CN113419385B - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明属于显示技术领域,公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,阵列基板包括显示区与围绕显示区相对的两侧设置的非显示区;非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,第一阵列走线区的内边缘贴近显示区的外边缘设置,第二阵列走线区的内边缘贴近第一阵列走线区的外边缘设置;彩膜玻璃基板设置在阵列基板上,彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与第二阵列走线区的内边缘对齐。本发明显示面板的设置方式使得阵列基板的GOA区域中数据总线上方无彩膜玻璃基板,解决了显示面板的电容负载过大的问题,有利于输入波形的优化,有利于显示装置的机型改进。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
阵列基板行驱动技术(Gate driver On Array,GOA)直接将闸极驱动电路(GateDriver IC)制作在阵列基板上,主要优点是可以免去Gate Driver IC,降低成本。一般的PSA(Polymer Sustained Alignment,聚合物持续对准)型或PSVA(Polymer StabilizedVertical Alignment,聚合物稳定的垂直排列液晶)型的GOA电容都设置在数据总线、薄膜晶体管及扫描线所在的区域,如何降低GOA产品的电容负载成为重要课题。
上述内容仅用于辅助理解本发明的技术方案,并不代表承认上述内容是现有技术。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,旨在解决现有技术中显示面板的电容负载过大技术问题。
为实现上述目的,本发明提供了一种显示面板,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,
所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;
所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐。
可选地,所述显示面板还包括位于所述阵列基板与所述彩膜玻璃基板之间液晶层,及设置在液晶层边缘的边框胶;
其中,所述边框胶的外边缘与所述彩膜玻璃基板的外边缘对齐。
可选地,所述显示面板还包括绝缘层;其中,
所述绝缘层包覆所述第二阵列走线区,所述绝缘层的外边缘与所述阵列基板的外边缘对齐,所述绝缘层的内边缘与所述边框胶的外边缘对齐。
可选地,所述彩膜玻璃基板包括玻璃基板及设置在所述玻璃基板一侧的ITO导电薄膜;
其中,所述ITO导电薄膜朝向所述阵列基板设置。
可选地,其特征在于,所述阵列基板具体包括:薄膜晶体管衬底及设置在所述薄膜晶体管衬底上的所述显示区与所述非显示区。
可选地,所述显示区包括多行平行排列的扫描线与多列平行排列的数据线;所述数据线与所述扫描线垂直交叉设置。
可选地,所述第一阵列走线区包括静电保护区与门极驱动架构区;其中,
所述门极驱动架构区的内边缘贴近所述静电保护区的外边缘,所述静电保护区的内边缘与显示区的外边缘贴近;
所述彩膜玻璃基板的外边缘与所述门极驱动架构区的外边缘对齐。
可选地,所述第二阵列走线区包括数据总线区与公共电极区;其中,
所述数据总线区的内边缘贴近所述门极驱动架构区的外边缘,所述数据总线区的外边缘贴近所述公共电极区的内边缘。
此外,为实现上述目的,本发明还提出一种显示面板制备方法,所述制备方法用于制备如上所述的显示面板,所述制备方法包括:
在薄膜晶体管衬底形成显示区与设置有阵列走线的非显示区;
在所述非显示区的第一阵列走线区与所述显示区上形成ITO导电薄膜,并在所述ITO导电薄膜上设置玻璃基板;
其中,所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;
所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐。
此外,为实现上述目的,本发明还提出一种显示装置,所述显示装置包括如上所述的显示面板。
本发明通过设置显示面板,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐。本发明显示面板的设置方式使得阵列基板的GOA区域中Bus line(数据总线)上方无彩膜玻璃基板,解决了显示面板的电容负载过大的问题,有利于输入波形的优化,有利于显示装置的机型改进。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本发明显示面板一实施例的平面结构示意图;
图2为本发明显示面板一实施例的截面结构示意图;
图3为本发明显示面板一实施例的具体的截面结构示意图;
图4为本发明显示面板制备方法一实施例的流程示意图。
参法条规范附图,去除非必要文字说明,标号说明等。。。
附图标号说明:
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
需要说明,本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、内、外、竖直、水平……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当人认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。
参考图1、图2,图1为本发明显示面板一实施例的平面结构示意图;本发明实施例提供了一种显示面板,图2为本发明显示面板一实施例的截面结构示意图。
所述显示面板包括:阵列基板2及彩膜玻璃基板1。
需要说明的是,参考图1及图2,图1为所述显示面板的俯视角的平面结构示意图,所述阵列基板2设置在所述彩膜玻璃基板下方。图2为显示面板一侧的截面结构示意图,所述显示面板的两侧呈对称设置,因此,所述显示面板的另一侧与图2中所示结构相同,图2中省略显示面板的另一侧及显示面板的中部,但不影响本实施例的解释说明。
应当理解的是,在TN(扭曲向列型,Twisted Nematic)/MVA(多象限垂直配向,Multi-domain Vertical Alignment)工艺设计下,阵列基板行驱动技术(Gate driver OnArray,GOA)直接将闸极驱动电路(Gate Driver IC)制作在阵列(Array)基板上,阵列基板上的非显示区域设置有阵列基板走线,所述阵列基板走线中包括数据总线及门级驱动线等;在显示面板的工作过程中,时钟信号受到阵列基板走线区域的电容负载的影响,电容负载的较大,会导致时钟信号衰减,而阵列基板走线区域的电容负载的主要来源是阵列基板与彩膜玻璃基板之间形成的电容。
需要说明的是,彩膜玻璃基板也即CF(Color Filter,彩色滤光片)玻璃基板,包括:玻璃基板及设置在玻璃基板上的掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,ITO)薄膜,ITO薄膜与下方阵列基板走线形成电容,导致阵列基板的电容负载增加。彩色滤光片上有排列整齐的RGB(红黄蓝三原色)像素点,射入的光可经由滤光片转变混合成各种颜色,因此,彩膜玻璃基板仅在显示区上方才能发挥作用,可以对现有的显示面板进行改进,减少阵列基板的阵列走线区域上方的彩膜玻璃基板的面积。
所述阵列基板包括显示区13(Active Area,有效显示区域)与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区(参考图2,未划分至显示区的区域,均称为非显示区);所述非显示区包括第一阵列走线区21(图1中横线纹路区)与第二阵列走线区22(图1中斜线纹路区),所述第一阵列走线区21的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区22的内边缘贴近所述第一阵列走线区21的外边缘设置。
所述彩膜玻璃基板1设置在所述阵列基板2上,所述彩膜玻璃基板1相对的两侧边缘(彩膜玻璃基板边缘15)与所述第二阵列走线区22的内边缘对齐。
易于理解的是,参考图1,可知所述彩膜玻璃基板1为图1中中心粗实线框,非显示区为所述阵列基板上显示区13以外区域,所述第一阵列走线区21位于显示区13的显示区边缘14相对的两侧,与所述彩膜玻璃基板1相对两侧的彩膜玻璃基板边缘15之间,所述第二阵列走线区22从俯视角看,未被所述彩膜玻璃基板1所遮挡,因此所述第二阵列走线区22上方不存在ITO薄膜,减小了电容负载。
具体实施中,可以将所述彩膜玻璃基板1的尺寸设置为恰好与第一阵列走线区21的外边缘(第二阵列走线区22的内边缘)对齐的尺寸,也可以先设置满足显示面板显示需求的彩膜玻璃基板1,再设置后对其进行切割,使得所述彩膜玻璃基板1相对的两侧彩膜玻璃基板边缘15与所述第二阵列走线区22的内边缘(第一阵列走线区21的外边缘)对齐。
由于电容负载的减小,更利于显示面板的结构改进,在显示面板大型化过程中,所需的彩膜玻璃基板1的材料更少,有利于降低成本。
本发明通过设置显示面板,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐。本发明显示面板的设置方式使得阵列基板的GOA区域中数据总线上方无彩膜玻璃基板,解决了显示面板的电容负载过大的问题,有利于输入波形的优化,有利于显示装置的机型改进。
基于本发明显示面板第一实施例,提出本发明显示面板第二实施例,参考图3,图3为本发明显示面板一实施例的具体的截面结构示意图。
所述显示面板还包括位于所述阵列基板2与所述彩膜玻璃基板1之间液晶层3,及设置在液晶层边缘的边框胶5。其中,所述边框胶5的外边缘与所述彩膜玻璃基板1的外彩膜玻璃基板边缘15对齐。
应当理解的是,所述边框胶5的内边缘位于显示区13的显示区边缘14与所述彩膜玻璃基板1的外彩膜玻璃基板边缘15之间,具体实施中,基于显示面板的密封需求进行考虑对所述边框胶5的宽度进行设置,但所述边框胶5的内边缘不会越过所述显示区13的边界进入显示区13,导致显示区13的范围缩小。
所述显示面板还包括绝缘层4;其中,所述绝缘层4包覆所述第二阵列走线区22,所述绝缘层4的外边缘与所述阵列基板2的外边缘(薄膜晶体管边缘23)对齐,所述绝缘层4的内边缘与所述边框胶5的外边缘(所述彩膜玻璃基板1的彩膜玻璃基板边缘15)对齐。
应当理解的是,现有技术中所述彩膜玻璃基板1位于第二阵列走线区22上方,因此所述第二阵列走线区22被所述彩膜玻璃基板1及边框胶5所覆盖,本实施例中为减少电容负载,将所述彩膜玻璃基板1相对的两侧边缘(彩膜玻璃基板边缘15)与所述第二阵列走线区22的内边缘对齐,使得所述第二阵列走线区22裸露,因此对所述第二阵列走线区22进行绝缘层涂覆,防止所述第二阵列走线区22直接暴露在空气中被水气腐蚀。
所述彩膜玻璃基板1包括玻璃基板11及设置在所述玻璃基板11一侧的ITO导电薄膜12;其中,所述ITO导电薄膜12朝向所述阵列基板2设置。
易于理解的是,所述ITO导电薄膜12与所述玻璃基板11面积相同,所述ITO导电薄膜12完整覆盖所述玻璃基板11的一面。
所述阵列基板2具体包括:薄膜晶体管衬底及设置在所述薄膜晶体管衬底上的所述显示区13与所述非显示区。
所述显示区13包括多行平行排列的扫描线与多列平行排列的数据线;所述数据线与所述扫描线垂直交叉设置。(图中并未示出,但并不影响本实施例的解释说明)
所述第一阵列走线区21包括静电保护区9(Electro-Static Discharge,ESD)与门极驱动架构区8(Gate Driver Less,GDL);其中,
所述门极驱动架构区8的内边缘贴近所述静电保护区9的外边缘,所述静电保护区9的内边缘与显示区13的显示区边缘14贴近;所述彩膜玻璃基板1的外彩膜玻璃基板边缘15与所述门极驱动架构区8的外边缘对齐。
所述第二阵列走线区22包括数据总线区6与公共电极区7;其中,所述数据总线区6的内边缘贴近所述门极驱动架构区8的外边缘,所述数据总线区6的外边缘贴近所述公共电极区7的内边缘。所述公共电极区7的外边缘不超过所述薄膜晶体管衬底TFT的边界(薄膜晶体管边缘23)。
本发明通过设置显示面板,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐。本发明显示面板的设置方式使得阵列基板的GOA区域中数据总线上方无彩膜玻璃基板,解决了显示面板的电容负载过大的问题,有利于输入波形的优化,有利于显示装置的机型改进。
参考图4,图4为本发明显示面板制备方法一实施例的流程示意图。所述制备方法用于制备如上所述的显示面板,所述制备方法包括:
步骤S10:在薄膜晶体管衬底形成显示区与设置有阵列走线的非显示区。
步骤S20:在所述非显示区的第一阵列走线区与所述显示区上形成ITO导电薄膜,并在所述ITO导电薄膜上设置玻璃基板。
所述显示面板包括:阵列基板2及彩膜玻璃基板1。
需要说明的是,参考图1及图2,图1为所述显示面板的俯视角的平面结构示意图,所述阵列基板2设置在所述彩膜玻璃基板下方。图2为显示面板一侧的截面结构示意图,所述显示面板的两侧呈对称设置,因此,所述显示面板的另一侧与图2中所示结构相同,图2中省略显示面板的另一侧及显示面板的中部,但不影响本实施例的解释说明。
应当理解的是,在TN(扭曲向列型,Twisted Nematic)/MVA(多象限垂直配向,Multi-domain Vertical Alignment)工艺设计下,阵列基板行驱动技术(Gate driver OnArray,GOA)直接将闸极驱动电路(Gate Driver IC)制作在阵列(Array)基板上,阵列基板上的非显示区域设置有阵列基板走线,所述阵列基板走线中包括数据总线及门级驱动线等;在显示面板的工作过程中,时钟信号受到阵列基板走线区域的电容负载的影响,电容负载较大,会导致时钟信号衰减,而阵列基板走线区域的电容负载的主要来源是阵列基板与彩膜玻璃基板之间形成的电容。
需要说明的是,彩膜玻璃基板也即CF(Color Filter,彩色滤光片)玻璃基板,包括:玻璃基板及设置在玻璃基板上的掺锡氧化铟(Indium Tin Oxide,ITO)薄膜,ITO薄膜与下方阵列基板走线形成电容,导致阵列基板的电容负载增加。彩色滤光片上有排列整齐的RGB(红黄蓝三原色)像素点,,射入的光可经由滤光片转变混合成各种颜色,因此,彩膜玻璃基板仅在显示区上方才能发挥作用,可以对现有的显示面板进行改进,减少阵列基板的阵列走线区域上方的彩膜玻璃基板的面积。
所述阵列基板包括显示区13(Active Area,有效显示区域)与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区(参考图2,未划分至显示区的区域,均称为非显示区);所述非显示区包括第一阵列走线区21(图1中横线纹路区)与第二阵列走线区22(图1中斜线纹路区),所述第一阵列走线区21的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区22的内边缘贴近所述第一阵列走线区21的外边缘设置。
所述彩膜玻璃基板1设置在所述阵列基板2上,所述彩膜玻璃基板1相对的两侧边缘(彩膜玻璃基板边缘15)与所述第二阵列走线区22的内边缘对齐。
易于理解的是,参考图1,可知所述彩膜玻璃基板1为图1中中心粗实线框,非显示区为所述阵列基板上显示区13以外区域,所述第一阵列走线区21位于显示区13的显示区边缘14相对的两侧,与所述彩膜玻璃基板1相对两侧的彩膜玻璃基板边缘15之间,所述第二阵列走线区22从俯视角看,未被所述彩膜玻璃基板1所遮挡,因此所述第二阵列走线区22上方不存在ITO薄膜,避免了增加电容负载。
具体实施中,可以将所述彩膜玻璃基板1的尺寸设置为恰好与第一阵列走线区21的外边缘(第二阵列走线区22的内边缘)对齐的尺寸,也可以先设置满足显示面板显示需求的彩膜玻璃基板1,再设置后对其进行切割,使得所述彩膜玻璃基板1相对的两侧彩膜玻璃基板边缘15与所述第二阵列走线区22的内边缘(第一阵列走线区21的外边缘)对齐。
由于电容负载的减小,更利于显示面板的结构改进,在显示面板大型化过程中,所需的彩膜玻璃基板1的材料更少,有利于降低成本。
本发明通过设置显示面板,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐。本发明显示面板的设置方式使得阵列基板的GOA区域中数据总线上方无彩膜玻璃基板,解决了显示面板的电容负载过大的问题,有利于输入波形的优化,有利于显示装置的机型改进。
应当理解的是,以上仅为举例说明,对本发明的技术方案并不构成任何限定,在具体应用中,本领域的技术人员可以根据需要进行设置,本发明对此不做限制。
需要说明的是,以上所描述的工作流程仅仅是示意性的,并不对本发明的保护范围构成限定,在实际应用中,本领域的技术人员可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部来实现本实施例方案的目的,此处不做限制。
另外,未在本实施例中详尽描述的技术细节,可参见本发明任意实施例所提供的显示面板,此处不再赘述。
此外,需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者系统不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者系统所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括该要素的过程、方法、物品或者系统中还存在另外的相同要素。
上述本发明实施例序号仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。
通过以上的实施方式的描述,本领域的技术人员可以清楚地了解到上述实施例方法可借助软件加必需的通用硬件平台的方式来实现,当然也可以通过硬件,但很多情况下前者是更佳的实施方式。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质(如只读存储器(Read Only Memory,ROM)/RAM、磁碟、光盘)中,包括若干指令用以使得一台终端设备(可以是手机,计算机,服务器,或者网络设备等)执行本发明各个实施例所述的方法。
以上仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:阵列基板及彩膜玻璃基板;其中,
所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;
所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐;
所述非显示区设置有阵列基板走线,所述阵列基板走线包括数据总线及门级驱动线,所述数据总线位于所述第二阵列走线区内,所述门级驱动线位于所述第一阵列走线区。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括位于所述阵列基板与所述彩膜玻璃基板之间液晶层,及设置在液晶层边缘的边框胶;
其中,所述边框胶的外边缘与所述彩膜玻璃基板的外边缘对齐。
3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括绝缘层;其中,
所述绝缘层包覆所述第二阵列走线区,所述绝缘层的外边缘与所述阵列基板的外边缘对齐,所述绝缘层的内边缘与所述边框胶的外边缘对齐。
4.如权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述彩膜玻璃基板包括玻璃基板及设置在所述玻璃基板一侧的ITO导电薄膜;
其中,所述ITO导电薄膜朝向所述阵列基板设置。
5.如权利要求1至4任一项所述的显示面板,其特征在于,所述阵列基板具体包括:薄膜晶体管衬底及设置在所述薄膜晶体管衬底上的所述显示区与所述非显示区。
6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述显示区包括多行平行排列的扫描线与多列平行排列的数据线;所述数据线与所述扫描线垂直交叉设置。
7.如权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一阵列走线区包括静电保护区与门极驱动架构区;其中,
所述门极驱动架构区的内边缘贴近所述静电保护区的外边缘,所述静电保护区的内边缘与显示区的外边缘贴近;
所述彩膜玻璃基板的外边缘与所述门极驱动架构区的外边缘对齐。
8.如权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第二阵列走线区包括数据总线区与公共电极区;其中,
所述数据总线区的内边缘贴近所述门极驱动架构区的外边缘,所述数据总线区的外边缘贴近所述公共电极区的内边缘。
9.一种显示面板制备方法,其特征在于,所述制备方法用于制备如权利要求1至8任一项所述的显示面板,所述制备方法包括:
在薄膜晶体管衬底形成显示区与设置有阵列走线的非显示区;
在所述非显示区的第一阵列走线区与所述显示区上形成ITO导电薄膜,并在所述ITO导电薄膜上设置玻璃基板;
其中,所述阵列基板包括显示区与围绕所述显示区相对的两侧设置的非显示区;所述非显示区包括第一阵列走线区与第二阵列走线区,所述第一阵列走线区的内边缘贴近所述显示区的外边缘设置,所述第二阵列走线区的内边缘贴近所述第一阵列走线区的外边缘设置;
所述彩膜玻璃基板设置在所述阵列基板上,所述彩膜玻璃基板相对的两侧边缘与所述第二阵列走线区的内边缘对齐;
所述非显示区设置有阵列基板走线,所述阵列走线包括数据总线及门级驱动线,所述数据总线位于所述第二阵列走线区内,所述门级驱动线位于所述第一阵列走线区。
10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1至8任一项所述的显示面板。
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