CN113149656B - 一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法 - Google Patents

一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法,采用先驱体共混法将聚硼硅氮烷(PBSZ)和聚铪氧烷(PHO)按照一定体积比例混合,加入一定含量的镍系催化剂的饱和乙醇溶液,然后经固化、裂解和高温热处理得到富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷。Si3N4纳米线的直径小于50nm,长度在10μm‑200μm之间。Si3N4晶体的析出使SiHfBCN陶瓷对电磁波的响应从吸收或反射变为偏透过。铪元素的存在使Si3N4纳米线在1600℃依旧稳定存在,同时由于非晶相富含铪元素,因而此方法制备的SiHfBCN陶瓷也具有优异的抗烧蚀性能。本发明能够适用于复合材料,可用作涂层或基体,充当电磁波阻抗匹配层,同时可有效提高其在超高温环境下的抗烧蚀能力。

Description

一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法
技术领域
本发明属于超高温陶瓷基复合材料技术,涉及一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法,是一种采用先驱体共混法工艺催化裂解制备Si3N4纳米线陶瓷的方法,是一种制备透波烧蚀一体化陶瓷的方法。
背景技术
目前关于SiHfBCN陶瓷的制备方法主要分为三种,文献“敖冬飞等。HfB2/SiBCN复相陶瓷抗热震与耐烧蚀性能的研究[D]”采用了机械合金化法制备了SiHfBCN非晶陶瓷。文献“Yuan J,Hapis S,Breitzke H,et al.Single-Source-Precursor Synthesis ofHafnium-Containing Ultrahigh-Temperature Ceramic Nanocomposites(UHTC-NCs)[J].Inorganic Chemistry,2015,45(49):10443-10455”采用了单源前驱体合成法制备了含β-SiC、HfC、HfN和HfB2四种晶相的SiHfBCN陶瓷。专利“冯志海等。一种低氧液态SiHfBCN陶瓷前驱体、制备方法及SiHfBCN陶瓷[P]”采用先驱体共混的工艺将聚硼硅氮烷(PBSZ)和聚铪氧烷(PHO)共混,经固化、裂解和高温热处理得到含β-SiC、HfC、HfN和HfB2四种晶相的SiHfBCN陶瓷。
这三种方法制备的SiHfBCN陶瓷分为非晶陶瓷和非晶/晶体共存陶瓷,其中非晶/晶体共存陶瓷的晶相为β-SiC、HfC、HfN和HfB2,析晶温度为1700℃,析晶温度较高,限制了其应用;同时β-SiC、HfC、HfN和HfB2的复介电常数较高,导致制备的SiHfBCN陶瓷对于电磁波的响应为吸收或屏蔽,限制了其对电磁透过型材料的改性。
传统制备的SiHfBCN陶瓷的析晶温度为1700℃,析出的晶体为β-SiC、HfC、HfN和HfB2,且其复介电常数较高。
发明内容
要解决的技术问题
为了避免现有技术的不足之处,本发明提出一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法,通过加入镍系催化剂,使SiHfBCN陶瓷的析晶温度从1700℃降低至1500℃,同时使析出的晶体变为Si3N4,显著降低了其复介电常数。
技术方案
一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷,其特征在于:SiHfBCN陶瓷为晶相与非晶相的混合物,富含铪元素;晶体为Si3N4,非晶相包括但不限于非晶BN、非晶C、非晶HfO2或非晶SiC;陶瓷中的铪原子含量在10-20%;当参与反应的物质聚硼硅氮烷PBSZ与聚铪氧烷PHO为不同体积比例时,镍系催化剂为不同含量时,Si3N4纳米线的含量以及长度不同,具有不同的透波或吸收电磁波的能力。
所述聚硼硅氮烷PBSZ与聚铪氧烷PHO的体积比例为1:0.2-0.5。
所述镍系催化剂的饱和乙醇溶液的体积范围为聚硼硅氮烷的1/50-1/20。
所述Si3N4的直径小于50nm,长度在10μm-200μm之间。
所述Si3N4纳米线的含量为20~10%wt。
当晶体Si3N4的含量为20%wt~18%wt时,材料表现为透波材料。
当晶体Si3N4的含量为15%wt~10%wt,材料对电磁波具吸收能力。
一种制备权利要求1~4任一项所述含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷的方法,其特征在于步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将聚硼硅氮烷PBSZ与聚铪氧烷PHO按照1:0.2-0.5的体积比例进行混合,相应加入的镍系催化剂的饱和乙醇溶液的体积范围为聚硼硅氮烷的1/50-1/20,然后加入与聚硼硅氮烷等体积的二甲苯,经充分搅拌、溶解,最后在超声波清洗器中超声分散1-3h,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将预聚体在温度为150-250℃,时间为1-3h进行固化,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨后,过筛得到微米尺度的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将固化物粉末放入模具中,在6-10MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900±50℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:将陶瓷块体放入石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,在1100-1600℃热处理2-10h,得到含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷的陶瓷块体。
热处理时,在1500℃以下温度热处理,SiHfBCN陶瓷以非晶为主,1500℃时Si3N4纳米线开始析出。在1600℃的高温下热处理2-10h,Si3N4纳米线的含量为热处理之前的80%。
所述催化剂的添加含量的体积含量比为1/50、1/40、1/30或1/20时,Si3N4纳米线相应的长径比为200、500、1000或2000。
所述聚硼硅氮烷PBSZ和聚铪氧烷PHO的体积混合比例为混合比1:0.2、1:0.3、1:0.4或1:0.5时,相应的Si3N4纳米线的质量含量分别为20%wt、18%wt、15%wt或10%wt。
所述镍系催化剂包括但不限于:硝酸镍、氯化镍、硫酸镍或二茂镍。
有益效果
本发明提出的一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷及制备方法,采用先驱体共混法将聚硼硅氮烷(PBSZ)和聚铪氧烷(PHO)按照一定体积比例混合,加入一定含量的镍系催化剂的饱和乙醇溶液,然后经固化、裂解和高温热处理得到富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷。Si3N4纳米线的直径小于50nm,长度在10μm-200μm之间。Si3N4晶体的析出使SiHfBCN陶瓷对电磁波的响应从吸收或反射变为偏透过。铪元素的存在使Si3N4纳米线在1600℃依旧稳定存在,同时由于非晶相富含铪元素,因而此方法制备的SiHfBCN陶瓷也具有优异的抗烧蚀性能。
本发明采用专利“冯志海等。一种低氧液态SiHfBCN陶瓷前驱体、制备方法及SiHfBCN陶瓷[P]”使用的先驱体共混的工艺,在混合物中加入镍系催化剂后,配合相应的工艺参数,使SiHfBCN陶瓷的析晶温度从1700℃降低至1500℃,同时使析出的晶体变为Si3N4,显著降低了其复介电常数。由于富含铪元素的大量使Si3N4纳米线在1600℃依旧稳定存在,提高了其分解温度,所制备的SiHfBCN陶瓷的开气孔率为35%-50%,密度为3.4-4.1g/cm3,富含Si3N4纳米线SiHfBCN陶瓷同时保持了优异的抗烧蚀性能。
本发明能够适用于复合材料,可应用于涂层或基体,充当电磁波阻抗匹配层,同时提高其在超高温环境下的抗烧蚀。
附图说明
图1:本发明所制备的富含Si3N4纳米线SiHfBCN陶瓷的表面XRD图谱;
聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硝酸镍饱和乙醇溶液体积混合比例为1:0.25:0.04制备的SiHfBCN陶瓷在不同温度热处理的XRD图谱
图2:本发明所制备的富含Si3N4纳米线SiHfBCN陶瓷断口的SEM图像;
聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硝酸镍饱和乙醇溶液体积混合比例为1:0.25:0.04制备的SiHfBCN陶瓷在1500℃热处理的SEM图像
具体实施方式
现结合实施例、附图对本发明作进一步描述:
实施例1:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硝酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.2:0.01制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、4ml聚铪氧烷(PHO)和0.02ml硝酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例2:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硝酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.2:0.02制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、4ml聚铪氧烷(PHO)和0.04ml硝酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例3:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硝酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.2:0.03制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、4ml聚铪氧烷(PHO)和0.06ml硝酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例4:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硝酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.2:0.04制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、4ml聚铪氧烷(PHO)和0.08ml硝酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例5:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和氯化镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.3:0.01制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、6ml聚铪氧烷(PHO)和0.02ml氯化镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例6:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和氯化镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.3:0.02制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、6ml聚铪氧烷(PHO)和0.04ml氯化镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例7:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和氯化镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.3:0.03制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、6ml聚铪氧烷(PHO)和0.06ml氯化镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例8:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和氯化镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.3:0.04制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、6ml聚铪氧烷(PHO)和0.08ml氯化镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例9:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硫酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.4:0.01制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、8ml聚铪氧烷(PHO)和0.02ml硫酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例10:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硫酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.4:0.02制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、8ml聚铪氧烷(PHO)和0.04ml硫酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例11:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硫酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.4:0.03制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、8ml聚铪氧烷(PHO)和0.06ml硫酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例12:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和硫酸镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.4:0.04制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、8ml聚铪氧烷(PHO)和0.08ml硫酸镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例13:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和二茂镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.5:0.01制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、10ml聚铪氧烷(PHO)和0.02ml二茂镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例14:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和二茂镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.5:0.02制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、10ml聚铪氧烷(PHO)和0.04ml二茂镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例15:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和二茂镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.5:0.03制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、10ml聚铪氧烷(PHO)和0.06ml二茂镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
实施例16:采用聚硼硅氮烷(PBSZ)、聚铪氧烷(PHO)和二茂镍饱和乙醇溶液的体积混合比例1:0.5:0.04制备富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷
具体制备步骤如下:
步骤1、预聚体的制备:将20ml聚硼硅氮烷(PBSZ)、10ml聚铪氧烷(PHO)和0.08ml二茂镍饱和乙醇溶液放入250ml的烧杯中,加入50ml二甲苯,然后充分搅拌,在超声波清洗器中超声分散1-3h,使两种先驱体和催化剂混合均匀,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将步骤1得到的预聚体放入电热鼓风干燥箱中固化,温度为200℃,时间为1-3h,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将步骤2得到的块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨30分钟,然后在1250目的筛网下过筛,得到粒径10μm以下的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将步骤3得到的固化物粉末按质量平均分成6份,分别放入一定尺寸的模具中,在6MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将步骤4得到的固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:取步骤5得到的陶瓷块体5块,分别放入5个石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,分别在1100℃、1300℃、1400℃、1500℃和1600℃热处理2-10h,得到不同温度热处理的陶瓷块体。
表1实施例长径比和复介电常数归总
Figure BDA0003032535720000161
Figure BDA0003032535720000171
1表中长度和直径选取的是平均值2长径比取整四舍五入,损耗精确到千分位

Claims (5)

1.一种富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷,其特征在于:SiHfBCN陶瓷为晶相与非晶相的混合物,富含铪元素;晶体为Si3N4,非晶相包括但不限于非晶BN、非晶C、非晶HfO2或非晶SiC;陶瓷中的铪原子含量在10-20%;当参与反应的物质聚硼硅氮烷PBSZ与聚铪氧烷PHO为不同体积比例时,镍系催化剂为不同含量时,Si3N4纳米线的含量以及长度不同,具有不同的透波或吸收电磁波的能力;
所述富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷的制备方法如下:
步骤1、预聚体的制备:将聚硼硅氮烷PBSZ与聚铪氧烷PHO按照1:0.2-0.5的体积比例进行混合,相应加入的镍系催化剂的饱和乙醇溶液的体积范围为聚硼硅氮烷的1/50-1/20,然后加入与聚硼硅氮烷等体积的二甲苯,经充分搅拌、溶解,最后在超声波清洗器中超声分散1-3h,得到预聚体;
步骤2、固化物的制备:将预聚体在温度为150-250℃,时间为1-3h进行固化,得到块状固化物;
步骤3、固化物粉末的制备:将块状固化物,放入玛瑙研钵中研磨后,过筛得到微米尺度的固化物粉末;
步骤4、固化物块体的制备:将固化物粉末放入模具中,在6-10MPa的压力下压块,得到固化物块体;
步骤5、陶瓷块体的制备:将固化物块体放入石英坩埚,然后转移至管式裂解炉中,在氩气气氛下,在900±50℃裂解2-10h,得到陶瓷块体;
步骤6、陶瓷块体的热处理:将陶瓷块体放入石英坩埚,然后转移至釜式裂解炉中,在氩气气氛下,在1100-1600℃热处理2-10h,得到含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷的陶瓷块体。
2.根据权利要求1所述富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷,其特征在于:所述Si3N4的长度在10μm-200μm之间。
3.根据权利要求1所述富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷,其特征在于:所述Si3N4纳米线的含量为20~10wt%。
4.根据权利要求1所述富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷,其特征在于:所述聚硼硅氮烷PBSZ和聚铪氧烷PHO的体积混合比例为混合比1:0.2、1:0.3、1:0.4或1:0.5时,相应的Si3N4纳米线的质量含量分别为20wt%、18wt%、15wt%或10wt%。
5.根据权利要求1所述富含Si3N4纳米线的SiHfBCN陶瓷,其特征在于:所述镍系催化剂包括:硝酸镍、氯化镍、硫酸镍或二茂镍。
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GR01 Patent grant
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