CN113173562B - 一种金属性二碲化物的制备方法 - Google Patents

一种金属性二碲化物的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN113173562B
CN113173562B CN202110536232.9A CN202110536232A CN113173562B CN 113173562 B CN113173562 B CN 113173562B CN 202110536232 A CN202110536232 A CN 202110536232A CN 113173562 B CN113173562 B CN 113173562B
Authority
CN
China
Prior art keywords
powder
substrate
metallic
mote
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202110536232.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN113173562A (zh
Inventor
郑晶莹
江凡
沈旭
张子明
詹红兵
陈奇俤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuzhou University
Original Assignee
Fuzhou University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuzhou University filed Critical Fuzhou University
Priority to CN202110536232.9A priority Critical patent/CN113173562B/zh
Publication of CN113173562A publication Critical patent/CN113173562A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN113173562B publication Critical patent/CN113173562B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B19/00Selenium; Tellurium; Compounds thereof
    • C01B19/007Tellurides or selenides of metals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/82Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by IR- or Raman-data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/02Particle morphology depicted by an image obtained by optical microscopy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/20Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

本发明公开了一种金属性二碲化物的制备方法,其是将钼源粉末或钨源粉末与Te粉研磨混合后,将所得混合粉末均匀铺在基底材料上,再在其上倒扣一相同基底材料,以构建限域生长空间,最后将其进行高温退火,得到相应的MoTe2纳米带或WTe2纳米带。本发明具有操作简便、生长方法不受基底类型限制、便于后续电学性能测试等优点,且所得金属性MoTe2或WTe2具有优良的电化学析氢催化性能。

Description

一种金属性二碲化物的制备方法
技术领域
本发明属于二维薄层材料制备领域,具体涉及一种金属性二碲化物的制备方法。
背景技术
二维MoTe2及WTe2的半导体相展示出优良的电化学催化性能,已被广泛研究。相比之下,金属相的二维MoTe2与WTe2的研究较少。然而,金属性的二维MoTe2与WTe2具有更为优异的导电性,被预测能够作为性能更为优异的电化学析氢剂。而推进金属性二维MoTe2与WTe2实用化的关键在于实现其可控制备,尤其是直接在导电基底上进行制备。
Donglin Lu(Donglin Lu, Xiaohui Ren, Long Ren , et al. Direct VaporDeposition Growth of 1T′ MoTe2 on Carbon Cloth for Electrocatalytic HydrogenEvolution[J]. ACS Applied Energy Materials, 2020, 3:3212-3219)采用化学气相沉积法在碳布上制备出金属性的MoTe2,随后以0.5 M H2SO4为电解液,以碳布上负载的MoTe2为工作电极进行电化学催化析氢测试,测得其塔菲尔斜率为127 mV/dec。Hui Qiao(HuiQiao, Zongyu Huang, Shengqian Liu, et al. Liquid-exfoliated molybdenumtelluride nanosheets with superior electrocatalytic hydrogen evolutionperformances[J]. Ceramics International, 2018, 44:205-21209)采用液相剥离法得到金属性MoTe2,然后以0.5 M H2SO4为电解液,以玻碳电极及MoTe2为工作电极进行电化学催化析氢测试,测得其塔菲尔斜率为118.9 mV/dec,可见其电化学析氢性能还有待提升。
Jie Li(Jie Li, Meiling Hong, Leijie Sun, et al. EnhancedElectrocatalytic Hydrogen Evolution from Large-Scale,Facile-Prepared, HighlyCrystalline WTe2 Nanoribbons with Weyl Semimetallic Phase [J]. ACS AppliedMaterials & Interfaces, 2018, 10(1):458)采用两步法先合成WO3−x纳米带,再利用CVD法合成WTe2,然后以0.5 M H2SO4为电解液,以玻碳电极及WTe2为工作电极进行电化学催化析氢测试,测得其塔菲尔斜率为57 mV/dec,但该制备方法非常繁琐。
本发明主要通过改进常规的化学气相沉积法,提出限域空间内反应的方法,在各类基底(包括导电基底石墨纸)上制备得到了大量电化学析氢催化性能优良的金属性二维MoTe2与WTe2纳米带。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术方法的不足,以一种新颖且简易的方法实现金属性MoTe2或WTe2的合成,该制备方法不受基底限制,可以在多种基底如Al2O3、SiO2/Si、石墨纸上进行生长,并具有优良的催化性能。
为实现上述发明目的,本发明采用如下技术方案:
一种金属性二碲化物的制备方法,其是将钼源粉末或钨源粉末与一定量Te粉混合,并充分研磨混合至无颗粒感,然后取适量研磨好的混合粉末,均匀薄铺在基底材料上,并在其正上方再倒扣一相同基底材料,形成基底/混合粉末/基底的三明治结构,再将其承载在清洗好的石英舟中,一并放置在管式炉中心温区进行高温退火,得到MoTe2纳米带或WTe2纳米带。
钼源粉末或钨源粉末与Te粉的用量按Te与Mo或W的摩尔比>6:1进行换算,以保证Te粉过量;所用钼源粉末为MoO3粉末,所用钨源粉末为WO3粉末。
所述基底材料为SiO2/Si、Al2O3或石墨纸。
所用混合粉末的铺用量占基底材料面积的一半。
石英舟在使用前先依次在乙醇、去离子水中超声清洗10-15 min。
所述高温退火是在氩气氛围下,先以20-30 ℃/min升温至500-900 ℃,保温10-40min,随后自然降温至300 ℃以下时打开炉门,待其冷却至70 ℃。
本发明的显著优点在于
本发明基于化学气相沉积法进行改进,利用基底相对放置以构建空间限域的生长环境,利用Te与金属源原位熔融结晶生长,此方法具有新颖简易的特点,并且在较低温下即可实现合成,此外,该方法不受基底类型的限制,在多种基底上(Al2O3、SiO2/Si、石墨纸)上均能合成。其中,石墨纸是导电基底,直接在其上合成的MoTe2和WTe2可用作电化学催化析氢的催化剂,并且具有优良的催化性能。
附图说明
图1为实施例1合成的MoTe2的表征,其中a为Al2O3基底上合成的MoTe2的100倍下光学显微镜图像,b为Al2O3基底上合成的MoTe2的400倍下光学显微镜图像,c为SiO2/Si基底上合成的MoTe2在400倍下的光学显微镜图像,d为合成的MoTe2的拉曼光谱图;
图2为实施例2合成的WTe2的表征,其中a为Al2O3基底上合成的WTe2的100倍下光学显微镜图像,b为Al2O3基底上合成的WTe2的400倍下光学显微镜图像,c为SiO2/Si基底上合成的WTe2在400倍下的光学显微镜图像,d为合成的WTe2的拉曼光谱图;
图3为实施例3中合成MoTe2及WTe2的表征,其中a为空白石墨纸基底的光学显微镜图像,b为石墨纸上合成的MoTe2的光学显微镜图像,c为石墨纸上合成的WTe2的光学显微镜图像;
图4为实施例3所合成金属性MoTe2和WTe2的电化学催化析氢测试图。
图5为对比例所得样品的光学显微镜图像,其中a为对比例1的光学显微镜图像,b为对比例2的光学显微镜图像。
具体实施方式
为了使本发明所述的内容更加便于理解,下面结合具体实施方式对本发明所述的技术方案做进一步的说明,但是本发明不仅限于此。
实施例1
按照Mo与Te的摩尔比为1:12称取0.04 g三氧化钼及0.42 g碲粉,放入研钵中研磨15 min至没有颗粒感,备用;用硅片刀切割SiO2/Si基底及A12O3基底得到大小约1.5 cm×1cm和1.2 cm×1 cm的基底各两片,先用氮气枪喷出的氮气气流清除基底表面颗粒杂质,再依次利用丙酮、乙醇、去离子水清洗基底表面的有机污染物,然后称取约5 mg混合粉末分别放于SiO2/Si基底及A12O3基底上,并将混合粉末薄铺至占基底面积的一半,再将1.5 cm×1cm的两片同类基底分别倒扣在SiO2/Si基底及A12O3基底上;将石英舟先用乙醇、丙酮、去离子水依次超声清洗10 min并在烘箱中烘干,再将装有混合粉末的SiO2/Si基底及A12O3基底分别放置在石英舟上,两种基底保持一定距离,将石英舟推入管式炉的中心处,拧紧法兰以保证气路的密封,设置氩气气流量为100 sccm,通入气体15 min以排尽管内空气,在此期间将炉子的升温程序设置为以30 ℃/min升温至750 ℃,保温25 min,程序运行结束后先降温至300 ℃,打开炉门,再在70 ℃时关闭氩气,取出样品。
图1为合成的MoTe2的光学显微镜图像(a、b、c)和拉曼光谱图(d),其中,a、b分别为A12O3基底上合成的MoTe2纳米带在100倍和400倍下的光学显微镜图像,其中白色的地方均为生长的MoTe2,可见利用本发明方法可以获得大面积的MoTe2纳米带;c为在SiO2/Si基底上合成的MoTe2在400倍下的光学显微镜图,图中条状的物质为生长的MoTe2;d为生成的MoTe2的拉曼光谱图,可以看到拉曼峰的峰位在108 cm−1,127 cm−1,161 cm−1,190 cm−1,256 cm−1,而文献中报道的1T’型MoTe2的峰位为110 cm−1,128 cm−1,162 cm−1,189 cm−1,257 cm−1,两者基本吻合,证明合成的确实为1T’-MoTe2,即金属性MoTe2
实施例2
按照W与Te的摩尔比为1:8称取0.1 g WO3及0.43 g碲粉,放入研钵中研磨15 min没有颗粒感,备用;用硅片刀切割SiO2/Si基底及A12O3基底得到大小1.4 cm×1 cm和1.2 cm×1 cm的基底各两片,先用氮气枪喷出的氮气气流清除基底表面颗粒杂质,再依次利用丙酮、乙醇、去离子水清洗基底表面的有机污染物,然后称约10 mg混合粉末分别放于SiO2/Si基底及A12O3基底上,并将混合粉末薄铺至占基底面积的一半,再将1.4 cm×1 cm的两种同类基底倒扣在SiO2/Si基底及A12O3基底上;将石英舟先用乙醇、丙酮、去离子水依次超声清洗10 min并在烘箱中烘干,再将准备好的SiO2/Si基底及A12O3基底分别放置在石英舟上两端的位置,随后将石英舟推入管式炉的管子中,石英舟置于中心温区,设置氩气气流量为100 sccm,先通入气体15 min以排尽管内空气,然后设置炉子升温程序为以30 ℃/min升温至850 ℃,保温30 min,程序运行结束后先降温至300 ℃,打开炉门,再在70 ℃时关闭氩气,取出样品。
图2为合成的WTe2的光学显微镜图像(a、b、c)及拉曼光谱图(d),其中,a、b分别为Al2O3上合成的WTe2纳米带在100倍下和400倍下的光学显微图像,其中白色的地方均为生长的WTe2,从a中可以清楚的看到有大面积的WTe2纳米带生成;c为在SiO2/Si基底上合成的WTe2在400倍下的光学显微镜图,图中条状的物质均为生长的WTe2,d为生成的WTe2的拉曼光谱图,可以看到拉曼峰的峰位在82cm−1,111 cm−1,132 cm−1,165 cm−1,214 cm−1,而文献中报道的WTe2的峰位为79.1cm−1,100.6 cm−1,133.7cm−1,163.9 cm−1,211.8 cm−1,两者基本吻合,证明合成的确实为金属性WTe2
实施例3
按照W与Te的摩尔比为1:11.5称取0.033 g WO3及0.21 g碲粉,放入研钵中研磨15min至没有颗粒感,另按照Mo与Te的摩尔比为1:14称取0.02 g WO3及0.25 g碲粉,放入另一干净的研钵中研磨15 min至没有颗粒感;用剪刀切割得到大小为1.5 cm×1 cm的石墨纸四片,取约10 mg两种混合粉末分别放于石墨纸上,并将混合粉末薄铺至占基底面积的一半,再将另外两张石墨纸盖在粉末上方,用回形针将石墨纸两侧固定;将石英舟先用乙醇、丙酮、去离子水依次超声清洗10 min并在烘箱中烘干,再将装有混合粉末的石墨纸分别平放于两个清洗后的石英舟中,将石英舟置于管式炉的中心温区,将管子两端法兰拧紧,保证气路的密封,设置氩气气流量为100 sccm,通入气体15 min以排尽管内空气,在此期间设置炉子升温程序为以30 ℃/min升温至800 ℃,保温30 min,程序运行结束后先降温至300 ℃,打开炉门,再在70 ℃时关闭氩气,取出样品。
图3为未生长的石墨纸(a)及石墨纸基底上合成的MoTe2(b)和WTe2(c)的光学显微镜图像。与a对比可以发现,石墨纸基底上确实生长了MoTe2及WTe2纳米带。
以0.5 M H2SO4为电解液,以1 mm×1 mm的Pt片为对电极,Ag/AgCl为参比电极,负载MoTe2和WTe2纳米带的石墨纸为工作电极,进行电化学催化析氢测试。图4为实施例3所合成金属性MoTe2和WTe2的电化学催化析氢测试图。图中可见MoTe2和WTe2的塔菲尔斜率分别为76 mV/dec与70 mV/dec,表明二者均具有优良的催化性能。
对比例1
按照Mo与Te的摩尔比为1:12称取0.04 g三氧化钼及0.42 g碲粉,放入研钵中研磨15 min至没有颗粒感,备用;用硅片刀切割一片大小约1.5 cm×1 cm的A12O3基底,先用氮气枪喷出的氮气气流清除基底表面颗粒杂质,再依次利用丙酮、乙醇、去离子水清洗基底表面的有机污染物,然后称取约5 mg混合粉末放于A12O3基底上,并将混合粉末薄铺至占基底面积的一半;将石英舟先用乙醇、丙酮、去离子水依次超声清洗10 min并在烘箱中烘干,再将装有混合粉末的A12O3基底放置在石英舟上,将石英舟推入管式炉的中心处,拧紧法兰以保证气路的密封,设置氩气气流量为100 sccm,通入气体15 min以排尽管内空气,在此期间将炉子的升温程序设置为以30 ℃/min升温至750 ℃,保温25 min,程序运行结束后先降温至300 ℃,打开炉门,再在70 ℃时关闭氩气,取出样品。
对比例2
按照W与Te的摩尔比为1:8称取0.1 g WO3及0.43 g碲粉,放入研钵中研磨15 min没有颗粒感,备用;用硅片刀切割一片大小约1.4 cm×1 cm的A12O3基底,先用氮气枪喷出的氮气气流清除基底表面颗粒杂质,再依次利用丙酮、乙醇、去离子水清洗基底表面的有机污染物,然后称约10 mg混合粉末放于A12O3基底上,并将混合粉末薄铺至占基底面积的一半;将石英舟先用乙醇、丙酮、去离子水依次超声清洗10 min并在烘箱中烘干,再将准备好的A12O3基底放置在石英舟上,随后将石英舟推入管式炉的管子中,石英舟置于中心温区,设置氩气气流量为100 sccm,先通入气体15 min以排尽管内空气,然后设置炉子升温程序为以30 ℃/min升温至850 ℃,保温30 min,程序运行结束后先降温至300 ℃,打开炉门,再在70℃时关闭氩气,取出样品。
图5为对比例1、2所得样品的光学显微镜图像。由图中可见,粉末熔融结晶但未生长出碲化钼和碲化钨纳米带。由此证明,本发明利用基底相对放置以构建空间限域的生长环境对MoTe2纳米带或WTe2纳米带的形成有重要影响。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本发明的涵盖范围。

Claims (3)

1.一种金属性二碲化物的制备方法,其特征在于:将钼源粉末或钨源粉末与一定量Te粉混合,并充分研磨混合至无颗粒感,然后取适量研磨好的混合粉末均匀薄铺在基底材料上,并在其正上方倒扣一相同基底材料,再将其承载在清洗好的石英舟中,经高温退火得到MoTe2纳米带或WTe2纳米带;
钼源粉末或钨源粉末与Te粉的用量按Te与Mo或W的摩尔比>6:1进行换算;所用钼源粉末为MoO3粉末,所用钨源粉末为WO3粉末;
所述高温退火是在氩气氛围下,先以20-30 ℃/min升温至500-900 ℃,保温10-40min,随后自然降温至300 ℃以下时打开炉门,待其冷却至70 ℃。
2.根据权利要求1所述的金属性二碲化物的制备方法,其特征在于:所述基底材料为SiO2/Si、Al2O3或石墨纸。
3.根据权利要求1所述的金属性二碲化物的制备方法,其特征在于:所用混合粉末的铺用量占基底材料面积的一半。
CN202110536232.9A 2021-05-17 2021-05-17 一种金属性二碲化物的制备方法 Active CN113173562B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110536232.9A CN113173562B (zh) 2021-05-17 2021-05-17 一种金属性二碲化物的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110536232.9A CN113173562B (zh) 2021-05-17 2021-05-17 一种金属性二碲化物的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN113173562A CN113173562A (zh) 2021-07-27
CN113173562B true CN113173562B (zh) 2022-10-21

Family

ID=76929595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110536232.9A Active CN113173562B (zh) 2021-05-17 2021-05-17 一种金属性二碲化物的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113173562B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113428845B (zh) * 2021-08-25 2021-12-03 中国人民解放军国防科技大学 一种二维二碲化钼纳米材料的限域化学气相沉积制备方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109205677A (zh) * 2018-11-30 2019-01-15 中南大学 一种一维MoS2纳米带的制备方法
CN109267036A (zh) * 2018-11-01 2019-01-25 西北大学 一种二碲化钨纳米线材料的制备及二碲化钨纳米线材料
CN109336069A (zh) * 2018-11-01 2019-02-15 西北大学 一种二碲化钼纳米线材料的制备及二碲化钼纳米线材料
CN109809372A (zh) * 2019-03-26 2019-05-28 湘潭大学 一种基于空间限域策略制备单层二硒化钨纳米带的方法
CN109811307A (zh) * 2019-01-03 2019-05-28 杭州电子科技大学 一种二维材料纳米带或微米带的制备方法
CN110257906A (zh) * 2019-07-23 2019-09-20 西北工业大学 一种二维过渡金属硫族化合物晶体及其制备方法和用途
CN110510585A (zh) * 2019-09-30 2019-11-29 福州大学 一种大面积薄层二维碲烯的制备方法
CN110790313A (zh) * 2019-12-18 2020-02-14 湘潭大学 一种3r相过渡金属硫属化合物二维纳米片的制备方法
CN112663139A (zh) * 2020-11-03 2021-04-16 杭州电子科技大学 一种特殊形貌二维硫化钼晶体材料的制备方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111540786B (zh) * 2020-05-14 2024-02-13 皖西学院 一种二硫化钼纳米带及其制备方法、场效应晶体管的电极材料

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109267036A (zh) * 2018-11-01 2019-01-25 西北大学 一种二碲化钨纳米线材料的制备及二碲化钨纳米线材料
CN109336069A (zh) * 2018-11-01 2019-02-15 西北大学 一种二碲化钼纳米线材料的制备及二碲化钼纳米线材料
CN109205677A (zh) * 2018-11-30 2019-01-15 中南大学 一种一维MoS2纳米带的制备方法
CN109811307A (zh) * 2019-01-03 2019-05-28 杭州电子科技大学 一种二维材料纳米带或微米带的制备方法
CN109809372A (zh) * 2019-03-26 2019-05-28 湘潭大学 一种基于空间限域策略制备单层二硒化钨纳米带的方法
CN110257906A (zh) * 2019-07-23 2019-09-20 西北工业大学 一种二维过渡金属硫族化合物晶体及其制备方法和用途
CN110510585A (zh) * 2019-09-30 2019-11-29 福州大学 一种大面积薄层二维碲烯的制备方法
CN110790313A (zh) * 2019-12-18 2020-02-14 湘潭大学 一种3r相过渡金属硫属化合物二维纳米片的制备方法
CN112663139A (zh) * 2020-11-03 2021-04-16 杭州电子科技大学 一种特殊形貌二维硫化钼晶体材料的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"二碲化钨纳米带的合成及热电性质";周红璐等;《中国科学》;20190430;第49卷(第4期);第98-106页 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN113173562A (zh) 2021-07-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Geng et al. Direct synthesis of large‐area 2D Mo2C on in situ grown graphene
Zhu et al. Nanostructure of GaN and SiC nanowires based on carbon nanotubes
Tong et al. Vapor‐phase growth of high‐quality wafer‐scale two‐dimensional materials
CN109437124B (zh) 一种合成单层过渡金属硫族化合物的方法
CN113173562B (zh) 一种金属性二碲化物的制备方法
CN104498894B (zh) 一种多孔金刚石薄膜的制备方法
Li et al. Synthesis and field emission properties of GaN nanowires
CN107964680B (zh) 一种制备单层六方氮化硼大单晶的方法
Bleu et al. Boron-doped graphene synthesis by pulsed laser co-deposition of carbon and boron
CN109336069B (zh) 一种二碲化钼纳米线材料的制备及二碲化钼纳米线材料
CN108314019A (zh) 一种层数均匀的大面积高质量石墨烯薄膜的制备方法
Xu et al. Structure transition mechanism of single-crystalline silicon, g-C3N4, and diamond nanocone arrays synthesized by plasma sputtering reaction deposition
KR102165907B1 (ko) 수소 발생용 촉매 및 이의 제조 방법
CN109499592B (zh) 纳米棒碳化钼/二氧化钼复合材料的制备方法
Yasir et al. Synthesis and properties of crystalline thin film of antimony trioxide on the Si (1 0 0) substrate
Chong et al. Radial growth of slanting-columnar nanocrystalline Si on Si nanowires
CN113737277B (zh) 一种基于化学气相沉积制备大尺寸单晶二维材料的方法
Fan et al. Chemical vapor deposition of graphene on refractory metals: The attempt of growth at much higher temperature
CN108970624A (zh) 一种碳/二硫化钽异质结材料及其制备方法和应用
Liu et al. Nanostructured Silicon Matrix for Materials Engineering
Zervos et al. A systematic study of the nitridation of SnO2 nanowires grown by the vapor liquid solid mechanism
Li et al. Seeded growth of high-quality transition metal dichalcogenide single crystals via chemical vapor transport
JP5142211B2 (ja) シリコン結晶の製造方法および太陽電池膜の製造方法
CN110373714B (zh) 一种在室温下快速制备大尺寸高品质单层石墨烯的方法
Mao et al. Growth controlling behavior of vertically aligned MoSe2 film

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant