CN112909205A

CN112909205A - 显示面板及其制备方法、显示装置

Info

Publication number: CN112909205A
Application number: CN202110148674.6A
Authority: CN
Inventors: 王蕊
Original assignee: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Current assignee: Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date: 2021-02-03
Filing date: 2021-02-03
Publication date: 2021-06-04

Abstract

本发明实施例公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，该显示面板被划分为显示区和非显示区，包括：一基板；一发光层，位于所述基板上方，包括多个发光单元与一像素限定层，所述像素限定层表面设置有多个支撑柱，所述发光单元设置于所述显示区内；一封装层，位于所述发光层上方；以及多条金属走线，位于所述封装层上方的非显示区；其中，所述支撑柱都设置在所述显示区的范围内，通过在所述金属走线的下方不设置所述支撑柱，改善在所述显示面板制作过程中所用的掩模版与所述支撑柱刮伤产生的颗粒物导致所述金属走线短路或断路的问题。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

有机发光二极管显示器件(OLED)相较于传统的液晶显示器件(LCD)具有重量轻巧、广视角、响应速度快、耐低温、发光效率高等优点，因此在显示技术行业受到广泛的青睐。此外，OLED器件的不同于LCD器件的结构特征使其在柔性可折叠显示技术领域具有巨大的应用潜力。

在现有技术中，制造OLED显示器件的过程，产品良率时常会因工艺的限制受到一定影响。蒸镀是OLED的关键制造工艺，在OLED的制造过程中需要在基板上蒸镀出不同形状的涂层，为了蒸镀出不同形状的涂层需要用掩模版(mask)辅助制备。而为了保证掩模版与基板的间距，需要用支撑柱(Photo Spacer，PS)来支撑掩模版。OLED蒸镀顺序一般为空穴注入层、空穴传输层、发光单元、电子传输层、电子注入层和阴极等膜层，但是在实际制作过程中，随着蒸镀的膜层增多，支撑柱上沉积的材料愈多。蒸镀所使用的掩模版会与非显示区的支撑柱刮伤产生颗粒物。导致非显示区的金属走线短路或断路。

发明内容

为改善上述问题，本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，旨在改善现有的显示面板在制作过程中，掩模版会与非显示区的支撑柱刮伤产生颗粒物，导致金属走线短路或断路的问题。

一方面，本发明提供一种显示面板，所述显示面板被划分为显示区和非显示区，包括：

一基板；

一发光层，位于所述基板上方，包括多个发光单元与一像素限定层，所述像素限定层表面设置有多个支撑柱，所述发光单元设置于所述显示区；

一封装层，位于所述发光层上方；以及

多条金属走线，位于所述封装层上方的非显示区；

其中，所述支撑柱都设置在所述显示区的范围内，使得所述金属走线在所述支撑柱的范围之外，避免所述支撑柱上的颗粒物影响到所述金属走线，从而避免所述金属走线短路或断路。

在一些实施例中，所述金属走线包括触控电极线、数据连接线和扫描连接线中的一种或几种。

在一些实施例中，所述显示面板还包括设置于所述封装层上方的触控电极，所述触控电极与所述触控电极线连接，所述触控电极包括触控感测电极和触控驱动电极；所述触控电极线包括触控感测电极线和触控驱动电极线。

在一些实施例中，所述基板包括衬底和设于所述衬底上的多个薄膜晶体管。

在一些实施例中，所述金属走线的宽度设置在200μm～1000μm之间。

另一方面，本发明提供一种显示面板的制备方法，所述显示面板被划分为显示区和非显示区，所述方法包括：

在一基板上形成一发光层，所述发光层包括一像素限定层和多个发光单元，所述像素限定层表面形成有多个支撑柱，所述支撑柱和所述发光单元都设置于所述显示区的范围内；

在所述发光层上方形成一封装层；以及

在所述封装层上方的非显示区形成多条金属走线。

在一些实施例中，所述发光单元是利用蒸镀工艺制成。

另一方面，本发明还提供一种显示装置，包括以上所述的显示面板或利用以上所述的显示面板的制备方法制成。

有益效果：本发明提供的显示面板，通过在所述金属走线的下方不设置所述支撑柱，防止在所述显示面板制作过程中所用的掩模版与所述支撑柱刮伤产生的颗粒物导致所述金属走线短路或断路，从而影响到所述显示面板的显示效果的问题。

本申请提供的显示面板的制备方法，通过在所述显示面板的制作过程中，将所述支撑柱设置在所述金属走线之外，避免了在利用蒸镀工艺制作所述发光单元或其他膜层材料时，所用到的掩模版对所述支撑柱产生刮伤，生成颗粒物，制得的显示面板的显示效果受到影响。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1是本发明实施例提供一种显示面板的一个实施例横截面结构示意图。

图2是本发明实施例提供一种显示面板的一个实施例平面结构示意图。

图3是本发明实施例提供一种显示面板蒸镀过程中的一个实施例横截面示意图。

图4是本发明实施例提供一种显示面板的制备方法的一个实施例流程示意图。

附图标记说明：

10-显示面板；11-基板；12-发光层；121-像素限定层；122-发光单元；123-支撑柱；13-封装层；14-金属走线；15-触控电极；16-掩模版；17-蒸发源；AA-显示区；NA-非显示区。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在显示面板的制备过程中，在蒸镀过程中所使用的掩模版会与非显示区的支撑柱摩擦，由于掩模版一般采用金属材料，支撑柱的硬度低于金属掩模版的硬度，从而导致支撑柱容易被金属掩模版划伤，产生颗粒物。因现有设计非显示区的触控走线与非显示区的支撑柱重叠，所述颗粒物会导致触控走线短路或断路。

基于此，本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，以下分别进行详细说明。

首先，如图1和图2所示，本发明提供一种显示面板10，所述显示面板10被划分为显示区AA和非显示区NA，所述非显示区NA围绕所述显示区AA设置，所述显示面板10包括：一基板11；位于所述基板11上方的一发光层12；位于所述发光层12上方的一封装层13；以及位于所述封装层13上方的多条金属走线14。

其中，所述发光层12包括多个发光单元122与一像素限定层121，所述像素限定层121表面设置有多个支撑柱123，所述发光单元122和所述支撑柱123位于所述显示区AA，所述金属走线14位于所述非显示区NA。

换句话说，所述支撑柱123设置在所述金属走线14的范围之外，也可以理解为所述金属走线14下方不设置所述支撑柱123。避免所述支撑柱123上的颗粒物影响到所述金属走线14，进而避免所述金属走线14短路或断路。

具体的，所述基板11可以为薄膜晶体管基板，包括衬底和设于衬底上的若干薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)包括衬底和设于所述衬底上的若干薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的外围，也就是非显示区内还设置有薄膜晶体管外围走线。其中，所述衬底可以由具有柔性的任意合适的绝缘材料形成，例如，可以由聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成。所述衬底可以是透明的、半透明的或不透明的。所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极、有源层，在所述有源层和所述栅极之间可设置栅极绝缘层，在所述栅极和源极、漏极之间可设置层间绝缘层，在所述源极和漏极远离栅极一侧可设置钝化层，所述钝化层远离源极和漏极一侧可设置平坦化层，其中，所述平坦化层可以为压克力、聚酰亚胺或苯并环丁烯等有机层。

具体的，所述支撑柱123设置在所述像素限定层121的表面，呈阵列排布，用以在后续制备有机发光层12的阴极以及封装层13的过程中对各膜层制备工艺中用到的掩模版16起到支撑作用。

具体的，所述发光单元122至少包括蓝光发光单元、绿光发光单元和红光发光单元。

具体的，本发明实施例中的所述发光层12位于所述薄膜晶体管的上方，所述发光层12还可以包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层和阴极中的至少一个。在一实施例中，所述阳极、空穴注入层以及空穴传输层位于所述发光单元122接近所述薄膜晶体管的一侧，所述电子传输层、电子注入层和阴极位于所述发光单元122远离所述薄膜晶体管的一侧。需要说明的是，所述阳极上设置有所述有机发光层12的这部分没有被所述像素定义层覆盖，所述阴极覆盖所述支撑柱123和像素定义层。

具体的，所述像素定义层可以由聚酰亚胺(PI)、聚酰胺、苯并环丁烯(BCB)、压克力树脂或酚醛树脂等有机材料形成。

具体的，图3为所述显示面板10在蒸镀过程中的截面示意图，所述支撑柱123设置在所述像素限定层121的表面，对掩模版16起到支撑作用，蒸发源17位于所述掩模版16的下方，用于制备发光单元122、阴极或其他膜层，例如：空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层。

具体的，所述支撑柱123的材料为有机胶，有机胶容易获得，制备工艺成熟，经济成本低。

具体的，所述掩模版16可以是金属掩模版16。

所述封装层13可以包括依次层叠的有机层与无机层的多层结构，本发明实施例对所述封装层13的具体结构不做限定。

具体的，所述金属走线14包括触控电极线、数据连接线和扫描连接线中的一种或几种。

具体的，所述显示面板10还包括设置于所述封装层13上方的触控电极15，所述触控电极15与所述触控电极线连接，所述触控电极15包括触控感测电极和触控驱动电极；所述触控电极线包括触控感测电极线和触控驱动电极线。

本发明提供的显示面板10，通过在所述金属走线14的下方不设置所述支撑柱123，防止在所述显示面板10制作过程中所用的掩模版16与所述支撑柱123刮伤产生的颗粒物导致所述金属走线14短路或断路，从而影响到所述显示面板10的显示效果的问题。

本发明所述支撑柱123的数量可以大于现有技术中的支撑柱123的数量。或者，本发明所述支撑柱123的底面直径可以大于现有技术中的支撑柱123的底面直径。可以理解的是，除上述方法之外，在本发明的一些实施例中，还可以提高所述支撑柱123中的主支撑柱123的数量，换言之，可以根据实际的情况采用不同的方法来提高所述支撑柱123的支撑力，具体此处不做限制。

显示面板10需要用支撑柱123来支撑掩模版16，来保证所述掩模版16与所述基板11的间距。本发明实施例根据所述支撑柱123的所占的面积越大，对所述掩模版16的支撑力越强的原理。通过增加所述支撑柱123的数量或者是所述支撑柱123的底面直径的方法，提高了所述支撑柱123的支撑力，从而在所述金属走线14下方取消了所述支撑柱123之后，保证掩模版16与所述基板11的间距。

具体的，所述金属走线14的宽度设置在200～1000μm之间，例如，200μm、250μm、400μm、450μm、500μm或800μm等，可以理解的是，上述比例仅为举例，在本申请其他实施例中，所述外围区的宽度还可以采用其他的比例，例如250μm。

为了更好的理解本发明，如图4所示，本发明还提供一种显示面板10的制备方法，所述方法包括：

S1.在一基板11上形成一发光层12，所述发光层12包括一像素限定层121和多个发光单元122，所述像素限定层121表面形成有多个支撑柱123，所述支撑柱123和所述发光单元122都设置于所述显示区AA的范围内。

具体的，所述基板11可以为薄膜晶体管基板，包括衬底和设于所述衬底上的若干薄膜晶体管，在所述薄膜晶体管的外围，也就是非显示区内还设置有薄膜晶体管外围走线。

S2.在所述发光层12上方形成一封装层13。以及

S3.在所述封装层13上方的非显示区NA形成多条金属走线14。

具体的，所述支撑柱123可以通过蒸镀、沉积或者喷墨打印等工艺形成，本发明实施例对所述支撑柱123的具体制备工艺不做限定。所述支撑柱123形状可以是圆柱体，也可以是立方体或梯形，本发明实施例对所述支撑柱123的具体形状不做限定。

具体的，所述发光单元122包括蓝光发光单元、绿光发光单元和红光发光单元。在本发明一具体的实施例中，所述发光层12还可以包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层和阴极中的至少一个。在一实施例中，所述阳极、空穴注入层以及空穴传输层位于所述发光单元122接近所述薄膜晶体管的一侧，所述电子传输层、电子注入层和阴极位于所述发光单元122远离所述薄膜晶体管的一侧。需要说明的是，所述阳极上设置有所述有机发光层12的这部分没有被所述像素定义层覆盖，所述阴极覆盖所述支撑柱123和像素定义层。

具体的，所述发光单元122及阴极等膜层可以通过蒸镀的工艺形成，在蒸镀过程中，将蒸发源17中的材料透过掩模版16(例如，可以为精细金属掩模版FMM)上的镂空图案，蒸镀至所述基板11上方，从而形成所述发光单元122及阴极等膜层；所述支撑柱123对掩模版16起支撑作用。

本申请提供的显示面板10的制备方法，通过在所述显示面板10的制作过程中，将所述支撑柱123设置在所述金属走线14之外，避免了在制作所述发光单元122或阴极等膜层时，所用到的掩模版16对所述支撑柱123产生刮伤，生成颗粒物，避免制得的显示面板10的显示效果受影响。

在一些实施例中，所述金属走线14包括触控电极线、数据连接线和扫描连接线中的一种或几种。

在一些实施例中，所述显示面板10还包括设置于所述封装层13上方的触控电极15，所述触控电极15与所述触控电极线连接，所述触控电极15包括触控感测电极和触控驱动电极；所述触控电极线包括触控感测电极线和触控驱动电极线。

在上述实施例的基础上，本发明还提供一种显示装置，包括以上所述的显示面板10或利用以上所述的显示面板10的制备方法制成。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见上文其他实施例中的详细描述，此处不再赘述。

具体实施时，以上各个单元或结构可以作为独立的实体来实现，也可以进行任意组合，作为同一或若干个实体来实现，以上各个单元或结构的具体实施可参见前面的方法实施例，在此不再赘述。

以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制备方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims

1.一种显示面板，其特征在于，被划分为显示区和非显示区，包括：

一基板；

一封装层，位于所述发光层上方；以及

多条金属走线，位于所述封装层上方的非显示区；

其中，所述支撑柱都设置在所述显示区的范围内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属走线包括触控电极线、数据连接线和扫描连接线中的一种或几种。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述封装层上方的触控电极，所述触控电极与所述触控电极线连接，所述触控电极包括触控感测电极和触控驱动电极；所述触控电极线包括触控感测电极线和触控驱动电极线。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基板包括衬底和设于所述衬底上的多个薄膜晶体管。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属走线的宽度设置在200μm～1000μm之间。

6.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板被划分为显示区和非显示区，所述方法包括：

在所述发光层上方形成一封装层；以及

在所述封装层上方的非显示区形成多条金属走线。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述金属走线包括触控电极线、数据连接线和扫描连接线中的一种或几种。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述封装层上方的触控电极，所述触控电极与所述触控电极线连接，所述触控电极包括触控感测电极和触控驱动电极；所述触控电极线包括触控感测电极线和触控驱动电极线。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述发光单元是利用蒸镀工艺制成。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至5任一项所述的显示面板或如权利要求6至9任一项所述的制备方法制成的显示面板。