CN112974809B - 一种金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法 - Google Patents
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Abstract
一种金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法,涉及一种复合材料表面覆铜的方法。目的是解决现有通过电镀的方法覆铜时间长,覆铜层致密度差,不均匀的问题。方法:在模具内平铺球形铜粉或铜箔,放置金刚石/铜复合材料,金刚石/铜复合材料表面平铺一定厚度球形铜粉或铜箔;或在模具内平铺球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置金刚石/铜复合材料;或在模具内放置金刚石/铜复合材料,在金刚石/铜复合材料表面平铺球形铜粉或铜箔;放电等离子烧结。本发明三明治结构的金刚石铜覆铜材料制备效率高、覆铜层均匀、光洁度高,致密度高;表面可以研磨抛光,也可以加工凸台、凹槽等形状,方便焊接。本发明适用于金刚石/铜复合材料表面覆铜。
Description
技术领域
本发明涉及一种复合材料表面覆铜的方法。
背景技术
随着各种器件功率和集成度的不断提高,传统导散热材料已逐渐难以满足需求,高导热金刚石/铜复合材料作为新一代的热管理材料,以其出色的导热性能和较低的热膨胀系数,应用在集成散热片、激光二极管散热基板、固态激光器热沉、CPU热沉或者散热片、高功率电子器件基片(如IGBT基片)、LED散热片、HB-LED散热片、射频和微波封装热沉、微电子封装热沉、高热载电子器件热管理材料等诸多领域,高导热金刚石/铜复合材料可作为传统导热散热材料的升级替代产品,使得器件温升得到大幅下降。
金刚石/铜复合材料进行加工或焊接前需要在表面制备一层覆铜层,由于金刚石与铜的电极电位相差较大,在金刚石/铜复合材料表面通过电镀的方法覆铜所需时间长,并且所制备的覆铜层致密度差,不均匀,因此现有技术中缺少成熟的金刚石/铜复合材料的覆铜技术。
发明内容
本发明为了解决现有金刚石/铜复合材料通过电镀的方法覆铜时间长,并且所制备的覆铜层致密度差且不均匀的问题,提出一种金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法。
本发明金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法按照以下步骤进行:
一、准备高热导率金刚石/铜复合材料;
二、在模具内平铺厚度为0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,最后在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,得到预制件;
或在模具内平铺厚度为0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,得到预制件;
或在模具内放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.1~100mm的铜粉或铜箔,得到预制件;
三、采用放电等离子烧结对预制件进行烧结,完成覆铜。
本发明具备以下有益效果:
等离子放电烧结技术是粉末冶金的一种手段,但是单纯采用此种方法烧结的金属块体材料致密度不高。本申请将气压浸渗技术所得的高热导率金刚石/铜复合材料与放电等离子烧结技术结合,制备出三明治结构的金刚石铜覆铜材料,制备效率高、覆铜层均匀、光洁度高,致密度高;解决了金刚石/铜复合材料不易焊接、不易加工的问题;金刚石/铜复合材料与上下覆铜层之间为冶金结合,能最小程度的影响金刚石/铜复合材料的导热性,覆铜之后金刚石/铜复合材料的热导率下降不超过200W/mK。本发明使金刚石铜材料的表面加工成为可能,制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料的表面可以使用机加工的方法加工凸台、凹槽等形状,更加方便与芯片、PCB板等焊接;可以进行研磨抛光实现高表面光洁度,抛光之后表面光洁度可以优于0.8μm,有助于推动金刚石铜材料作为热沉的大规模应用。
附图说明
图1为实施例1制备的表面覆铜的金刚石/铜复合材料;
图2为实施例2制备的表面覆铜的金刚石/铜复合材料;
图3为实施例2制备的表面覆铜的金刚石/铜复合材料的截面扫描电镜照片。
具体实施方式
本发明技术方案不局限于以下所列举具体实施方式,还包括各具体实施方式间的任意合理组合。
具体实施方式一:本实施方式金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法按照以下步骤进行:
一、准备高热导率金刚石/铜复合材料;
二、在模具内平铺厚度为0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,最后在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,得到预制件;
或在模具内平铺厚度为0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,得到预制件;
或在模具内放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.1~100mm的铜粉或铜箔,得到预制件;
三、采用放电等离子烧结对预制件进行烧结,完成覆铜。
等离子放电烧结技术是粉末冶金的一种手段,但是单纯采用此种方法烧结的金属块体材料致密度不高。本实施方式将气压浸渗技术所得的高热导率金刚石/铜复合材料与放电等离子烧结技术结合,制备出三明治结构的金刚石铜覆铜材料,制备效率高、覆铜层均匀、光洁度高,致密度高;解决了金刚石/铜复合材料不易焊接、不易加工的问题;金刚石/铜复合材料与上下覆铜层之间为冶金结合,能最小程度的影响金刚石/铜复合材料的导热性,覆铜之后金刚石/铜复合材料的热导率下降不超过200W/mK。本实施方式使金刚石铜材料的表面加工成为可能,制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料的表面可以使用机加工的方法加工凸台、凹槽等形状,更加方便与芯片、PCB板等焊接;可以进行研磨抛光实现高表面光洁度,抛光之后表面光洁度可以优于0.8μm,有助于推动金刚石铜材料作为热沉的大规模应用。
具体实施方式二:本实施方式与具体实施方式一不同的是:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料通过气压浸渗方法制备,热导率为600W/mK~900W/mK,表面粗糙度为1.6~6.3μm,长度不大于100mm,宽度不大于100mm,厚度为0.2~100mm。
本实施方式制备时采用的高热导率金刚石/铜复合材料的厚度为0.2~100mm,球形铜粉铺层厚度或铜箔的厚度为0.1~100mm;所制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料上下两面的覆铜层的厚度为0.1~100mm,中间层厚度0.2~100mm。
高热导率金刚石/铜复合材料为平板状如方形平板或者圆形平板,或者高热导率金刚石/铜复合材料为柱状如方形柱或者圆形柱;
具体实施方式三:本实施方式与体实施二不同的是:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料通过气压浸渗方法制备,热导率为700W/mK~800W/mK,表面粗糙度为2.6~5.3μm,长度为40~80mm,宽度为40~80mm,厚度为1~8mm。
具体实施方式四:本实施方式与具体实施方式一至三之一不同的是:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料中金刚石颗粒尺寸为100~400μm。
具体实施方式五:本实施方式与具体实施方式四不同的是:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料中金刚石颗粒尺寸为200~300μm。
具体实施方式六:本实施方式与具体实施方式一不同的是:步骤二所述铜粉为球形铜粉或者片状铜粉。
具体实施方式七:本实施方式与具体实施方式六不同的是:所述球形铜粉的直径为15~100μm,纯度为99.85%。
具体实施方式八:本实施方式与具体实施方式七不同的是:所述球形铜粉的直径为15~45μm,纯度为99.85%。
具体实施方式九:本实施方式与具体实施方式一至八之一不同的是:步骤二所述铜粉或铜箔的材质为纯铜或者铜合金,所述铜合金铜钨合金、铜钼合金等。
具体实施方式十:本实施方式与具体实施方式一至九之一不同的是:步骤三所述放电等离子烧结的温度为850~880℃,保温时间不超过10min,烧结时向模具内预制件施加的压力为20~30MPa。
具体实施方式十一:本实施方式与具体实施方式十不同的是:步骤三所述放电等离子烧结的温度为800~900℃,保温时间为4~8min,烧结时向模具内预制件施加的压力为20~30MPa。
具体实施方式十二:本实施方式与具体实施方式一至十一之一不同的是:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料为平板状或者柱状。
实施例1:
本实施例金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法按照以下步骤进行:
一、取采用气压浸渗方法制备的平板状的高热导率金刚石/铜复合材料;
所述高热导率金刚石/铜复合材料的热导率为730W/mK,表面粗糙度为1.6μm,尺寸100mm×100mm,厚度为1mm;制备的复合材料中增强体的体积分数为67%,热扩散系数为314mm2/s;
二、在模具内平铺厚度为0.35mm的球形铜粉,在球形铜粉上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,最后在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.35mm的球形铜粉,得到预制件;
所述球形铜粉的直径为15~45μm,纯度为99.85%;
所述球形铜粉材质为纯铜;
三、采用放电等离子烧结对预制件进行烧结,完成覆铜;
所述放电等离子烧结的温度为870℃,保温时间为9min,烧结时向模具内预制件施加的压力为28MPa;
本实施例制备时采用的高热导率金刚石/铜复合材料的厚度为1mm,球形铜粉铺层厚度为上下各0.35mm;所制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料上下两面的覆铜层的厚度均为0.28mm,中间层厚度1mm;
本实施例提出一种通过放电等离子烧结的方法在金刚石/铜复合材料上下表面覆铜的方法,制备效率高、覆铜层均匀、光洁度高,致密度高;解决了金刚石/铜复合材料不易焊接、不易加工的问题;金刚石/铜复合材料与上下覆铜层之间为冶金结合。能最小程度的影响金刚石/铜复合材料的导热性,覆铜之后金刚石/铜复合材料的热导率下降不超过200W/mK。制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料的表面可以使用机加工的方法加工凸台、凹槽等形状,更加方便与芯片、PCB板等焊接。由于金刚石非常坚硬,材料难以加工,无法在复合材料表面加工凸台等微结构。图1实施例1制备的表面覆铜的金刚石/铜复合材料,表面抛光之后,表面光洁度优于0.8μm。
实施例2:
本实施例2金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法按照以下步骤进行:
一、采用气压浸渗方法制备平板状的高热导率金刚石/铜复合材料;
所述高热导率金刚石/铜复合材料的热导率为832W/mK,表面粗糙度为1.6μm,尺寸50mm×50mm,厚度为2.03mm;制备的复合材料中增强体的体积分数为66%,热扩散系数354mm2/s;
二、在模具内平铺厚度为0.81mm的铜箔,在铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度为4.03mm的铜箔,得到预制件;
所述铜箔为含铜量大于99.85%的纯铜或者铜合金,所述铜合金为铜钼合金;
三、采用放电等离子烧结对预制件进行烧结,完成覆铜;
所述放电等离子烧结的温度为890℃,保温时间为9min,烧结时向模具内预制件施加的压力为30MPa;
本实施例制备时采用的高热导率金刚石/铜复合材料的厚度为2.03mm,铜箔铺层厚度为上0.81mm,下4.03mm;所制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料上、下两面的覆铜层的厚度为0.65mm和3.2mm,中间层厚度2.03mm;
本实施例提出一种通过放电等离子烧结的方法在金刚石/铜复合材料上下表面覆铜的方法,制备效率高、覆铜层均匀、光洁度高,致密度高;解决了金刚石/铜复合材料不易焊接、不易加工的问题;金刚石/铜复合材料与上下覆铜层之间为冶金结合,最小程度的影响金刚石/铜复合材料的导热性,覆铜之后金刚石/铜复合材料的热导率下降不超过200W/mK。制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料的表面可以使用机加工的方法加工凸台、凹槽等形状,更加方便与芯片、PCB板等焊接。可以单面覆铜,也可以双面覆铜。可以进行研磨抛光实现高表面光洁度。
图2为实施例2制备的表面覆铜的金刚石/铜复合材料;图3为实施例2制备的表面覆铜的金刚石/铜复合材料的截面扫描电镜照片。由图3可见,金刚石/铜复合材料与覆铜层之间为冶金结合。
实施例3:
本实施例金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法按照以下步骤进行:
一、取采用气压浸渗方法制备的高热导率金刚石/铜复合材料;
所述高热导率金刚石/铜复合材料的热导率为720W/mK,表面粗糙度为1.6μm,高热导率金刚石/铜复合材料为方形柱,截面为矩形,截面尺寸为10mm×10mm,高度为40mm;制备的复合材料中增强体的体积分数为67%,热扩散系数为310mm2/s;
二、在模具内平铺厚度为0.5mm的球形铜粉,在球形铜粉上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,最后在高热导率金刚石/铜复合材料的上表面平铺厚度0.5mm的球形铜粉,得到预制件;
所述球形铜粉的直径为15~45μm,纯度为99.85%;
所述球形铜粉材质为纯铜;
三、采用放电等离子烧结对预制件进行烧结,完成覆铜;
所述放电等离子烧结的温度为870℃,保温时间为9min,烧结时向模具内预制件施加的压力为28MPa;
本实施例制备时采用的高热导率金刚石/铜复合材料的厚度为40mm,球形铜粉铺层厚度为上下各0.5mm;所制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料上下两面的覆铜层的厚度均为0.4mm,中间层厚度40mm;
本实施例提出一种通过放电等离子烧结的方法在金刚石/铜复合材料上下表面覆铜的方法,制备效率高、覆铜层均匀、光洁度高,致密度高;解决了金刚石/铜复合材料不易焊接、不易加工的问题;金刚石/铜复合材料与上下覆铜层之间为冶金结合。能最小程度的影响金刚石/铜复合材料的导热性,覆铜之后金刚石/铜复合材料的热导率下降不超过200W/mK。制备的覆铜后的金刚石/铜复合材料的表面可以使用机加工的方法加工凸台、凹槽等形状,更加方便与芯片、PCB板等焊接。由于金刚石非常坚硬,材料难以加工,无法在复合材料表面加工凸台等微结构。
Claims (5)
1.一种金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法,其特征在于:金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法按照以下步骤进行:
一、准备高热导率金刚石/铜复合材料;
步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料通过气压浸渗方法制备,热导率为600W/mK~900W/mK,表面粗糙度为1.6~6.3μm,长度不大于100mm,宽度不大于100mm,厚度为0.2~100mm;
二、在模具内平铺厚度为0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,最后在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,得到预制件;
或在模具内平铺厚度为0.1~100mm的球形铜粉或铜箔,在球形铜粉或铜箔上放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,得到预制件;
或在模具内放置步骤一中的高热导率金刚石/铜复合材料,在高热导率金刚石/铜复合材料表面平铺厚度0.1~100mm的铜粉或铜箔,得到预制件;
所述球形铜粉的直径为15~100μm,纯度为99.85%;
三、采用放电等离子烧结对预制件进行烧结,完成覆铜;覆铜用于金刚石铜材料的表面加工;
步骤三所述放电等离子烧结的温度为850~880℃,保温时间不超过10min,烧结时向模具内预制件施加的压力为20~30MPa。
2.根据权利要求1所述的金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法,其特征在于:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料为平板状或者柱状。
3.根据权利要求1所述的金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法,其特征在于:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料通过气压浸渗方法制备,热导率为700W/mK~800W/mK,表面粗糙度为2.6~5.3μm,长度为40~80mm,宽度为40~80mm,厚度为1~8mm。
4.根据权利要求1所述的金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法,其特征在于:步骤一所述高热导率金刚石/铜复合材料中金刚石颗粒尺寸为100~400μm。
5.根据权利要求1所述的金刚石/铜复合材料表面覆铜的方法,其特征在于:步骤二所述球形铜粉或铜箔的材质为纯铜或者铜合金,所述铜合金为铜钨合金或铜钼合金。
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PB01 | Publication | ||
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GR01 | Patent grant | ||
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