CN113231893A - 一种ito靶材的抛光清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种ITO靶材的抛光清洗方法，包括以下步骤：(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的装置上；(2)使60～100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面；(3)粗清洗；(4)用800～1200目的金刚海绵刷替换所述60～100目的金刚海绵刷；(5)精抛光，即得清洗后的ITO靶材。本发明所述清洗方法通过步骤(3)的粗清洗和步骤(5)的精抛光，选用不同目数的金刚海绵刷，并且控制打磨的压力和速度，达到靶材表面粗糙度的要求。通过本发明所述清洗方法清洗后的ITO靶材表面粗糙度均匀性好，且Ra＜0.8μm。

Description

一种ITO靶材的抛光清洗方法
技术领域
本发明涉及溅射靶材的清洗方法，具体涉及一种ITO靶材的抛光清洗方法。
背景技术
ITO靶材主要做成透明导电薄膜和导电玻璃，作为导电电极，广泛应用在光电显示器件领域，其中最主要的应用领域为平板显示。ITO靶材对表面粗糙度的大小以及粗糙度的一致性有着极高的要求，控制不好，大大降低ITO靶材的品质和应用效果。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术存在的不足之处而提供一种ITO靶材的抛光清洗方法。
为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：一种ITO靶材的抛光清洗方法，包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的装置上；
(2)使60～100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面；
(3)使所述可旋转的装置的旋转速度为10～25转/min，使所述60～100目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.2～0.4MPa，使所述60～100目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动至少1次，所述轴向往复运动的速度为0.2～0.4m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用800～1200目的金刚海绵刷替换所述60～100目的金刚海绵刷；
(5)使所述可旋转的装置的旋转速度为30～40转/min，使所述800～1200目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.3～0.5MPa，使所述800～1200目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动至少1次，所述轴向往复运动的速度为0.1～0.2m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，干燥，即得清洗后的ITO靶材。
本发明所述清洗方法通过步骤(3)的粗清洗和步骤(5)的精抛光，选用不同目数的金刚海绵刷，并且控制打磨的压力和速度，达到靶材表面粗糙度的要求。通过本发明所述清洗方法清洗后的ITO靶材表面粗糙度均匀性好，且Ra＜0.8μm。
作为本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的优选实施方式，步骤(2)中，所述60～100目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上。
作为本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的优选实施方式，所述可沿靶材轴向运动的装置与气动阀门相连。
作为本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的优选实施方式，步骤(3)和/或步骤(4)中，所述轴向往复运动的次数为2～3次。金刚海绵刷往复运动打磨2～3次即可在保证较低粗糙的同时，尽可能减少磨损量。
作为本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的优选实施方式，所述可使ITO靶材旋转的装置为抛光机。
作为本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的优选实施方式，步骤(5)中，所述干燥为用气枪吹干。
本发明的有益效果在于：本发明提供了一种ITO靶材的抛光清洗方法，本发明所述清洗方法通过步骤(3)的粗清洗和步骤(5)的精抛光，选用不同目数的金刚海绵刷，并且控制打磨的压力和速度，达到靶材表面粗糙度的要求。通过本发明所述清洗方法清洗后的ITO靶材表面粗糙度均匀性好，且Ra＜0.8μm。
具体实施方式
为更好地说明本发明的目的、技术方案和优点，下面将结合具体实施例对本发明作进一步说明。
实施例1
本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的一种实施例，本实施例所述方法包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的抛光机上；
(2)所述60目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上，使60目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面，所述装置与气动阀门相连，由气动阀门控制金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力；
(3)使所述抛光机的旋转速度为15转/min，使所述60目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.3MPa，使所述60目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.4m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用1200目的金刚海绵刷替换所述60目的金刚海绵刷；
(5)使所述抛光机的旋转速度为30转/min，使所述1200目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.3MPa，使所述1200目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.2m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，用气枪吹干，即得清洗后的ITO靶材。
实施例2
本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的一种实施例，本实施例所述方法包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的抛光机上；
(2)所述100目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上，使100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面，所述装置与气动阀门相连，由气动阀门控制金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力；
(3)使所述抛光机的旋转速度为10转/min，使所述100目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.4MPa，使所述100目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.3m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用800目的金刚海绵刷替换所述100目的金刚海绵刷；
(5)使所述抛光机的旋转速度为40转/min，使所述800目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.5MPa，使所述800目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.1m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，用气枪吹干，即得清洗后的ITO靶材。
实施例3
本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的一种实施例，本实施例所述方法包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的抛光机上；
(2)所述80目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上，使80目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面，所述装置与气动阀门相连，由气动阀门控制金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力；
(3)使所述抛光机的旋转速度为25转/min，使所述80目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.2MPa，使所述80目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.2m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用1000目的金刚海绵刷替换所述80目的金刚海绵刷；
(5)使所述抛光机的旋转速度为35转/min，使所述1000目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.4MPa，使所述1000目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.15m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，用气枪吹干，即得清洗后的ITO靶材。
对比例1
本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的一种对比例，本对比例所述方法包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的抛光机上；
(2)所述50目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上，使50目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面，所述装置与气动阀门相连，由气动阀门控制金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力；
(3)使所述抛光机的旋转速度为35转/min，使所述50目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.5MPa，使所述50目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.4m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用1000目的金刚海绵刷替换所述50目的金刚海绵刷；
(5)使所述抛光机的旋转速度为35转/min，使所述1000目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.4MPa，使所述1000目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.15m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，用气枪吹干，即得清洗后的ITO靶材。
对比例2
本发明所述ITO靶材的抛光清洗方法的一种对比例，本对比例所述方法包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的抛光机上；
(2)所述100目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上，使100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面，所述装置与气动阀门相连，由气动阀门控制金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力；
(3)使所述抛光机的旋转速度为10转/min，使所述100目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.4MPa，使所述100目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动3次，所述轴向往复运动的速度为0.3m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用600目的金刚海绵刷替换所述100目的金刚海绵刷；
(5)使所述抛光机的旋转速度为20转/min，使所述600目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.1MPa，使所述600目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动2次，所述轴向往复运动的速度为0.1m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，用气枪吹干，即得清洗后的ITO靶材。
测试实施例1～3和对比例1～2所述靶材的不同位置的表面粗糙度，测试方法为GB/T 1031-2009，测试结果见表1。
表1
Figure BDA0003035501160000061
从表1可以看出，采用实施例1～3所述ITO靶材的抛光清洗方法清洗后的靶材粗糙度均匀性较高，且较低，而对比例1～2的不同位置的粗糙度相差更大，且高于实施例1～3。
最后所应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

Claims (6)

1.一种ITO靶材的抛光清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)将绑定后的ITO靶材安装于可使ITO靶材旋转的装置上；
(2)使60～100目的金刚海绵刷接触靶材待清洗的表面；
(3)使所述可旋转的装置的旋转速度为10～25转/min，使所述60～100目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.2～0.4MPa，使所述60～100目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动至少1次，所述轴向往复运动的速度为0.2～0.4m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇；
(4)用800～1200目的金刚海绵刷替换所述60～100目的金刚海绵刷；
(5)使所述可旋转的装置的旋转速度为30～40转/min，使所述800～1200目的金刚海绵刷与靶材之间的打磨压力为0.3～0.5MPa，使所述800～1200目的金刚海绵刷沿靶材轴向往复运动至少1次，所述轴向往复运动的速度为0.1～0.2m/min，沿所述金刚海绵刷的前进方向往靶材上滴加异丙醇，干燥，即得清洗后的ITO靶材。
2.如权利要求1所述ITO靶材的抛光清洗方法，其特征在于，步骤(2)中，所述60～100目的金刚海绵刷安装于可沿靶材轴向运动的装置上。
3.如权利要求2所述ITO靶材的抛光清洗方法，其特征在于，所述可沿靶材轴向运动的装置与气动阀门相连。
4.如权利要求1所述ITO靶材的抛光清洗方法，其特征在于，步骤(3)和/或步骤(4)中，所述轴向往复运动的次数为2～3次。
5.如权利要求1所述ITO靶材的抛光清洗方法，其特征在于，所述可使ITO靶材旋转的装置为抛光机。
6.如权利要求1所述ITO靶材的抛光清洗方法，其特征在于，步骤(5)中，所述干燥为用气枪吹干。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114434218A (zh) * 2022-02-21 2022-05-06 合肥江丰电子材料有限公司 一种lcd平面靶材的修复方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105057235A (zh) * 2015-07-06 2015-11-18 山东金鼎电子材料有限公司 Ito薄膜溅射靶材的清洁方法
CN109295427A (zh) * 2018-09-29 2019-02-01 厦门乾照光电股份有限公司 一种溅射靶材的清洁方法及装置
CN111421393A (zh) * 2020-03-31 2020-07-17 合肥江丰电子材料有限公司 一种lcd靶材侧面抛光工艺
CN111663107A (zh) * 2019-03-05 2020-09-15 Ｊｘ金属株式会社 溅射靶及其制造方法
CN112192327A (zh) * 2020-10-29 2021-01-08 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种旋转靶材的清洗装置及方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105057235A (zh) * 2015-07-06 2015-11-18 山东金鼎电子材料有限公司 Ito薄膜溅射靶材的清洁方法
CN109295427A (zh) * 2018-09-29 2019-02-01 厦门乾照光电股份有限公司 一种溅射靶材的清洁方法及装置
CN111663107A (zh) * 2019-03-05 2020-09-15 Ｊｘ金属株式会社 溅射靶及其制造方法
CN111421393A (zh) * 2020-03-31 2020-07-17 合肥江丰电子材料有限公司 一种lcd靶材侧面抛光工艺
CN112192327A (zh) * 2020-10-29 2021-01-08 先导薄膜材料（广东）有限公司 一种旋转靶材的清洗装置及方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114434218A (zh) * 2022-02-21 2022-05-06 合肥江丰电子材料有限公司 一种lcd平面靶材的修复方法

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