CN113301979B - 过滤滤除器 - Google Patents

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Abstract

本发明的过滤滤除器具备表层、形成在比所述表层更靠内部侧的母材、和形成在所述表层与所述母材之间的中间层，所述表层将Pd作为主成分，所述母材将PdNi合金作为主成分，所述中间层将Pd和Ni的成分比率从所述表层侧朝向所述母材侧变化的PdNi合金作为主成分。根据这样的结构，能够使过滤滤除器的耐腐蚀性提高。

Description

过滤滤除器
技术领域
本发明涉及过滤滤除器。
背景技术
作为过滤滤除器，例如，已知专利文献1记载的生物体物质捕获用的滤除器。专利文献1记载的滤除器在由金以外的金属制作的生物体物质捕获用的滤除器的表面实施镀金，镀金为无电解镀金。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-88932号公报
发明内容
发明要解决的课题
但是，在专利文献1的滤除器中，在使耐腐蚀性提高这一点上仍有改善的余地。
本发明的目的在于，提供一种能够使耐腐蚀性提高的过滤滤除器。
用于解决课题的手段
本发明的一个方式的过滤滤除器具备：
表层；
母材，形成在比所述表层更靠内部侧；和
中间层，形成在所述表层与所述母材之间，
所述表层将Pd作为主成分，
所述母材将PdNi合金作为主成分，
所述中间层将Pd和Ni的成分比率从所述表层侧朝向所述母材侧变化的PdNi合金作为主成分。
发明效果
根据本发明，能够提供一种能够使耐腐蚀性提高的过滤滤除器。
附图说明
图1是本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的一例的一部分的概略立体图。
图2是从厚度方向对图1的过滤滤除器的一部分进行了观察的概略图。
图3是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的结构的一例的一部分的示意图。
图4A是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图4B是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图4C是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图4D是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图4E是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图4F是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图4G是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器的制造工序的一例的图。
图5是示出实施例1的滤除器基体部的相对于深度方向的Pd和Ni的成分比率的分析数据。
图6是示出实施例1的滤除器基体部的表层的成分分析结果的表。
图7是示出实施例2的滤除器基体部的表层的成分分析结果的表。
图8是示出实施例3中的Ni的溶出浓度的分析结果的图。
图9是示出实施例3中的Pd的溶出浓度的分析结果的图。
图10是示出实施例4中的Ni的溶出浓度的分析结果的图。
图11是示出实施例4中的Pd的溶出浓度的分析结果的图。
图12是示出实施例5中的Pd浓度比与镀敷膜的Pd浓度比的关系的一例的图。
图13是示出实施例5中的各组成比下的PdNi镀敷膜的表层的Ni成分的分析结果的图。
图14是示出实施例6中的Ni的溶出浓度的分析结果的图。
图15是示出实施例7中的过滤滤除器的表层的Ni成分的分析结果的图。
图16A是示出实施例8中的样本A1的EDX映射的图。
图16B是示出实施例8中的样本A2的EDX映射的图。
图17是示出比较例1的过滤滤除器的结构的一例的一部分的示意图。
图18是本发明涉及的实施方式2的筛网的一例的概略部分剖视图。
图19A是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19B是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19C是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19D是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19E是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19F是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19G是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19H是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19I是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19J是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
图19K是示出本发明涉及的实施方式2的筛网的制造工序的一例的图。
具体实施方式
(完成本发明的经过)
在过滤滤除器中，已知用于捕获生物体物质的过滤滤除器(例如，参照专利文献1)。在这样的过滤滤除器中，通过进行镀敷等从而用贵金属对由贱金属形成的母材的表面进行涂布，在贱金属的母材的表面形成了贵金属的表层。由此，抑制了在过滤滤除器与生理盐水等电解质溶液接触时母材溶解的情况。
但是，在这样的过滤滤除器中，存在如下情况，即，在对母材进行了涂布的表层产生瑕疵。例如，在母材的表面附着了杂质的情况或者母材表面的表面粗糙度大的情况下，有时在该部位不附着涂布材料，产生可能使母材表面露出的瑕疵。在该情况下，存在如下问题，即，电解质溶液会通过表层的瑕疵与母材接触，母材从瑕疵溶出。
此外，在用贵金属对母材进行涂布的情况下，形成为贵金属的表层层叠在贱金属的母材的表面。因此，在贵金属的表层与贱金属的母材之间形成连续相连的界面。
本发明的发明人们新发现了如下课题，即，在电解质溶液通过表层的瑕疵流入到过滤滤除器的内部的情况下，表层和母材经由电解质溶液接触从而在表层和母材的界面形成局部电池(local cell)，母材被腐蚀。
若更详细地说明，则在使得用贵金属对贱金属的母材进行了涂布的过滤滤除器与电解质溶液接触的情况下，有时电解质溶液从表层的瑕疵流入到过滤滤除器内部，电解质溶液会接触表层和母材的界面。由此，由贵金属的表层、贱金属的母材、以及与表层和母材的界面接触的电解质溶液形成局部电池。其结果是，在贱金属的母材表面发生阳极反应，母材被腐蚀。此外，在连续相连的界面，容易与从表层的瑕疵流入的电解质溶液接触，容易发生腐蚀。进而，在连续相连的界面，在母材的一部分发生了腐蚀的情况下，腐蚀容易扩散到母材整体。
由于这些问题，难以使过滤滤除器的耐腐蚀性提高。因此，本发明的发明人们发现如下过滤滤除器从而完成了以下的发明，该过滤滤除器在以Pd为主成分的表层与以PdNi合金为主成分的母材之间设置了以Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金为主成分的中间层。
本发明的一个方式的过滤滤除器具备：
表层；
母材，形成在比所述表层更靠内部侧；和
中间层，形成在所述表层与所述母材之间，
所述表层将Pd作为主成分，
所述母材将PdNi合金作为主成分，
所述中间层将Pd和Ni的成分比率从所述表层侧朝向所述母材侧变化的PdNi合金作为主成分。
根据这样的结构，能够使耐腐蚀性提高。
所述中间层中的Ni相对于Pd的比例也可以朝向所述过滤滤除器的深度方向增加。
根据这样的结构，能够使耐腐蚀性进一步提高。
所述中间层的厚度也可以比所述表层的厚度大。
根据这样的结构，能够使耐腐蚀性进一步提高。
所述中间层也可以形成在距所述过滤滤除器的表面的深度大于10nm且为35nm以下的区域。
根据这样的结构，能够使耐腐蚀性进一步提高。
也可以是，所述母材中的Pd和Ni的成分比率为80∶20，
所述中间层中的Pd和Ni的成分比率在100∶0以上且80∶20以下的范围内变化。
根据这样的结构，能够使耐腐蚀性进一步提高。
也可以是，所述母材中的Pd和Ni的成分比率为75∶25以上且85∶15以下，
所述中间层中的Pd和Ni的成分比率在100∶0以上且75∶25以下的范围内变化。
根据这样的结构，能够使耐腐蚀性进一步提高。
以下，参照附图对本发明涉及的实施方式1进行说明。此外，在各图中，为了使说明容易，夸张地示出了各要素。
(实施方式1)
[整体结构]
图1是本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器10的一例的一部分的概略立体图。图2是从厚度方向对图1的过滤滤除器10的一部分进行了观察的概略图。图中的X、Y、Z方向分别示出过滤滤除器10的纵向、横向、厚度方向。另外，图1以及2将过滤滤除器10的一部分放大示出。
如图1以及图2所示，过滤滤除器10具备具有多个贯通孔11的滤除器基体部12。过滤滤除器10是如下的板状构造体，即，具有捕捉液体中包含的过滤对象物的第1主面PS1、和与第1主面PS1对置的第2主面PS2。
在本说明书中，所谓“过滤对象物”，意味着液体中包含的对象物之中应被过滤的对象物。例如，过滤对象物也可以是液体中包含的生物来源物质。所谓“生物来源物质”，意味着细胞(真核生物)、细菌(真细菌)、病毒等来源于生物的物质。作为细胞(真核生物)，例如，包含人工多能干细胞(iPS细胞)、ES细胞、干细胞、间充质干细胞、单核细胞、单细胞、细胞团块、悬浮细胞、黏附细胞、神经细胞、白血球、再生医疗用细胞、自体细胞、癌细胞、血中循环癌细胞(CTC)、HL-60、HELA、菌类。作为细菌(真细菌)，例如，包含大肠杆菌、结核菌。所谓“液体”，例如是电解质溶液、细胞悬浊液、细胞培养基等。
多个贯通孔11在滤除器基体部12中周期性地配置在过滤滤除器10的第1主面PS1以及第2主面PS2上。具体地，多个贯通孔11在滤除器基体部12中呈矩阵状地等间隔设置。
在实施方式1中，贯通孔11从过滤滤除器10的第1主面PS1侧即Z方向观察具有正方形的形状。另外，贯通孔11从过滤滤除器10的厚度方向(Z方向)观察的形状不限定于正方形，例如也可以是长方形、多边形、圆形、或者椭圆等形状。
在实施方式1中，投影到与过滤滤除器10的第1主面PS1垂直的面的贯通孔11的形状(剖面形状)为长方形。具体地，过滤滤除器10的纵向(X方向)以及横向(Y方向)上的贯通孔11的一边的长度比过滤滤除器10的厚度方向(Z方向)上的贯通孔11的深度长。另外，贯通孔11的剖面形状不限定于长方形，例如，既可以是平行四边形或者梯形等锥形形状，也可以是对称形状，还可以是非对称形状。
在实施方式1中，从过滤滤除器10的第1主面PS1侧(Z方向)观察，多个贯通孔11在与正方形的各边平行的两个排列方向即图1中的X方向和Y方向上以相等的间隔设置。像这样，通过以正方格子排列来设置多个贯通孔11，从而能够提高开口率，能够降低液体相对于过滤滤除器10的通过阻力。根据这样的结构，能够缩短过滤的时间，降低对过滤对象物的应力。
另外，多个贯通孔11的排列不限定于正方格子排列，例如，也可以是准周期排列或者周期排列。作为周期排列的例子，若是方形排列，则也可以是两个排列方向的间隔不等的长方形排列，还可以是三角格子排列或者正三角格子排列等。另外，贯通孔11只要在滤除器基体部12设置有多个即可，排列没有限定。
多个贯通孔11的间隔b根据作为过滤对象物的细胞的种类(大小、形态、性质、弹性)或者量而适当设计。在此，所谓贯通孔11的间隔b，如图2所示，从过滤滤除器10的第1主面PS1侧观察贯通孔11时，意味着任意的贯通孔11的中心和相邻的贯通孔11的中心的距离。在周期排列的构造体的情况下，贯通孔11的间隔b例如大于贯通孔11的一边d的1倍且为10倍以下，优选为贯通孔11的一边d的3倍以下。或者，例如，过滤滤除器10的开口率为10％以上，优选的是，开口率为25％以上。根据这样的结构，能够降低液体相对于过滤滤除器10的通过阻力。因而，能够缩短处理时间，能够降低对细胞的应力。另外，所谓开口率，通过(贯通孔11所占的面积)/(假定未开设贯通孔11时的第1主面PS1的投影面积)来计算。
过滤滤除器10的厚度优选大于贯通孔11的大小(一边d)的0.1倍且为100倍以下。更优选的是，过滤滤除器10的厚度大于贯通孔11的大小(一边d)的0.5倍且为10倍以下。根据这样的结构，能够降低过滤滤除器10对液体的阻力，能够缩短过滤的时间。其结果是，能够降低对过滤对象物的应力。
在过滤滤除器10中，包含过滤对象物的液体所接触的第1主面PS1优选表面粗糙度小。在此，所谓表面粗糙度，意味着在第1主面PS1的任意的5个部位利用触针式高低差计测定出的最大值与最小值之差的平均值。在实施方式1中，表面粗糙度优选小于过滤对象物的大小，更优选小于过滤对象物的大小的一半。换言之，过滤滤除器10的第1主面PS1上的多个贯通孔11的开口形成在同一平面(XY平面)上。此外，作为未形成贯通孔11的部分的滤除器基体部12相连，形成为一体。根据这样的结构，可降低过滤对象物向过滤滤除器10的表面(第1主面PS1)的附着，能够降低液体的阻力。
贯通孔11通过第1主面PS1侧的开口和第2主面PS2侧的开口连续的壁面而连通。具体地，贯通孔11设置为第1主面PS1侧的开口能够投影到第2主面PS2侧的开口。即，在从第1主面PS1侧对过滤滤除器10进行了观察的情况下，贯通孔11设置为第1主面PS1侧的开口与第2主面PS2侧的开口重叠。在实施方式1中，贯通孔11设置为其内壁相对于第1主面PS1以及第2主面PS2垂直。
图3是示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器10的结构的一例的一部分的示意图。图3对滤除器基体部12的结构的一例的一部分进行了例示。如图3所示，滤除器基体部12具备表层21、形成在比表层21更靠内部侧的母材22、和形成在表层21与母材22之间的中间层23。表层21将Pd作为主成分。母材22将PdNi合金作为主成分。中间层23将Pd和Ni的成分比率从表层21侧朝向母材22侧变化的PdNi合金作为主成分。
所谓在表层21中“以Pd为主成分”，意味着Pd的原子数在表层21所占的比例多于90％。所谓在母材22中“以PdNi合金为主成分”，意味着Pd的原子数在母材22所占的比例为70％以上。所谓在中间层23中“以PdNi合金为主成分”，意味着Pd的原子数在中间层23所占的比例为50％以上。
所谓“Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金”，意味着构成为Pd的成分量以及Ni的成分量朝向过滤滤除器10的深度方向D1阶段性或者连续性地变化的PdNi合金。例如，作为分析Pd和Ni的成分比率的变化的方法，可使用SIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry：二次离子质谱分析法)。使用SIMS从过滤滤除器10的表面向深度方向D1以给定的间距进行成分分析，由此能够确认Pd和Ni的成分比率。
表层21也可以包含Pd以外的成分。表层21例如也可以包含Au、Pt、Fe、Cu、Ti、C、以及它们的氧化物等。母材22以及中间层23也可以包含PdNi以外的成分。母材22以及中间层23例如也可以包含Au、Pt、Fe、Cu、Ti、Co、Mo、C、以及它们的氧化物等。
表层21为过滤滤除器10的表面的层。表层21隔着中间层23覆盖母材22。表层21将Pd作为主成分，不含Ni。即，在表层21中，Pd和Ni的成分比率为100∶0。
母材22是过滤滤除器10的主要材料，隔着中间层23被表层21覆盖。母材22将Pd和Ni的成分比率固定的PdNi合金作为主成分。母材22的厚度比表层21以及中间层23大。母材22中的Pd和Ni的成分比率为75∶25以上且85∶15以下。在实施方式1中，形成母材22的PdNi合金的Pd和Ni的成分比率为80∶20。
中间层23是形成在表层21与母材22之间的层。中间层23将Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金作为主成分。在中间层23中，Pd和Ni的成分比率朝向过滤滤除器10的深度方向D1变化。具体地，在中间层23中，PdNi合金的Ni相对于Pd的比例从表层21朝向母材22增加。中间层23中的Pd和Ni的成分比率在100∶0以上且75∶25以下的范围内变化。在实施方式1中，形成中间层23的Pd和Ni的成分比率朝向过滤滤除器10的深度方向D1从100∶0到80∶20进行变化。
此外，在中间层23中，Ni分散。因此，在中间层23中，Pd和Ni的界面不连续相连地形成，而是分散地形成。
此外，中间层23的厚度比表层21的厚度大。由此，Pd和Ni的界面容易在过滤滤除器10的厚度方向(Z方向)上分散。其结果是，能够抑制Pd和Ni的界面处的腐蚀。
[制造方法的一例]
使用图4A～4G对过滤滤除器10的制造方法的一例进行说明。图4A～4G示出本发明涉及的实施方式1的过滤滤除器10的制造工序的一例。
如图4A所示，准备硅等基板31。基板31例如也可以被进行表面清洗。
如图4B所示，在基板31上形成厚度为500nm的Cu膜32。例如，Cu膜32通过利用溅射成膜装置进行溅射而形成。或者，Cu膜32也可以通过利用蒸镀装置进行蒸镀而形成。此时，为使基板31和Cu膜32的粘接性提高，也可以在基板31与Cu膜32之间形成厚度为50nm的Ti膜。
如图4C所示，在Cu膜32上涂敷抗蚀剂并使其干燥，从而形成厚度为2μm的抗蚀剂膜33。例如，在Cu膜32上使用旋涂机涂敷感光性正型液体抗蚀剂(住友化学公司制造：Pfi-3A)。另外，旋涂机的条件例如为1140rpm、30sec。接下来，使用加热板对抗蚀剂进行加热干燥，形成厚度为2.0μm的抗蚀剂膜33。另外，加热板的条件例如是加热温度为90℃，加热时间为90秒。
如图4D所示，对抗蚀剂膜33进行曝光以及显影处理，除去相当于滤除器基体部12的部位的抗蚀剂膜33。例如，曝光机使用i线步进式曝光机(Canon制造的Pfi-37A)。显影使用叶片式显影装置(paddle developing apparatus)来进行。显影液使用TMAH(Tetramethylammonium hydroxide，四甲基氢氧化铵)。在进行了曝光以及显影处理之后，进行水洗以及干燥处理。
如图4E所示，使用电解镀敷装置进行PdNi镀敷浴，由此进行电解镀敷。由此，在除去了抗蚀剂膜33的部分形成PdNi镀敷膜34。另外，电解镀敷的条件例如是，电流密度为1A/dm，电量为4AM，镀敷液的pH为7.5，镀敷厚度为1.6μm。
如图4F所示，使用能够进行高压喷射处理的抗蚀剂剥离装置，用剥离液NMP(N-methyl-2-pyrrolidone，N-甲基-2-吡咯烷酮)将抗蚀剂膜33剥离。然后，对PdNi镀敷膜34进行IPA(Isopropyl alcohol，异丙醇)清洗以及水洗处理并使其干燥。
如图4G所示，作为蚀刻液兼PdNi镀敷膜34的表层Ni溶解除去液，对醋酸过氧化氢水溶液(醋酸∶过氧化氢∶水＝5∶5∶90，室温)进行调整，在使搅拌机进行搅拌的同时浸渍处理48小时，将Cu膜32蚀刻除去。由此，从基板31剥离PdNi镀敷膜34，并且将PdNi镀敷膜34的表层的Ni溶解，从而制作滤除器基体部12。
在醋酸过氧化氢水溶液中对PdNi镀敷膜34进行浸渍处理，由此能够从PdNi镀敷膜34的表面朝向内部逐渐地溶解Ni。在PdNi镀敷膜34的表面附近，PdNi镀敷膜34的Ni容易与醋酸过氧化氢水溶液接触，因此Ni容易溶解。另一方面，越是朝向PdNi镀敷膜34的内部，PdNi镀敷膜34的Ni越不易与醋酸过氧化氢水溶液接触，Ni越不易溶解。即，从PdNi镀敷膜34的表面朝向内部，Ni的溶解量逐渐地变少。
像这样，在滤除器基体部12的表面附近，Ni被醋酸过氧化氢水溶液溶解，形成以Pd为主成分的表层21。此外，从滤除器基体部12的表层21朝向深度方向D1，醋酸过氧化氢水溶液对Ni的溶解量逐渐地变少，形成以Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金为主成分的中间层23。而且，Ni未被醋酸过氧化氢水溶液溶解的PdNi镀敷膜34成为母材22。
这样一来，能够制作如下的过滤滤除器10，即，该过滤滤除器10具备：以Pd为主成分的表层21、以PdNi合金为主成分的母材22、以及形成在表层21与母材22之间且以Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金为主成分的中间层23。
[实施例1]
对实施例1进行说明。在实施例1中，将通过上述的制造方法而制造的滤除器基体部12的一部分作为测定样本来使用，并分析了滤除器基体部12的相对于深度方向D1的Pd和Ni的成分比率。另外，在实施例1中，通过在醋酸过氧化氢水溶液中对Pd和Ni的成分比率为80∶20的PdNi镀敷膜34进行浸渍处理，从而制作了滤除器基体部12。
在分析中，使用了SIMS(Secondary Ion Mass Spectrometry：二次离子质谱分析法)。以下示出分析条件。
(分析条件)
测定装置：PHI ADEPT1010(四极型二次离子质谱分析装置)ULVAC-PHI公司制造
一次离子种类：Cs+
一次加速电压：5.0kV
检测区域：75μm×75μm
分析元素：Pd、Ni
在分析中，将一次离子照射到滤除器基体部12的外表面，将由测定装置检测到最初的金属信息之处作为表面，设深度为0nm。因此，在实施例1中，将深度为0nm的面定义为滤除器基体部12的表面。
图5是示出实施例1的滤除器基体部12的相对于深度方向D1的Pd和Ni的成分比率的分析数据。如图5所示，在实施例1中，表层21形成在距滤除器基体部12的表面的深度为0nm以上且10nm以下的区域。即，表层21的厚度为10nm。在表层21中，Pd的成分为100％，Ni的成分为0％。即，在表层21中，Pd和Ni的成分比率成为100∶0。
中间层23形成在距滤除器基体部12的表面的深度大于10nm且30nm以下的区域。更优选的是，中间层23形成在距过滤滤除器10的表面的深度为20nm以上且30nm以下的区域。即，中间层23的厚度为10nm以上且20nm以下。在中间层23中，Pd的成分从100％减少到80％，Ni的成分从0％增大到20％。即，在中间层23中，Pd和Ni的成分比率在100∶0以上且80∶20以下的范围内变化。
另外，在实施例1中，对中间层23形成在距滤除器基体部12的表面的深度大于10nm且为30nm以下的区域的例子进行了说明，但形成中间层23的区域不限定于实施例1。中间层23只要至少形成在距过滤滤除器10的表面的深度为20nm以上且30nm以下的区域即可。例如，中间层23也可以形成在距滤除器基体部12的表面的深度大于10nm且为40nm以下的区域。或者，中间层23也可以形成在距滤除器基体部12的表面的深度大于10nm且为35nm以下的区域。
像这样，中间层23中的PdNi合金的Ni相对于Pd的比例朝向过滤滤除器10的深度方向D1增加。即，中间层23中的PdNi合金的Ni相对于Pd的比例从表层21侧朝向母材22侧增加。
母材22形成在距滤除器基体部12的表面的深度大于30nm的区域。在母材22中，Pd的成分为80％，Ni的成分为20％。在母材22中，Pd和Ni的成分比率固定为80∶20。
接下来，在实施例1中，进行了滤除器基体部12的表面的成分分析。另外，通过XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy，X射线光电子能谱)进行了分析。作为分析条件，对浸渍于醋酸过氧化氢水溶液之前(参照图4F)的PdNi镀敷膜34的表面、和浸渍于醋酸过氧化氢水溶液之后(参照图4G)的滤除器基体部12的表面进行了分析。
图6是示出实施例1的滤除器基体部12的表面的成分分析结果的表。如图6所示，在实施例1中，在浸渍于醋酸过氧化氢水溶液之前的PdNi镀敷膜34的表面，Ni的成分为7％，Pd的成分为93％。
在实施例1中，若将PdNi镀敷膜34浸渍于醋酸过氧化氢水溶液并形成滤除器基体部12，则在滤除器基体部12的表面，Ni的成分成为0％，Pd的成分成为100％。
根据实施例1的分析结果可知，通过在醋酸过氧化氢水溶液中对PdNi镀敷膜34进行浸渍处理，从而能够除去PdNi镀敷膜34的表层的Ni。由此，制作出了具有以Pd为主成分的表层21的滤除器基体部12。
[实施例2]
作为实施例2，在Pd和Ni的成分比率与实施例1不同的条件下，进行了滤除器基体部12的成分分析。在实施例2中，通过在醋酸过氧化氢水溶液中对Pd和Ni的成分比率为50∶50的PdNi镀敷膜34进行浸渍处理，从而制作出滤除器基体部12。另外，实施例2的分析方法以及分析条件与实施例1相同。
图7是示出实施例2的滤除器基体部12的表面的成分分析结果的表。如图7所示，在实施例2中，在浸渍于醋酸过氧化氢水溶液之前的PdNi镀敷膜34的表面，Ni的成分为11％，Pd的成分为89％。
在实施例2中，若将PdNi镀敷膜34浸渍于醋酸过氧化氢水溶液并形成滤除器基体部12，则在滤除器基体部12的表面也是：Ni的成分成为0％，Pd的成分成为100％。
在实施例2的分析结果中，通过在醋酸过氧化氢水溶液中对PdNi镀敷膜34进行浸渍处理，从而也能够除去PdNi镀敷膜34的表层的Ni，制作出具有以Pd为主成分的表层21的滤除器基体部12。
[实施例3]
对实施例3进行说明。在实施例3中，在上述的制造方法中使PdNi镀敷浴用的镀敷液的pH值变化而制造了过滤滤除器10。另外，镀敷液的pH值设为7.2、7.5、7.9。在实施例3中，对所制造的过滤滤除器10进行了溶出试验。在溶出试验中，将过滤滤除器10的表面积为1cm2的部分浸渍于10ml的PBS，在保持为37℃的状态下，在培养箱内保管了一周。然后，使用ICP-MS(安捷伦科技公司(Agilent Technologies)制造)对Pd以及Ni的溶出浓度进行了分析。另外，ICP-MS的Pd以及Ni的检测下限值为0.005μg/ml。
图8是示出实施例3中的Ni的溶出浓度的分析结果的图。图9是示出实施例3中的Pd的溶出浓度的分析结果的图。如图8以及图9所示，Pd的溶出浓度以及Ni的溶出浓度比ICP-MS的Pd以及Ni的检测下限值小。由此可知，在实施例3中，Pd以及Ni未溶出。
优选的是，镀敷液的pH值为7.0以上且8.5以下。更优选的是，镀敷液的pH值为7.2以上且7.9以下。
[实施例4]
对实施例4进行说明。在实施例4中，在上述的制造方法中使进行PdNi镀敷浴时的电流密度变化而制造了过滤滤除器10。另外，电流密度设为2.9[A/dm2]以上且14.5[A/dm2]以下。在实施例4中，对所制造的过滤滤除器10进行了溶出试验。在溶出试验中，将过滤滤除器10的表面积为1cm2的部分浸渍于10ml的PBS，在保持为37℃的状态下，在培养箱内保管了一周。然后，与实施例3同样地，使用ICP-MS(安捷伦科技公司制造)对Pd以及Ni的溶出浓度进行了分析。
图10是示出实施例4中的Ni的溶出浓度的分析结果的图。图11是示出实施例4中的Pd的溶出浓度的分析结果的图。如图10以及图11所示，Pd的溶出浓度以及Ni的溶出浓度比ICP-MS的Pd以及Ni的检测下限值小。由此可知，在实施例4中，Pd以及Ni未溶出。
优选的是，电流密度为0.5[A/dm2]以上且30[A/dm2]以下。更优选的是，电流密度为2.9[A/dm2]以上且14.5[A/dm2]以下。
[实施例5]
对实施例5进行说明。在实施例5中，在上述的制造方法中使PdNi镀敷浴中的Pd和Ni的浓度比变化而形成了PdNi镀敷膜34。在实施例5中，使Pd浓度比在52％以上且80％以下变化。Pd浓度比用Pd/(Pd+Ni)的式子算出。此外，Ni浓度比用Ni/(Pd+Ni)的式子算出。在实施例5中，为了调查由于在镀敷浴中使Pd浓度比变化给PdNi镀敷膜34的组成带来的影响，对使Pd浓度比变化而形成的PdNi镀敷膜34的Pd浓度比进行了分析。
图12是示出实施例5中的Pd浓度比与镀敷膜34的Pd浓度比的关系的一例的图。如图12所示，在形成PdNi镀敷膜34时，通过控制镀敷浴中的Pd和Ni的浓度比，从而能够使PdNi镀敷膜34的组成比变化。
在实施例5中，对以图12所示的Pd浓度比形成的PdNi镀敷34分别使用XPS进行了表层的成分分析。图13是示出实施例5中的各组成比下的PdNi镀敷膜34的表层的Ni成分的分析结果的图。另外，图13所示的ND表示为XPS的检测下限值以下。
如图13所示，在Pd∶Ni的组成比为52∶48、58∶42、66∶34、68∶32、以及80∶20时，PdNi镀敷膜34的表层的Ni比率为ND以下。由此可知，在实施例5中，在PdNi镀敷膜34的表层未检测到Ni。
[实施例6]
对实施例6进行说明。在实施例6中，在上述的制造方法中使PdNi镀敷膜34的表面粗糙度Ra变化而制造了过滤滤除器10。另外，通过调整进行PdNi镀敷浴时的镀敷液的pH值、电流密度、基板坯料、膜厚条件，从而使表面粗糙度Ra变化。在实施例6中，表面粗糙度Ra设为0.02、0.94以及1.98μm。在实施例6中，对所制造的过滤滤除器10进行了溶出试验。在溶出试验中，将过滤滤除器10的表面积为1cm2的部分浸渍于10ml的PBS，在保持为37℃的状态下，在培养箱内保管了一周。然后，与实施例3以及4同样地，使用ICP-MS(安捷伦科技公司制造)对Ni的溶出浓度进行了分析。
图14是示出实施例6中的Ni的溶出浓度的分析结果的图。如图14所示，Ni的溶出浓度比ICP-MS的Ni的检测下限值小。由此可知，在实施例6中，Ni未溶出。
优选的是，表面粗糙度Ra为2.5μm以下。更优选的是，表面粗糙度Ra为1.98μm以下。
通过PdNi镀敷膜34浸渍于醋酸过氧化氢水溶液从而表层的Ni溶解消失，结果表层21变得Pd富裕。若使用该状态的PdNi镀敷膜34进行溶出试验，则Ni的溶出浓度成为检测下限值(0.01μg/ml)以下。在表面粗糙度Ra为2.5μm以下的情况下，通过醋酸过氧化氢水溶液的浸渍而在PdNi镀敷膜34的表面进行基于充足的醋酸过氧化氢水溶液的液体交换，因此在表层21中Ni完全消失，变得Pd富裕。在表面粗糙度Ra大于2.5μm的情况下，在表层21的微细凹凸部的一部分产生醋酸过氧化氢水溶液没有充分地遍布的部位，即，难以发生液体交换的部位。关于该部位，可设想表层21的Ni不易消失，不易变得Pd富裕。若对该状态的PdNi镀敷膜34实施溶出试验，则认为一部分残留于表层21的状态的Ni溶出，从而发生了Ni浓度的上升。
[实施例7]
对实施例7进行说明。在实施例7中，在上述的制造方法中使将PdNi镀敷膜34浸渍于醋酸过氧化氢水溶液的时间变化而制造了过滤滤除器10。实施例7中的PdNi镀敷膜34中的Pd∶Ni的组成比为9∶1。在实施例7中，浸渍时间在室温下设为0秒、10秒、30秒、1分、5分、30分、1小时、2小时。另外，在实施例7中，醋酸过氧化氢水溶液为醋酸5％∶过氧化氢5％∶纯水90％。
在实施例7中，通过XPS对在各浸渍时间下制造的过滤滤除器10的表层的成分进行了分析。图15是示出实施例7中的过滤滤除器10的表层的Ni成分的分析结果的图。如图15所示，在浸渍时间为1分以上的情况下，能够使过滤滤除器10的表层的Ni成分为0％。
[实施例8]
对实施例8进行说明。在实施例8中，调查了通过上述制造方法而制造的过滤滤除器10的样本A1以及样本A2的组成。在实施例8中，进行了TEM观察以及EDX映射。另外，使用FE-TEM(日本电子公司：JEM-F200)进行了TEM观察。TEM的测定条件设为，加速电压：200kV，聚焦透镜光圈：#2，前处理：Pt涂布。使用Noran system 7(和研药公司)进行了EDX映射。此外，EDX的测定条件设为，光斑直径：
Figure BDA0003131035220000171
时间常数：Rate1，累计次数：100次。
过滤滤除器10的样本A1以电流密度2.9[A/dm2]进行了制作。样本A2以电流密度14.5[A/dm2]进行了制作。此外，在样本A1以及样本A2中的过滤滤除器10的制造中，醋酸过氧化氢水溶液(醋酸5％∶过氧化氢5％∶纯水90％)对PdNi镀敷膜的浸渍时间均设为2小时。
图16A是示出实施例8中的样本A1的EDX映射的图。在图16A中，M1部分表示样本A1的表层21的部分，M2部分表示样本A1的母材部分。图16A所示的样本A1的中间层23形成在距表面为32nm附近的区域。此外，图16A所示的作为母材22的部分的M2部分是距表面为106nm附近的区域。
图16B是示出实施例8中的样本A2的EDX映射的图。在图16B中，M3部分表示样本A2的表层21的部分，M4部分表示样本A2的母材22的部分。图16B所示的样本A2的中间层23形成在距表面为22.5nm附近的区域。此外，图16B所示的作为母材22的部分的M4部分距表面为97nm。
在图16A所示的M1部分中进行了EDX定量分析时，Pd：98.7％，Ni：0.6％，O：0.7％。此外，在图16A所示的M2部分中进行了EDX定量分析时，Pd：81.6％，Ni：18.4％，O：0％。另外，小于1％的值包含噪声。
在图16B所示的M3部分中进行了EDX定量分析时，Pd：98.9％，Ni：1.1％，O：0％。此外，在图16B所示的M4部分中进行了EDX定量分析时，Pd：76.6％，Ni：23.4％，O：0％。另外，小于1％的值包含噪声。
如图16A以及图16B所示，在实施例8的样本A1以及样本A2的任一情况下，均已确认表层部分的Ni消失。即，在以电流密度2.9[A/dm2]以及电流密度14.5[A/dm2]制作的过滤滤除器10的任一情况下，均已确认表层部分的Ni消失。另外，可认为在样本A1的M2部分(母材部分)和样本A2的M4部分(母材部分)中，Pd和Ni的组成比成为不同值是由于电流密度的差异。
[效果]
根据实施方式1涉及的过滤滤除器10，能够发挥以下的效果。
过滤滤除器10具备表层21、形成在比表层21更靠内部侧的母材22、和形成在表层21与母材22之间的中间层23。表层21将Pd作为主成分，母材22将PdNi合金作为主成分，中间层23将Pd和Ni的成分比率从表层21侧朝向母材22侧变化的PdNi合金作为主成分。根据这样的结构，能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性提高。
在此，为了与过滤滤除器10的结构进行对比，而对比较例1的过滤滤除器的结构进行说明。比较例1的过滤滤除器通过进行镀敷从而用贵金属对由贱金属形成的母材122的表面进行涂布，在贱金属的母材122的表面形成了贵金属的表层121。此外，在比较例1中，表层121将Pd作为主成分，母材122将Ni作为主成分。
图17是示出比较例1的过滤滤除器110的结构的一例的一部分的示意图。如图17所示，在比较例1的过滤滤除器110中，在以作为贱金属的Ni为主成分的母材122上，形成有以作为贵金属的Pd为主成分的表层121。因此，在表层121与母材122之间形成有连续的界面。此外，在表层121中，在进行镀敷时，起因于附着在母材122的表面的杂质以及/或者表面粗糙度而产生了瑕疵150。
因此，在比较例1的过滤滤除器110中，电解质溶液等液体容易通过表层121的瑕疵150与母材122接触。由此，难以抑制母材122从瑕疵150溶出的情况。
此外，容易由表层121、母材122、以及与表层121和母材122的界面接触的电解质溶液形成局部电池，在贱金属(Ni)的母材122的表面发生阳极反应，母材122有可能被腐蚀。进而，由于表层121与母材122之间的界面连续相连，因此若母材122被腐蚀则腐蚀容易遍及母材122整体地进展。
此外，在表层121被损伤而剥离的情况下，母材122容易露出，在与电解质溶液接触的情况下母材容易溶出。
另一方面，在实施方式1的过滤滤除器10中，如图3所示，在表层21与母材22之间形成了中间层23。在中间层23中，Pd和Ni的成分比率从表层21侧朝向母材22侧变化。因此，在过滤滤除器10的中间层23中，Pd和Ni的界面被分散地形成。由此，在使过滤滤除器10与电解质溶液等液体接触时，能够抑制Ni从表层21的瑕疵溶出的情况。
此外，即使在电解质溶液通过表层21的瑕疵流入到过滤滤除器10的内部的情况下，Pd和Ni也不易经由电解质溶液而接触。因此，在Pd和Ni的界面不易形成局部电池，能够抑制Ni被腐蚀的情况。进而，在过滤滤除器10中，纵使电解质溶液从表层21的瑕疵流入，Pd和Ni经由电解质溶液而接触从而Ni被腐蚀，由于Pd和Ni的界面分散，因此腐蚀也不易扩散到母材22整体。
此外，纵使表层21被损伤而剥离，也只不过是中间层23露出，因此能够抑制母材22露出的情况。因此，能够抑制母材22溶出。像这样，在过滤滤除器10中，通过在表层21与母材22之间形成中间层23，从而能够抑制母材22的溶出。
中间层23中的Ni相对于Pd的比例朝向过滤滤除器10的深度方向D1增加。根据这样的结构，在中间层23中，能够使Ni的成分的多数远离表层21，能够抑制与电解质溶液的接触所引起的Ni的溶出以及腐蚀。由此，能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性进一步提高。
中间层23的厚度比表层21的厚度大。根据这样的结构，能够使Ni的成分在过滤滤除器10的深度方向D1上进一步分散。此外，由于能够使母材22进一步远离表层21，因此能够进一步抑制母材22的溶出以及腐蚀。由此，能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性进一步提高。
中间层23形成在距过滤滤除器10的表面的深度大于10nm且为30nm以下的区域。更优选的是，中间层23形成在距过滤滤除器10的表面的深度为20nm以上且30nm以下的区域。根据这样的结构，能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性进一步提高。
进而，母材22形成在比中间层23更深的位置。一般地，电解质溶液随着深度而变得难以侵入，因此电解质溶液与母材接触的机会变少。因此，能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性提高。
母材22中的Pd和Ni的成分比率为80∶20，中间层23中的Pd和Ni的成分比率在100∶0以上且80∶20以下的范围内变化。根据这样的结构，能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性进一步提高。
另外，在实施方式1中，对包含Pd以及PdNi合金的过滤滤除器10的例子进行了说明，但不限定于此。过滤滤除器10也可以包含含有Pd以外的贵金属以及Ni以外的贱金属的金属或者合金。
对中间层23中的Ni相对于Pd的比例朝向过滤滤除器10的深度方向D1增加的例子进行了说明，但不限定于此。例如，在中间层23中，也可以包含PdNi合金的Ni相对于Pd的比例固定的部分以及/或者减少的部分。即使为这样的结构，也能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性提高。
在实施方式1中，对中间层23的厚度比表层21的厚度大的例子进行了说明，但不限定于此。例如，中间层23的厚度既可以小于表层21的厚度，也可以相同。即使为这样的结构，也能够使过滤滤除器10的耐腐蚀性提高。
(实施方式2)
在本发明的实施方式2中，将实施方式1的过滤滤除器作为筛网式雾化器(meshnebulizer)的筛网来使用。另外，在实施方式2中，主要对与实施方式1不同的点进行说明。在实施方式2中，对与实施方式1相同或者等同的结构标注相同的符号来说明。此外，在实施方式2中，省略与实施方式1重复的记载。
在实施方式2中，其目的在于，使筛网式雾化器的筛网的耐腐蚀性提高。
使用图18对实施方式2的筛网的一例进行说明。图18是本发明涉及的实施方式2的筛网50的一例的概略部分剖视图。如图18所示，筛网50具备第1基体部12和第2基体部13。另外，在实施方式2中说明的第1贯通孔11以及第1基体部12对应于实施方式1的贯通孔11以及滤除器基体部12。
第2基体部13设置在第1基体部12的第1主面PS1侧。第2基体部13是具有第3主面PS3和与第3主面PS3对置的第4主面PS4的板状构件。第2基体部13的厚度比第1基体部12的厚度小。
第2基体部13与第1基体部12一体地形成。
在第2基体部13设置有多个第2贯通孔14。多个第2贯通孔14在第2基体部13中周期性地设置在第3主面PS3以及第4主面PS4上。具体地，多个第2贯通孔14在第2基体部13中呈矩阵状等间隔地设置。
例如，多个第2贯通孔14从第3主面PS3侧(Z方向)观察以正方格子排列而设置。另外，多个第2贯通孔14的排列不限定于正方格子排列，例如，也可以是准周期排列或者周期排列。作为周期排列的例子，若是方形排列，则也可以是两个排列方向的间隔不等的长方形排列，还可以是三角格子排列或者正三角格子排列等。或者，第2贯通孔14只要在第2基体部13设置有多个即可，排列也可以不限定。
在实施方式2中，第2贯通孔14从第3主面PS3侧(Z方向)观察具有正方形的形状。另外，第2贯通孔14从第3主面PS3侧(Z方向)观察的形状不限定于正方形，例如也可以是长方形、多边形、圆形、或者椭圆等形状。
在实施方式2中，投影到与第2基体部13的第3主面PS3垂直的面的第2贯通孔14的形状(剖面形状)为矩形状。另外，第2贯通孔14的剖面形状不限定于矩形状，例如，既可以是平行四边形或者梯形等锥形形状，也可以是对称形状，还可以是非对称形状。
第2贯通孔14的大小比第1贯通孔11的大小更小。在第2贯通孔14具有正方形状的情况下，筛网50的纵向(X方向)以及横向(Y方向的)上的第2贯通孔14的一边的长度比第1贯通孔11的一边的长度小。在第2贯通孔14具有圆形状的情况下，第2贯通孔14的直径比第1贯通孔11的直径小。
多个第2贯通孔14分别与多个第1贯通孔11相连。换言之，多个第2贯通孔14分别与多个第1贯通孔11连通。
与实施方式1的过滤滤除器10同样地，筛网50具备表层21、形成在比表层21更靠内部侧的母材22、和形成在表层21与母材22之间的中间层23。筛网50的表层21将Pd作为主成分。筛网50的母材22将PdNi合金作为主成分。筛网50的中间层23将Pd和Ni的成分比率从表层21侧朝向母材22侧变化的PdNi合金作为主成分。
[筛网的制造方法的一例]
使用图19A～19K对筛网50的制造方法的一例进行说明。图19A～19K示出本发明涉及的实施方式2的筛网50的制造工序的一例。
如图19A所示，准备硅等基板41。基板41例如也可以被进行表面清洗。
如图19B所示，在基板41上形成厚度为500nm的Cu膜42。例如，Cu膜42通过利用溅射成膜装置进行溅射而形成。或者，Cu膜42也可以通过利用蒸镀装置进行蒸镀而形成。此时，为使基板41和Cu膜42的粘接性提高，也可以在基板41与Cu膜42之间形成厚度为50nm的Ti膜。
如图19C所示，在Cu膜42上涂敷抗蚀剂并使其干燥，从而形成厚度为2μm的抗蚀剂膜43。例如，在Cu膜42上使用旋涂机涂敷感光性正型液体抗蚀剂(住友化学公司制造：Pfi-3A)。另外，旋涂机的条件例如为1140rpm、30sec。接下来，使用加热板对抗蚀剂进行加热干燥，形成厚度为2.0μm的抗蚀剂膜43。另外，加热板的条件例如是加热温度90℃、加热时间90秒。
如图19D所示，对抗蚀剂膜43进行曝光以及显影处理，除去相当于第2基体部13的部位的抗蚀剂膜43。例如，曝光机使用i线步进式曝光机(Canon制造的Pfi-37A)。显影使用叶片式显影装置来进行。显影液使用TMAH(Tetramethylammonium hydroxide，四甲基氢氧化铵)。在进行了曝光以及显影处理之后，进行水洗以及干燥处理。
如图19E所示，使用电解镀敷装置进行PdNi镀敷浴，由此进行电解镀敷。由此，在除去了抗蚀剂膜43的部分形成PdNi镀敷膜44。另外，电解镀敷的条件例如是，电流密度为1A/dm，电量为4AM，镀敷液的pH为7.5，镀敷厚度为1.6μm。
如图19F所示，使用能够进行高压喷射处理的抗蚀剂剥离装置，用剥离液NMP(N-methyl-2-pyrrolidone，N-甲基-2-吡咯烷酮)将抗蚀剂膜43剥离。然后，对PdNi镀敷膜44进行IPA(Isopropyl alcohol，异丙醇)清洗以及水洗处理并使其干燥。
如图19G所示，在PdNi镀敷膜44上通过层压处理粘附干膜抗蚀剂45。干膜抗蚀剂45的厚度为50μm。层压处理的上下辊温度为100℃，进给速度为0.4m/s。
如图19H所示，对干膜抗蚀剂45进行曝光以及显影处理，除去相当于第1基体部12的部位的干膜抗蚀剂45。例如，通过对准器曝光进行处理，通过喷射显影进行显影。显影液为3％的碳酸钠的溶液。
如图19I所示，使用电解镀敷装置进行PdNi镀敷浴，由此进行电解镀敷。由此，在除去了干膜抗蚀剂45的部分形成PdNi镀敷膜46。另外，作为镀敷前处理，在5％的盐酸中浸渍1分钟，进行了水洗。在水洗后，通过电解镀敷装置进行了PdNi电解镀敷。另外，电解镀敷的条件例如是，电流密度为1A/dm2，电量为4AM，镀敷液的pH为7.5，镀敷厚度为1.6μm。
如图19J所示，使用抗蚀剂剥离装置，用剥离液NMP(N-methyl-2-pyrrolidone，N-甲基-2-吡咯烷酮)将抗蚀剂膜45剥离。
如图19K所示，作为蚀刻液兼PdNi镀敷膜44、46的表层Ni溶解除去液，对醋酸过氧化氢水溶液(醋酸∶过氧化氢∶水＝5∶5∶90，室温)进行调整，在使搅拌机进行搅拌的同时浸渍处理48小时，将Cu膜42蚀刻除去。由此，从基板41剥离PdNi镀敷膜44、46，并且将PdNi镀敷膜44、46的表层的Ni溶解，从而制作第1基体部12以及第2基体部13。
在醋酸过氧化氢水溶液中对PdNi镀敷膜44、46进行浸渍处理，由此从PdNi镀敷膜44、46的表面朝向内部逐渐地溶解Ni。在PdNi镀敷膜44、46的表面附近，PdNi镀敷膜44、46的Ni容易与醋酸过氧化氢水溶液接触，因此Ni容易溶解。另一方面，越是朝向PdNi镀敷膜44、46的内部，PdNi镀敷膜44、46的Ni越不易与醋酸过氧化氢水溶液接触，Ni越不易溶解。即，从PdNi镀敷膜34的表面朝向内部，Ni的溶解量逐渐地变少。
像这样，在第1基体部12以及第2基体部13的表面附近，Ni被醋酸过氧化氢水溶液溶解，形成以Pd为主成分的表层21。此外，从第1基体部12以及第2基体部13的表层21朝向深度方向D1，醋酸过氧化氢水溶液对Ni的溶解量逐渐地变少，形成以Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金为主成分的中间层23。而且，Ni未被醋酸过氧化氢水溶液溶解的PdNi镀敷膜44、46成为母材22。
这样一来，能够制作如下的筛网50，即，该筛网50具备：以Pd为主成分的表层21、以PdNi合金为主成分的母材22、以及形成在表层21与母材22之间且以Pd和Ni的成分比率变化的PdNi合金为主成分的中间层23。
[效果]
根据实施方式2涉及的筛网50，能够发挥以下的效果。
筛网50具备表层21、形成在比表层21更靠内部侧的母材22、以及形成在表层21与母材22之间的中间层23。表层21将Pd作为主成分，母材22将PdNi合金作为主成分，中间层23将Pd和Ni的成分比率从表层21侧朝向母材22侧变化的PdNi合金作为主成分。根据这样的结构，能够使筛网50的耐腐蚀性提高。
另外，在实施方式2中，对筛网50具备第1基体部12和第2基体部13的例子进行了说明，但不限定于此。筛网50只要由具有表层21、母材22以及中间层23的要素形成即可。筛网50也可以不具备第2基体部13。
本发明参照附图与优选的实施方式关联地充分进行了记载，但对于熟练该技术的人们而言各种变形、修正是显而易见的。应当理解为这样的变形、修正只要不脱离基于所附的权利要求书的本发明的范围就包含于其中。
产业上的可利用性
本发明的过滤滤除器在对液体中的过滤对象物进行过滤的用途中是有用的。
符号说明
10 过滤滤除器；
11 贯通孔(第1贯通孔)；
12 滤除器基体部(第1基体部)；
13 第2基体部；
14 第2贯通孔；
21 表层；
22 母材；
23 中间层；
31 基板；
32 Cu膜；
33 抗蚀剂膜；
34 PdNi镀敷膜；
41 基板；
42 Cu膜；
43 抗蚀剂膜；
44 PdNi镀敷膜；
45 干膜抗蚀剂；
46 PdNi镀敷膜；
50 筛网。

Claims (3)

1.一种过滤滤除器，具备：
表层；
母材，形成在比所述表层更靠内部侧；和
中间层，形成在所述表层与所述母材之间，
所述表层不含Ni，将Pd作为主成分，
所述母材将PdNi合金作为主成分，
所述中间层将Pd和Ni的成分比率从所述表层侧朝向所述母材侧变化的PdNi合金作为主成分，
所述中间层的厚度比所述表层的厚度大，
所述中间层中的Ni相对于Pd的比例从所述表层侧朝向所述母材侧增加，
所述母材中的Pd和Ni的成分比率为75：25~85：15，
所述中间层中的Pd和Ni的成分比率在100：0~75：25的范围内变化。
2.根据权利要求1所述的过滤滤除器，其中，
所述中间层形成在距所述过滤滤除器的表面的深度大于10nm且为35nm以下的区域。
3.根据权利要求1或2所述的过滤滤除器，其中，
所述母材中的Pd和Ni的成分比率为80：20，
所述中间层中的Pd和Ni的成分比率在100：0~80：20的范围内变化。
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