CN113337793A - 一种超硬纳米复合涂层的制备pvd设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，包括安装于地面上的桶体和设置于桶体上端的盖板，所述盖板顶面的中心处安装有第一电机，第一电机的转轴延伸至盖板下端，并安装有电动滑台，电动滑台的移动平台上安装有第二电机，第二电机的转轴上安装有工件架，地面位于桶体的外侧设有环形槽，环形槽中滑动安装有一块以上的滑块，滑块上端均安装有底板，底板一端均垂直安装有挡板。本发明结构简单，增加了盖板移动时的稳定性，通过电动滑台能将工件架向一侧移动，且通过第二电机能带动工件架转动，使工件架内侧的产品能转至外侧，方便了取料和装料，且通过一块以上的挡板能将桶体除去取料处剩余区域全部挡住，增加了安全性。
Description
技术领域
本发明涉及金属表面处理技术领域，具体涉及一种超硬纳米复合涂层的制备PVD设备。
背景技术
类金刚石薄膜是一种碳材料，部分碳原子以金刚石结构的sp3键结合，另一部分碳-碳原子之间以石墨结构的sp2化学键结合，其兼具金刚石与石墨的优良性能。类金刚石薄膜最先于1971年在研究中被发现，经过数十年的发展，目前已经达到半工业化水平，在工业各领域包括航空航天、精密机械、微电子机械装置、磁盘存储器、汽车零部件、光学器材和生物医学等获得了产业化应用，可以大幅提高零部件寿命，节约零部件摩擦磨损所导致的能源与资源消耗。
类金刚石薄膜一般通过PVD离子镀膜机进行镀膜，主要方式是蒸发和溅射两种，沉降在基片表面，达到成膜。
真空镀膜机一般包括可开合的桶体的盖体、位于桶体内部的真空腔、设置于真空腔内用于喷料的溅射靶、连通于桶体上的真空泵；盖体上固定有用于固定基片的工件架，以及转动工件架的电机。由于真空镀膜机的体积和重量都很大，盖体只能通过起吊机构吊起，而且桶体和盖体会分别设置于一楼和二楼。使用时需要将盖体吊起，再将基片放置于工件架上，再将盖体缓慢降下至与桶体盖合。若盖体与桶体不吻合，则会影响桶体内的真空环境，从而影响镀膜质量。且起吊机构将盖体进行下降时，不可避免的会发生晃动，无法保证盖体与桶体抵接时，盖体与桶体完全吻合，且一旦盖体打开后，桶体上开口处于敞开状态，在进行取料和加料时，容易造成工作人员掉入桶体中，非常的危险。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明是通过以下技术方案来实现的：一种超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，包括安装于地面上的桶体和设置于桶体上端的盖板，所述盖板顶面的中心处安装有第一电机，第一电机的转轴延伸至盖板下端，并安装有电动滑台，电动滑台的移动平台上安装有第二电机，第二电机的转轴上安装有工件架，地面位于桶体的外侧设有环形槽，环形槽中滑动安装有一块以上的滑块，滑块上端均延伸至外界，并均安装有底板，底板一端均垂直安装有挡板，挡板的内侧面均与盖板的外圈面相触。
作为优选的技术方案，环形槽和滑块的截面均呈燕尾状结构设置，滑块的底面和两侧均设有一个以上的球槽，球槽中均活动安装有滚珠，滚珠一部分均顺着球槽的开口延伸至外界，并均与环形槽的内壁面相触。
作为优选的技术方案，挡板的外侧面上均安装有手把，挡板的截面均呈弧形结构设置，挡板之间均相触。
作为优选的技术方案，电动滑台的长度小于桶体的内径。
作为优选的技术方案，挡板和底板均由金属材料一体成型设置。
作为优选的技术方案，还包括一用于实现第一电机、第二电机、电动滑台控制的PLC控制器。
本发明的有益效果是：本发明结构简单，盖板能贴着挡板上下移动，增加盖板移动时的稳定性，通过电动滑台能将工件架向一侧移动，且通过第二电机能带动工件架转动，使工件架内侧的产品能转至外侧，方便了取料和装料，避免了工作人员伸入桶体的开口，增加安全性，且通过一块以上的挡板能将桶体除去取料处剩余区域全部挡住，增加了安全性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的整体结构示意图；
图2为本发明中环形槽和挡板的结构示意图；
图3图1中A的放大图。
图4为环形槽与挡板、底板的布置方式示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、 “上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定相连、设置，也可以是可拆卸连接、设置，或一体地连接、设置。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
如图1-图4所示，本发明的一种超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，包括安装于地面13上的桶体1和设置于桶体1上端的盖板11，所述盖板11顶面的中心处安装有第一电机9，第一电机9的转轴延伸至盖板11下端，并安装有电动滑台12，电动滑台12的移动平台上安装有第二电机8，第二电机8的转轴上安装有工件架7，地面13位于桶体的外侧设有环形槽14，环形槽14中滑动安装有一块以上的滑块2，滑块2上端均延伸至外界，并均安装有底板4，底板4一端均垂直安装有挡板5，挡板5的内侧面均与盖板11的外圈面相触。
本实施例中，环形槽14和滑块2的截面均呈燕尾状结构设置，滑块2的底面和两侧均设有一个以上的球槽，球槽中均活动安装有滚珠3，滚珠3一部分均顺着球槽的开口延伸至外界，并均与环形槽14的内壁面相触，通过滚珠增加了挡板移动时的便捷性和流畅性，方便了推动。
本实施例中，挡板5的外侧面上均安装有手把6，挡板5的截面均呈弧形结构设置，挡板5之间均相触，增加了挡板之间的密封性。
本实施例中，电动滑台12的长度小于桶体1的内径，使电动滑台能伸入到桶体中，在进行覆膜时，电动滑台上的移动平台可移至中间，第一电机则能带动电动滑台和工件架在桶体的中间转动，保证涂层的均匀性。
本实施例中，挡板5和底板4均由金属材料一体成型设置，增加了底板和挡板连接处的牢固性。
本实施例中，还包括一用于实现第一电机9、第二电机8、电动滑台12控制的PLC控制器。
本具体实施使用时，通过起吊机构将盖板抬起，抬起的过程中盖板能贴着挡板向上移动，增加盖板移动时的稳定性，在完全打开后，通过电动滑台能将带动第二电机和工件架向一侧移动，使工件架能位于地面上，且通过第二电机能带动工件架转动，使工件架内侧的产品能转至外侧，方便了取料和装料，避免了工作人员伸入桶体的开口，增加安全性；
且通过一块以上的挡板能沿着环形槽转动，能将桶体除去取料处剩余区域全部挡住，增加了安全性，避免了其他工人掉落到桶体中。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (6)
1.一种超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，其特征在于：包括安装于地面（13）上的桶体（1）和设置于桶体（1）上端的盖板（11），所述盖板（11）顶面的中心处安装有第一电机（9），第一电机（9）的转轴延伸至盖板（11）下端，并安装有电动滑台（12），电动滑台（12）的移动平台上安装有第二电机（8），第二电机（8）的转轴上安装有工件架（7），地面（13）位于桶体的外侧设有环形槽（14），环形槽（14）中滑动安装有一块以上的滑块（2），滑块（2）上端均延伸至外界，并均安装有底板（4），底板（4）一端均垂直安装有挡板（5），挡板（5）的内侧面均与盖板（11）的外圈面相触。
2.根据权利要求1所述的超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，其特征在于：环形槽（14）和滑块（2）的截面均呈燕尾状结构设置，滑块（2）的底面和两侧均设有一个以上的球槽，球槽中均活动安装有滚珠（3），滚珠（3）一部分均顺着球槽的开口延伸至外界，并均与环形槽（14）的内壁面相触。
3.根据权利要求1所述的超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，其特征在于：挡板（5）的外侧面上均安装有手把（6），挡板（5）的截面均呈弧形结构设置，挡板（5）之间均相触。
4.根据权利要求1所述的超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，其特征在于：电动滑台（12）的长度小于桶体（1）的内径。
5.根据权利要求1所述的超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，其特征在于：挡板（5）和底板（4）均由金属材料一体成型设置。
6.根据权利要求1所述的超硬纳米复合涂层的制备PVD设备，其特征在于：还包括一用于实现第一电机（9）、第二电机（8）、电动滑台（12）控制的PLC控制器。
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210903 |
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