CN113413237A

CN113413237A - 一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体及其制备方法

Info

Publication number: CN113413237A
Application number: CN202110609435.6A
Authority: CN
Inventors: 林全愧; 陆朵朵; 王家豪
Original assignee: Wenzhou Medical University
Current assignee: Wenzhou Medical University
Priority date: 2021-06-01
Filing date: 2021-06-01
Publication date: 2021-09-21

Abstract

本发明涉及眼科医用植入材料及器械表面修饰领域，具体涉及一种具有药物缓释功能的同心环图案的可降解涂层表面修饰的可折叠人工晶状体及其制备方法。所述的同心环图案的可降解的药物缓释涂层为缓释药物组合物在人工晶状体表面旋涂形成，所述缓释药物组合物包括可降解聚合物、药物及有机溶剂。本发明应用旋涂技术，药物缓释涂层具有中央薄，周边厚的特殊同心环图案，对人工晶状体的屈光性、稳定性以及可折叠性影响较小，不易脱落，能稳定附着在人工晶状体表面，通过药物的合理选择，可用于有效预防白内障超声乳化手术术后的多种常见并发症，如后囊膜混浊、眼内炎以及其他术后炎症反应等，保障手术效果。

Description

一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体及其制备方法

技术领域

本发明涉及眼科医用植入材料及器械表面修饰领域，具体涉及一种具有药物缓释功能的同心环图案的可降解涂层表面修饰的可折叠人工晶状体及其制备方法。

背景技术

白内障是世界范围内最常见的致盲眼病。目前临床上治疗白内障唯一有效的方法是白内障超声乳化摘除联合人工晶状体植入术。然而，现代白内障手术仍存在一些术后并发症，如后囊膜混浊和眼内炎等，影响患者术后视力的恢复，或导致术后视力严重下降甚至失明。后囊膜混浊是现代白内障手术常见的并发症，常出现在术后数月或数年。受患者年龄、糖尿病与否、晶状体核硬度级别、手术方式的选择、植入的人工晶状体材料设计、术后炎症反应情况等因素影响，后囊膜混浊的发生率差别很大。成人白内障术后后囊膜混浊的发生率在20%-60%，而婴幼儿后囊膜混浊发生率高达95%。手术技巧的改进、人工晶状体材料的改善以及“直角锐利”边缘的设计等可以在一定程度上减缓后囊膜混浊的发生发展，但并不能显著降低其发生率。Nd:YAG激光晶状体后囊切开术是目前治疗PCO唯一有效的手段。激光治疗后大部分患者都能恢复有效视力。但并不是所有的PCO患者都适宜激光治疗，例如婴幼儿患者、眼球震颤和后囊膜机化明显的患者。此外激光治疗也会增加视网膜脱离、黄斑囊样水肿、葡萄膜炎症反应、眼压升高等风险。眼内炎是白内障术后最严重的的并发症之一，大多是术中或术后由细菌和真菌等病原体传播至眼睛引起，严重的感染可以导致视力减退、失明甚至眼球摘除等。据报道，术后眼内炎的发生率在0.04%-0.2%。因此，寻找一种行之有效的预防及治疗方法是至关重要的，以针对白内障手术所带来的常见且严重的并发症。

研究认为：手术对晶状体前囊膜及赤道部的晶状体上皮细胞的破坏刺激及不完全去除，使其在术后粘附在人工晶状体表面与囊膜之间，不断向后囊膜迁移、增殖并上皮-间质细胞转化，在后囊膜上形成混浊或皱缩，引起患者的视力再次下降。而白内障术后眼内炎大多数是由表皮葡萄球菌、金黄色葡萄球菌和链球菌等细胞引起。为预防白内障术后后囊膜混浊及眼内炎的发生，研究者尝试通过对人工晶状体进行表面修饰，或添加载药装置，或制备药物涂层等。其中，对人工晶状体进行表面亲水化改性以减少细菌及细胞附着是降低眼内炎和后囊膜混浊发生率的一种可行途径，如中国专利CN 103948965 B“一种表面改性的人工晶状体及表面改性方法”，中国专利CN 103405807 B “一种表面梳状聚合物亲水改性的人工晶状体及其制备方法”，中国专利CN100344269C“表面磷脂修饰的软性人工晶状体及其制造方法”，专利CN1665553A“经表面改性的人工晶状体”，中国专利CN1219497C“一种前表面亲水化处理的疏水性人工晶状体及其制造方法”，中国专利CN1200739C“α-烯丙基葡糖苷表面修饰的人工晶状体及其制造方法”，中国专利CN 106362205A “一种两性离子表面修饰的人工晶状体及其制备方法”等。上述人工晶状体的表面改性过程复杂、步骤繁多。而且，单纯表面亲水化改性的人工晶状体在植入眼内后后囊膜混浊的远期发病率未见明显降低。此外，将药物固定到人工晶状体材料表面，以期通过药物来控制晶状体上皮细胞的增殖，也为抑制后囊膜混浊提供了一种方法。如中国专利CN1200739C“α-烯丙基葡糖苷表面修饰的人工晶状体及其制造方法”，中国专利CN103156708A“襻上镶嵌有药物缓释微囊的人工晶状体及其制造方法”，中国专利CN101053680A“防止后发障形成的具抗增殖药涂层的人工晶体”，中国专利CN101036804A“纳米氟尿嘧啶涂层人工晶体及其制备方法”，中国专利CN200973766Y“防止后发性白内障的人工晶状体”，中国专利CN2531755Y“缓释剂携带型人工晶体”及中国专利CN200810061511“表面抗转化生长因子β2抗体膜的人工晶状体”，中国专利CN 104825249A“一种表面介导基因治疗型人工晶状体及其制备方法”等均是在人工晶状体表面或赤道部外侧或袢等部位负载抗增殖类化学药物、抗体药物或基因药物来达到抑制晶状体上皮细胞增殖的目的。上述药物负载型人工晶状体虽然能够较良好地抑制晶状体上皮细胞的增殖，但是同样也有一些缺点：1）制备工序复杂，效率低下，无法大规模工业化量产；2）涂层质量不易控制，难以定制涂层性状等；3）难以控制涂层的载药量与释放动力学，无法保证药物的有效性和安全性等。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足，而提供一种具有特殊同心环图案的可降解的药物缓释涂层修饰的人工晶状体及其制备方法。

本发明所采取的技术方案如下：一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，所述的同心环图案的可降解的药物缓释涂层为缓释药物组合物在人工晶状体表面旋涂形成，所述缓释药物组合物包括可降解聚合物、药物及有机溶剂。

可降解聚合物在水分子环境中可以逐步缓慢降解。在白内障超声乳化手术中，所述的具有同心环图案的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体被植入后，随着可降解聚合物的逐步降解可以缓慢释放可控制量的药物，有效抑制晶状体上皮细胞及细菌的生长，从而起到预防白内障术后并发症的目的，保障患者术后视觉质量的恢复并避免不必要的严重后果的发生。

进一步设置，所述可降解聚合物为聚乳酸-羟基乙酸共聚物、聚乳酸、聚羟基乙酸、聚羟基丁酸酯、乳酸-聚乙二醇共聚物、乳酸-聚丙二醇共聚物、聚ε-己内酯、聚氰基丙烯酸烷基酯、聚乳酸-聚乙二酸嵌段共聚物以及ε-己内酯与丙交酯嵌段共聚物中的一种或多种的混合。

进一步设置，所述的有机溶剂为丙酮、二氯甲烷、三氯甲烷、N ,N-二甲基甲酰胺、乙酸乙酯、乙醇、甲醇、乙醇、异丙醇、丙醇、石油醚、甲苯、四氢呋喃、己烷以及环己烷中的一种或多种任意比例的混合。

进一步设置，所述药物为抗代谢类药物、细胞毒性药物、免疫抑制剂、抗生素、非甾体抗炎药、糖皮质激素、抗迁移和抗粘附药物、光敏剂中的一种或多种的混合。

进一步设置，所述旋涂包括静态或动态滴胶、低速旋转铺胶、高速旋转甩胶三个连续的过程以及贯穿整个旋涂过程的溶剂蒸发，所得的的涂层其厚度表现为由中央向周边径向增加。

进一步设置，所述的人工晶状体的材料是疏水型聚丙烯酸酯或硅凝胶。

一种如上所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1）将人工晶状体按照设计方案制备，清洗后备用；

2）缓释药物组合物的制备：将可降解聚合物、药物和有机溶剂均匀混合，得到缓释药物组合物；

3）药物缓释型人工晶状体的制备：采用匀胶机将步骤2）制备的缓释药物组合物旋涂到步骤1）制备的人工晶状体表面，使药物涂层中的有机溶剂挥发；

4）将步骤3）制备的药物缓释型人工晶状体消毒后密封包装。

进一步设置，步骤2）中得到的旋涂溶液中，可降解聚合物的浓度5-50 mg/ml，药物浓度0.01-25 mg/ml。

进一步设置，步骤3）中，匀胶机设定旋涂参数如下：低速旋转速度为500-1000rpm，旋转时间为10-30s；高速旋转速度为1000-6000 rpm，旋转时间为10-60s；然后将步骤1）的人工晶状体居中放置在匀胶机的片托上，负压吸片，静态或动态滴胶，滴胶量为10-100μl；启动电机，按设置的旋涂参数运行；完成后停止电机；取片；晾干。

本发明的有益效果如下：

1）本发明所述的可降解药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，在白内障超声乳化手术中被植入囊袋后，随着可降解聚合物的逐步降解，所负载的药物可以同步平缓释放，有效靶向作用于囊袋周围，通过药物的合理选择，可用于有效预防白内障超声乳化手术术后的多种常见并发症，如后囊膜混浊、眼内炎以及其他术后炎症反应等，保障手术效果；

2）应用旋涂技术，药物缓释涂层具有中央薄，周边厚的特殊同心环图案，对人工晶状体的屈光性、稳定性以及可折叠性影响较小，不易脱落，能稳定附着在人工晶状体表面；

3）本发明所述的药物缓释涂层制备过程所应用的有机材料均为常见易获得，且价格优势明显。旋涂工艺简单便捷，可重复性与稳定性强，根据治疗目的的药物，可以通过对原料配比的改变对药物的载药量和药物释放动力学进行有目的性的条件，预期结果稳定可控。

本发明制备方法中所依赖的仪器设备匀胶机已是工业成熟设备，价格相对低廉，易于获得并推广，且所涉及的材料对环境友好，在工业化生产时不会对环境造成污染，是一种简便有效、成本低廉且可以大规模量产的产品。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，根据这些附图获得其他的附图仍属于本发明的范畴。

图1为具有同心环图案的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体材料的示意图，其中所负载的药物为伊红；

图 2为具有同心环图案的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体在USFA分辨率测算板上光学质量照片，其中所负载的药物为环孢霉素A；

图3为环孢霉素A药物涂层修饰前后的人工晶状体的透过率；

图4中，（a）为使用空白人工晶状体材料处理24小时后活细胞荧光染色结果；（b）为使用空白人工晶状体材料处理24小时后死细胞荧光染色结果；

图5中，（a）为使用PLGA涂层修饰的人工晶状体材料处理24小时后活细胞荧光染色结果；（b）为使用PLGA涂层修饰的人工晶状体材料处理24小时后死细胞荧光染色结果；

图6中，（a）为使用环孢霉素A药物涂层修饰的人工晶状体材料处理24小时后活细胞荧光染色结果；（b）为使用环孢霉素A药物涂层修饰的人工晶状体材料处理24小时后死细胞荧光染色结果。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。

如图1所示，本发明提供一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，所述的同心环图案的可降解的药物缓释涂层为缓释药物组合物在人工晶状体表面旋涂形成，所述缓释药物组合物包括可降解聚合物、药物及有机溶剂。

如上所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，包括以下步骤：

1）将人工晶状体按照设计方案制备，清洗后备用；

步骤2）中得到的旋涂溶液中，可降解聚合物的浓度5-50 mg/ml，药物浓度0.01-25mg/ml。

步骤3）中，匀胶机设定旋涂参数如下：低速旋转速度为500-1000 rpm，旋转时间为10-30s；高速旋转速度为1000-6000 rpm，旋转时间为10-60s；然后将步骤1）的人工晶状体居中放置在匀胶机的片托上，负压吸片，静态或动态滴胶，滴胶量为10-100μl；启动电机，按设置的旋涂参数运行；完成后停止电机；取片；晾干。

本发明的可降解聚合物应为具有良好的生物相容性，无毒性及免疫原性，对人体眼部其他组织，如角膜内皮、虹膜睫状体、视网膜等均无毒副作用。在本发明的一些实施例中，所述可降解聚合物为聚乳酸-羟基乙酸共聚物、聚乳酸、聚羟基乙酸、聚羟基丁酸酯、乳酸-聚乙二醇（聚丙二醇）共聚物、聚ε-己内酯、聚氰基丙烯酸烷基酯、聚乳酸-聚乙二酸嵌段共聚物以及ε-己内酯与丙交酯嵌段共聚物中的一种或多种的混合。

本发明的有机溶剂理论上在成品中应为挥发完全的，为节约溶剂挥发完全的时间，所选用的有机溶剂应为易挥发的且毒理学研究对人体影响较小的。在本发明的一些实施例中，所述的有机溶剂可以为丙酮、二氯甲烷、三氯甲烷、N ,N-二甲基甲酰胺、乙酸乙酯、乙醇、甲醇、乙腈、异丙醇、丙醇、石油醚、甲苯、四氢呋喃、己烷以及环己烷中的一种或多种任意比例的混合。有机溶剂允许一定程度的残留，残留限度按照国家标准。

本发明的技术核心是将可用于预防白内障超声乳化术后并发症的药物通过上述方法负载到人工晶状体表面，在白内障超声乳化手术中被植入囊袋后，随着可降解聚合物的逐步降解，所负载的药物可以同步平缓释放，有效靶向作用于囊袋周围，有效预防白内障超声乳化手术术后的多种常见并发症，如后囊膜混浊、眼内炎以及其他术后炎症反应等，保障手术效果。因此，所选药物可以有效抑制细胞增殖与迁移、诱导细胞凋亡以及组织细胞的上皮-间质转分化、预防或治疗白内障术后炎症反应等作用的任何药物。药物种类主要包括抗代谢与细胞毒性药物、抗炎药物与抗生素、免疫抑制剂。抗代谢与细胞毒性药物可作为抑制细胞增殖，诱导细胞凋亡发挥作用。抗粘附和抗迁移药物可作为阻止细菌或细胞粘附、迁移而发挥作用；光敏剂可通过光动力作用产生活性氧（ROS）而促进细胞凋亡或细菌死亡的作用。以上药物种类中常见的药物如下所示：

抗代谢及细胞毒性药物：甲氨蝶呤、5-氟尿嘧啶、6-巯嘌呤、阿霉素、丝裂霉素、高三尖杉酯碱、柔红霉素、柔毛霉素、紫杉醇、皂角甙、染料木黄酮、全反式维甲酸、秋水仙碱、组织纤溶酶激活剂、肝素、双氯灭痛、生长抑素、米替福新、埃罗替尼等。

免疫抑制剂：环孢霉素、雷帕霉素、他克莫司等。

类固醇类抗炎药物：地塞米松、氢化可的松、强的松龙、甲基泼尼松、氟泼尼松龙、倍他米松、氯地米松等。

非甾体抗炎药物：双氯芬酸、溴芬酸钠、吲哚美辛、阿司匹林、对乙酰氨基酚、萘普生、布洛芬、尼美舒利、罗非昔布、塞来昔布等。

β-内酰胺类抗生素：1、青霉素类：青霉素G、氯唑西林、氟氯西林、羟氨苄青霉素、氨苄西林、阿莫西林、哌拉西林、美洛西林、阿洛西林等；2、头孢菌素类：头孢氨苄、头孢拉定、头孢唑林等第一代头孢菌素；头孢克洛、头孢呋辛、头孢孟多等第二代头孢菌素；头孢噻肟、头孢他啶、头孢三秦、头孢头孢唑肟等第三代头孢菌素；头孢吡肟、头孢匹罗等第四代头孢菌素；3、非典型β-内酰胺类抗生素：头霉素、拉氧头孢、克拉维酸、氨曲南、头孢替唑、头孢替安、亚胺培南、美罗培南、氟氧头孢、帕尼培南、头孢西丁、头孢美唑、头孢米诺钠、拉氧头孢、氟氧头孢等。

氟喹诺酮类抗生素：左氧氟沙星、加替沙星、诺氟沙星、环丙沙星、氧氟沙星、洛美沙星、培氟沙星、依诺沙星、氟罗沙星、司帕沙星等。

大环内酯类抗生素：红霉素、克拉霉素、阿奇霉素、罗红霉素、乙酰罗旋霉素、丙酸交沙霉素等。

氨基糖苷类抗生素：庆大霉素、链霉素、丁胺卡那霉素、奈替米星、依替米星等。

其他抗生素：万古霉素、多粘菌素B、克林霉素、氯霉素、利福霉素等。

抗迁移和抗粘附药物：双硫仑、咪拉地尔、咖啡酸苯乙酯等。

光敏剂：吲哚菁绿、二氢卟吩e6、维替泊芬等。

所述旋涂包括静态或动态滴胶、低速旋转铺胶、高速旋转甩胶三个连续的过程以及贯穿整个旋涂过程的溶剂蒸发，所得的的涂层其厚度表现为由中央向周边径向增加。

所述的人工晶状体的材料是疏水型聚丙烯酸酯或硅凝胶。

在本发明制备的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体中，所述同心环图案的药物缓释涂层的厚度与可降解聚合物的浓度正相关，可降解聚合物浓度越大，涂层越厚；与旋转速度负相关，旋转速度越大，涂层越薄。

在本发明制备的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体中，所述药物缓释涂层的载药量与药物的浓度正相关，药物的浓度越大，载药量越大。

实施例1：为直观显示所制备载药涂层的同心环图案，本实施例以红色的伊红为模型药物开展载药涂层的制备。取7.5ml聚乳酸-羟基乙酸共聚物(PLGA)、2.5mg/ml伊红在丙酮中磁力搅拌过夜混合均匀，将疏水性丙烯酸酯人工晶状体模拟材料居中放置在匀胶机上，设置旋涂参数，低速旋转600rpm, 10s；高速旋转速度2000rpm, 30s；静态滴胶10μl，启动匀胶机，得到同心环图案的伊红药物缓释涂层（如图1所示）。

实施例2：

取50mg/ml聚ε-己内酯（PCL）、25mg/ml雷帕霉素在三氯甲烷中磁力搅拌过夜混合均匀，将硅凝胶人工晶状体居中放置在匀胶机片托上，设置旋涂参数：低速旋转速度1000rpm，30s；高速旋转速度6000rpm，30s；动态滴胶100μl，启动匀胶机，得到同心环图案的雷帕霉素药物缓释涂层修饰的人工晶状体。

实施例3：

取含5mg/ml聚乳酸-羟基乙酸共聚物(PLGA)、0.01mg/ml二氢卟吩e6(Ce6)在丙酮中磁力搅拌过夜混合均匀，将疏水性聚丙烯酸酯人工晶状体居中放置在匀胶机片托上，设置旋涂参数：低速旋转速度500rpm，10s；高速旋转速度2000rpm，30s；静态滴胶10μl，启动匀胶机，得到同心环图案的能发挥光动力疗法的二氢卟吩e6涂层修饰的人工晶状体。

实施例4：

取10mg/ml聚乳酸-羟基乙酸共聚物(PLGA)、5mg/ml环孢霉素A在丙酮中磁力搅拌过夜混合均匀，将疏水性聚丙烯酸酯人工晶状体居中放置在匀胶机片托上，设置旋涂参数：低速旋转速度600rpm，10s；高速旋转速度3000rpm，30s；静态滴胶10μl，启动匀胶机，得到同心环图案的环孢霉素A药物缓释涂层修饰的人工晶状体（如图2所示）。图3显示修饰环孢霉素A药物缓释涂层的人工晶状体（CsA@PLGA LOL）、未加入环孢霉素A的PLGA涂层修饰的人工晶状体（PLGA LOL）以及无涂层修饰的人工晶状体（unmodified LOL）的透过率。可见通过旋涂同心圆的方式得到的载药涂层对人工晶状体的屈光度影响极小。

试验例：

建立晶状体上皮细胞模型，以检测具有环孢霉素A药物缓释涂层修饰的人工晶状体对晶状体上皮细胞活力的影响。将修饰或未修饰环孢霉素A药物涂层的人工晶状体模拟材料分别放入96孔板中，晶状体上皮细胞以1×10⁴ /孔的密度接种于孔板中，培养24小时后，运用Calcein/PI细胞活性与细胞毒性检测试剂盒对细胞成活率进行检测以评估环孢霉素A药物缓释涂层修饰的人工晶状体对细胞的毒性作用，结果如图4-6所示。

以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims

1.一种具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述的同心环图案的可降解的药物缓释涂层为缓释药物组合物在人工晶状体表面旋涂形成，所述缓释药物组合物包括可降解聚合物、药物及有机溶剂。

2.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述可降解聚合物为聚乳酸-羟基乙酸共聚物、聚乳酸、聚羟基乙酸、聚羟基丁酸酯、乳酸-聚乙二醇共聚物、乳酸-聚丙二醇共聚物、聚ε-己内酯、聚氰基丙烯酸烷基酯、聚乳酸-聚乙二酸嵌段共聚物以及ε-己内酯与丙交酯嵌段共聚物中的一种或多种的混合。

3.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述的有机溶剂为丙酮、二氯甲烷、三氯甲烷、N ,N-二甲基甲酰胺、乙酸乙酯、乙醇、甲醇、乙腈、异丙醇、丙醇、石油醚、甲苯、四氢呋喃、己烷以及环己烷中的一种或多种任意比例的混合。

4.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述药物为抗代谢类药物、细胞毒性药物、免疫抑制剂、抗生素、非甾体抗炎药、糖皮质激素、抗迁移和抗粘附药物、光敏剂中的一种或多种的混合。

5.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述旋涂包括静态或动态滴胶、低速旋转铺胶、高速旋转甩胶三个连续的过程以及贯穿整个旋涂过程的溶剂蒸发，所得的的涂层其厚度表现为由中央向周边径向增加。

6.根据权利要求1所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体，其特征在于：所述的人工晶状体的材料是疏水型聚丙烯酸酯或硅凝胶。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

1）将人工晶状体按照设计方案制备，清洗后备用；

8.根据权利要求7所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于：步骤2）中得到的旋涂溶液中，可降解聚合物的浓度5-50 mg/ml，药物浓度0.01-25 mg/ml。

9.根据权利要求8所述的具有同心环图案的可降解的药物缓释涂层表面修饰的人工晶状体的制备方法，其特征在于：步骤3）中，匀胶机设定旋涂参数如下：低速旋转速度为500-1000 rpm，旋转时间为10-30s；高速旋转速度为1000-6000 rpm，旋转时间为10-60s；然后将步骤1）的人工晶状体居中放置在匀胶机的片托上，负压吸片，静态或动态滴胶，滴胶量为10-100μl；启动电机，按设置的旋涂参数运行；完成后停止电机；取片；晾干。