CN113050340A - 相机模块 - Google Patents

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Abstract

相机模块包括：承载部，被支承在壳体上，并且能够在光轴方向上移动；至少一个框架，被支承在承载部上，并且能够相对于承载部在与光轴方向垂直的至少一个方向上移动；以及透镜模块，被支承在至少一个框架上。框架在承载部上被支承成使得吸引力作用在与光轴方向垂直的至少一个方向上。

Description

相机模块
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年12月10日提交至韩国知识产权局的第10-2019-0164033号韩国专利申请的优先权权益，上述韩国专利申请的全部公开内容出于所有目的通过引用并入本申请。
技术领域
本申请涉及相机模块。
背景技术
超小型相机模块在诸如智能电话、平板PC、膝上型计算机等移动通信终端中的使用已经增加。
随着移动通信终端的小型化，由这些终端获得的图像质量可能降低，因为这些终端经常在拍摄图像时被手握持。为了在即使存在由于握持终端的手的无意抖动而在图像中引入不稳定性的情况下也能获得清晰的图像，需要补偿抖动效果的技术。
用于光学图像防抖(OIS)的致动器可用于补偿由握持终端的手的不稳定而引入的无意识抖动。OIS致动器可以在与光轴方向垂直的方向上移动透镜模块，以补偿无意识抖动。
已经实现了包括广角相机和长焦相机的多个相机邻近移动终端安装的结构，以改善相机模块的性能。
然而，当为了小型化和精确驱动而采用使用磁体和线圈的OIS致动器时，由于彼此相邻的相机模块之间的磁干扰而可能使性能下降。
发明内容
提供本发明内容部分旨在以简要的形式介绍对发明构思的选择，而在下面的具体实施方式部分中将进一步描述这些发明构思。本发明内容部分目的不在于确认所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不籍此帮助确定所要求保护的主题的范围。
一种致动器，其具有设置有磁体和线圈的结构。
一种结构，其能够在采用使用磁场和线圈的致动器以小型化并精确驱动的同时显著地减少磁场的泄漏。
一种显著减小磁场干扰的结构，使得即使当多个相机模块彼此相邻设置时也可以自由地布置该多个相机模块。
在一个总的方面，相机模块包括：承载部，被支承在壳体上，并且可在光轴方向上移动；至少一个框架，被支承在承载部上，并且可相对于承载部在与光轴方向垂直的至少一个方向上移动；以及透镜模块，被支承在至少一个框架上。框架在承载部上被支承成使得吸引力在与光轴方向垂直的至少一个方向上起作用。
相机模块可包括轭，轭设置在支承框架的壳体的侧表面上，并且轭可包括配置成防止磁场的泄漏的材料。
至少一个框架可包括第一框架，并且第一框架可以在承载部上被支承成使得吸引力在与光轴方向垂直的第一方向上起作用。
透镜模块可以在第一框架上被支承成使得吸引力在与光轴方向垂直并且与第一方向垂直的第二方向上起作用。
第一框架可包括第一磁体，并且透镜模块可包括第二磁体，壳体可包括第一轭和第二轭，并且第一磁体和第一轭可以沿着第一方向以第一间隔布置，且第二磁体和第二轭可以沿着第二方向以第二间隔布置。
第一框架可包括第一磁体，并且透镜模块可包括第二磁体，第一磁体可被磁化成沿着与承载部相对的表面在与光轴方向垂直的第二方向上具有至少N极和S极，以及第二磁体可被磁化成沿着与承载部相对的表面在与光轴方向垂直的第一方向上具有至少N极和S极。
第一框架可以沿着与第一方向垂直的方向相对于承载部移动，并且透镜模块可以沿着与第二方向垂直的方向相对于第一框架移动。
所述至少一个框架可包括第一框架和第二框架。
第一框架可被紧密地支承到承载部的平行于光轴方向的第一表面，并且第二框架可被紧密地支承到承载部的平行于光轴方向的第二表面。
第一框架可包括第一磁体，并且第二框架可包括第二磁体，壳体可包括第一轭和第二轭，并且第一磁体和第一轭可以沿着与光轴方向垂直的第一方向以第一间隔布置，且第二磁体和第二轭可以沿着与光轴方向垂直的第二方向以第二间隔布置。
第一框架可包括第一磁体，并且第二框架可包括第二磁体，并且第一磁体和第二磁体中的每一个被磁化成沿着与壳体相对的表面在与光轴方向垂直的至少一个方向上具有至少N极和S极。
第一框架和第二框架可以在与光轴方向垂直的至少一个方向上沿着与承载部接触的表面相对地移动。
透镜模块可包括：透镜镜筒，包括容纳在透镜镜筒中的至少一个透镜；以及透镜支架，透镜镜筒容纳在透镜支架中，并且透镜支架可以沿着光轴方向插置在第一框架与第二框架之间。
透镜支架可配置成可沿着与第一方向垂直的方向移动，或者可与第二框架一起沿着与第二方向垂直的方向移动。
相机模块可包括滚动构件，滚动构件沿着光轴方向分别设置在第一框架与透镜支架之间以及第二框架与透镜支架之间。
在另一个总的方面，相机模块包括：自动对焦部分，包括被支承在壳体上并且配置成可在光轴方向上移动的承载部；抖动校正部分，包括可在与光轴方向垂直的至少一个方向上相对于承载部移动的至少一个框架以及被支承在框架上的透镜模块。承载部和至少一个框架配置成在滚动构件插置在相关构件与承载部和至少一个框架之间时可在平行于光轴方向的表面上移动。
在另一个总的方面，相机模块包括：自动对焦部分，包括设置在壳体上且可在光轴方向上移动的承载部；抖动校正单元，包括配置成可在与光轴方向垂直的至少一个方向上相对于承载部移动的透镜模块；以及向自动对焦部分提供驱动力的自动对焦线圈及向抖动校正单元提供驱动力的第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈。自动对焦线圈以及第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈设置在壳体的平行于光轴方向的表面上。壳体包括多个轭，该多个轭分别覆盖自动对焦线圈以及第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈，以防止磁场泄漏。
在另一个总的方面，相机模块包括：第一构件，配置成沿着光轴方向移动并且包括第一磁体，第一磁体配置成产生使第一构件沿着与光轴垂直的第一方向移动的力；第二构件，配置成联接至第一构件并且包括第二磁体，第二磁体配置成产生使第二构件沿着与光轴垂直的第二方向相对于第一构件移动的力；以及透镜镜筒，固定至第一构件，并且配置成通过第一构件的移动而沿着第一方向移动以及通过第二构件相对于第一构件的移动而沿着第二方向移动。
相机模块可包括：承载部，配置成容纳第一构件和第二构件，并且沿着光轴方向移动；以及壳体，包括第一轭和第二轭。第一框架和第二框架可以通过与第一轭和第二轭的吸引力而被紧密地支承在承载部的平行于光轴方向的侧壁上。
根据下面的具体实施方式、附图和所附权利要求，其它特征和方面将变得显而易见。
附图说明
图1是根据示例的相机模块的组装立体图。
图2是根据示例的相机模块的分解立体图。
图3是根据示例的壳体和承载部的分解立体图。
图4是根据示例的壳体、承载部、框架和透镜模块的分解立体图。
图5是根据示例的壳体、承载部、框架和透镜模块的组装立体图。
图6是当从上方观察时根据示例的壳体、承载部和框架的分解立体图。
图7是当从下方观察时根据示例的壳体、承载部和框架的分解立体图。
图8是根据另一示例的相机模块的分解立体图。
图9是根据另一示例的壳体和承载部的分解立体图。
图10是根据另一示例的壳体、承载部、框架和透镜模块的分解立体图。
图11是根据另一示例的壳体、承载部、框架和透镜模块的组装立体图。
图12是当从上方观察时根据另一示例的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。
图13是当从下方观察时根据另一示例的壳体、承载部、框架和透镜支架的分解立体图。
在整个附图和具体实施方式中，相同的附图标记指代相同的元件。出于清楚、说明和方便的目的，附图可能未按照比例绘制，并且附图中元件的相对尺寸、比例和描绘可能被夸大。
具体实施方式
提供以下具体实施方式以帮助读者获得对本申请中所描述的方法、装置和/或系统的全面理解。然而，本申请中所描述的方法、装置和/或系统的各种改变、修改和等同对本领域的普通技术人员将是显而易见的。本申请中所描述的操作的顺序仅仅是示例，并且除了必须以特定顺序发生的操作之外，不限于在本申请中所阐述的顺序，而是可以改变的，这对于本领域的普通技术人员将是显而易见的。另外，为了更加清楚和简洁，可省略对本领域的普通技术人员将公知的功能和构造的描述。
本申请中所描述的特征可以以不同的形式实施，而不应被理解为受限于本申请中所描述的示例。更确切地，提供本申请所描述的示例使得本公开将是透彻且完整的，并且将向本领域的普通技术人员充分传达本公开的范围。
应注意，在本申请中，相对于示例或实施方式使用措辞“可以”，例如关于示例或实施方式可以包括或实现的内容，意味着存在其中包括或实现这样的特征的至少一个示例或实施方式，而所有示例和实施方式不限于此。
在整个说明书中，当诸如层、区域或基板的元件被描述为位于另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，该元件可直接位于该另一元件“上”、直接“连接到”或直接“联接到”该另一元件，或者可存在插置在该元件与该另一元件之间的一个或多个其它元件。相反地，当元件被描述为“直接位于”另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时，可不存在插置在该元件与该另一元件之间的其它元件。
如本申请中所使用的，措辞“和/或”包括相关联的所列项目中的任何一项以及任何两项或更多项的任何组合。
尽管在本申请中可以使用诸如“第一”、“第二”和“第三”的措辞来描述各种构件、部件、区域、层或部分，但是这些构件、部件、区域、层或部分不受这些措辞的限制。更确切地，这些措辞仅用于将一个构件、部件、区域、层或部分与另一构件、部件、区域、层或部分区分开。因此，在不背离本申请中所描述的示例的教导的情况下，这些示例中提及的第一构件、第一部件、第一区域、第一层或第一部分也可以被称作第二构件、第二部件、第二区域、第二层或第二部分。
诸如“在……之上”、“较上”、“在……之下”和“较下”的空间相对措辞可以在本申请中为了描述便利而使用，以描述如附图中所示的一个元件相对于另一元件的关系。除了涵盖附图中所描绘的定向之外，这些空间相对措辞旨在还涵盖设备在使用或操作中的不同的定向。例如，如果附图中的设备翻转，则描述为位于另一元件“之上”或相对于另一元件“较上”的元件将位于该另一元件“之下”或相对于该另一元件“较下”。因此，根据设备的空间定向，措辞“在……之上”涵盖“在......之上”和“在......之下”的两个定向。该设备还可以以其它方式定向(例如，旋转90度或处于其它定向)，并且本申请中使用的空间相对措辞应被相应地解释。
本申请中使用的术语仅用于描述各种示例，而不用于限制本公开。除非上下文另有明确指示，否则冠词“一”、“一个”和“该”旨在也包括复数形式。措辞“包括”、“包含”和“具有”说明存在所阐述的特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合，但不排除一个或多个其它特征、数字、操作、构件、元件和/或它们的组合的存在或添加。
由于制造技术和/或公差，可出现附图中所示形状的变化。因此，本申请中描述的示例不限于附图中所示的具体形状，而是包括在制造期间出现的形状变化。
可以以在理解本申请的公开内容之后将显而易见的各种方式组合本申请中描述的示例的特征。此外，尽管本申请中描述的示例具有多种配置，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的其它配置也是可行的。
在下文中，尽管将参考附图详细描述示例，但是应注意，示例不限于与此相同。
相机模块的各种示例可应用于诸如移动通信终端、智能电话、平板PC等便携式电子设备。
相机模块是用于拍摄静止图像或运动图像的光学设备。相机模块可包括：透镜，折射从对象反射的光；以及透镜驱动设备，移动透镜以调节焦点或补偿相机模块在拍摄图像时的抖动。
图1是根据示例的相机模块的组装立体图，以及图2是根据示例的相机模块的分解立体图。
参考图1和图2，相机模块1000可包括：壳体1100；透镜模块1500，包括容纳在壳体1100中的透镜镜筒1510；透镜驱动设备，移动透镜模块1500；以及图像传感器单元1150，将通过透镜镜筒1510入射的光转换成电信号。相机模块1000还可包括从上方覆盖壳体1100的外壳1110或上盖1301。
透镜镜筒1510可以具有允许用于拍摄对象的多个透镜容纳在其中的中空圆柱形形状(该配置不限于此，并且透镜镜筒1510可具有部分切割的外部，且透镜镜筒1510的内部可设置有圆形透镜或D形切割透镜(一侧被部分切割的透镜))，并且多个透镜安装在透镜镜筒1510中。根据透镜镜筒1510的设计来尽可能多地布置多个透镜，并且多个透镜中的每一个具有相同或不同的光学特性(诸如，折射率)等。
透镜驱动设备在光轴方向或与光轴方向垂直的方向上移动透镜镜筒1510。
作为示例，透镜驱动设备可以在光轴方向(Z轴方向)上移动透镜镜筒1510以调节焦点，并且可以在与光轴方向(Z轴方向)垂直的X轴方向和Y轴方向上移动透镜镜筒1510以在拍摄图像时校正抖动。
透镜驱动设备包括对焦单元(自动对焦部分)和抖动校正单元(抖动校正部分)。
图像传感器单元1150将通过透镜镜筒1510入射的光转换成电信号。
作为示例，图像传感器单元1150可包括图像传感器1151和连接至图像传感器1151的印刷电路板(PCB)1153，并且还可包括红外滤光片。
滤光片用于阻挡通过透镜镜筒1510入射的光中的预定区域中的光。例如，滤光片可以是红外滤光片，并且可用于阻挡红外区域中的光。
图像传感器1151将通过透镜镜筒1510入射的光转换成电信号。例如，图像传感器1151可以是电荷耦合设备(CCD)或互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器。
由图像传感器1151转换的电信号通过便携式电子设备的显示单元作为图像输出。图像传感器1151固定至印刷电路板1153，并且可以通过布线接合等电连接至印刷电路板1153。
透镜驱动设备以及包括透镜镜筒1510的透镜模块1500容纳在壳体1100中。
作为示例，壳体1100具有顶部和底部敞开的形状，并且透镜模块1500和透镜驱动设备可容纳在壳体1100的内部空间中。图像传感器单元1150设置在壳体1100下方。
外壳1110联接至壳体1100以围绕壳体1100的外表面，并且用于保护相机模块1000的内部部件。另外，外壳1110可用于屏蔽电磁波。
作为示例，外壳1110可屏蔽由相机模块1000产生的电磁波，使得电磁波不影响便携式电子设备中的其它电子部件。
由于便携式电子设备装配有除相机模块之外的各种电子部件，因此外壳1110可屏蔽由此类电子部件产生的电磁波，使得电磁波不影响相机模块1000。
参考图2至图4，示出了根据示例的透镜驱动设备的对焦单元。
透镜驱动设备包括：对焦单元，在光轴方向上移动承载部1300以执行自动对焦；以及抖动校正单元，在与光轴方向垂直的方向上移动设置在承载部1300的内部的透镜模块以执行抖动校正。
对焦单元具有产生驱动力的结构，以在光轴方向(Z轴方向)上移动容纳透镜模块1500的承载部1300。
对焦单元的驱动部分包括磁体1320和线圈1330(也可称为驱动线圈1330)。磁体1320安装在承载部1300上。作为示例，磁体1320可以安装在承载部1300的一个表面上。
线圈1330安装在壳体1100中。作为示例，线圈1330可以通过基板1130安装在壳体1100中。线圈1330可固定至基板1130，并且基板1130可在稍后描述的抖动校正单元的驱动线圈也固定在一起的状态下固定至壳体1100。
磁体1320是安装在承载部1300上以与承载部1300一起在光轴方向(Z轴方向)上移动的可移动构件，并且线圈1330是固定至壳体1100的固定构件。然而，该配置不限于此，并且磁体1320和线圈1330的位置可以彼此互换。
当向线圈1330施加电力时，承载部1300可以通过磁体1320与线圈1330之间的电磁相互作用而在光轴方向(Z轴方向)上移动。
由于透镜镜筒1510容纳在承载部1300中，因此透镜镜筒1510还通过承载部1300的移动而在光轴方向(Z轴方向)上移动。
滚动构件1370设置在承载部1300与壳体1100之间，以在承载部1300移动时减小承载部1300与壳体1100之间的摩擦。滚动构件1370可具有球状形状。滚动构件1370可设置在磁体1320的两侧上。
轭1350设置在壳体1100中。例如，轭1350设置成与磁体1320相对，且线圈1330插置在轭1350与磁体1320之间。例如，线圈1330和磁体1320设置为彼此相对，并且轭1350设置在线圈1330的后表面上，使得承载部1300被紧密地支承在壳体1100上且滚动构件1370插置在承载部1300与壳体1100之间。
吸引力在与光轴方向(Z轴方向)垂直的方向上作用在轭1350与磁体1320之间。因此，滚动构件1370可以通过轭1350与磁体1320之间的吸引力而维持在与承载部1300和壳体1100接触的状态。
轭1350还可用于聚集磁体1320的磁力，并且可以防止磁通量向外泄漏。
本申请中讨论的各种示例使用检测并反馈透镜镜筒1510和承载部1300的位置的闭环控制方法。
因此，需要用于闭环控制的位置传感器1360。位置传感器1360可以是霍尔传感器。
位置传感器1360设置在线圈1330的内部或外部。位置传感器1360可以安装在其上安装有线圈1330的基板1130上。
当相机模块1000通电时，通过位置传感器1360检测承载部1300的初始位置。然后，承载部1300从检测到的初始位置移动到初始设定位置。术语“初始位置”可指当相机模块1000通电时承载部1300在光轴方向上的位置，以及术语“初始设定位置”可指承载部1300处于使得透镜模块1500的焦点无限远的位置。承载部1300通过电路元件的驱动信号从初始设定位置移动到目标位置。在对焦过程期间，承载部1300可以在光轴方向(Z轴方向)上向前和向后(例如，双向地)移动。
可以另外设置磁体和线圈，以在对焦期间确保足够的驱动力。当安装磁体的区域随相机模块的纤薄化趋势而减小时，磁体的尺寸减小，并且因此可能无法确保对焦所需的足够的驱动力。
根据各种示例，尽管未示出，但是磁体可以分别附接至承载部1300的不同表面，并且线圈可以分别设置在壳体1100的不同表面上以与磁体相对。因此，即使在相机模块变纤薄的情况下，也可确保用于对焦的足够的驱动力。
参考图2至图7，公开了根据示例的透镜驱动设备的抖动校正单元。
透镜驱动设备包括：对焦单元，在光轴方向上移动承载部1300以执行对焦；以及抖动校正单元，在与光轴方向垂直的方向上移动设置在承载部1300的内部的透镜模块1500以执行抖动校正。
抖动校正单元具有产生驱动力的结构，以在与光轴方向(Z轴方向)垂直的第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动容纳在承载部1300中的透镜模块1500。
抖动校正单元用于校正在拍摄图像或视频时由用户手抖等导致的图像模糊或视频抖动。例如，当在拍摄图像时由于用户手抖等而发生抖动时，向透镜镜筒1510提供对应于抖动的相对位移以校正抖动。作为示例，抖动校正单元通过在与光轴(Z轴)垂直的方向上移动透镜镜筒1510来校正抖动。
抖动校正单元可包括依次设置在承载部1300的内部的第一框架1400、透镜模块1500和第二框架1700。透镜模块1500包括与透镜镜筒1510联接的透镜支架1600。第一框架1400和第二框架1700可以由滚动构件支承，滚动构件插置在第一框架1400与第二框架1700的平行于光轴方向的表面之间。承载部1300可包括当第一框架1400、透镜模块1500和第二框架1700设置在承载部1300的内部时从上方覆盖第一框架1400、透镜模块1500和第二框架1700的上盖1301。
滚动构件可插置于在光轴方向上依次设置的第一框架1400、透镜支架1600和第二框架1700之间，使得第一框架1400、透镜支架1600和第二框架1700可以以滚动运动的方式相互移动。
根据该示例的抖动校正单元可实现这样的结构，在该结构中，透镜镜筒1510可以随着第一框架1400和第二框架1700分别在第二方向(Y轴方向)和第一方向(X轴方向)上移动而移动。
例如，包括透镜镜筒1510的透镜模块1500应随着第一框架1400在第二方向(Y轴方向)上移动或者第二框架1700在第一方向(X轴方向)上移动而移动。
因此，与透镜镜筒1510联接的透镜支架1600可设置有引导凹槽1675，引导凹槽1675形成在透镜支架1600的下表面和第一框架1400的上表面中的至少之一上，以在第一方向(X轴方向)上伸长，使得设置在透镜支架1600与第一框架1400之间的滚动构件1670可以在第一方向(X轴方向)(第二框架1700移动的方向)上以滚动运动的方式自由地移动。当透镜支架1600的下表面和第一框架1400的上表面分别设置有引导凹槽1675时，引导凹槽1675可设置为分别形成在透镜支架1600的下表面和第一框架1400的上表面的边缘部分上的“┓”或“┗”形状的凹槽。引导凹槽1675可以彼此垂直地联接，以防止滚动构件1670分离。
类似地，引导凹槽1685形成在透镜支架1600的上表面和第二框架1700的下表面中的至少之一上，以在第二方向(Y轴方向)上伸长，使得设置在透镜支架1600与第二框架1700之间的滚动构件1680可在第二方向(Y轴方向)(第一框架1400移动的方向)上以滚动运动的方式自由地移动。当透镜支架1600的上表面和第二框架1700的下表面分别设置有引导凹槽1685时，引导凹槽1685可设置为分别形成在透镜支架1600的上表面和第二框架1700的下表面的边缘部分上的“┓”或“┗”形状的凹槽。引导凹槽1685可以彼此垂直地联接，以防止滚动构件1680分离。
由于以上结构，当第一框架1400在第二方向(Y轴方向)上移动或者第二框架1700在第一方向(X轴方向)上移动时，透镜模块1500也移动，并且因此可校正抖动。
滚动构件1670和1680中的每一个可设置有三个滚动构件，以形成三角形(该配置不限于此，滚动构件1670和1680中的每一个可设置有四个滚动构件)。由于稍后将描述的第一磁体1420和第二磁体1720设置成彼此相邻，因此滚动构件1670和1680可以分别设置在第一磁体1420和第二磁体1720的两个端部上。当滚动构件1670和1680中的每一个设置有三个滚动构件时，可以在第一框架1400与第二框架1700的在光轴方向上的相对表面之间设置辅助滚动构件1690。如此，第一框架1400和第二框架1700的相对表面中的至少之一可设置有引导凹槽1691，辅助滚动构件1690安置在引导凹槽1691中。
抖动校正单元的驱动部分包括驱动第一框架1400的第一驱动部分和驱动第二框架1700的第二驱动部分。第一框架1400和第二框架1700被驱动，同时被紧密地支承在平行于承载部1300的光轴方向的表面上。
第一框架1400设置有第一磁体1420。第一磁体1420设置成在与光轴方向垂直的第一方向(X轴方向)上与设置在壳体1100中的第一线圈1430相对。
第一磁体1420被磁化成沿着与第一线圈1430相对的表面在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上具有至少N极和S极(例如，第一磁体1420被磁化成使得与第一线圈1430相对的表面在与光轴垂直的方向上具有至少N极和S极)。因此，当向第一线圈1430施加电力时，根据第一磁体1420与第一线圈1430的电磁相互作用，产生使第一框架1400在第二方向(Y轴方向)上移动的力。
第二框架1700设置有第二磁体1720。第二磁体1720设置成在与光轴方向和第一方向(X轴方向)垂直的第二方向(Y轴方向)上与设置在壳体1100中的第二线圈1730相对。
第二磁体1720被磁化成沿着与第二线圈1730相对的表面在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上具有至少N极和S极(例如，第二磁体1720被磁化成使得与第二线圈1730相对的表面在与光轴垂直的方向上具有至少N极和S极)。因此，当向第二线圈1730施加电力时，根据第二磁体1720和第二线圈1730的电磁相互作用，产生使第二框架1700在第一方向(X轴方向)上移动的力。
第一线圈1430和第二线圈1730可以与对焦单元的驱动线圈1330一起固定至基板1130，并且基板1130可固定至壳体1100。第一线圈1430和第二线圈1730中的每一个可设置有一个或两个或更多个线圈。
第一框架1400和第二框架1700被紧密地支承在承载部1300的侧壁(例如，承载部1300的平行于光轴方向的表面)上。第一框架1400和第二框架1700通过与设置在壳体1100中的第一轭1450和第二轭1750的吸引力而被支承在承载部1300的侧壁上。由于第一轭1450和第二轭1750中的每一个可以是用于屏蔽磁场的金属或非金属磁性材料，因此可以防止由线圈、磁体或其相互作用产生的磁通量(磁场)从相机模块1000向外泄漏。
第一轭1450设置成与第一磁体1420相对，且第一线圈1430插置在第一轭1450与第一磁体1420之间，并且第二轭1750设置成与第二磁体1720相对，且第二线圈1730插置在第二轭1750与第二磁体1720之间。
例如，第一轭1450和第二轭1750可以分别设置在第一线圈1430和第二线圈1730的后表面上。第一轭1450和第二轭1750可以分别通过与第一磁体1420和第二磁体1720的吸引力来允许第一框架1400和第二框架1700被紧密地支承在承载部1300的内壁上。
第一框架1400和第二框架1700可分别包括设置在第一框架1400和第二框架1700与承载部1300的内壁之间的第一滚动构件1470和第二滚动构件1770，以在承载部1300的内壁上容易地以滑动或滚动运动的方式移动。
第一框架1400和承载部1300的内壁彼此相对的表面可设置有形成为在第二方向(Y轴方向)上伸长的第一引导凹槽1475，使得第一滚动构件1470容易地以滑动或滚动运动的方式移动。第二框架1700和承载部1300的内壁彼此相对的表面可设置有形成为在第一方向(X轴方向)上伸长的第二引导凹槽1775，使得第二滚动构件1770容易地以滑动或滚动运动的方式移动。
第一滚动构件1470和第二滚动构件1770可以分别在第一磁体1420和第二磁体1720的两个端部的外侧上设置有两个第一滚动构件和两个第二滚动构件(该配置不限于此，并且第一滚动构件1470和第二滚动构件1770可以分别设置有三个或更多个第一滚动构件和三个或更多个第二滚动构件)。
第一引导凹槽1475可以形成为使得第一滚动构件1470仅在第一方向(X轴方向)(第一框架1400被支承的方向)上的移动受限制，并且第一滚动构件1470在光轴方向(Z轴方向)和第二方向(Y轴方向)上的移动或倾斜不受限制。例如，除了第一框架1400在第二方向(Y轴方向)上的移动之外，第一框架1400可以基于将设置在两侧上的两个第一滚动构件1470连接的轴而倾斜，或者第一引导凹槽1475可设置成在所有方向上具有比第一滚动构件1470的宽度大的宽度，使得第一滚动构件1470的滚动运动不受限制(由于第一滚动构件1470在第一方向(X轴方向)上的移动受限制，因此应当恒定地维持第一引导凹槽1475的深度)。
第二引导凹槽1775可以形成为使得第二滚动构件1770仅在第二方向(Y轴方向)(第二框架1700被支承的方向)上的移动受限制，并且第二滚动构件1770在光轴方向(Z轴方向)和第一方向(X轴方向)上的移动不受限制。例如，除了第二框架1700在第一方向(X轴方向)上的移动之外，第二框架1700可以基于将设置在两侧上的两个第二滚动构件1770连接的轴而倾斜，或者第二引导凹槽1775可设置成在所有方向上具有比第二滚动构件1770的宽度大的宽度，使得第二滚动构件1770的滚动运动不受限制(由于第二滚动构件1770在第二方向(Y轴方向)上的移动受限制，因此应当恒定地维持第二引导凹槽1775的深度)。
包括第一驱动单元和第二驱动单元的抖动校正单元的第一磁体1420和第二磁体1720分别安装在第一框架1400和第二框架1700上。分别与第一磁体1420和第二磁体1720相对的第一线圈1430和第二线圈1730安装在壳体1100中。为了便于描述，在部分附图中，第一线圈1430和第二线圈1730示出为设置在承载部1300的一侧上。然而，参考图2，第一线圈1430和第二线圈1730均可安装在壳体1100中。
第一磁体1420和第二磁体1720是与透镜模块1500一起在与光轴(Z轴)垂直的方向上移动的可移动构件，并且第一线圈1430和第二线圈1730是固定至壳体1100的固定构件。然而，该配置不限于此，并且第一磁体1420和第二磁体1720以及第一线圈1430和第二线圈1730的位置可彼此互换。
抖动校正单元可以使用连续地感测第一框架1400和第二框架1700的位置并反映在驱动上的闭环控制方法。因此，第一框架1400和第二框架1700可包括与第一磁体1420和第二磁体1720相对的第一位置传感器1460和第二位置传感器1760，以感测第一框架1400和第二框架1700的位置。在这种情况下，第一位置传感器1460和第二位置传感器1760可设置在基板1130的第一线圈1430和第二线圈1730的内部，或者由基板1130的第一线圈1430和第二线圈1730来设置。
该示例包括所有这样的结构，该结构中设置有分别与设置在第一框架1400和第二框架1700上的第一磁体1420和第二磁体1720相对的一个或两个或更多个第一线圈1430和第二线圈1730。当设置有两个或更多个第一线圈1430和第二线圈1730时，可以调整磁通量的大小以更有效地防止磁通量泄漏。
在根据该示例的相机模块1000中，使用了利用磁体和线圈的VCM致动器的壳体1100的侧表面可以全部用轭完成，从而能够防止磁通量泄漏。因此，可有效地防止磁场泄漏。
图1还是根据另一示例的相机模块的组装分解立体图，以及图8是根据另一示例的相机模块的分解立体图。
参考图1和图8，相机模块2000包括：壳体2100；透镜模块2500，包括容纳在壳体2100中的透镜镜筒2510；透镜驱动设备，移动透镜模块2500；以及图像传感器单元2150，将通过透镜镜筒2510入射的光转换成电信号。相机模块2000还可包括从上方覆盖壳体2100的外壳2110或上盖2301。
透镜镜筒2510可具有允许用于拍摄对象的多个透镜容纳在其中的中空圆柱形形状(该配置不限于此，并且透镜镜筒2510可具有部分切割的外部，并且透镜镜筒2510的内部可设置有圆形透镜或D形切割透镜(一侧被部分切割的透镜))，并且多个透镜安装在透镜镜筒2510中。根据透镜镜筒2510的设计来尽可能多地布置多个透镜，并且多个透镜中的每一个具有相同或不同的光学特性(诸如，折射率等)。
透镜驱动设备在光轴方向或与光轴方向垂直的方向上移动透镜镜筒2510。
作为示例，透镜驱动设备可以在光轴方向(Z轴方向)上移动透镜镜筒2510以调节焦点，并且可以在与光轴方向(Z轴方向)垂直的X轴方向和Y轴方向上移动透镜镜筒2510以在拍摄图像时校正抖动。
透镜驱动设备包括对焦单元(自动对焦部分)和抖动校正单元(抖动校正部分)。
图像传感器单元2150将通过透镜镜筒2510入射的光转换为电信号。
作为示例，图像传感器单元2150可包括图像传感器2151和连接至图像传感器2151的印刷电路板(PCB)2153，并且还可包括红外滤光片。
透镜驱动设备和包括透镜镜筒2510的透镜模块2500容纳在壳体2100中。
作为示例，壳体2100具有顶部和底部敞开的形状，并且透镜模块2500和透镜驱动设备可以容纳在壳体2100的内部空间中。图像传感器单元2150设置在壳体2100下方。
外壳2110联接至壳体2100，以围绕壳体2100的外表面，并且用于保护相机模块2000的内部部件。外壳2110可用于屏蔽电磁波。
作为示例，外壳2110可屏蔽由相机模块2000产生的电磁波，使得电磁波不影响便携式电子设备中的其它电子部件。
由于便携式电子设备装配有除相机模块2000之外的各种电子部件，因此外壳2110可屏蔽由此类电子部件产生的电磁波，使得电磁波不影响相机模块。
参考图8至图13，示出了根据另一示例的透镜驱动设备的对焦单元。
透镜驱动设备包括：对焦单元，在光轴方向上移动承载部2300以执行自动对焦；以及抖动校正单元，在与光轴方向垂直的方向上移动设置在承载部2300的内部的透镜模块2500以执行抖动校正。
对焦单元具有产生驱动力的结构，以在光轴方向(Z轴方向)上移动容纳透镜模块2500的承载部2300。
对焦单元的驱动部分包括磁体2320和线圈2330(也可称为驱动线圈2330)。磁体2320安装在承载部2300上。作为示例，磁体2320可安装在承载部2300的一个表面上。
线圈2330安装在壳体2100中。作为示例，线圈2330可以通过基板2130安装在壳体2100中。线圈2330可固定至基板2130，并且基板2130可在稍后描述的抖动校正单元的驱动线圈也固定在一起的状态下固定至壳体2100。
磁体2320是安装在承载部2300上以与承载部2300一起在光轴方向(Z轴方向)上移动的可移动构件，并且线圈2330是固定至壳体2100的固定构件。然而，该配置不限于此，并且磁体2320和线圈2330的位置可以彼此互换。
当向线圈2330施加电力时，承载部2300可以通过磁体2320与线圈2330之间的电磁相互作用而在光轴方向(Z轴方向)上移动。
由于透镜镜筒2510容纳在承载部2300中，因此透镜镜筒2510还通过承载部2300的移动而在光轴方向(Z轴方向)上移动。
滚动构件2370设置在承载部2300与壳体2100之间，以在承载部2300移动时减小承载部2300与壳体2100之间的摩擦。滚动构件2370可以是球状形状。滚动构件2370可设置在磁体2320的两侧上。
轭2350设置在壳体2100中。例如，轭2350设置成与磁体2320相对，且线圈2330插置在轭2350与磁体2320之间。例如，线圈2330和磁体2320设置成彼此相对，并且轭2350设置在线圈2330的后表面上，使得承载部2300被紧密地支承在壳体2100上，且滚动构件2370插置在承载部2300与壳体2100之间。
吸引力在与光轴方向(Z轴方向)垂直的方向上作用在轭2350与磁体2320之间。因此，滚动构件2370可以通过轭2350与磁体2320之间的吸引力而维持在与承载部2300和壳体2100接触的状态。
轭2350还可用于聚集磁体2320的磁力，并且可以防止磁通量向外泄漏。
各种示例使用检测并反馈透镜镜筒2510和承载部2300的位置的闭环控制方法。
因此，需要用于闭环控制的位置传感器2360。位置传感器2360可以是霍尔传感器。
位置传感器2360设置在线圈2330的内部或外部。位置传感器2360可安装在其上安装有线圈2330的基板2130上。
可以另外设置磁体和线圈，以在对焦期间确保足够的驱动力。当安装磁体的区域随相机模块的纤薄化趋势而减小时，磁体的尺寸减小，并且因此可能无法确保对焦所需的足够的驱动力。
根据各种示例，尽管未示出，但是磁体可以分别附接至承载部2300的不同表面，并且线圈可以分别设置在壳体2100的不同表面上以与磁体相对。因此，即使在相机模块变纤薄的情况下，也可以确保用于对焦的足够的驱动力。
参考图8至图13，公开了根据示例的透镜驱动设备的抖动校正单元。
透镜驱动设备包括：对焦单元，在光轴方向上移动承载部2300以执行聚焦；以及抖动校正单元，在与光轴方向垂直的方向上移动设置在承载部2300的内部的透镜模块2500以执行抖动校正。
抖动校正单元具有产生驱动力的结构，以在与光轴方向(Z轴方向)垂直的第一方向(X轴方向)和第二方向(Y轴方向)上移动容纳在承载部2300中的透镜模块2500。
抖动校正单元用于校正在拍摄图像或视频时由用户手抖等导致的图像模糊或视频抖动。例如，当在拍摄图像时由于用户手抖等而发生抖动时，向透镜镜筒1510提供对应于抖动的相对位移以校正抖动。作为示例，抖动校正单元通过在与光轴(Z轴)垂直的方向上移动透镜镜筒2510来校正抖动。
抖动校正单元可包括依次设置在承载部2300的内部的框架2400和透镜模块2500。透镜模块2500包括与透镜镜筒2510联接的透镜支架2700。承载部2300可包括当框架2400和透镜模块2500设置在承载部2300的内部时从上方覆盖框架2400和透镜模块2500的上盖2301。
根据该示例的抖动校正单元可实现的这样的结构，在该结构中，透镜镜筒2510可以随着框架2400和透镜支架2700分别在第二方向(Y轴方向)和第一方向(X轴方向)上移动而移动。
例如，当框架2400在第二方向(Y轴方向)上移动或透镜支架2700在第一方向(X轴方向)上移动时，透镜镜筒2510所固定至的透镜支架2700移动。例如，因为透镜镜筒2510固定至透镜支架2700，所以透镜镜筒2510随透镜支架2700的移动而移动，并且因为透镜支架2700是在被支承于框架2400的侧表面上的同时而移动的构件，所以即使当框架2400移动时，透镜镜筒2510也随框架2400一起运动。
由于以上结构，当框架2400在第二方向(Y轴方向)上移动或者透镜支架2700在第一方向(X轴方向)上移动时，透镜镜筒2510也移动，并且因此可校正抖动。
抖动校正单元的驱动部分包括驱动框架2400的第一驱动部分和驱动透镜支架2700的第二驱动部分。框架2400被驱动，同时被紧密地支承在承载部2300的平行于光轴方向的表面上，并且透镜支架2700被驱动，同时被紧密地支承在框架2400的平行于光轴方向的表面上。
框架2400包括第一磁体2420。第一磁体2420设置成在与光轴方向垂直的第一方向(X轴方向)上与设置在壳体2100中的第一线圈2430相对。
第一磁体2420被磁化成沿着与第一线圈2430相对的表面在垂直于光轴方向的第二方向(Y轴方向)上具有至少N极和S极(例如，第一磁体2420被磁化成使得与第一线圈2430相对的表面在与光轴垂直的方向上具有至少N极和S极)。因此，当向第一线圈2430施加电力时，根据第一磁体2420与第一线圈2430的电磁相互作用产生使框架2400在第二方向(Y轴方向)上移动的力。
透镜支架2700设置有第二磁体2720。第二磁体2720设置成在与光轴方向和第一方向(X轴方向)垂直的第二方向(Y轴方向)上与设置在壳体2100中的第二线圈2730相对。
第二磁体2720被磁化成沿着与第二线圈2730相对的表面在垂直于光轴方向的第一方向(X轴方向)上具有至少N极和S极(例如，第二磁体2720被磁化成使得与第二线圈2730相对的表面在与光轴垂直的方向上具有至少N极和S极)。因此，当向第二线圈2730施加电力时，根据第二磁体2720和第二线圈2730的电磁相互作用产生使透镜支架2700在第一方向(X轴方向)上移动的力。
第一线圈2430和第二线圈2730可以与对焦单元的驱动线圈2330一起固定至基板2130，并且基板2130可固定至壳体2100。
框架2400被紧密地支承在承载部2300的侧壁(例如，承载部2300的平行于光轴方向的表面)上。透镜支架2700被紧密地支承在框架2400的侧壁(例如，框架2400的平行于光轴方向的表面)上。
框架2400和透镜支架2700通过与设置在壳体2100中的第一轭2450和第二轭2750的吸引力而被支承在承载部2300的侧壁上。由于第一轭2450和第二轭2750中的每一个可以是用于屏蔽磁场的金属或非金属磁性材料，因此可以防止由线圈、磁体或其相互作用产生的磁通量(磁场)从相机模块2000向外泄漏。
第一轭2450设置成与第一磁体2420相对，且第一线圈2430插置在第一轭2450与第一磁体2420之间，并且第二轭2750设置成与第二磁体2720相对，且第二线圈2730插置在第二轭2750与第二磁体2720之间。
第一轭2450和第二轭2750可以分别设置在第一线圈2430和第二线圈2730的后表面上。第一轭2450和第二轭2750可以分别通过与第一磁体2420和第二磁体2720的吸引力而允许框架2400和透镜支架2700被紧密地支承在承载部2300的内壁上。
框架2400可包括位于承载部2300的内壁与框架2400之间的第一滚动构件2470，以容易地以滑动或滚动运动的方式移动。透镜支架2700可包括设置在框架2400的内壁与透镜支架2700之间的第二滚动构件2770，以容易地以滑动或滚动运动的方式移动。
框架2400和承载部2300的内壁彼此相对的表面可设置有形成为在第二方向(Y轴方向)上伸长的第一引导凹槽2475，使得第一滚动构件2470容易地以滑动或滚动运动的方式在表面中的至少一个表面上移动。透镜支架2700和承载部2300的内壁彼此相对的表面可设置有形成为在第一方向(X轴方向)上伸长的第二引导凹槽2775，使得第二滚动构件2770容易地以滑动或滚动运动的方式在表面中的至少一个表面上移动。
第一滚动构件2470和第二滚动构件2770可以分别在第一磁体2420和第二磁体2720的两个端部的外侧上设置有一个或两个第一滚动构件和一个或两个第二滚动构件，以形成三角形或四边形。每个滚动构件可在每个引导凹槽中设置有一个滚动构件。
包括第一驱动单元和第二驱动单元的抖动校正单元的第一磁体2420和第二磁体2720分别安装在框架2400和透镜支架2700上。分别与第一磁体2420和第二磁体2720相对的第一线圈2430和第二线圈2730安装在壳体2100中。为了便于描述，在部分附图中，第一线圈2430和第二线圈2730示出为设置在承载部2300的一侧上。然而，参考图8，第一线圈2430和第二线圈2730均可安装在壳体2100中。
第一磁体2420和第二磁体2720是与透镜模块2500一起在与光轴(Z轴)垂直的方向上移动的可移动构件，并且第一线圈2430和第二线圈2730是固定至壳体2100的固定构件。然而，该配置不限于此，并且第一磁体2420和第二磁体2720以及第一线圈2430和第二线圈2730的位置可彼此互换。
抖动校正单元可以使用连续地感测框架2400和透镜支架2700的位置并反映在驱动上的闭环控制方法。因此，框架2400和透镜支架2700可包括与第一磁体2420和第二磁体2720相对的第一位置传感器2460和第二位置传感器2760，以感测框架2400和透镜支架2700的位置。在这种情况下，第一位置传感器2460和第二位置传感器2760可设置在基板2130的第一线圈2430和第二线圈2730内部，或者由基板2130的第一线圈2430和第二线圈2730来设置。
该示例包括所有这样的结构，该结构中设置有分别与设置在框架2400和透镜支架2700上的第一磁体2420和第二磁体2720相对的一个或两个或更多个第一线圈2430和第二线圈2730。当设置两个或更多个第一线圈2430和第二线圈2730时，可以调整磁通量的大小以更有效地防止磁通量泄漏。
在根据该示例的相机模块2000中，使用了利用磁体和线圈的VCM致动器的壳体2100的所有侧表面可以全部用轭完成，从而能够防止磁通量泄漏。因此，可有效地防止相机模块2000的磁场泄漏。
如上所述，当采用使用磁体和线圈的致动器时，可显著地减少磁场的泄漏。因此，可以实现相机模块的小型化和精确驱动。
另外，即使当相机模块布置成彼此相邻时，也可显著降低磁场干扰。因此，相机模块可自由地布置。
虽然本公开包括具体示例，但是在理解本申请的公开内容之后将显而易见的是，在不背离权利要求及其等同方案的精神和范围的情况下，可对这些示例作出形式和细节上的各种改变。本申请中所描述的示例仅以描述性的意义进行理解，而非出于限制的目的。对每个示例中的特征或方面的描述应被认为是可适用于其它示例中的相似的特征或方面。如果以不同的顺序执行所描述的技术，和/或如果以不同的方式组合和/或通过其它部件或它们的等同件替换或补充所描述的系统、架构、设备或电路中的部件，则仍可实现适当的结果。因此，本公开的范围不由具体实施方式限定，而是由权利要求及其等同方案限定，且在权利要求及其等同方案的范围之内的所有变型应被理解为包括在本公开中。

Claims (19)

1.相机模块，包括：
承载部，被支承在壳体上，并且能够在光轴方向上移动；
至少一个框架，被支承在所述承载部上，并且能够相对于所述承载部在与所述光轴方向垂直的至少一个方向上移动；
透镜模块，被支承在所述至少一个框架上；以及
图像传感器单元，配置成将入射至所述透镜模块的光转换成电信号，
其中，所述至少一个框架在所述承载部上被支承成使得吸引力在与所述光轴方向垂直的所述至少一个方向上起作用。
2.根据权利要求1所述的相机模块，还包括：轭，设置在支承所述至少一个框架的所述壳体的侧表面上，其中，所述轭包括配置成防止磁场的泄漏的材料。
3.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述至少一个框架包括第一框架，并且所述第一框架在所述承载部上被支承成使得吸引力在与所述光轴方向垂直的第一方向上起作用。
4.根据权利要求3所述的相机模块，其中，所述透镜模块在所述第一框架上被支承成使得吸引力在与所述光轴方向垂直并且与所述第一方向垂直的第二方向上起作用。
5.根据权利要求4所述的相机模块，其中，所述第一框架包括第一磁体，并且所述透镜模块包括第二磁体，
所述壳体包括第一轭和第二轭，以及
所述第一磁体和所述第一轭沿着所述第一方向以第一间隔布置，并且所述第二磁体和所述第二轭沿着所述第二方向以第二间隔布置。
6.根据权利要求4所述的相机模块，其中，所述第一框架包括第一磁体，并且所述透镜模块包括第二磁体；
所述第一磁体被磁化成沿着与所述承载部相对的表面在与所述光轴方向垂直的所述第二方向上具有至少N极和S极；以及
所述第二磁体被磁化成沿着与所述承载部相对的表面在与所述光轴方向垂直的所述第一方向上具有至少N极和S极。
7.根据权利要求6所述的相机模块，其中，所述第一框架能够沿着与所述第一方向垂直的方向相对于所述承载部移动；以及
所述透镜模块能够沿着与所述第二方向垂直的方向相对于所述第一框架移动。
8.根据权利要求1所述的相机模块，其中，所述至少一个框架包括第一框架和第二框架。
9.根据权利要求8所述的相机模块，其中，所述第一框架被紧密地支承到所述承载部的平行于所述光轴方向的第一表面，并且所述第二框架被紧密地支承到所述承载部的平行于所述光轴方向的第二表面。
10.根据权利要求8所述的相机模块，其中，所述第一框架包括第一磁体，并且所述第二框架包括第二磁体，
所述壳体包括第一轭和第二轭；以及
所述第一磁体和所述第一轭沿着与所述光轴方向垂直的第一方向以第一间隔布置，并且所述第二磁体和所述第二轭沿着与所述光轴方向垂直的第二方向以第二间隔布置。
11.根据权利要求8所述的相机模块，其中，所述第一框架包括第一磁体，并且所述第二框架包括第二磁体；以及
所述第一磁体和所述第二磁体中的每一个被磁化成沿着与所述壳体相对的表面在与所述光轴方向垂直的所述至少一个方向上具有至少N极和S极。
12.根据权利要求9所述的相机模块，其中，所述第一框架和所述第二框架能够在与所述光轴方向垂直的所述至少一个方向上沿着与所述承载部接触的表面相对地移动。
13.根据权利要求10所述的相机模块，其中，所述透镜模块包括：透镜镜筒，包括容纳在所述透镜镜筒中的至少一个透镜；以及透镜支架，所述透镜镜筒容纳在所述透镜支架中，以及
所述透镜支架沿着所述光轴方向插置在所述第一框架与所述第二框架之间。
14.根据权利要求13所述的相机模块，其中，所述透镜支架配置成能够沿着与所述第一方向垂直的方向移动，或者能够与所述第二框架一起沿着与所述第二方向垂直的方向移动。
15.根据权利要求13所述的相机模块，还包括：滚动构件，沿着所述光轴方向分别设置在所述第一框架与所述透镜支架之间以及所述第二框架与所述透镜支架之间。
16.相机模块，包括：
自动对焦部分，包括承载部，所述承载部被支承在壳体上并配置成能够在光轴方向上移动；
抖动校正部分，包括：
至少一个框架，能够在与所述光轴方向垂直的至少一个方向上相对于所述承载部移动，以及
透镜模块，被支承在所述至少一个框架上；以及
图像传感器单元，配置成将入射至所述透镜模块的光转换成电信号，
其中，所述承载部和所述至少一个框架配置成在滚动构件插置在相关构件与所述承载部和所述至少一个框架之间时能够在平行于所述光轴方向的表面上移动。
17.相机模块，包括：
自动对焦部分，包括承载部，所述承载部设置在壳体上并且配置成能够在光轴方向上移动；
抖动校正单元，包括透镜模块，所述透镜模块配置成能够在与所述光轴方向垂直的至少一个方向上相对于所述承载部移动；以及
自动对焦线圈，配置成向所述自动对焦部分提供驱动力；以及
第一抖动校正线圈和第二抖动校正线圈，配置成向所述抖动校正单元提供驱动力；以及
图像传感器单元，配置成将入射至所述透镜模块的光转换成电信号，
其中，所述自动对焦线圈以及所述第一抖动校正线圈和所述第二抖动校正线圈设置在所述壳体的平行于所述光轴方向的表面上，以及
所述壳体包括多个轭，所述多个轭分别覆盖所述自动对焦线圈以及所述第一抖动校正线圈和所述第二抖动校正线圈以防止磁场的泄漏。
18.相机模块，包括：
第一构件，配置成沿着光轴方向移动并且包括第一磁体，所述第一磁体配置成产生使所述第一构件沿着与光轴垂直的第一方向移动的力；
第二构件，配置成联接至所述第一构件并且包括第二磁体，所述第二磁体配置成产生使所述第二构件沿着与所述光轴垂直的第二方向相对于所述第一构件移动的力；
透镜镜筒，固定至所述第一构件，并且配置成通过所述第一构件的移动而沿着所述第一方向移动以及通过所述第二构件相对于所述第一构件的移动而沿着所述第二方向移动；以及
图像传感器单元，配置成将通过所述透镜镜筒入射的光转换成电信号。
19.根据权利要求18所述的相机模块，还包括：
承载部，配置成容纳所述第一构件和所述第二构件，并且沿着所述光轴方向移动；以及
壳体，包括第一轭和第二轭，
其中，所述第一框架和所述第二框架通过与所述第一轭和所述第二轭的吸引力而被紧密地支承在所述承载部的平行于所述光轴方向的侧壁上。
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