CN113009795A - 一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法 - Google Patents

一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法 Download PDF

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Abstract

本申请涉及激光成像的领域，尤其是涉及一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法，图像检测装置包括基底，基底为方形杆，基底的表面涂有感温变色材料，运用图像检测装置的检测方法，其技术方案要点是：初定位：将基底固定在吸盘上；再定位：将基底移动至出光镜头的下方；激光对焦：调节基底的位置使得激光投射在感温变色材料上；激光成像：激光在感温变色材料上成红色图像；图像获取：将基底移动至对位相机的下方，对位相机对红色图像进行抓拍；图像对比：对位相机将获取的红色图像传输到对比系统与原图进行对比，对比系统输出结果。本申请具有提高变色标记的稳定性，从而便于对激光直写光刻设备进行图像校准的效果。

Description

一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法
技术领域
本申请涉及激光成像的领域，尤其是涉及一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法。
背景技术
LDI (laser direct imaging )激光直接成像技术，用于PCB工艺中的图形转移工序，与传统的底片接触曝光方法有所不同，激光直接成像直接用激光将Gerber数据图像在印制线路板上成像。Gerber文件是描述性的矢量文件，一般的文件里经常有成千上万条线条和焊盘等，数据容量极大。
激光直写光刻设备包括吸盘、出光镜头、对位相机以及控制吸盘移动的驱动机构，将印制线路板定位在吸盘上，出光镜头发射激光在印制线路板上成像，激光直写光刻设备上设有空间坐标系(X,Y,Z),然后驱动机构根据对位相机和出光镜头的坐标位置关系，驱动吸盘和印制线路板移动使得图像呈现在对位相机的下方，对位相机获取图形，完成图形的转移。
目前，公开号为CN111221224A的中国专利公开了一种标定尺及利用该标定尺的位置标定方法，该标定尺为长条状，固定在工件台一侧，随工件台同步运动，标定尺的表面涂覆有感光材料，通过曝光，可以在感光材料上形成曝光标记，曝光后，随着时间的消逝，标记逐渐变淡，最终消失，由此可以在标定尺上重复进行曝光，实现重复利用。标定尺组装完毕后，固定到工件台一侧。与曝光相关的组件位置关系，可以通过在标定尺上曝光标记，通过测量工件台的位置获得相关位置关系。
针对上述中的相关技术，发明人认为：感光材料容易受到外界杂散光的影响，造成曝光标记不稳定。
发明内容
为了提高变色标记的稳定性，从而便于对激光直写光刻设备进行图像校准，本申请提供一种图像检测装置及运用图像检测装置的检测方法。
第一方面，本申请提供的一种图像检测装置采用如下的技术方案：
一种图像检测装置，包括基底，基底的表面涂覆有感温变色材料。
通过采用上述技术方案，感温变色材料在温度变化时发生颜色转变，相比感光材料，不会受到杂散光的干扰。
可选的，基底为方形杆。
通过采用上述技术方案，方形杆便于成像位于一条直线上的若干成像。
可选的，感温变色材料为电子转移型有机化合物，且是一类具有特殊化学结构的有机发色体系。
通过采用上述技术方案，电子转移型有机化合物在特定温度下因电子转移使该有机物的分子结构发生变化，变色较为精确。
可选的，感温变色材料的温度在10℃~30℃时为浅红色，感温变色材料的温度在30℃以上时为深红色，温度越高，颜色越深，温度再次降低至30℃以内，深红色逐渐褪去，变为浅红色。
通过采用上述技术方案，感温变色材料在温度升高至30℃以上时变为深红色，达到了对图像标记的效果。
可选的，感温变色材料的厚度为10μm~500μm。
通过采用上述技术方案，感温变色材料的厚度为10μm~500μm，一方面保证了感温变色材料的感温敏感度，一方面减小了感温变色材料受磨损后降低感温性能的可能性，提高了感温变色材料的使用寿命，还有一方面达到了便于图层印刷的效果。
可选的，基底的表面呈光滑平整设置。
通过采用上述技术方案，基底的表面呈光滑平整设置，便于将感温变色材料涂覆均匀。
可选的，基底为玻璃材质或金属材质。
通过采用上述技术方案，玻璃材质或金属材质的表面光滑平整，便于将感温变色材料涂覆均匀。
第二方面，本申请提供一种运用图像检测装置的检测方法，采用如下的技术方案：
一种运用图像检测装置的检测方法，包括以下步骤：
S1、初定位：工作人员利用驱动机构将吸盘移动到初始位置，将基底放置在吸盘上，吸盘将基底吸附固定；
S2、再定位：工作人员利用驱动机构驱动吸盘和基底移动，将基底移动至出光镜头的下方；
S3、激光对焦：工作人员沿Z轴移动出基底使得出光镜头的焦点位于基底表面的感温变色材料上；
S4、激光成像：出光镜头发射激光，激光投射在感温变色材料上产生图像，激光产生热量，同时感温变色材料的温度逐渐升高，感温变色材料上的形成红色图像，关闭激光；
S5、图像获取：工作人员移动吸盘使得红色图像位于对位相机的下方，对位相机抓拍红色图像；
S6、图像对比：对位相机将获取的红色图像传输到对比系统与原图进行对比，对比系统输出结果。
通过采用上述技术方案，图像检测方法的步骤为初定位→再定位→激光对焦→激光成像→图像获取→图像对比，首先将吸盘归零，然后将基底固定在吸盘上的端部，记录此时基底的坐标。然后将基底移动至出光镜头的下方，并使得出光镜头的焦距投射在感温变色材料上，记录此时基底的坐标。出光镜头发射激光在感温变色材料上进行成像，激光产生热量使得感温变色材料的温度升高从而变红形成红色图像，接着工作人员将基底移动至对位相机的下方，此时记录基底的坐标。对位相机将获取的红色图像传输到对比系统与原图进行对比，对比系统输出结果，根据系统的对比结果调整对位相机和出光镜头之间的相对坐标位置关系，使得图像传输准确。
可选的，S2中的出光镜头设置有若干，基底在吸盘上投影的尺寸大于出光镜头在吸盘上投影的尺寸。
通过采用上述技术方案，基底在吸盘上投影的尺寸大于出光镜头在吸盘上投影的尺寸，便于若干出光镜头同时投影在基底表面的感温变色材料上，通过分别将若干红色图像移动至对位相机的下方，并依次记录位置坐标，并根据对比系统的对比结果和若干红色图像位于对位相机下时对应基底的位置坐标，分析得出若干出光镜头的位置关系，从而对若干出光镜头的位置坐标依次进行调整。
可选的，S1中的基底放置在吸盘的一端。
通过采用上述技术方案，基底放置在吸盘的端部，便于记录基底相对于吸盘的位置坐标。
综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
1.基底的表面涂覆感温变色材料，相比感光材料，变色更为精确，且不会受到杂散光的干扰；
2.将基底依次经过初定位→再定位→激光对焦→激光成像→图像获取→图像对比，达到了校准图像的成像和转移的效果。
附图说明
图1是本申请实施例的感温变色材料的结构示意图。
图2是本申请实施例的吸盘的结构示意图。
附图标记说明：1、基底；2、感温变色材料；3、吸盘；4、红色图像。
具体实施方式
以下结合附图1-2对本申请作进一步详细说明。
本申请实施例公开一种图像检测装置。参照图1，一种图像检测装置包括基底1，基底1为方形杆，基底1的表面涂覆有感温变色材料2。为了便于将感温变色材料2涂覆均匀，基底1的表面呈光滑平整设置，基底1的材料优选为玻璃材质或金属材质。
参照图1，感温变色材料2为电子转移型有机化合物，且是一类具有特殊化学结构的有机发色体系。电子转移型有机化合物在特定温度下因电子转移使该有机物的分子结构发生变化，从而实现颜色转变。
参照图1，感温变色材料2在10℃~30℃之间为浅红色，感温变色材料2的温度在10℃时由白色变为浅红色，20℃时为浅红色，30℃时颜色由浅红色变为红色。感温变色材料2的温度在30℃以上时为深红色，温度越高，颜色越深。当温度降低至30℃时深红色开始褪色，温度降低至30℃以内，深红色逐渐褪去变为浅红色。颜色通常在30s~50s的时间之内变为白色，当经过30s时，颜色逐渐由浅红色变为白色；当经过40s时，颜色变为白色；当经过50s时，颜色为白色。
参照图1，感温变色材料2的厚度在10μm~500μm之间，一方面保证了感温变色材料2的感温敏感度，一方面减小了感温变色材料2受磨损后降低感温性能的可能性，提高了感温变色材料2的使用寿命，还有一方面达到了便于图层印刷的效果。
参照图1，当感温变色材料2的厚度为10μm时，感温变色材料经过长时间工作受磨损比例较大；当厚度为100μm时，感温变色材料经过长时间工作会受到磨损；当厚度为500μm时，感温变色材料经过长时间工作受磨损比例较小。
本申请实施例一种图像检测装置的实施原理为：基底1上涂覆有感温变色材料2，工作人员在使用基底1进行图像校准时，感温变色材料2受热后变色，利用变色后的标记进行图像的位置校准。
本申请实施例还公开一种运用图像检测装置的检测方法。参照图1和图2，一种运用图像检测装置的检测方法包括以下步骤：
S1、初定位：工作人员利用驱动机构（图中未示出）将吸盘3移动到初始位置，将基底1放置在吸盘3上，吸盘3将基底1吸附固定，记录此时基底1的坐标。为了便于记录基底1在吸盘3上的位置坐标，将基底1放置在吸盘3的一端。
S2、再定位：工作人员利用驱动机构驱动吸盘3和基底1移动，将基底1移动至出光镜头（图中未示出）的正下方。出光镜头设置有若干，基底1在吸盘3上投影的尺寸大于出光镜头在吸盘3上投影的尺寸。
S3、激光对焦：工作人员沿Z轴移动基底1使得若干出光镜头的焦点均位于基底1表面的感温变色材料2上，记录此时基底1的坐标。
S4、激光成像：出光镜头发射激光，激光投射在感温变色材料2上产生图像，激光产生热量，同时感温变色材料2的温度逐渐升高，在2s~5s内感温变色材料2上形成红色图像4。当经过2s时，图像逐渐变为红色图像4；当经过3s时，图像变为红色图像4,；当经过5s时，图像为红色图像4；然后关闭激光。
S5、图像获取：工作人员移动吸盘3，分别将若干红色图像4移动至对位相机的下方，对位相机对图像依次进行抓拍，并依次记录基底1对应的位置坐标。
S6、图像对比：对位相机将依次抓拍获取的红色图像4传输到对比系统与原图进行对比，对比系统输出结果。工作人员根据对比系统与原图的对比结果，分别调整若干出光镜头的位置坐标。
本申请实施例一种运用图像检测装置的检测方法的实施原理为：图像检测方法的步骤为初定位→再定位→激光对焦→激光成像→图像获取→图像对比，首先将吸盘3归零，然后将基底1固定在吸盘3上的端部，记录此时基底1的坐标。然后将基底1移动至若干出光镜头的下方，并使得若干出光镜头的焦距均投射在感温变色材料2上，记录此时基底1的坐标。出光镜头发射激光在感温变色材料2上进行成像，激光产生热量使得感温变色材料2的温度升高从而变红形成红色图像4，接着工作人员将基底1移动至对位相机的下方，当红色图像4依次位于对位相机的下方时，依次记录基底1的坐标。对位相机将依次获取的红色图像4传输到对比系统与原图进行对比，对比系统输出结果。根据系统的对比结果，分别调整若干出光镜头与对位相机之间的相对坐标位置关系，使得图像传输准确。
以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种图像检测装置，其特征在于：包括基底(1)，基底(1)的表面涂覆有感温变色材料(2)。
2.根据权利要求1所述的一种图像检测装置，其特征在于：基底(1)为方形杆。
3.根据权利要求1所述的一种图像检测装置，其特征在于：感温变色材料(2)为电子转移型有机化合物，且是一类具有特殊化学结构的有机发色体系。
4.根据权利要求3所述的一种图像检测装置，其特征在于：感温变色材料(2)的温度在10℃~30℃时为浅红色，感温变色材料(2)的温度在30℃以上时为深红色，温度越高，颜色越深，温度再次降低至30℃以内，深红色逐渐褪去，变为浅红色。
5.根据权利要求1所述的一种图像检测装置，其特征在于：感温变色材料(2)的厚度为10μm~500μm。
6.根据权利要求1所述的一种图像检测装置，其特征在于：基底(1)的表面呈光滑平整设置。
7.根据权利要求6所述的一种图像检测装置，其特征在于：基底(1)为玻璃材质或金属材质。
8.一种运用权利要求1-7中任一所述的图像检测装置的检测方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1、初定位：工作人员利用驱动机构将吸盘(3)移动到初始位置，将基底(1)放置在吸盘(3)上，吸盘(3)将基底(1)吸附固定；
S2、再定位：工作人员利用驱动机构驱动吸盘(3)和基底(1)移动，将基底(1)移动至出光镜头的下方；
S3、激光对焦：工作人员沿Z轴移动出基底(1)使得出光镜头的焦点位于基底(1)表面的感温变色材料(2)上；
S4、激光成像：出光镜头发射激光，激光投射在感温变色材料(2)上产生图像，激光产生热量，同时感温变色材料(2)的温度逐渐升高，感温变色材料(2)上的形成红色图像(4)，关闭激光；
S5、图像获取：工作人员移动吸盘(3)使得红色图像(4)位于对位相机的下方，对位相机抓拍红色图像(4)；
S6、图像对比：对位相机将获取的红色图像(4)传输到对比系统与原图进行对比，对比系统输出结果。
9.根据权利要求8所述的一种运用图像检测装置的检测方法，其特征在于：S2中的出光镜头设置有若干，基底(1)在吸盘(3)上投影的尺寸大于出光镜头在吸盘(3)上投影的尺寸。
10.根据权利要求8所述的一种运用图像检测装置的检测方法，其特征在于：S1中的基底(1)放置在吸盘(3)的一端。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114942244A (zh) * 2022-05-31 2022-08-26 中国矿业大学 一种基于材料热敏特性检测硬岩强度等级的装置及方法
US20240159584A1 (en) * 2021-04-09 2024-05-16 Ram Photonics Industrial, Llc Techniques for laser beam sensing and profiling using temperature-sensitive structures

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101070024A (zh) * 2006-05-08 2007-11-14 株式会社理光 可逆热敏着色材料及使用可逆热敏着色材料的可逆热敏记录材料
CN104476924A (zh) * 2006-12-26 2015-04-01 株式会社理光 图像处理方法和图像处理装置
CN111221224A (zh) * 2020-02-27 2020-06-02 苏州源卓光电科技有限公司 一种标定尺及利用该标定尺的位置标定方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101070024A (zh) * 2006-05-08 2007-11-14 株式会社理光 可逆热敏着色材料及使用可逆热敏着色材料的可逆热敏记录材料
CN104476924A (zh) * 2006-12-26 2015-04-01 株式会社理光 图像处理方法和图像处理装置
CN111221224A (zh) * 2020-02-27 2020-06-02 苏州源卓光电科技有限公司 一种标定尺及利用该标定尺的位置标定方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
唐紫蓉等: "《可逆有机热变色材料》", 《华东地质学院学报》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20240159584A1 (en) * 2021-04-09 2024-05-16 Ram Photonics Industrial, Llc Techniques for laser beam sensing and profiling using temperature-sensitive structures
CN114942244A (zh) * 2022-05-31 2022-08-26 中国矿业大学 一种基于材料热敏特性检测硬岩强度等级的装置及方法

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