CN113387582A - 一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用 - Google Patents

一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用 Download PDF

Info

Publication number
CN113387582A
CN113387582A CN202110940270.0A CN202110940270A CN113387582A CN 113387582 A CN113387582 A CN 113387582A CN 202110940270 A CN202110940270 A CN 202110940270A CN 113387582 A CN113387582 A CN 113387582A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glaze
agent
rock plate
ceramic rock
dropwise adding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202110940270.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113387582B (zh
Inventor
周军
张天杰
戴建斌
刘腾
邓佳平
肖元成
王衔雯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Foshan Sanshui Create Tide Co ltd
Original Assignee
Foshan Sanshui Create Tide Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Foshan Sanshui Create Tide Co ltd filed Critical Foshan Sanshui Create Tide Co ltd
Priority to CN202110940270.0A priority Critical patent/CN113387582B/zh
Publication of CN113387582A publication Critical patent/CN113387582A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113387582B publication Critical patent/CN113387582B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C03C8/20—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions containing titanium compounds; containing zirconium compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/04—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C03C8/16—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions with vehicle or suspending agents, e.g. slip
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F283/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G
    • C08F283/06—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals
    • C08F283/065—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals on to unsaturated polyethers, polyoxymethylenes or polyacetals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

本发明涉及一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用。釉料包括面釉和保护釉，面釉由特定含量的面釉干料、水溶性有机溶剂、润湿流平剂、消泡剂、防沉剂和分散剂组成；面釉干料由特定含量的钠长石、白云石、高铝矾土、硅酸锆和哑光熔块粉组成；保护釉由特定含量的保护釉干料、水溶性有机溶剂、润湿流平剂、消泡剂、防沉剂和分散剂组成；保护釉干料由特定含量的硅灰石、钠长石、高岭土、烧滑石、煅烧氧化锌、煅烧氧化铝和亮光熔块粉组成；分散剂为自制无水聚丙烯酸分散剂。该釉料适用于高压喷釉工艺，且经高压喷釉工艺喷至3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板的坯体表面后，不会影响坯体强度，有效降低产品烧后缺陷率，且施釉成本低、产品品质高。

Description

一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用
技术领域
本发明涉及釉料技术领域，具体涉及一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用。
背景技术
近几年，陶瓷岩板由于能够经得起切割、钻孔、打磨等加工过程，被广泛作为家居饰面装饰材料，可用于背景墙、橱柜、衣柜、茶具、浴室柜、洗手台、门和厨房灶台面板等。用于橱柜和衣柜饰面的岩板，一般要求使用3mm厚度的超薄陶瓷岩板，而3mm的超薄陶瓷岩板生产在国内仍是一个亟待攻克的技术难点，国内只有少数几家企业可生产，大部分都是依靠意大利进口。该类岩板产品的生产难点在于砖坯太薄，强度较低，如何控制其生产过程中不开裂是关键，因此在干燥、施釉、窑炉工序上都需要更合理的设计与制造，尤其是施釉方式将直接影响该超薄陶瓷岩板的性能。
传统瓷砖产品的施釉工艺有钟罩淋釉和喷釉这两种工艺。随着超薄陶瓷岩板产品的兴起，出现了数码釉新工艺，即数码喷釉工艺，该数码喷釉工艺可适用于3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板产品，尤其是数码釉中的溶剂为有机溶剂，对砖坯强度基本无影响，因此，对于3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板产品，则通常使用该数码釉及数码喷釉工艺。而传统的钟罩淋釉和喷釉工艺所用的釉料为纯水釉料，水容易渗透坯体进而严重影响该类岩板产品的坯体强度，导致烧成过程中容易开裂或产品在后期加工中容易断裂，不适用于该类岩板产品的施釉。然而，数码釉的数码喷釉工艺需要配套价格高昂的喷墨打印机及喷头，且相对传统施釉工艺，数码喷釉工艺的施釉量有限，导致数码釉的遮盖力有限，从而导致超薄陶瓷岩板产品的发色差、耐磨性差，且釉面不够细腻，进而导致超薄陶瓷岩板产品质感欠佳。
发明内容
本发明的目的之一在于克服现有技术的不足，提供一种超薄陶瓷岩板用釉料，该釉料能适用于高压喷釉工艺，且采用高压喷釉工艺喷至3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板的坯体表面后，不会影响坯体强度，有效降低产品烧后的缺陷率，且能降低施釉成本、确保产品的品质。
本发明的目的之二在于提供一种超薄陶瓷岩板用釉料的制备方法。
本发明的目的之三在于提供一种超薄陶瓷岩板用釉料的应用。
基于此，本发明公开了一种超薄陶瓷岩板用釉料，包括面釉和保护釉，所述面釉配方中各组分的重量百分比为：
面釉干料44-52%、水溶性有机溶剂44-52%、润湿流平剂0.1-0.15%、消泡剂0.1-0.15%、防沉剂0.3-0.5%和分散剂2-3%；
其中，所述面釉干料配方中各组分的重量百分比为：
钠长石44-48%、白云石20-25%、高铝矾土11-13%、硅酸锆11-13%和哑光熔块粉6-12%；
所述保护釉配方中各组分的重量百分比为：
保护釉干料42-51%、水溶性有机溶剂46-56%、润湿流平剂0.06-0.1%、消泡剂0.06-0.1%、防沉剂0.2-0.4%和分散剂2-3%；
其中，所述保护釉干料配方中各组分的重量百分比为：
硅灰石10-12%、钠长石38-42%、高岭土5-10%、烧滑石3-5%、煅烧氧化锌3-4%、煅烧氧化铝11-14%和亮光熔块粉20-23%；
所述分散剂为自制的无水聚丙烯酸分散剂。
优选地，所述分散剂的制备工艺为：
加入25-35g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至70-80°C，通氮气，滴加48-57g丙烯酸和25-30g苯乙烯，再滴加90-106g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2-2.5g疏基丙酸，滴加时间为10-15min，再滴加1.65-2g偶氮二异丁氰溶液，滴加时间为2-2.5h，滴加完成后，控制反应温度为75-80°C，反应1.5-3h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为无水聚丙烯酸分散剂。
进一步优选地，所述分散剂的制备工艺为：
加入30g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至75°C，通氮气，滴加54g丙烯酸和27g苯乙烯，再滴加100g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2.25g疏基丙酸，滴加时间为12min，再滴加1.95g偶氮二异丁氰溶液，滴加时间为2.5h，滴加完成后，控制反应温度为78°C，继续反应2h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为无水聚丙烯酸分散剂。
优选地，所述哑光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 58-63%
Al2O3 20-23%
K2O 3-6%
Na2O 3-5%
CaO 3-5%
MgO 2-6%
SrO 2-4%。
进一步优选地，所述哑光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 62%
Al2O3 21%
K2O 3%
Na2O 3%
CaO 4%
MgO 4%
SrO 3%。
优选地，所述亮光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 58-63%
Al2O3 10-13%
K2O 2-5%
Na2O 4-7%
CaO 8-12%
ZnO 8-12%。
进一步优选地，所述亮光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 60%
Al2O3 11%
K2O 3%
Na2O 6%
CaO 10%
ZnO 10%。
优选地，所述水溶性有机溶剂为异丙醇、乙二醇、二乙二醇、甘油和二乙二醇单丁醚中的至少两种；
所述润湿流平剂为炔二醇表面活性剂或非硅表面活性剂，其中，所述炔二醇表面活性剂为Toynol® Superwet-300、Surfynol 104E、Surfynol 440和Surfynol 485中的一种或多种组合；所述非硅表面活性剂为Tego® Wet 505和Vok®-Wet 500中的一种或多种组合；
所述消泡剂为聚醚消泡剂，其中，所述聚醚消泡剂为SN-Defoamer 485和Tego®Foamex 810中的一种或多种组合；
所述防沉剂为改性聚脲型防沉剂，其中，所述改性聚脲型防沉剂为Vok®-Keperrhevok-422和BYK-410中的一种或多种组合。
本发明还公开了一种超薄陶瓷岩板用釉料的制备方法，包括以下步骤：
步骤S1面釉的制备：
步骤S11，按照面釉的配方组分将部分水溶性有机溶剂与润湿流平剂、消泡剂、防沉剂及分散剂加入砂磨机（优选为立式砂磨机）内，搅拌均匀形成透明溶液1；
步骤S12，向透明溶液1中缓慢加入钠长石、白云石、高铝矾土、硅酸锆和哑光熔块粉，边搅拌边研磨，研磨至D97为7-10μm，得到釉料悬浮液1；
步骤S13，将剩余水溶性有机溶剂加入所述釉料悬浮液1中，以调整得到粘度为19-25mPa·s、表面张力为28-30mN/m、密度为1.4-1.6g/cm3的釉料悬浮液1；
步骤S14，将调整后的釉料悬浮液1过筛，即得所述面釉；
步骤S2保护釉的制备：
步骤S21，按照保护釉的配方组分先将部分水溶性有机溶剂与润湿流平剂、消泡剂、防沉剂及分散剂加入砂磨机（优选为立式砂磨机）内，搅拌均匀形成透明溶液2；
步骤S22，向透明溶液2中缓慢加入硅灰石、钠长石、高岭土、烧滑石、煅烧氧化锌、煅烧氧化铝和亮光熔块粉，边搅拌边研磨，研磨至D97为8-10μm，得到釉料悬浮液2；
步骤S23，将剩余水溶性有机溶剂加入所述釉料悬浮液2中，以调整得到粘度为16-23mPa·s、表面张力为28-32mN/m、密度为1.4-1.6g/cm3的釉料悬浮液2；
步骤S24，将调整后的釉料悬浮液2过筛，即得所述保护釉。
本发明还公开了一种超薄陶瓷岩板用釉料的应用，即将上述的一种超薄陶瓷岩板用釉料经高压喷釉工艺应用于3mm或3mm以下厚度的超薄陶瓷岩板的坯体表面，烧成后即得超薄陶瓷岩板。
与现有技术相比，本发明至少包括以下有益效果：
传统高压喷釉用的釉料是以水作为溶剂的釉浆，水容易渗透坯体进而严重影响超薄陶瓷岩板的坯体强度，影响产品优等率；而溶剂型的数码釉需采用数码喷釉工艺施釉，而数码喷釉工艺需要配套价格高昂的喷墨打印机及喷头，且施釉量有限，进而影响产品质感，而且，数码釉制造成本高昂，使用条件苛刻。
基于此，本发明将水溶性有机溶剂和自制的无水聚丙烯酸分散剂，搭配面釉（或保护釉）干料，再添加助剂润湿流平剂、消泡剂、防沉剂和哑光（或亮光）熔块粉，能够制备不含水且能适用于高压喷釉工艺的无水釉料（包括面釉和保护釉）；其中，该自制的无水聚丙烯酸分散剂能使该无水釉料的沉淀大大减少，从而有效提高该无水釉料的稳定性，以确保该无水釉料能适用于高压喷釉工艺；且由于该无水釉料不含水分，所以该无水釉料喷射至坯体表面后，渗透至坯体内部的速度极慢，从而能有效地保证坯体的强度，提高产品的断裂模数，降低产品烧后的缺陷率，因此，能适应用于3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板产品。
同时，通过提高高压喷釉设备的压力即能提高本发明的釉料的施釉量，从而能有效提高坯体表面的遮盖力和发色性能，提高产品的耐磨性，使釉面更加细腻，提升3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板产品的质感；此外，相比数码喷釉工艺和数码釉，本发明的釉料及其所适用的高压喷釉工艺的投入成本均大大降低，进而降低了3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板产品的施釉成本。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例1
本实施例的一种超薄陶瓷岩板用釉料的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1面釉的制备：
步骤S11，将13%乙二醇、10%甘油、0.1% Surfynol 440、0.1% Tego® Foamex 810、0.3% BYK-410和3%自制无水聚丙烯酸分散剂加入至立式砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液1。
步骤S12，向透明溶液1中缓慢加入20%钠长石、9%白云石、5.5%高铝矾土、5.5%硅酸锆和5%哑光熔块粉（哑光熔块粉由58% SiO2、23% Al2O3、5.6% K2O、3.2% Na2O、3% CaO、5.2%MgO和2% SrO组成），边搅拌边研磨，研磨介质为1mm的氧化锆球，研磨至D97为7.798μm，得到釉料悬浮液1。
步骤S13，将剩余的18.5%乙二醇和10%甘油加入至上述釉料悬浮液1中进行性能调整，调整后的釉料悬浮液1的粘度为19.5mPa·s、表面张力为28.5mN/m、密度为1.47g/cm3。
步骤S14，将调整后的釉料悬浮液1经过350目筛过滤，即得本实施例的面釉。
步骤S2保护釉的制备：
步骤S21，将13%乙二醇、10%甘油、0.1% Surfynol 440、0.1% Tego® Foamex 810、0.2% BYK-410和2%自制无水聚丙烯酸分散剂加入至立式砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液2。
步骤S22，向透明溶液2中缓慢加入5%硅灰石、17%钠长石、4%高岭土、1.3%烧滑石、1.3%煅烧氧化锌、5%煅烧氧化铝和8.4%亮光熔块粉（亮光熔块粉由58% SiO2、13% Al2O3、5%K2O、4% Na2O、8% CaO和12% ZnO组成），边搅拌边研磨，研磨介质为1mm的氧化锆球，研磨至D97为8.512μm，得到釉料悬浮液2。
步骤S23，将剩余的20.6%乙二醇和12%甘油加入至上述釉料悬浮液2中进行性能调整，调整后的釉料悬浮液2的粘度为16.8mPa·s、表面张力为28.2mN/m、密度为1.41g/cm3。
步骤S24，将调整后的釉料悬浮液2经过350目筛过滤，即得本实施例的保护釉。
本实施例的步骤S11和步骤S21中的无水聚丙烯酸分散剂的制备工艺为：
加入25g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至80°C，通氮气，滴加48g丙烯酸和25g苯乙烯，再滴加90g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2g疏基丙酸，滴加时间为10min，再滴加1.65g偶氮二异丁氰溶液（偶氮二异丁氰溶于145g N-甲基吡咯烷酮中，即得偶氮二异丁氰溶液），滴加时间为2h，滴加完成后，控制反应温度为80°C，反应1.5h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为本实施例的无水聚丙烯酸分散剂。
实施例2
本实施例的一种超薄陶瓷岩板用釉料的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1面釉的制备：
步骤S11，将9%乙二醇、15%二乙二醇、0.15% Tego® Wet 505、0.15% SN-Defoamer485、0.5% Vok®-Keperrhevok-422和2.5%自制无水聚丙烯酸分散剂加入至立式砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液1。
步骤S12，向透明溶液1中缓慢加入21%钠长石、12%白云石、6%高铝矾土、6%硅酸锆和3%哑光熔块粉（哑光熔块粉由63% SiO2、20% Al2O3、3% K2O、4.2% Na2O、4.2% CaO、2% MgO和3.6% SrO组成），边搅拌边研磨，研磨介质为1mm的氧化锆球，研磨至D97为9.237μm，得到釉料悬浮液1。
步骤S13，将剩余的14.7%乙二醇和10%二乙二醇加入至上述釉料悬浮液1中进行性能调整，调整后的釉料悬浮液1的粘度为20.4mPa·s、表面张力为28.9mN/m、密度为1.52g/cm3。
步骤S14，将调整后的釉料悬浮液1经过350目筛过滤，即得本实施例的面釉。
步骤S2保护釉的制备：
步骤S21，将9%乙二醇、15%二乙二醇、0.1% Tego® Wet 505、0.1% SN-Defoamer485、0.4% Vok®-Keperrhevok-422和2.3%自制无水聚丙烯酸分散剂加入至立式砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液2。
步骤S22，向透明溶液2中缓慢加入5%硅灰石、18%钠长石、3%高岭土、1.8%烧滑石、1.4%煅烧氧化锌、6%煅烧氧化铝和9.8%亮光熔块粉（亮光熔块粉由62.3% SiO2、10% Al2O3、2% K2O、6.4% Na2O、11.3% CaO和8% ZnO组成），边搅拌边研磨，研磨介质为1mm的氧化锆球，研磨至D97为8.365μm，得到釉料悬浮液2。
步骤S23，将剩余的19.1%乙二醇和9%二乙二醇加入至上述釉料悬浮液2中进行性能调整，调整后的釉料悬浮液2的粘度为18.8mPa·s、表面张力为29.8mN/m、密度为1.45g/cm3。
步骤S24，将调整后的釉料悬浮液2经过350目筛过滤，即得本实施例的保护釉。
本实施例的步骤S11和步骤S21中的无水聚丙烯酸分散剂的制备工艺为：
加入35g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至70°C，通氮气，滴加57g丙烯酸和30g苯乙烯，再滴加106g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2.5g疏基丙酸，滴加时间为15min，再滴加2g偶氮二异丁氰溶液（偶氮二异丁氰溶于160g N-甲基吡咯烷酮中，即得偶氮二异丁氰溶液），滴加时间为2.5h，滴加完成后，控制反应温度为75°C，反应3h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为无水聚丙烯酸分散剂。
实施例3
本实施例的一种超薄陶瓷岩板用釉料的制备方法，包括如下步骤：
步骤S1面釉的制备：
步骤S11，将10%异丙醇、14%甘油、5%二乙二醇单丁醚、0.15% Toynol® Superwet-300、0.15% Tego® Foamex 810、0.5% Vok®-Keperrhevok-422和3%自制无水聚丙烯酸分散剂加入至立式砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液1。
步骤S12，向透明溶液1中缓慢加入23%钠长石、12%白云石、6%高铝矾土、6%硅酸锆和5%哑光熔块粉（哑光熔块粉由62% SiO2、21% Al2O3、3% K2O、3% Na2O、4% CaO、4% MgO和3%SrO组成），边搅拌边研磨，研磨介质为1mm的氧化锆球，研磨至D97为7.337μm，得到釉料悬浮液1。
步骤S13，将剩余的5.2%甘油和10%二乙二醇单丁醚加入至上述釉料悬浮液1中进行性能调整，调整后的釉料悬浮液1的粘度为24.6mPa·s、表面张力为29.7mN/m、密度为1.6g/cm3。
步骤S14，将调整后的釉料悬浮液1经过350目筛过滤，即得本实施例的新型面釉。
步骤S2保护釉的制备：
步骤S21，将5%乙二醇、15%二乙二醇、6%甘油、0.06% Tego® Wet 505、0.06% SN-Defoamer 485、0.38% Vok®-Keperrhevok-422和3%自制无水聚丙烯酸分散剂加入至立式砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液2。
步骤S22，向透明溶液2中缓慢加入5.5%硅灰石、20%钠长石、3%高岭土、2%烧滑石、1.7%煅烧氧化锌、6.5%煅烧氧化铝和11.3%亮光熔块粉（亮光熔块粉由60% SiO2、11% Al2O3、3% K2O、6% Na2O、10% CaO和10% ZnO组成），边搅拌边研磨，研磨介质为1mm的氧化锆球，研磨至D97为9.135μm，得到釉料悬浮液2。
步骤S23，将剩余的20.5%二乙二醇加入至上述釉料悬浮液2中进行性能调整，调整后的釉料悬浮液2的粘度为22.3mPa·s、表面张力为30.1mN/m、密度为1.56g/cm3。
步骤S24，将调整后的釉料悬浮液2经过350目筛过滤，即得本实施例的保护釉。
本实施例的步骤S11和步骤S21中的无水聚丙烯酸分散剂的制备工艺为：
加入30g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至75°C，通氮气，滴加54g丙烯酸和27g苯乙烯，再滴加100g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2.25g疏基丙酸，滴加时间为12min，再滴加1.95g偶氮二异丁氰溶液（偶氮二异丁氰溶于150g N-甲基吡咯烷酮中，即得偶氮二异丁氰溶液），滴加时间为2.5h，滴加完成后，控制反应温度为78°C，反应2h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为无水聚丙烯酸分散剂。
对比例1
本对比例的一种釉料的制备方法，以及面釉和保护釉的组分和含量均参照实施例3，其区别在于：
本对比例的面釉中所用的分散剂改为0.15%羧甲基纤维素钠和0.15%三聚磷酸钠，溶剂改为水，得到本对比例的面釉。
同样，本对比例的保护釉中所用的分散剂改为0.15%羧甲基纤维素钠和0.15%三聚磷酸钠，溶剂改为水，得到本对比例的保护釉。
对比例2
本对比例的一种釉料的制备方法，以及面釉和保护釉的组分和含量均参照实施例3，其区别在于：
本对比例的面釉中所用的分散剂改为Tego Dispers 752W，得到本对比例的面釉。
同样，本对比例的保护釉中所用的分散剂改成Tego Dispers 752W，得到本对比例的保护釉。
若没有特别说明，以上实施例1-3及对比例1-2中面釉和保护釉的各组分的含量均以重量百分比计。
性能测试
1、分别测试上述实施例1-3及对比例1-2的釉料的沉淀率。具体过程为：将釉料装于玻璃瓶内，密闭并于60°C下放置7天，将样品倒置5分钟，记录玻璃瓶内剩余釉料的重量，计算剩余釉料的重量与总釉料的重量之间的比值，即为沉淀率。其测试结果如表1所示：
表1 釉料的沉淀率
样品 实施例1 实施例2 实施例3 对比例1 对比例2
面釉沉淀率（%） 10% 11% 9% 45% 29%
保护釉沉淀率（%） 9% 10% 9% 43% 27%
从表1可以看出，自制无水聚丙烯酸分散剂的添加能使实施例1-3的面釉和保护釉具有更低的沉淀率及更好的稳定性，进而能使实施例1-3的无水的面釉和保护釉能适应于高压喷釉工艺。
2、分别将实施例1-3及对比例1-2的釉料通过高压喷釉工艺在同一种坯体上施完面釉后施保护釉，调节施釉量使所施的面釉和保护釉干料重量均为100g/m2，然后，经1200°C烧制40min后，得到厚度不大于3mm的瓷砖样品；烧前施釉后的坯体断裂模数和烧后瓷砖样品断裂模数如表2所示：
表2 烧前坯体断裂模数和烧后瓷砖样品断裂模数
样品 实施例1 实施例2 实施例3 对比例1 对比例2
坯体断裂模数（MPa） 1.3 1.4 1.4 1.1 1.3
瓷砖样品断裂模数（MPa） 49.2 50.5 52.7 42.3 48.8
从表2可以看出，相对传统釉料，本发明的釉料对提高厚度不大于3mm的瓷砖样品的断裂模数是有利的，因此能有效提高3mm及以下厚度的超薄陶瓷岩板产品的合格率。
尽管已描述了本发明实施例的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明实施例范围的所有变更和修改。
以上对本发明所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，包括面釉和保护釉，所述面釉配方中各组分的重量百分比为：
面釉干料44-52%、水溶性有机溶剂44-52%、润湿流平剂0.1-0.15%、消泡剂0.1-0.15%、防沉剂0.3-0.5%和分散剂2-3%；
其中，所述面釉干料配方中各组分的重量百分比为：
钠长石44-48%、白云石20-25%、高铝矾土11-13%、硅酸锆11-13%和哑光熔块粉6-12%；
所述保护釉配方中各组分的重量百分比为：
保护釉干料42-51%、水溶性有机溶剂46-56%、润湿流平剂0.06-0.1%、消泡剂0.06-0.1%、防沉剂0.2-0.4%和分散剂2-3%；
其中，所述保护釉干料配方中各组分的重量百分比为：
硅灰石10-12%、钠长石38-42%、高岭土5-10%、烧滑石3-5%、煅烧氧化锌3-4%、煅烧氧化铝11-14%和亮光熔块粉20-23%；
所述分散剂为自制的无水聚丙烯酸分散剂。
2.根据权利要求1所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述分散剂的制备工艺为：
加入25-35g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至70-80°C，通氮气，滴加48-57g丙烯酸和25-30g苯乙烯，再滴加90-106g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2-2.5g疏基丙酸，滴加时间为10-15min，再滴加1.65-2g偶氮二异丁氰溶液，滴加时间为2-2.5h，滴加完成后，控制反应温度为75-80°C，反应1.5-3h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为无水聚丙烯酸分散剂。
3.根据权利要求2所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述分散剂的制备工艺为：
加入30g N-甲基吡咯烷酮后，搅拌并加热至75°C，通氮气，滴加54g丙烯酸和27g苯乙烯，再滴加100g甲氧聚乙二醇二甲基丙烯酸酯，然后滴加2.25g疏基丙酸，滴加时间为12min，再滴加1.95g偶氮二异丁氰溶液，滴加时间为2.5h，滴加完成后，控制反应温度为78°C，继续反应2h，反应结束后，冷却至室温，得到淡黄色透明粘稠物，即为无水聚丙烯酸分散剂。
4.根据权利要求1所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述哑光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 58-63%
Al2O3 20-23%
K2O 3-6%
Na2O 3-5%
CaO 3-5%
MgO 2-6%
SrO 2-4%。
5.根据权利要求4所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述哑光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 62%
Al2O3 21%
K2O 3%
Na2O 3%
CaO 4%
MgO 4%
SrO 3%。
6.根据权利要求1所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述亮光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 58-63%
Al2O3 10-13%
K2O 2-5%
Na2O 4-7%
CaO 8-12%
ZnO 8-12%。
7.根据权利要求6所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述亮光熔块粉配方中各组分的重量百分比为：
SiO2 60%
Al2O3 11%
K2O 3%
Na2O 6%
CaO 10%
ZnO 10%。
8.根据权利要求1所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料，其特征在于，所述水溶性有机溶剂为异丙醇、乙二醇、二乙二醇、甘油和二乙二醇单丁醚中的至少两种；
所述润湿流平剂为炔二醇表面活性剂或非硅表面活性剂；
所述消泡剂为聚醚消泡剂；
所述防沉剂为改性聚脲型防沉剂。
9.一种超薄陶瓷岩板用釉料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S1面釉的制备：
步骤S11，按照面釉的配方组分将部分水溶性有机溶剂与润湿流平剂、消泡剂、防沉剂及分散剂加入砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液1；
步骤S12，向透明溶液1中缓慢加入钠长石、白云石、高铝矾土、硅酸锆和哑光熔块粉，边搅拌边研磨，研磨至D97为7-10μm，得到釉料悬浮液1；
步骤S13，将剩余水溶性有机溶剂加入所述釉料悬浮液1中，以调整得到粘度为19-25mPa·s、表面张力为28-30mN/m、密度为1.4-1.6g/cm3的釉料悬浮液1；
步骤S14，将调整后的釉料悬浮液1过筛，即得所述面釉；
步骤S2保护釉的制备：
步骤S21，按照保护釉的配方组分先将部分水溶性有机溶剂与润湿流平剂、消泡剂、防沉剂及分散剂加入砂磨机内，搅拌均匀形成透明溶液2；
步骤S22，向透明溶液2中缓慢加入硅灰石、钠长石、高岭土、烧滑石、煅烧氧化锌、煅烧氧化铝和亮光熔块粉，边搅拌边研磨，研磨至D97为8-10μm，得到釉料悬浮液2；
步骤S23，将剩余水溶性有机溶剂加入所述釉料悬浮液2中，以调整得到粘度为16-23mPa·s、表面张力为28-32mN/m、密度为1.4-1.6g/cm3的釉料悬浮液2；
步骤S24，将调整后的釉料悬浮液2过筛，即得所述保护釉。
10.一种超薄陶瓷岩板用釉料的应用，其特征在于，将权利要求1-8所述的一种超薄陶瓷岩板用釉料经高压喷釉工艺应用于3mm或3mm以下厚度的超薄陶瓷岩板的坯体表面，烧成后即得超薄陶瓷岩板。
CN202110940270.0A 2021-08-17 2021-08-17 一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用 Active CN113387582B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110940270.0A CN113387582B (zh) 2021-08-17 2021-08-17 一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110940270.0A CN113387582B (zh) 2021-08-17 2021-08-17 一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113387582A true CN113387582A (zh) 2021-09-14
CN113387582B CN113387582B (zh) 2022-02-01

Family

ID=77622844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110940270.0A Active CN113387582B (zh) 2021-08-17 2021-08-17 一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113387582B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115894011A (zh) * 2022-06-17 2023-04-04 超瓷材料技术(深圳)有限公司 一种微波介质陶瓷滤波器及其制备方法
CN116178053A (zh) * 2023-02-27 2023-05-30 广东简一(集团)陶瓷有限公司 一种柔光大理石瓷砖及其制备方法
CN117303944A (zh) * 2023-11-30 2023-12-29 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种亮亚一体的陶瓷岩板及制备方法
CN117534326A (zh) * 2023-12-12 2024-02-09 广东兴辉陶瓷集团有限公司 一种岩板保护釉料及打印岩板的制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5939745A (ja) * 1982-08-30 1984-03-05 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 粘度安定性の優れた釉薬解膠剤
CN1789345A (zh) * 2004-12-18 2006-06-21 青岛大学 一种聚羧酸型颜料墨水的制备方法
CN103183765A (zh) * 2013-04-10 2013-07-03 中国日用化学工业研究院 一种粉末状聚丙烯酸类增稠剂的制备方法
CN109369220A (zh) * 2018-05-30 2019-02-22 佛山唯思创意产品策划股份有限公司 一种干粒柔抛瓷砖生产工艺
CN110627510A (zh) * 2019-09-12 2019-12-31 山东国瓷康立泰新材料科技有限公司 一种图案立体感可调的陶瓷砖及其制备方法
CN111470856A (zh) * 2020-04-09 2020-07-31 江西和美陶瓷有限公司 薄型陶瓷岩板及其制备方法
CN112358326A (zh) * 2021-01-14 2021-02-12 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5939745A (ja) * 1982-08-30 1984-03-05 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 粘度安定性の優れた釉薬解膠剤
CN1789345A (zh) * 2004-12-18 2006-06-21 青岛大学 一种聚羧酸型颜料墨水的制备方法
CN103183765A (zh) * 2013-04-10 2013-07-03 中国日用化学工业研究院 一种粉末状聚丙烯酸类增稠剂的制备方法
CN109369220A (zh) * 2018-05-30 2019-02-22 佛山唯思创意产品策划股份有限公司 一种干粒柔抛瓷砖生产工艺
CN110627510A (zh) * 2019-09-12 2019-12-31 山东国瓷康立泰新材料科技有限公司 一种图案立体感可调的陶瓷砖及其制备方法
CN111470856A (zh) * 2020-04-09 2020-07-31 江西和美陶瓷有限公司 薄型陶瓷岩板及其制备方法
CN112358326A (zh) * 2021-01-14 2021-02-12 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张柏清 等: "陶瓷喷墨打印技术的现状及发展", 《佛山陶瓷》 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115894011A (zh) * 2022-06-17 2023-04-04 超瓷材料技术(深圳)有限公司 一种微波介质陶瓷滤波器及其制备方法
CN115894011B (zh) * 2022-06-17 2024-04-26 超瓷材料技术(深圳)有限公司 一种微波介质陶瓷滤波器及其制备方法
CN116178053A (zh) * 2023-02-27 2023-05-30 广东简一(集团)陶瓷有限公司 一种柔光大理石瓷砖及其制备方法
CN116178053B (zh) * 2023-02-27 2024-03-26 广东简一(集团)陶瓷有限公司 一种柔光大理石瓷砖及其制备方法
CN117303944A (zh) * 2023-11-30 2023-12-29 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种亮亚一体的陶瓷岩板及制备方法
CN117303944B (zh) * 2023-11-30 2024-02-13 佛山市陶莹新型材料有限公司 一种亮亚一体的陶瓷岩板及制备方法
CN117534326A (zh) * 2023-12-12 2024-02-09 广东兴辉陶瓷集团有限公司 一种岩板保护釉料及打印岩板的制备方法
CN117534326B (zh) * 2023-12-12 2024-09-10 广东兴辉陶瓷集团有限公司 一种岩板保护釉料及打印岩板的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN113387582B (zh) 2022-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113387582B (zh) 一种超薄陶瓷岩板用釉料及其制备方法和应用
CN107417117B (zh) 一种陶瓷釉料及其制备方法
CN110642521B (zh) 高耐磨防污微晶装饰陶瓷厚板及其制备方法
CN111807704B (zh) 应用于卫生陶瓷的亚光釉及应用其的卫生陶瓷和制备方法
CN112239372A (zh) 一种抗菌釉料、抗菌砖及其制备方法
CN114292023B (zh) 一种全数码喷釉用数码釉墨水及其制备方法和应用
CN108821588B (zh) 高铝钡陶瓷釉料、含高铝钡陶瓷釉料的喷墨陶瓷砖及其制备方法
CN114436625B (zh) 超薄型陶瓷岩板及其制备方法
CN112279516A (zh) 一种高耐磨高透明缎光釉、制备方法及大规格缎光岩板
CN110526694B (zh) 一种热膨胀系数可调的大理石瓷砖坯料及其制备方法
CN114873916B (zh) 一种稳色保护釉、陶瓷砖及其制备方法
CN112500125B (zh) 一种表面超平的陶瓷岩板及其制备方法和应用
CN108892478B (zh) 一种低温瓷及其制备方法
CN112110750A (zh) 一种超白瓷抛大理石及其制备方法
CN113354387B (zh) 一种莫来石增韧陶瓷岩板及其制备方法和应用
CN111559905B (zh) 一种高强、高透、高平的瓷质薄板
CN111533547B (zh) 一种低铝高硅高强度不变形釉面砖及其制备方法
CN110655384A (zh) 一种高稳定性琉璃瓦的制备方法
CN1314619C (zh) 一种超白抛光砖及其制作工艺
CN113716869B (zh) 一种用于陶瓷大板的超平釉及纯色陶瓷大板的制备工艺
CN104860645A (zh) 一种利用黄土制备的琉璃瓦
CN104844155A (zh) 一种利用红土制备的琉璃瓦
CN111233324A (zh) 电瓷灰釉釉料、电瓷灰釉及其制备
CN104944908A (zh) 一种利用紫砂土制备的琉璃瓦
CN107759194A (zh) 一种页岩卫生陶瓷及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant