。
根据所述第4方案,与罩只具有配置于基体的宽度方向的端部侧的侧壁部的情况相比,能够使空气高效地沿一个方向流动。
根据所述第5方案,与覆盖部为水平的情况相比,罩不易与被照射物干涉。
根据所述第6方案,与基体为金属板的情况相比,从多个发光部的散热良好。
根据所述第7方案,与支承体为树脂的情况相比,从多个发光部向基体的散热良好。
根据所述第8方案,与发光元件配置在支承体的远离表面的位置处的情况相比,从发光元件的散热良好。
根据所述第9方案,与在发光部的基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比,能够实现描绘装置整体的小型化。
根据所述第10方案,在具有圆筒状部件的结构中,与在发光部的基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比,能够实现描绘装置整体的小型化。
附图说明
图1是示出具有第1实施方式所涉及的曝光装置的图像形成装置的概略图。
图2是以从上方观察的状态示出用于图像形成装置的曝光装置的结构图。
图3是示出曝光装置的一部分的立体图。
图4是以沿短边方向剖切的状态示出曝光装置的剖视图。
图5是以沿长度方向剖切的状态示出曝光装置的空气供给装置的侧剖视图。
图6是示出曝光装置的空气供给装置的水平剖视图。
图7是以沿短边方向剖切的状态示出第2实施方式所涉及的曝光装置的剖视图。
图8是以沿长度方向剖切的状态示出第2实施方式所涉及的曝光装置的空气供给装置的侧剖视图。
图9是示出第2实施方式所涉及的曝光装置的空气供给装置的水平剖视图。
图10是示出具有第3实施方式所涉及的发光装置的描绘装置的结构图。
具体实施方式
以下,对用于实施本公开的方式(以下,称作本实施方式。)进行说明。
〔第1实施方式〕
<图像形成装置10>
图1是示出具有第1实施方式所涉及的曝光装置40的图像形成装置10的结构的概略图。首先,对图像形成装置10的结构进行说明。接着,对用于图像形成装置10的曝光装置40进行说明。在此,图像形成装置10是描绘装置的一例,曝光装置40是发光装置的一例。作为一例,图像形成装置10是用多个颜色形成图像的图像形成装置,例如为特别要求高画质的商业印刷用的全彩打印机。
并且,图像形成装置10是与超过B3纵向进给时的记录介质P的宽度的宽度(即,超过364mm的宽度)对应的宽幅用的图像形成装置。作为一例,与作为A2纵向进给的420mm以上且作为B0横向进给的1456mm以下的尺寸的记录介质P对应。例如,图像形成装置10与作为B2横向进给的728mm对应。
图1所示的图像形成装置10是在记录介质上形成图像的图像形成装置的一例。具体地说,图像形成装置10是在记录介质P上形成调色剂像(图像的一例)的电子照片式的图像形成装置。调色剂是粉末的一例。更具体地说,图像形成装置10具有图像形成部14和定影装置16。以下,对图像形成装置10的各部分(图像形成部14以及定影装置16)进行说明。
<图像形成部14>
图像形成部14具有在记录介质P上形成调色剂图像的功能。具体地说,图像形成部14具有调色剂像形成部22和转印装置17。
<调色剂像形成部22>
图1所示的调色剂像形成部22为了按照每个颜色形成调色剂像而具有多个。在本实施方式中,设置有黄色(Y)、品红色(M)、青色(C)、黑色(K)共计4个颜色的调色剂像形成部22。图1所示的(Y)、(M)、(C)、(K)表示与上述各颜色对应的结构部分。
另外,由于各颜色的调色剂像形成部22除所使用的调色剂之外相同地构成,因此代表各颜色的调色剂像形成部22,在图1中对调色剂像形成部22(K)的各部分标注符号。
具体地说,各颜色的调色剂像形成部22具有向一个方向(例如图1中的逆时针方向)旋转的感光体鼓32。在此,感光体鼓32是圆筒状部件的一例,感光体鼓32的表面的感光体是配置有感光材料的区域的一例。而且,各颜色的调色剂像形成部22具有带电器23、曝光装置40以及显影装置38。
在各颜色的调色剂像形成部22中,带电器23使感光体鼓32带电。而且,曝光装置40对通过带电器23带电的感光体鼓32进行曝光,在感光体鼓32形成静电潜像。并且,显影装置38对通过曝光装置40形成于感光体鼓32的静电潜像进行显影,从而形成调色剂像。
感光体鼓32在外周保持如上所述形成的静电潜像并旋转,静电潜像被搬送到显影装置38。另外,在后面对曝光装置40的具体结构进行叙述。
<转印装置17>
图1所示的转印装置17是将在调色剂像形成部22中形成的调色剂像转印到记录介质P的装置。具体地说,转印装置17将各颜色的感光体鼓32的调色剂像以重合的方式一次转印到作为中间转印体的转印带24,并将该重合的调色剂像二次转印到记录介质P。具体地说,如图1所示,转印装置17具有转印带24、一次转印辊26以及二次转印辊28。
一次转印辊26是使各颜色的感光体鼓32的调色剂像在感光体鼓32与一次转印辊26之间的一次转印位置T1转印到转印带24的辊。在本实施方式中,通过在一次转印辊26与感光体鼓32之间施加一次转印电场,形成于感光体鼓32的调色剂像在一次转印位置T1转印到转印带24。
在转印带24中,调色剂图像从各颜色的感光体鼓32转印到外周面。具体地说,转印带24如下构成。如图1所示,转印带24呈环状,并且挂绕在多个辊39而被规定姿势。
例如多个辊39中的驱动辊39D通过驱动部(省略图示)旋转驱动,由此转印带24向箭头A方向环绕。另外,多个辊39中的图1所示的辊39B是与二次转印辊28相对的相对辊39B。
二次转印辊28是将转印到转印带24上的调色剂图像在相对辊39B与二次转印辊28之间的二次转印位置T2转印到记录介质P的辊。在本实施方式中,通过在相对辊39B与二次转印辊28之间施加二次转印电场,被转印到转印带24上的调色剂图像在二次转印位置T2转印到记录介质P。
<定影装置16>
图1所示的定影装置16是将通过二次转印辊28转印到记录介质P的调色剂像定影到该记录介质P的装置。具体地说,如图1所示,定影装置16具有作为加热部件的加热辊16A和作为加压部件的加压辊16B。在定影装置16中,通过加热辊16A以及加压辊16B对记录介质P进行加热以及加压,由此将形成于记录介质P的调色剂像定影到该记录介质P。
<曝光装置40>
接着,对作为本实施方式的主要部分的曝光装置40的结构进行说明。图2是以从上方观察的状态示出曝光装置40的俯视图。并且,图3是示出曝光装置40的一部分的立体图。在以下说明中,以图中所示的箭头X方向为曝光装置40的宽度方向并以箭头Y方向为曝光装置40的高度方向来进行说明。并且,将分别与装置宽度方向以及装置高度方向垂直的箭头Z方向设为曝光装置40的纵深方向。另外,由于上述的宽度方向以及高度方向是为了便于说明而规定的方向,因此曝光装置40的结构并不限定于这些方向。
(曝光装置40的整体结构)
首先,对曝光装置40的整体结构进行说明,接着,对曝光装置40的各部件进行说明。
如图2以及图3所示,曝光装置40具有:沿一个方向(本实施方式中为箭头Z方向)延伸的基体42;以及设置于基体42的箭头Y方向的一侧(图2以及图3中为上下方向的上侧)的多个发光部44。在本实施方式中,设置有3个沿基体42的一个方向延伸的发光部44。基体42为图2所示的俯视观察时呈矩形状的长条部件。发光部44分别为相同的结构,为图2所示的俯视观察时呈矩形状的长条部件。发光部44的一个方向(即,长度方向)的长度比基体42的一个方向(即,长度方向)的长度短。
作为一例,3个发光部44在基体42的一个方向(箭头Z方向)上错开配置,并且在与基体42的一个方向垂直的宽度方向、即基体42的短边方向(箭头X方向)上错开配置。曝光装置40沿感光体鼓32(参照图1)的轴向配置,曝光装置40的一个方向(箭头Z方向)的长度为感光体鼓32的轴向的长度以上。3个发光部44中的任意1个以上与感光体鼓32的表面的设置有感光体的区域相对。由此,从曝光装置40射出的光照射到感光体鼓32的表面。
在图2以及图3等中所示的曝光装置40中,以基体42中的设置有发光部44的一侧成为上下方向的上侧的方式进行图示,从发光部44朝向上侧照射光,但是在图1所示的图像形成装置10中,曝光装置40的上下方向颠倒。即,在图1中,曝光装置40以基体42中的设置有发光部44的一侧成为上下方向的下侧的方式配置,从发光部44朝向下侧的感光体鼓32照射光。
在本实施方式中,在从曝光装置40的上下方向上侧观察的状态下,3个发光部44配置成交错状(参照图2)。更具体地说,在基体42的一个方向(箭头Z方向)的两端部侧,在基体42的短边方向(箭头X方向)的一侧配置有2个发光部44。在基体42的一个方向(箭头Z方向)的中央部,在基体42的短边方向(箭头X方向)的另一侧配置有1个发光部44。从基体42的短边方向(箭头X方向)观察时,配置于基体42的短边方向(箭头X方向)的一侧的2个发光部44的端部和配置于基体42的短边方向(箭头X方向)的另一侧的1个发光部44的端部相互重合。即,从3个发光部44照射光的照射范围的一部分在基体42的一个方向(箭头Z方向)上重合。
并且,从基体42的一个方向(箭头Z方向)观察时,配置于基体42的短边方向(箭头X方向)的一侧的2个发光部44和配置于基体42的短边方向(箭头X方向)的另一侧的1个发光部44不重合。
并且,如图4所示,曝光装置40具有:罩50,以包围基体42上的3个发光部44的方式配置,并且在内部设置有流路122;以及空气供给装置120,向流路122供给空气。
并且,如图3所示,曝光装置40具有清洁发光部44的后述的透镜部68的清洁装置54。而且,如图4所示,曝光装置40具有:夹持在基体42与发光部44之间的多个间隔物56;以及将发光部44以存在多个间隔物56的状态固定于基体42的紧固部件58。紧固部件58例如具有螺旋状的槽,是通过该槽进行紧固的部件。换句话说,是具有螺纹机构的部件,例如为螺钉、螺栓、螺丝等。
另外,省略图示,在基体42的一个方向(箭头Z方向)的两端部设置有向上下方向上侧延伸的定位轴。定位轴通过与设置于感光体鼓32的两端的轴承部件接触,在照射方向上相对于感光体鼓32定位曝光装置40。
(基体42)
如图2~图4所示,基体42由长方体状的细长的部件构成。基体42配置在与感光体鼓32(图1)的轴向的总长相对的位置处。
在基体42的上下方向(箭头Y方向)上侧的表面42A设置有放入间隔物56的凹部80(参照图4)。作为一例,相对于1个发光部44,在一个方向(箭头Z方向)上隔着间隔而配置有多个间隔物56。例如,相对于1个发光部44配置有3个间隔物56。
凹部80具有:倾斜面80A,构成凹部80的底面,并且相对于基体42的表面42A倾斜;纵壁80B,配置于倾斜面80A的下行方向的端部;以及2个纵壁(省略图示),与倾斜面80A的两侧相对配置(参照图4)。作为一例,相对于在基体42的短边方向的一侧配置的2个发光部44的倾斜面80A和相对于在基体42的短边方向的另一侧配置的1个发光部44的倾斜面80A是相反的倾斜。在曝光装置40中,通过相反的倾斜的倾斜面80A以从配置于基体42的短边方向的一侧的2个发光部44和配置于基体42的短边方向的另一侧的1个发光部44朝向感光体鼓32(参照图1)的中心部照射光的方式进行调整。
在本实施方式中,基体42由金属块构成。本实施方式中的金属块不包括通过弯曲加工而构成形状的通常的金属板,是指用作曝光装置40的基体的形状中具有实质上无法进行弯曲加工的厚度的金属块体。作为一例,是相对于基体42的宽度的厚度为10%以上的金属块体。再换句话说,也可以由相对于基体42的宽度的基体42的厚度为20%以上且100%以下的金属块体构成。
以往的宽幅用的图像形成装置是要求与商业印刷用的全彩打印机相比高画质的黑白图面输出用,作为基体使用了金属板。另一方面,本实施方式的图像形成装置10是商业印刷用的全彩打印机,要求高画质。因此,为了抑制因基体42的挠曲而影响画质,使用了刚性比金属板高的金属块。
并且,基体42例如由钢铁或不锈钢构成。在此,基体42也可以由钢铁或不锈钢以外的金属块构成。例如,可以使用导热率比钢铁或不锈钢的导热率高且重量轻的铝。
并且,优选基体42的上下方向(箭头Y方向)的厚度比构成发光部44的支承体60的厚度大。由此,基体42的刚性(箭头Y方向的弯曲刚性)比发光部44的刚性大。基体42的上下方向(箭头Y方向)的厚度优选为5mm以上,更优选为10mm以上,进一步优选为20mm以上。
如图4所示,在基体42的与表面42A相反的一侧的背面42B形成有凹状部82,所述凹状部82朝向间隔物56侧、即凹部80侧切除而成。凹状部82分别设置在基体42的与凹部80对应的位置处。凹状部82从基体42的背面42B朝向基体42的短边方向(X方向)的中央部侧沿倾斜方向形成。例如,凹状部82在从基体42的背面42B观察时呈圆形状。凹状部82的内径比紧固部件58的头部58A的外形大。在凹状部82的底面82A设置有供紧固部件58的轴部58B贯通基体42的贯通孔84。贯通孔84向凹部80的倾斜面80A开口。
(发光部44)
如图4所示,3个发光部44如上所述为相同的结构。作为一例,基体42的短边方向(箭头X方向)的一侧的2个发光部44和基体42的短边方向(箭头X方向)的另一侧的1个发光部44在基体42的短边方向(箭头X方向)上对称配置。
如图3以及图4所示,发光部44具有:沿一个方向(箭头Z方向)延伸的支承体60;以及被支承体60的上下方向(箭头Y方向)的与基体42相反的一侧的面(本实施方式中为上下方向上侧的面)支承的发光元件基板62。在发光元件基板62设置有沿一个方向配置的多个光源64(参照图4)。在本实施方式中,光源64例如被构成为包含多个发光元件。作为一例,光源64是具有半导体基板和在该半导体基板上沿一个方向形成的多个发光元件的发光元件阵列。在本实施方式中,作为光源64的发光元件阵列沿一个方向呈交错状配置在发光元件基板62上。另外,光源64可以不是发光元件阵列,而是单一的发光元件。并且,各个发光元件由发光二极管、发光晶闸管以及激光元件等构成,在沿一个方向配置的状态下,作为一例具有2400dpi的分辨率。发光元件基板62是用于使多个光源64中的任意1个以上发光的基板。在图4中,只图示了设置于发光部44的1个光源64,省略了其他光源的图示。
并且,发光部44具有:设置于发光元件基板62的与支承体60相反的一侧的面的一对安装部66;以及以夹持在一对安装部66的上端部之间的状态保持的透镜部68。
一对安装部66以及透镜部68沿支承体60的一个方向(箭头Z方向)延伸(参照图3)。透镜部68配置在与多个光源64相对的位置处,透镜部68与多个光源64之间留有空间(参照图4)。在曝光装置40中,从多个光源64射出的光通过透镜部68,照射到作为照射对象物的感光体鼓32(参照图1)的表面。
支承体60由长方体状的部件构成。在本实施方式中,支承体60与基体42同样地由金属块构成。例如,支承体60由钢铁或不锈钢构成。在此,支承体60也可以由钢铁或不锈钢以外的金属块构成。例如,也可以是导热率比钢铁或不锈钢的导热率高且重量轻的铝的金属块。
在支承体60的基体42侧的面形成有供紧固部件58的轴部58B紧固的螺纹孔74(参照图6)。螺纹孔74设置在与基体42的贯通孔84相对的位置处。
在基体42的凹状部82的内部插入紧固部件58,在紧固部件58的轴部58B贯通了基体42的贯通孔84的状态下,紧固部件58的轴部58B隔着间隔物56而紧固于支承体60的螺纹孔74内。由此,发光部44通过紧固部件58从基体42的凹状部82的内部固定于基体42。在发光部44通过紧固部件58固定于基体42的状态下,在基体42与支承体60之间存在间隔物56。
如图4所示,在发光部44中,驱动基板72借助安装件70而安装于支承体60。驱动基板72沿一个方向(箭头Z方向)延伸。驱动基板72的一个方向的长度比支承体60的一个方向的长度短(参照图3)。驱动基板72是用于驱动发光部44的基板,例如使用ASIC基板(特定用途的集成电路、ASIC:application specific integrated circuit)等。
驱动基板72的面(即,板面)在基体42的短边方向(箭头X方向)上沿着支承体60的短边方向的内侧侧部60A配置(参照图7)。在支承体60的内侧侧部60A与驱动基板72的面(板面)之间通过安装件70而形成有间隙。即,通过安装件70以不直接接触发光部44中的支承体60的内侧侧部60A的状态安装有驱动基板72。
支承体60的内侧侧部60A为相对于基体42的表面42A向内侧倾斜的倾斜面。与内侧侧部60A同样地,驱动基板72的板面也相对于基体42的表面42A向内侧倾斜。
在3个发光部44各自的支承体60的内侧侧部60A分别设置有驱动基板72。
如图3所示,从侧面观察时,设置于一个发光部44的驱动基板72设置在不重合于与一个发光部44相邻的其他发光部44的位置处。
并且,在驱动基板72的一个方向(箭头Z方向)的中间部设置有与来自发光部44的外部的扁平电缆102电连接的连接器104。连接器104的连接口沿与驱动基板72的面(板面)交叉的方向配置。扁平电缆102的连接部能够在与驱动基板72的面(板面)交叉的方向上插入到连接器104内或者从连接器104中拔出。
与连接器104连接的扁平电缆102从驱动基板72向与支承体60相反的一侧延伸。在基体42中的与扁平电缆102连接于驱动基板72的位置对应的位置处形成有贯通部106,所述贯通部106沿上下方向(箭头Y方向)贯通。贯通部106在基体42的短边方向(箭头X方向)上设置在基体42中的驱动基板72的侧方侧且与具有该驱动基板72的发光部44相反的一侧的位置处(即,未配置有发光部44的位置)。扁平电缆102通过贯穿插入到基体42的贯通部106内而配置于基体42的背面42B侧。作为一例,也可以在基体42的背面42B侧设置有覆盖扁平电缆102的下部罩(省略图示)。
(间隔物56)
如图4所示,间隔物56在光源64的光轴方向上夹持在基体42与发光部44之间。作为一例,间隔物56为板状,由1个部件(即单一的部件)构成。在本实施方式中,从光源64的光轴方向观察时,间隔物56呈U字状。间隔物56具有主体部56A和从主体部56A的一边切除而成的凹陷部56B。
间隔物56配置在基体42的凹部80的倾斜面80A。在间隔物56配置于倾斜面80A的位置处,间隔物56的厚度为凹部80的深度以上的厚度。紧固部件58将发光部44以对间隔物56施加压缩载荷的形态固定于基体42。
(罩50)
如图4~图6所示,罩50安装于基体42中的3个发光部44侧,在罩50的内部且与基体42的表面42A之间构成流路122。从曝光装置40的侧面观察时(从箭头X方向观察时),罩50沿着基体42的一个方向(箭头Z方向)配置,设置于与3个发光部44重合的位置处。罩50的沿一个方向(箭头Z方向)的长度比基体42的一个方向的长度长(参照图5)。罩50以包围在基体42的表面42A侧配置的3个发光部44整体的方式配置,并且从基体42的一个方向的两端部向一个方向的外侧延伸。
如图4所示,罩50具有一对侧壁部50A,所述一对侧壁部50A配置于基体42的与一个方向交叉的宽度方向、即短边方向(箭头X方向)的端部侧。而且,罩50具有覆盖部50B,所述覆盖部50B在一对侧壁部50A的上下方向上侧的上端部51弯曲而向宽度方向内侧延伸,并且覆盖发光部44。
侧壁部50A在基体42的宽度方向的端部侧沿着上下方向(箭头Y方向)配置。作为一例,侧壁部50A的比基体42靠上下方向上侧的上壁部90A相对于上下方向下侧的下壁部90B弯曲,并且上壁部90A向基体42的宽度方向内侧倾斜。一对侧壁部50A的下壁部90B与基体42的宽度方向两侧的侧面42C接触,通过紧固部件86安装于基体42的侧面42C。
在沿图4所示的短边方向的截面观察时,覆盖部50B弯曲成凹状。作为一例,覆盖部50B沿感光体鼓32的表面弯曲。在覆盖部50B中的与发光部44的透镜部68相对的位置处设置有开口52。在本实施方式中,在覆盖部50B中的与3个发光部44的透镜部68相对的位置处分别设置有开口52(参照图2)。开口52为矩形状,在一个方向(箭头Z方向)上沿着透镜部68设置。开口52的一个方向的长度为透镜部68的一个方向的长度以上。
在发光部44中,来自多个光源64的光经由透镜部68而通过覆盖部50B的开口52。即,覆盖部50B为通过开口52防止切断来自发光部44的多个光源64的光的结构。
在本实施方式中,罩50的侧壁部50A的上端部51的上下方向(箭头Y方向)的高度比发光部44中的透镜部68的上端的透镜面68A的高度高。而且,覆盖部50B的宽度方向(即,箭头X方向)的中央部侧的高度比覆盖部50B的宽度方向的端部侧(即上端部51)的高度低。
并且,作为一例,覆盖部50B的开口52的高度与发光部44中的透镜部68的透镜面68A的高度等同。另外,代替该结构,覆盖部50B的开口52的高度可以比透镜面68A的高度高,也可以稍微低于透镜面68A的高度。通过将覆盖部50B的开口52的高度设成与透镜面68A的高度同等或其以上,与覆盖部50B的开口52的高度比透镜面68A的高度低的情况相比,能够通过覆盖部50B保护透镜面68A。
(空气供给装置120)
如图5以及图6所示,空气供给装置120具有:流路122,配置在罩50的内部中的与基体42的表面42A之间;以及风扇124,配置在罩50的一个方向(箭头Z方向)的一端部。作为一例,在罩50的一个方向(箭头Z方向)的一端部侧设置有倾斜筒部125,所述倾斜筒部125从基体42延长,并且以从基体42的表面42A向斜下方侧扩大的方式倾斜,倾斜筒部125的一个方向的外侧端部与矩形状的筒部126相连。风扇124安装于筒部126。并且,在罩50的一个方向(箭头Z方向)的另一端部(即,与风扇124相反的一侧的端部)设置有从基体42延长的筒部127。在筒部127的一个方向的外侧端部设置有排出空气的排出口128。
风扇124通过旋转而向罩50的内部的流路122内导入空气。然后,通过风扇124的旋转,沿着流路122的一个方向(箭头Z方向)供给空气。
在空气供给装置120中,通过风扇124的旋转而向罩50的内部的流路122内导入空气。由此,空气在罩50的内部的流路122内沿着一个方向(箭头Z方向)朝向与风扇124相反的一侧的另一端部侧流动,从排出口128排出空气。由于流路122以包围3个发光部44的方式配置,因此通过空气沿着一个方向流动来冷却3个发光部44。
<作用以及效果>
接着,对本实施方式的作用以及效果进行说明。
在曝光装置40设置有:基体42,沿一个方向(箭头Z方向)延伸,并由金属块构成;以及3个发光部44,在沿一个方向延伸的支承体60支承有沿一个方向配置的多个光源64(参照图6)。
在曝光装置40中,基体42遍及感光体鼓32的轴向的总长而配置。并且,3个发光部44在基体42的一个方向上错开配置,3个发光部44中的任意1个以上与感光体鼓32的轴向上的设置有感光体的区域相对。在曝光装置40中,通过来自发光部44的光照射到感光体鼓32,在感光体鼓32的设置有感光体的区域形成静电潜像。
在上述的曝光装置40中,3个发光部44沿一个方向(箭头Z方向)错开配置于基体42,与发光部44单体的一个方向(箭头Z方向)的长度相比,基体42的一个方向(箭头Z方向)的长度长。
这样,在多个发光部设置于基体的结构中,由分别设置于多个发光部的驱动基板产生的发热变多,有时因各元件的热膨胀而导致画质下降。
在本实施方式的曝光装置40中,以包围基体42的表面42A侧的3个发光部44的方式配置有罩50,在罩50的内部设置有流路122。而且,通过风扇124的旋转而向流路122内导入空气,空气在流路122内沿着一个方向(箭头Z方向)流动。由此,配置在流路122的内部的3个发光部44通过空气冷却。因此,在曝光装置40中,与不使空气流过3个发光部44的周围的结构相比,能够抑制因发光部44的热量所产生的各元件的膨胀而导致画质下降。
并且,在上述的曝光装置40中设置有流路122,所述流路122以包围发光部44的方式配置于基体42的表面42A侧,并且使空气沿着一个方向流动。因此,在曝光装置40中,与在基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比,能够减小曝光装置40的宽度方向的尺寸。
并且,在曝光装置40中,在基体42中的发光部44侧安装有罩50,在所述罩50与基体42的表面42A之间构成流路122。因此,在曝光装置40中,与在发光部安装有罩的情况相比,罩50的安装结构简单。
并且,在曝光装置40中,罩50设置于从侧面观察时与3个发光部44重合的位置处。因此,在曝光装置40中,与从侧面观察时多个发光部的一部分从罩露出的情况相比,能够通过空气冷却3个发光部44。
并且,在曝光装置40中,罩50具有:侧壁部50A,配置在基体42的宽度方向的端部侧;以及覆盖部50B,覆盖发光部44中的与基体42相反的一侧的面。在覆盖部50B设置有使来自发光部44的多个光源64的光通过的开口52。因此,在曝光装置40中,与罩只具有配置于基体的宽度方向的端部侧的侧壁部的情况相比,能够使空气高效地沿着一个方向(箭头Z方向)流动。
并且,在曝光装置40中,罩50的侧壁部50A的高度比发光部44的透镜部68的上端的透镜面68A的高度高,并且覆盖部50B中的宽度方向的中央部侧比宽度方向的端部侧低。因此,在曝光装置40中,与覆盖部为水平的情况相比,罩不易与作为被照射物的感光体鼓32干涉。而且,在曝光装置40中,与覆盖部为水平的情况相比,调色剂等粉末不易附着于透镜面68A。
并且,在曝光装置40中,基体42由金属块构成。因此,在曝光装置40中,与基体为金属板的情况相比,从3个发光部的散热良好。
并且,在曝光装置40中,发光部44的支承体60由金属块构成。因此,在曝光装置40中,与支承体为树脂的情况相比,从3个发光部向基体42的散热良好。
并且,在曝光装置40中,在支承体60中的与基体42相反的表面侧配置有发光元件基板62,在发光元件基板62设置有多个光源64。因此,在曝光装置40中,与发光元件配置于支承体的远离表面的位置处的情况相比,从发光元件基板62的散热良好。
并且,在图像形成装置10中设置有:曝光装置40;以及感光体鼓32,在与一个方向(Z方向)交叉的方向上相对于曝光装置40相对移动,并且被照射来自曝光装置40的光。在感光体鼓32的表面设置有供感光材料配置的区域。因此,在图像形成装置10中,与在发光部的基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比,能够实现图像形成装置10整体的小型化。
并且,在图像形成装置10中,配置有感光材料的区域设置于作为沿周向旋转的圆筒状部件的感光体鼓32的表面。因此,在图像形成装置10中,在具有感光体鼓32的结构中,与在发光部的基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比,能够实现图像形成装置10整体的小型化。
〔第2实施方式〕
接着,对第2实施方式的曝光装置进行说明。另外,在第2实施方式中,在具有与第1实施方式相同的构成要素、部件等的情况下,标注同一符号而省略详细的说明,以不同点为中心进行说明。
图7是以沿短边方向剖切的状态示出第2实施方式的曝光装置140的剖视图。图8是以沿长度方向剖切的状态示出第2实施方式的曝光装置140的侧剖视图。并且,图9是示出第2实施方式的曝光装置140的水平剖视图。如图7~图9所示,曝光装置140具有:罩142,以包围基体42的表面42A侧的3个发光部44的方式配置;以及空气供给装置150,沿着一个方向(箭头Z方向)向罩142的内部的流路152供给空气。在曝光装置140中,只变更了罩142以及空气供给装置150,其他结构与第1实施方式的曝光装置40相同。另外,为了易于理解曝光装置140的结构,图7~图9设成了示意性的结构图。
从曝光装置140的侧面观察时(从箭头X方向观察时),罩142沿着基体42的一个方向配置,设置于与3个发光部44重合的位置处(参照图8以及图9)。罩142的沿一个方向(箭头Z方向)的长度比基体42的一个方向的长度长。
如图7所示,罩142具有一对侧壁部142A,所述一对侧壁部142A配置在与基体42的一个方向(箭头Z方向)交叉的宽度方向、即短边方向(箭头X方向)的端部侧。而且,罩142具有覆盖部142B,所述覆盖部142B从一对侧壁部142A的上端部向宽度方向内侧延伸,并且覆盖发光部44。
侧壁部142A在基体42的宽度方向的端部侧沿上下方向(箭头Y方向)延伸。作为一例,侧壁部142A的比基体42靠上下方向上侧的上壁部相对于下壁部弯曲,并且上壁部向基体42的宽度方向内侧倾斜。一对侧壁部142A的下端部通过未图示的紧固部件安装于基体42的侧面42C。
在本实施方式中,覆盖部142B为平面状。作为一例,覆盖部142B的板面沿着水平方向配置。在覆盖部50B中的与3个发光部44的透镜部68相对的位置处分别设置有开口144。开口144为矩形状,在一个方向(箭头Z方向)上沿着透镜部68设置。由此,从多个光源64通过透镜部68的光通过覆盖部142B的开口144。
在本实施方式中,覆盖部142B的开口144的高度与透镜部68的上端的透镜面68A的高度相等。另外,代替该结构,覆盖部142B的开口144的高度可以稍微低于透镜面68A的高度,也可以比透镜面68A的高度高。
如图8以及图9所示,空气供给装置150具有:流路152,配置在罩142的内部中的与基体42的表面42A之间;以及3个风扇154,配置在罩142的侧壁部142A中的与3个发光部44相对的位置处。在罩142的一个方向(箭头Z方向)的两端部设置有从基体42的一个方向的两端部延长的筒部155。在筒部155的一个方向的外侧端部形成有排出空气的排出口156。在本实施方式中,风扇154设置于与在发光部44的宽度方向的内侧侧部设置的驱动基板72相对的位置处。
在空气供给装置150中,通过3个风扇154的旋转而向罩142的内部的流路152内导入空气。在本实施方式中,由于风扇154设置在与发光部44的驱动基板72相对的位置处,因此空气被喷吹到发光部44的驱动基板72侧。而且,空气在罩142的内部的流路152内朝向一个方向(箭头Z方向)的两侧分开流动,并从流路152的一个方向的两端部的排出口156排出。
在上述的曝光装置140中,除了与第1实施方式的曝光装置40相同的结构所带来的作用以及效果之外,还具有以下作用以及效果。
在曝光装置140中,风扇154设置在与发光部44的驱动基板72相对的位置处,通过风扇154的旋转而向发光部44的驱动基板72侧喷吹空气。因此,在曝光装置140中,相比于风扇设置在与发光部的驱动基板的相反侧的面相对的位置处的情况,高效地冷却驱动基板72。
另外,在第2实施方式的曝光装置140中,罩142的覆盖部142B为平面状,但是也可以与第1实施方式的曝光装置40同样地为沿着感光体鼓32的表面弯曲成凹状的形状。
〔第3实施方式〕
在图10中示出了具有第3实施方式所涉及的发光装置202的描绘装置200。另外,对与前述的第1实施方式相同的结构部分标注同一编号而省略其说明。
如图10所示,描绘装置200具有:发光装置202;以及沿着发光装置202的长度方向配置并且沿周向旋转的圆筒状部件204。
发光装置202为与第1实施方式的曝光装置40相同的结构。
圆筒状部件204具有圆筒部204A和向圆筒部204A的两侧延伸的轴部204B。轴部204B被未图示的框架支承为能够旋转,通过轴部204B的旋转,圆筒部204A沿周向旋转。
在圆筒部204A的表面安装有基板206。在基板206的表面设置有供感光材料配置的区域206A。作为一例,基板206是在胶版印刷的制版工序中使用的计算机直接制版(CTP)用的板。并且,作为一例,配置有感光材料的区域206A是涂布有光阻剂等感光材料的区域。
在描绘装置200中,一边使圆筒状部件204旋转,一边从发光装置202向基板206的配置有感光材料的区域206A照射预先规定的图案的光。由此,基板206的配置有感光材料的区域206A被描绘成规定的图案。之后,对基板206进行显影,由此做成在胶版印刷装置中使用的印版。另外,作为该情况的描绘装置200的光源,作为一例,能够使用激光元件。
在上述的发光装置202中,除了与第1实施方式的曝光装置40相同的结构所带来的作用以及效果之外,还具有以下作用以及效果。
在具有上述的发光装置202的描绘装置200中,与在发光部的基体的宽度方向外侧设置流路的情况相比,能够实现描绘装置200整体的小型化。
并且,根据描绘装置200,在具有圆筒状部件204的结构中,与在发光部的基体的宽度方向外侧设置有流路的情况相比,能够实现描绘装置200整体的小型化。
另外,在描绘装置200中,发光装置202也可以代替与第1实施方式的曝光装置40相同的结构而变更为与第2实施方式的曝光装置140相同的结构。
〔补充说明〕
第1、第2实施方式的曝光装置以及第3实施方式的发光装置在基体配置有3个发光部,但是本公开并不限定于该结构。例如,可以是在基体配置有1个发光部的方式,也可以是在基体配置有2个发光部的方式,或者还可以是在基体配置有4个以上发光部的方式。并且,配置于基体的多个发光部的位置也能够适当地设定。
并且,在第1、第2实施方式的曝光装置以及第3实施方式的发光装置中,基体由金属块构成,但是本公开并不限定于此。基体的材料或形状能够变更。例如,基体可以由树脂构成,或者也可以由金属板等其他金属材料构成。并且,发光部的结构元件或发光部的结构元件的形状等能够变更。发光部的支承体由金属块构成,但是本公开并不限定于此。支承体的材料或形状能够变更。例如,支承体可以由树脂构成,或者也可以由金属板等其他金属材料构成。
并且,在第1、第2实施方式的曝光装置以及第3实施方式的发光装置中,以覆盖3个发光部44整体的方式配置有流路,但是也可以以包围发光部的至少一部分的方式设置有流路。并且,构成流路的罩的形状能够变更。例如,罩可以是梯形、矩形状或穹顶状中的任一个。并且,罩例如也可以是设置有与基体的表面接触的弯曲部并通过弯曲部安装于基体的表面的结构。
并且,在第1、第2实施方式的曝光装置以及第3实施方式的发光装置中,通过风扇向流路内导入空气,使空气沿着一个方向流动,但是本公开并不限定于此。例如,也可以设成通过风扇吸引空气来使空气沿着流路的一个方向流动的结构。
在第3实施方式的描绘装置200中,从发光装置202向安装于圆筒状部件204的圆筒部204A的基板206照射光,但是本公开并不限定于该结构。例如,也可以是如下结构:将基板配置在平板状的工作台,使发光装置和工作台在与发光装置的一个方向交叉的方向上相对移动,从发光装置向基板照射光。
并且,在第3实施方式的描绘装置200中,基板206为在胶印印刷的制版工序中使用的CTP用的板,从发光装置202向基板206的配置有感光材料的区域206A照射光,但是本公开并不限定于该结构。例如,上述的发光装置以及描绘装置能够用于制造印刷配线基板(PWB:printed wiring board)时的曝光。例如,也可以不使用光掩模而直接对涂布有光阻剂等感光材料的基板进行描绘来制造印刷配线基板。作为所使用的基板,可以是刚性基板,也可以是柔性基板。在柔性基板的情况下,也可以在固定于图10的圆筒状部件204的状态下,一边旋转一边描绘。
而且,上述的发光装置以及描绘装置能够用于适用光刻法的部件的用途,例如:液晶显示装置(LCD:liquid crystal display)的制造工序中的彩色滤光片的形成;薄膜晶体管(TFT:thin film transistor)的制造工序中的干膜抗蚀剂(DFR)的曝光;等离子显示板(PDP)的制造工序中的干膜抗蚀剂(DFR)的曝光;半导体元件的制造工序中的光阻剂等感光材料的曝光;胶印印刷以外的凹版印刷等其他印刷的制版工序中的光阻剂等感光材料的曝光;或钟表元件的制造工序中的感光材料的曝光。在此,光刻法是指通过将配置有感光材料的物质的表面曝光成图案状而生成由曝光的部分和未曝光的部分构成的图案的技术。
并且,上述的发光装置以及描绘装置既能够使用通过曝光而直接记录信息的光子模式感光材料,又能够使用通过曝光所产生的热量来记录信息的热模式感光材料。并且,作为描绘装置200的光源,能够按照曝光对象来使用LED元件或激光元件。
另外,关于特定的实施方式对本公开进行了详细说明,但是本公开并不限定于所述实施方式,作为本领域技术人员明确可知,在本公开的范围内能够采用其他各种各样的实施方式。

Claims (10)

1.一种发光装置,其中,该发光装置具有:
基体,其沿一个方向延伸;
发光部,其在所述基体的表面侧沿所述一个方向错开配置有多个,其中,多个光源沿所述一个方向被沿所述一个方向延伸的支承体支承;以及
流路,其以包围所述发光部的至少一部分的方式配置于所述基体的表面侧,并且使空气沿着所述一个方向流动。
2.根据权利要求1所述的发光装置,其中,
在所述基体中的所述发光部侧安装有罩,在所述罩与所述表面之间构成所述流路。
3.根据权利要求2所述的发光装置,其中,
所述罩设置于从侧面观察时与多个所述发光部重合的位置处。
4.根据权利要求2或3所述的发光装置,其中,
所述罩具有:
侧壁部,其配置于所述基体的与所述一个方向交叉的宽度方向的端部侧;
覆盖部,其覆盖所述发光部中的与所述基体相反的一侧的面;以及
开口,其设置于所述覆盖部,使来自多个所述光源的光通过。
5.根据权利要求4所述的发光装置,其中,
在所述发光部设置有使来自多个所述光源的光通过的透镜面,
所述侧壁部的高度高于所述透镜面的高度,并且所述覆盖部中的所述宽度方向的中央部侧低于所述宽度方向的端部侧。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的发光装置,其中,
所述基体由金属块构成。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的发光装置,其中,
所述支承体由金属块构成。
8.根据权利要求7所述的发光装置,其中,
所述发光部具有发光元件,所述发光元件配置在所述支承体中的与所述基体相反的表面侧。
9.一种描绘装置,其中,该描绘装置具有:
权利要求1至8中任意一项所述的发光装置;以及
区域,其在与所述一个方向交叉的方向上相对于所述发光装置相对移动,并且被照射来自所述发光装置的光且配置有感光材料。
10.根据权利要求9所述的描绘装置,其中,
所述区域设置于沿周向旋转的圆筒状部件的表面。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0590483U (ja) * 1992-05-21 1993-12-10 株式会社リコー 発光装置
KR0148425B1 (ko) * 1994-11-12 1998-12-01 김광호 화상형성 장치의 방전기 오염방지 장치
JP2008149463A (ja) 2006-12-14 2008-07-03 Seiko Epson Corp 電気光学装置および画像形成装置
US7837369B2 (en) * 2007-01-22 2010-11-23 Seiko Epson Corporation Light-emitting device, image-printing device, and manufacturing method of sealing member
JP5315672B2 (ja) 2007-11-15 2013-10-16 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置およびプリントヘッド
JP6582376B2 (ja) * 2014-09-05 2019-10-02 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置
JP2017177664A (ja) 2016-03-31 2017-10-05 株式会社沖データ 露光ヘッド、露光装置およびその製造方法、受光ヘッド、受光装置およびその製造方法
JP2019056732A (ja) 2017-09-20 2019-04-11 富士ゼロックス株式会社 画像形成装置

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