CN113244936A - 一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法 - Google Patents
一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113244936A CN113244936A CN202110319499.2A CN202110319499A CN113244936A CN 113244936 A CN113244936 A CN 113244936A CN 202110319499 A CN202110319499 A CN 202110319499A CN 113244936 A CN113244936 A CN 113244936A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- source
- semiconductor material
- type semiconductor
- core
- composite structure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 29
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 29
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 25
- 230000005684 electric field Effects 0.000 title claims abstract description 24
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 44
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 38
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims abstract description 18
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 claims description 15
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 10
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 9
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 8
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 7
- RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N hydron;methyl 4-methoxypyridine-2-carboxylate;chloride Chemical compound Cl.COC(=O)C1=CC(OC)=CC=N1 RXPAJWPEYBDXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 claims description 6
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 claims description 2
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 2
- -1 halide salt Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 11
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 10
- BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N oxobismuth;hydrochloride Chemical compound Cl.[Bi]=O BWOROQSFKKODDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910016295 BiOF Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/138—Halogens; Compounds thereof with alkaline earth metals, magnesium, beryllium, zinc, cadmium or mercury
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
- B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
- B01J27/135—Halogens; Compounds thereof with titanium, zirconium, hafnium, germanium, tin or lead
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J35/39—Photocatalytic properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2523/00—Constitutive chemical elements of heterogeneous catalysts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
本发明公开了属于半导体纳米光电材料生长技术领域的一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法。所述卤氧铋核壳复合结构最内层为p型半导体材料,最外层为n型半导体材料;最内层和最外层间设置i型半导体材料作为过渡层。本发明利用能带可调的p型卤氧化铋半导体材料,与厚度可控的氧化铝或氧化镁等氧化物绝缘半导体材料,以及n型的氧化锌或氧化钛等宽带半导体材料构成核壳复合结构,并引入并调控内建电场强度,有效促进光生载流子分离。构建具有p‑i‑n结构的,即内建电场增强的光催化材料。
Description
技术领域
本发明属于半导体纳米光电材料生长技术领域,尤其涉及一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法。
背景技术
近年来随着环境污染日益严重,设计并制备高效率新型光催化材料一直是各国科研人员的研究重点。提高半导体材料的吸收效率,促进光生载流子的分离和传递是新型光催化材料的核心要求。根据此方面要求,通常采用对半导体材料的掺杂改性、构建复合结构等方式改进光催化性能。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提出了一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料,所述卤氧铋核壳复合结构最内层为p型半导体材料,最外层为n型半导体材料;最内层和最外层间设置厚度可控的i型半导体材料作为过渡层;
所述p型半导体材料为卤氧铋;i型半导体材料包括氧化铝、氧化镁或氧化铪;n型半导体材料包括氧化锌或氧化钛;
一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,包括以下步骤:
1)p型半导体材料制备方法:以硝酸铋作为Bi源,氯化钾、氯化钠作为Cl源;溴化钾、溴化钠作为Br源,碘化钾、碘化钠作为I源;氟化铵作为F源;
通过高压水热法合成方法合成卤氧化铋纳米结构;具体步骤为:将原料分散在水中;得到混合液体转移到反应釜中,于马弗炉中加热,控制合成温度100-170℃,反应时间12-18小时;反应结束后,离心干燥处理样品;
Bi元素与卤族元素的摩尔比例相等;
2)i型半导体材料制备方法:通过原子层沉积方法在步骤1)卤氧化铋纳米结构上制备氧化物绝缘半导体材料,包括氧化铝,氧化镁,氧化铪;反应温度180℃~250℃;反应周期50~100周期;
氧化铝生长条件:反应温度180℃~250℃;Al源的通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Al源和O源交替进入反应室;
氧化镁生长条件:反应温度200℃~250℃;Mg源的通入时间1s-3s,等待时间10-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Mg源和O源交替进入反应室;
氧化铪生长条件:反应温度180℃~220℃;Hf源的通入时间20ms-100ms,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Hf源和O源交替进入反应室;
3)n型半导体材料制备方法:通过原子层沉积在步骤2)i型半导体材料上制备n型氧化物半导体,氧化锌,氧化钛;反应温度170℃~250℃;反应周期100~500周期;
氧化锌生长条件:反应温度150℃~250℃;Zn源的通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Zn源和O源交替进入反应室;
氧化钛生长条件:反应温度170℃~220℃;Ti源的通入时间40ms-1s,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Ti源和O源交替进入反应室。
本发明的有益效果在于:
1.卤氧化铋与氧化锌或氧化钛等宽带半导体材料组合,可以实现紫外~可见光范围的光吸收。
2.作为本证p型和n型半导体材料,卤氧化铋、氧化锌或氧化钛具有很强的载流子分离效率。
3.通过调控氧化铝或氧化镁等i层厚度,可以改变(增加或减少)耗尽区厚度,进一步增强材料吸收特性,并有效抑制光生电子空穴复合,提高分离效率。
4.化学合成与原子层沉积的制备手段相结合,具有样品产量大、成本低、可控性好和操作简单等优势。
5.本发明利用能带可调的p型卤氧化铋半导体材料,与氧化铝或氧化镁等氧化物绝缘半导体材料,以及n型的氧化锌或氧化钛等宽带半导体材料构成核壳复合结构,并引入内建电场,有效促进光生载流子分离,进而构建具有p-i-n结构的内建电场增强的光催化材料。
附图说明
图1为实施例1的BiOCl/MgO/ZnO核壳结构样品的透射电子显微镜照片。
图2为实施例1的BiOCl/MgO/ZnO核壳结构样品的能谱图片。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明作进一步的详细说明:
实施例1
一种内建电场增强的BiOCl/MgO/ZnO核壳复合结构光催化材料的制备方法,包括以下步骤:
1)p型材料制备方法:以硝酸铋作为Bi源,氯化钠作为Cl源;水作为溶剂;Bi源与氯化钠摩尔比例相等,均为1mmol;合成温度150℃。反应时间12小时。反应结束后,离心干燥处理样品;
2)i型材料制备方法:通过原子层沉积方法制备氧化镁,反应温度200℃;Mg源的通入时间1s,等待时间10s;O通入时间20ms,等待时间8s;Mg源和O源交替进入反应室;沉积周期50周期;
3)n型材料制备方法:通过原子层沉积制备n型氧化锌,反应温度150℃;Zn源的通入时间20ms,等待时间8s;O通入时间20ms,等待时间8s;Zn源和O源交替进入反应室;沉积周期100周期。
得到的BiOCl/MgO/ZnO核壳结构样品的透射电子显微镜照片示于图1;其中图2的能谱图片中所展示的元素种类和比例与BiOCl/MgO/ZnO核壳结构样品材料保持一致。
实施例2
本发明所述的一种内建电场增强的BiOCl/MgO/TiO2核壳复合结构光催化材料的制备方法,包括以下步骤:
1)p型材料制备方法:以硝酸铋作为Bi源,氯化钠作为Cl源;水作为溶剂;Bi源与氯化钠摩尔比例相等,均为2mmol;合成温度100℃。反应时间12小时。反应结束后,离心干燥处理样品;
2)i型材料制备方法:通过原子层沉积方法制备氧化镁,反应温度250℃;Mg源的通入时间3s,等待时间20s;O通入时间20ms,等待时间8;Mg源和O源交替进入反应室;沉积周期50周期;
3)n型材料制备方法:通过原子层沉积制备n型氧化钛,反应温度250℃;Ti源的通入时间40ms,等待时间20s;O通入时间40ms,等待时间20s;Ti源和O源交替进入反应室;沉积周期100周期。
实施例3
本发明所述的一种内建电场增强的BiOI/Al2O3/ZnO核壳复合结构光催化材料的制备方法,包括以下步骤:
1)p型材料制备方法:以硝酸铋作为Bi源,碘化钠作为I源;水作为溶剂;Bi源与碘化钠摩尔比例相等,均为1mmol;合成温度100℃。反应时间18小时。反应结束后,离心干燥处理样品;
2)i型材料制备方法:通过原子层沉积方法制备氧化铝,反应温度180℃;Al源的通入时间20ms,等待时间10s;O通入时间20ms,等待时间8s;Al源和O源交替进入反应室;沉积周期50周期;
3)n型材料制备方法:通过原子层沉积制备n型氧化锌,反应温度170℃;Zn源的通入时间20ms,等待时间8s;O通入时间20ms,等待时间8s;Zn源和O源交替进入反应室;沉积周期300周期。
实施例4
本发明所述的一种内建电场增强的BiOBr/HfO/TiO2核壳复合结构光催化材料的制备方法,包括以下步骤:
1)p型材料制备方法:以硝酸铋作为Bi源,溴化钾作为Br源;水作为溶剂;Bi源与溴化钾摩尔比例相等,均为3mmol;合成温度170℃。反应时间18小时。反应结束后,离心干燥处理样品;
2)i型材料制备方法:通过原子层沉积方法制备氧化铪,反应温度220℃;Hf源的通入时间80ms,等待时间20s;O通入时间40ms,等待时间10s;Hf源和O源交替进入反应室;沉积周期100周期;
3)n型材料制备方法:通过原子层沉积制备n型氧化钛,反应温度250℃;Ti源的通入时间40ms,等待时间20s;O通入时间40ms,等待时间20s;Ti源和O源交替进入反应室;沉积周期500周期。
实施例5
本发明所述的一种内建电场增强的BiOF/MgO/ZnO核壳复合结构光催化材料的制备方法,包括以下步骤:
(1)p型材料制备方法:以硝酸铋作为Bi源,氟化铵作为F源;水作为溶剂;Bi源与氟化铵摩尔比例相等,均为1mmol;合成温度170℃。反应时间12小时。反应结束后,离心干燥处理样品;
(2)i型材料制备方法:通过原子层沉积方法制备氧化镁,反应温度200℃;Mg源的通入时间1s,等待时间10s;O通入时间20ms,等待时间8s;Mg源和O源交替进入反应室;沉积周期100周期;
(3)n型材料制备方法:通过原子层沉积制备n型氧化锌,反应温度150℃;Zn源的通入时间20ms,等待时间8s;O通入时间20ms,等待时间8s;Zn源和O源交替进入反应室;沉积周期500周期。
Claims (9)
1.一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料,其特征在于,所述卤氧铋核壳复合结构最内层为p型半导体材料,最外层为n型半导体材料;最内层和最外层间设置厚度可控的i型半导体材料作为过渡层;
所述p型半导体材料为卤氧铋;i型半导体材料包括氧化铝、氧化镁或氧化铪;n型半导体材料包括氧化锌或氧化钛。
2.一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)p型半导体材料的制备:以硝酸铋作为Bi源,以卤化盐为卤源,将原料分散在水中;得到混合液体转移到反应釜中,于马弗炉中加热,控制合成温度100-170℃,反应时间12-18小时;反应结束后,离心干燥处理样品,合成卤氧化铋纳米结构;
2)i型半导体材料的制备:通过原子层沉积方法在步骤1)得到的卤氧化铋纳米结构上制备i型半导体材料;反应温度180℃~250℃;反应周期50~100周期;
3)n型半导体材料的制备:通过原子层沉积在步骤2)得到的i型半导体材料上制备n型半导体材料;反应温度170℃~250℃;反应周期100~500周期。
3.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤1)采用氯化钾、氯化钠作为Cl源;溴化钾、溴化钠作为Br源,碘化钾、碘化钠作为I源;氟化铵作为F源。
4.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤1)Bi元素与卤族元素的摩尔比例相等。
5.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤2)i型半导体材料为氧化铝,其生长条件为:反应温度180℃~250℃;Al源的通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Al源和O源交替进入反应室。
6.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤2)i型半导体材料为氧化镁,其生长条件为:反应温度200℃~250℃;Mg源的通入时间1s-3s,等待时间10-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Mg源和O源交替进入反应室。
7.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤2)i型半导体材料为氧化铪,其生长条件为:反应温度180℃~220℃;Hf源的通入时间20ms-100ms,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Hf源和O源交替进入反应室。
8.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤3)n型半导体材料为氧化锌,其生长条件为:反应温度150℃~250℃;Zn源的通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Zn源和O源交替进入反应室。
9.根据权利要求2所述一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料的制备方法,其特征在于,所述步骤3)n型半导体材料为氧化钛,其生长条件为:反应温度170℃~220℃;Ti源的通入时间40ms-1s,等待时间8-20s;O通入时间20ms-40ms,等待时间8-20s;Ti源和O源交替进入反应室。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110319499.2A CN113244936A (zh) | 2021-03-25 | 2021-03-25 | 一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110319499.2A CN113244936A (zh) | 2021-03-25 | 2021-03-25 | 一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113244936A true CN113244936A (zh) | 2021-08-13 |
Family
ID=77181146
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110319499.2A Pending CN113244936A (zh) | 2021-03-25 | 2021-03-25 | 一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113244936A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115124092A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-09-30 | 浙江帕瓦新能源股份有限公司 | 具备卤氧化铋晶核的前驱体材料及其制备方法、正极材料 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105688939A (zh) * | 2016-02-29 | 2016-06-22 | 长春理工大学 | 基于能带调制的双重量子点敏化氧化物复合光催化材料 |
-
2021
- 2021-03-25 CN CN202110319499.2A patent/CN113244936A/zh active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105688939A (zh) * | 2016-02-29 | 2016-06-22 | 长春理工大学 | 基于能带调制的双重量子点敏化氧化物复合光催化材料 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
"An ultrathin Al2O3 bridging layer between CdS and ZnO boosts photocatalytic hydrogen production" * |
FANG XUAN ETAL.: "In Situ Photocurrent Spectroscopy and Photocatalysis of Heterojunctions Based on BiOCl/MgO/ZnO Core/Shell Nanosheets" * |
JOSEPH QUINN ETAL.: "Guidelines for Optimizing the Performance of Metal−Insulator−Semiconductor (MIS) Photoelectrocatalytic Systems by Tuning the Insulator Thickness" * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115124092A (zh) * | 2022-08-30 | 2022-09-30 | 浙江帕瓦新能源股份有限公司 | 具备卤氧化铋晶核的前驱体材料及其制备方法、正极材料 |
CN115124092B (zh) * | 2022-08-30 | 2022-11-25 | 浙江帕瓦新能源股份有限公司 | 具备卤氧化铋晶核的前驱体材料及其制备方法、正极材料 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107138161B (zh) | 一种掺杂黑色二氧化钛的制备方法 | |
CN109589991B (zh) | 一种锌铟硫/铜铟硫二维异质结光催化剂、其制备方法及应用 | |
CN113563873A (zh) | 新型未掺杂与锑掺杂非铅铟氯卤素钙钛矿材料 | |
CN103920520A (zh) | 一种超声波辅助沉积法合成纳米SnO2/g-C3N4复合可见光催化剂的制备方法 | |
CN112875755B (zh) | 一种钨酸铋纳米粉体的制备方法 | |
CN113201339B (zh) | 一种钙钛矿量子点与金属有机框架复合发光材料及其制备方法和应用 | |
CN108906089B (zh) | 一种BiOI同质结复合光催化剂的制备方法 | |
CN101819885B (zh) | 用于染料敏化太阳能电池的稀土掺杂二氧化钛光阳极的制备方法 | |
CN110560098A (zh) | 一种水辅助快速制备BiOBr纳米花的方法及其应用 | |
CN108187684B (zh) | 一种机械球磨热处理两步法合成三氧化二铋-氧化亚铜纳米复合物的方法 | |
CN113244936A (zh) | 一种内建电场增强的卤氧铋核壳复合结构光催化材料及制备方法 | |
CN112480911A (zh) | 一种高荧光效率无机非铅钙钛矿材料及制备方法 | |
CN102222572A (zh) | 纳米线阵列/纳米晶多孔膜复合结构光阳极的制备方法 | |
CN108525695B (zh) | 一种二维层状结构的石墨烯/碳氮烯/溴氧铋复合纳米光催化材料及其制备方法和应用 | |
CN109837590B (zh) | 一种26面体钽酸钠晶体及其制备方法 | |
CN106925306B (zh) | 二维超薄ZnO/BiOBr0.9I0.1杂化日光催化剂及其制备方法 | |
JP6143047B2 (ja) | 波長変換デバイス及びその製造方法 | |
CN103433036A (zh) | 一种光催化材料Ag/AgMO2及其制备方法 | |
CN108975396B (zh) | 一种原位合成银/氧化锡/溴氧化铋光电材料的方法 | |
CN108176409A (zh) | 一种氢钨青铜/硫化镉复合光催化剂的制备方法 | |
CN110422882A (zh) | 一种新型铁电材料及其制备方法 | |
CN112357958A (zh) | 一种含铯无铅卤化物双钙钛矿材料Cs2NaBi1-xSnxCl6-x的制备方法 | |
CN113385167A (zh) | 一种四氧化三锡纳米片负载立方体钽酸钠的制备方法 | |
CN111013562A (zh) | 一种不同形貌ZnO/In(OH)3复合光催化剂的制备方法 | |
CN110918104A (zh) | 一种三元异质结石墨烯-氧化铋/卤氧化铋可见光光催化剂及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20210813 |