CN109148379A - 有机发光显示面板和显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种有机发光显示面板和显示装置，显示面板包括显示区和非显示区；还包括衬底基板、阵列层、显示功能层、辅助支撑柱；部分辅助支撑柱位于像素定义层远离阵列层的一侧且位于非显示区；辅助支撑柱包括第一端和第二端以及连接在第一端与第二端之间的侧面，侧面包括第一侧面和第二侧面，沿着由第一端指向第二端的方向，第一侧面和第二侧面朝相互靠近的趋势倾斜，且第一侧面的倾斜程度大于第二侧面的倾斜程度。显示装置包括上述有机发光显示面板。本发明可以减少在掩膜板移动时，辅助支撑柱掉落下来的颗粒物的体积，减小划伤，还能使辅助支撑柱不容易掉落，避免对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

Description

有机发光显示面板和显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体地，涉及一种有机发光显示面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，消费者对于影音产品的要求越来越高，对显示器厂商而言，生产高分辨率、高画质的显示器是发展方向，而有机发光二极管(Organic Light EmittingDiode，OLED)由于其具有自发光、高亮度、广视角、快速反应以及RGB全彩组件皆可制作等特质，已经被广泛应用于显示器中，目前OLED显示面板的应用已经进入实用化阶段，其将广泛应用于行动产品、笔记本电脑、监视器、壁挂电视等轻薄型显示器中，且全彩化的发展将提高OLED产品的竞争力。

在现有技术中，制造有机发光显示面板的过程，产品良率时常会因工艺的限制受到一定影响，比如在传统蒸镀工艺中，采用掩膜板(mask)对有机发光二极管进行有机发光材料的蒸镀，掩膜板的设置虽然能使有机发光材料图案化，但是在实际制作过程中，掩膜板会有对位不准确而需要反复校准的情况出现，而在校准时，掩膜板与已有膜层易产生摩擦，从而划伤已形成的膜层；此外，掩膜板对已有膜层的划伤也会造成颗粒物的掉落从而严重影响了产品的良率。

因此，提供一种能减小划伤，提高产品良率的有机发光显示面板和显示装置，就成了本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种有机发光显示面板，包括：显示区和非显示区，非显示区围绕显示区设置；还包括衬底基板；阵列层，阵列层位于衬底基板一侧；显示功能层，显示功能层位于阵列层远离衬底基板一侧，显示功能层包括发光器件和像素定义层；辅助支撑柱，至少部分辅助支撑柱位于像素定义层远离阵列层的一侧且位于非显示区；辅助支撑柱包括在第一方向上相对设置的第一端和第二端，第一端朝向衬底基板，第二端远离衬底基板，其中，第一方向为垂直于衬底基板的方向；辅助支撑柱还包括连接在第一端与第二端之间的侧面，侧面包括第一侧面和第二侧面，第一侧面朝向显示区，第二侧面背离显示区；其中，沿着由第一端指向第二端的方向，第一侧面和第二侧面朝相互靠近的趋势倾斜，且第一侧面的倾斜程度大于第二侧面的倾斜程度。

本发明还提供了一种显示装置，包括上述有机发光显示面板。

与现有技术相比，本发明提供的有机发光显示面板和显示装置，至少实现了如下的有益效果：

通过设置至少部分辅助支撑柱位于像素定义层远离阵列层的一侧且位于非显示区，可以在使用掩膜板蒸镀有机层和阴极时，起到支撑掩膜板的作用，防止掩膜板在下压过程中对其他膜层造成的损伤。进一步对辅助支撑柱限定了沿着由第一端指向第二端的方向，第一侧面和第二侧面朝相互靠近的趋势倾斜，这样可以尽量减小辅助支撑柱与掩膜板的接触面积，尽量增大辅助支撑柱与像素定义层的接触面积，从而减少在掩膜板移动时，辅助支撑柱掉落下来的颗粒物的体积，减小划伤，还可以增加辅助支撑柱与像素定义层之间的粘附力，减小辅助支撑柱从像素定义层上脱离的风险。进一步限定了第一侧面的倾斜程度大于第二侧面的倾斜程度，可以在掩膜板从显示区往非显示区移动时，进一步使辅助支撑柱不容易掉落，避免对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

当然，实施本发明的任一产品必不特定需要同时达到以上所述的所有技术效果。

通过以下参照附图对本发明的示例性实施例的详细描述，本发明的其它特征及其优点将会变得清楚。

附图说明

被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施例，并且连同其说明一起用于解释本发明的原理。

图1是本发明实施例提供的一种有机发光显示面板的结构示意图；

图2是图1的一种A-A’向剖面结构示意图；

图3是一种辅助支撑柱的受力分析图；

图4是图3在力矩平衡条件下的受力分析图；

图5是本发明实施例提供的一种辅助支撑柱的受力分析图；

图6是图5在力矩平衡条件下的受力分析图；

图7是图1的另一种A-A’向剖面结构示意图；

图8是图1的又一种A-A’向剖面结构示意图；

图9是图7的局部放大图；

图10是图8的局部放大图；

图11是图2的局部放大图；

图12是图1的其他一种A-A’向剖面结构示意图，

图13是图12的一种局部放大图；

图14是图12的另一种局部放大图；

图15是图12的又一种局部放大图；

图16是图12的其他一种局部放大图；

图17是本发明实施例提供的另一种有机发光显示面板的结构示意图；

图18是图17的一种B-B’向剖面结构示意图；

图19是本发明实施例提供的又一种有机发光显示面板的结构示意图；

图20是图19的一种C-C’向剖面结构示意图；

图21是本发明实施例的夹角分析示意图；

图22是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

现在将参照附图来详细描述本发明的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。

有机发光显示面板一般采用的是薄膜封装技术(Thin Film Encapsulation，TFE)进行封装，就是在OLED器件上形成多层致密的固态薄膜阻水层，以保护器件免受水汽恶化。薄膜封装层通常为：无机+有机+无机的三层或者五层结构。无机层采用镀膜，有机层一般采用喷墨打印的方式形成，有机层的厚度为无机层的4～5倍，有机层具有较小的弹性模量，缓解弯折应力的作用，无机层主要起到阻隔水氧的作用。而现有技术的蒸镀过程中，如何在利用掩膜板实现有机层和阴极的蒸镀的同时，又能避免掩膜板造成的对产品良率的影响，是本发明实施例所要解决的问题。

以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

请参考图1和图2，图1是本发明实施例提供的一种有机发光显示面板的结构示意图，图2是图1的一种A-A’向剖面结构示意图，本实施例提供的有机发光显示面板，包括：显示区AA和非显示区NA，非显示区NA围绕显示区AA设置；

还包括衬底基板11；

阵列层12，阵列层12位于衬底基板11一侧；

显示功能层13，显示功能层13位于阵列层12远离衬底基板11一侧，显示功能层13包括发光器件131和像素定义层132；

辅助支撑柱14，至少部分辅助支撑柱14位于像素定义层132远离阵列层12的一侧且位于非显示区NA；

辅助支撑柱14包括在第一方向Y上相对设置的第一端141和第二端142，第一端141朝向衬底基板11，第二端142远离衬底基板11，其中，第一方向Y为垂直于衬底基板11的方向；其中，需要说明的是，本实施例的辅助支撑柱14的第二端142即为辅助支撑柱14的最高点或最高面(取决于第二端142是点状结构还是面状结构)，最高点或最高面即为辅助支撑柱14在第一方向Y上距离衬底基板11最远的位置。

辅助支撑柱14还包括连接在第一端141与第二端142之间的侧面143，侧面143包括第一侧面1431和第二侧面1432，第一侧面1431朝向显示区AA，第二侧面1432背离显示区AA；

其中，沿着由第一端141指向第二端142的方向，第一侧面1431和第二侧面1432朝相互靠近的趋势倾斜，且第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度。

具体而言，请继续参考图2，本实施例的有机发光显示面板包括显示区AA和非显示区NA，非显示区NA围绕显示区AA设置；还包括衬底基板11，衬底基板11可以由具有柔性的任意合适的绝缘材料形成，例如，可以由聚酰亚胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成。衬底基板11可以是透明的、半透明的或不透明的。

本实施例的有机发光显示面板还包括阵列层12，阵列层12位于衬底基板11一侧，阵列层12包括多个薄膜晶体管121，薄膜晶体管121包括栅极1211、源极1212、漏极1213、有源层1214，在有源层1214和栅极1211之间可设置栅极绝缘层15(图中未填充)，在栅极1211和源极1212、漏极1213之间可设置层间绝缘层16(图中未填充)，在源极1212和漏极1213远离栅极1211一侧可设置钝化层17(图中未填充)，钝化层17远离源极1212和漏极1213一侧可设置平坦化层18(图中未填充)，其中，平坦化层18可以为压克力、聚酰亚胺(PI)或苯并环丁烯(BCB)等有机层。

需要说明的是，在衬底基板11和阵列层12之间可以设置缓冲层19(图中未填充)，缓冲层19覆盖衬底基板11的整个上表面。缓冲层19可以包括无机层或有机层。例如，缓冲层19可以由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiOxNy)、氧化铝(AlOx)或氮化铝(AlNx)等的无机材料或者亚克力(acryl)、聚酰亚胺(PI)或聚酯等有机材料中选择的材料形成。缓冲层19可以包括单层或多个层，缓冲层19用于阻挡氧和湿气，防止湿气或杂质通过衬底基板11扩散，并且在衬底基板11的上表面上提供平坦的表面。

本实施例的有机发光显示面板还包括显示功能层13，显示功能层13位于阵列层12远离衬底基板11一侧，显示功能层13包括发光器件131和像素定义层132；发光器件形成在薄膜晶体管121上，发光器件131至少包括阳极1311、阴极1312(图中未填充)、发光层1313，为了形成发光器件131，阳极1311通过接触孔1314电连接到漏极1213。像素定义层132位于平坦化层18上以覆盖阳极1311的边缘。像素定义层132可以由聚酰亚胺(PI)、聚酰胺、苯并环丁烯(BCB)、压克力树脂或酚醛树脂等有机材料形成。发光层1313位于阳极1311远离漏极1213一侧，需要说明的是，阳极1311上设置有发光层1313的这部分没有被像素定义层132覆盖。发光层1313可以通过气相沉积工艺形成，发光层1313包括有机发射层，并且还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一个。发光层1313远离阳极1311的一侧设有阴极1312，阳极1311和阴极1312通过发光层1313彼此绝缘。如果在阳极1311和阴极1312之间施加电压，则发光层1313发射可见光，从而实现能被使用者识别的图像。

进一步的，在利用掩膜板蒸镀有机发光显示面板的有机层和阴极时，本实施例的辅助支撑柱14作为支撑掩膜板的结构，起到为掩膜板支撑的作用。掩膜板在蒸镀过程中会有一个下压的动作，下压后因为对位不准确而需要反复移动进行校准。而在校准时，掩膜板会有一个从显示区AA往非显示区NA或者从非显示区NA往显示区AA移动的过程。若掩膜板从非显示区NA往显示区AA移动，由于显示区AA的TFE的封装层较厚，因此，就算掩膜板将辅助支撑柱14划伤造成颗粒物的掉落，较厚的TFE的封装层也可以很好的覆盖该颗粒物，不会引起封装不良或其他膜层的损伤；但是，若掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动，由于靠近非显示区NA的TFE的封装层较薄，较薄的TFE的封装层不能很好的覆盖掩膜板在辅助支撑柱14上移动引起的颗粒物，所以易引起封装失效，产生暗斑或者颗粒物划伤已有膜层。因此由上可知，只有在掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动时，容易引起封装失效，产生暗斑，影响产品的良率。

因此，本实施例中，对于辅助支撑柱14，第一端141即为辅助支撑柱14与像素定义层132的接触面，第二端142即为辅助支撑柱14与掩膜板的接触面，限定了沿着由第一端141指向第二端142的方向，第一侧面1431和第二侧面1432朝相互靠近的趋势倾斜，即第一端141的面积大于第二端142的面积，这种结构的辅助支撑柱14可以尽量减小辅助支撑柱14与掩膜板的接触面积，从而减少在掩膜板移动时，辅助支撑柱14掉落下来的颗粒物的体积，从而减小划伤；还可以使辅助支撑柱14与像素定义层132的接触面积尽量大，从而增加辅助支撑柱14与像素定义层132之间的粘附力，减小了掩膜板移动时，辅助支撑柱14从像素定义层132上脱离的风险。

进一步的，本实施例中，对于辅助支撑柱14，限定了第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度。

请参考图3和图4，图3是一种辅助支撑柱的受力分析图，图4是图3在力矩平衡条件下的受力分析图；

如图3所示，该辅助支撑柱14设计时，限定了第一侧面1431的倾斜程度小于第二侧面1432的倾斜程度，那么在掩膜板00从显示区AA向非显示区NA移动时，由于掩膜板00在长期使用之后会出现变形，其表面不再平整，所以当掩膜板00进行位置校准时，从显示区AA向非显示区NA移动过程中，会有一个如图3所示方向的力F(可等同于摩擦力)，换句话说，显示面板与掩膜板的接触面不是平行于显示面板基板的平面，相对运动所产生的摩擦力为不平行于显示面板基板的平面，会产生垂直于显示面板且向上的分力。掩膜板00对该辅助支撑柱14的力F可分解为垂直方向的力F_V和水平方向的力F_H，若要使辅助支撑柱14不容易脱落，只需考虑垂直方向的力Fv对辅助支撑柱14的作用力，所以可将模型简化为掩膜板00对该辅助支撑柱14的力即为垂直方向的力Fv对辅助支撑柱14的作用力。

如图4所示，假设存在一个垂直方向的力F₂，在掩膜板00从显示区AA向非显示区NA移动时，着力点为N1，该力F₂正好能使远离着力点N1一侧的辅助支撑柱14脱离像素定义层132，根据力矩平衡的条件，F₁×L₁＝F₂×L₂，即F₂＝F₁×L₁/L₂，其中，F₁为辅助支撑柱14与像素定义层132之间的粘附力，可近似简化为辅助支撑柱14的重力，L₁为着力点N1到力F₁的距离即力F₁的力臂，也就是着力点N1到辅助支撑柱14的重心的距离，L₂为着力点N1到力F₂的距离即力F₂的力臂；由于第一侧面1431的倾斜程度小于第二侧面1432的倾斜程度，则L₁＜L₂，所以F₂<F₁；

请参考图5和图6，图5是本发明实施例提供的一种辅助支撑柱的受力分析图，图6是图5在力矩平衡条件下的受力分析图；

如图5所示，该辅助支撑柱14设计时，限定了第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，那么在掩膜板00从显示区AA向非显示区NA移动时，由于掩膜板00在长期使用之后会出现变形，其表面不再平整，所以当掩膜板00进行位置校准时，从显示区AA向非显示区NA移动过程中，会有一个如图5所示方向的力F’(可等同于摩擦力)，掩膜板00对该辅助支撑柱14的力F’可分解为垂直方向的力F’_V和水平方向的力F’_H，若要使辅助支撑柱14不容易脱落，只需考虑垂直方向的力F’v对辅助支撑柱14的作用力，所以可将模型简化为掩膜板00对该辅助支撑柱14的力即为垂直方向的力F’v对辅助支撑柱14的作用力。

如图6所示，假设存在一个垂直方向的力F₄，在掩膜板00从显示区AA向非显示区NA移动时，着力点为N2，该力F₄正好能使远离着力点N2一侧的辅助支撑柱14脱离像素定义层132，根据力矩平衡的条件，F₃×L₃＝F₄×L₄，即F₄＝F₃×L₃/L₄，其中，F₃为辅助支撑柱14与像素定义层132之间的粘附力，可近似简化为辅助支撑柱14的重力，L₃为着力点N2到力F₃的距离，即力F₃的力臂，也就是着力点N2到辅助支撑柱14的重心的距离，L₄为着力点N2到力F₄的距离即力F₄的力臂；；由于第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，则L₃＞L₄，所以F₄>F₃；

又由于图4和图6中，辅助支撑柱14与像素定义层132的接触面积相同，且辅助支撑柱14的体积大小相同，则两种设计的辅助支撑柱14与像素定义层132之间的粘附力相同，即F₁＝F₃，又因为F₂<F₁，F₄>F₃，所以F₄>F₃＞F₂。而图3和图5中，掩膜板00与辅助支撑柱14的接触面积相同，且掩膜板00相同，所以两种设计的简化后的掩膜板00对该辅助支撑柱14的力也相同，即F＝F’，Fv＝F’_V。所以针对相同的掩膜板00在辅助支撑柱14上从显示区AA向非显示区NA移动时，假设掩膜板00对该辅助支撑柱14的垂直方向的力为F”_V，且F₂＜F”_V＜F₄，由于F”_V还没有达到能使图6设计的辅助支撑柱14脱离像素定义层132的临界值F₄，而F”_V已经大于了能使图4设计的辅助支撑柱14脱离像素定义层132的临界值F₂；所以在辅助支撑柱14从显示区AA向非显示区NA移动，且掩膜板00对辅助支撑柱14的垂直方向的力F”_V相同时，相比较于图4和图6设计的两种辅助支撑柱14，图4设计的辅助支撑柱14容易从像素定义层132上脱离掉落，从而会对已有膜层造成划伤，影响产品良率；图6设计的辅助支撑柱14不容易从像素定义层132上脱离掉落，从而能够避免对已有膜层造成划伤，不会影响产品良率。因此本实施例对于辅助支撑柱14，限定了第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度。

综上，本发明实施例提供的有机显示面板，通过设置至少部分辅助支撑柱14位于像素定义层132远离阵列层12的一侧且位于非显示区NA，可以在使用掩膜板蒸镀有机层和阴极时，起到支撑掩膜板的作用，防止掩膜板在下压过程中对其他膜层造成的损伤。进一步对辅助支撑柱14限定了沿着由第一端141指向第二端142的方向，第一侧面1431和第二侧面1432朝相互靠近的趋势倾斜，这样可以尽量减小辅助支撑柱14与掩膜板的接触面积，尽量增大辅助支撑柱14与像素定义层132的接触面积，从而减少在掩膜板移动时，辅助支撑柱14掉落下来的颗粒物的体积，减小划伤，还可以增加辅助支撑柱14与像素定义层132之间的粘附力，减小辅助支撑柱14从像素定义层132上脱离的风险。进一步限定了第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，可以在掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动时，进一步使辅助支撑柱14不容易掉落，避免对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

在一些可选实施例中，请参考图7和图8，图7是图1的另一种A-A’向剖面结构示意图，图8是图1的又一种A-A’向剖面结构示意图，本实施例中，连接在辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为弧面，且辅助支撑柱14包括竖截面，该竖截面垂直于衬底基板11且平行于显示区AA垂直指向非显示区NA的方向，即竖截面形状为图5所示的剖面形状；其中，侧面143的竖截面为一弧形，倾斜程度即为弧形两端点的连线与衬底基板11所在平面之间的夹角大小。

本实施例中，说明了连接在辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为弧面，那么侧面143的竖截面为一弧形。

请参考图9，图9是图7的局部放大图，对于第一侧面1431来说，其倾斜程度即可表示为第一侧面1431的竖截面的两端点A和B的连线与衬底基板11所在平面之间的夹角α1的大小；对于第二侧面1432来说，其倾斜程度即可表示为第二侧面1432的竖截面的两端点C和D的连线与衬底基板11所在平面之间的夹角α2的大小；本实施例要求第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，即α1小于α2即可。

需要说明的是，本实施例所说的弧面可以为图7和图9所示的凸弧面(即朝向辅助支撑柱14外部凸出的弧面)，也可为图8和图10所示的凹弧面(即朝向辅助支撑柱14内部凹陷的弧面)，其中，图10是图8的局部放大图；也可以是第一侧面1431和第二侧面1432为以上两种不同的弧面，只需使第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，即α1小于α2即能使掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动时，减少辅助支撑柱14掉落的风险，避免掉落的颗粒物对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。而且，对于支撑柱14的第一端141，其第一端141为平面时，第一端141平行于基板11，掩膜板对第一端141的接触面平行于显示面板的基板，掩膜板对第一端141的力主要为平行于显示面板的基板的力。而对于侧面143，侧面143与与掩膜板的接触面不平行于显示面板的基板，因此，侧面143与与掩膜板之间的摩擦力不平行于显示面板的基板，摩擦力会产生垂直于显示面板且向上的分力，因此通过将侧面143设置为弧形，可以减小掩膜板与辅助支撑柱14的接触面积，减小小掩膜板与辅助支撑柱14之间的摩擦力，这样，当掩膜板相对于支撑柱14发生移动时，掩膜板作用在支撑柱14使支撑柱14脱离显示面板的力减小，从而进一步避免掉落的颗粒物对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

在一些可选实施例中，请参考图11，图11是图2的局部放大图，继续结合参考图2，本实施例中，侧面143为平面，倾斜程度即为侧面143与衬底基板11所在平面之间的夹角大小。

本实施例中，说明了连接在辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为平面，那么对于第一侧面1431来说，其倾斜程度即可表示为第一侧面1431与衬底基板11所在平面之间的夹角δ1的大小；对于第二侧面1432来说，其倾斜程度即可表示为第二侧面1432与衬底基板11所在平面之间的夹角δ2的大小；

本实施例要求第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，即δ1小于δ1可以使掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动时，减少辅助支撑柱14掉落的风险，避免掉落的颗粒物对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

在一些可选实施例中，请参考图12，图12是图1的其他一种A-A’向剖面结构示意图，本实施例中，有机发光显示面板还包括辅助底座20，辅助底座20位于辅助支撑柱14朝向衬底基板11的一侧，且辅助底座20与辅助支撑柱14一体成型。

本实施例进一步在辅助支撑柱14朝向衬底基板11的一侧增设了与辅助支撑柱14一体成型的辅助底座20，在制作辅助支撑柱14时，与其一体成型的辅助底座20的设计，可以降低工艺难度，即辅助底座20的制作工艺要求无需达到辅助支撑柱14那样达到精确地倾斜程度的要求，只需与掩膜板靠近的一端达到上述实施例的要求即可。

在一些可选实施例中，请继续参考图12，本实施例中，辅助支撑柱14向衬底基板11的垂直投影为第一投影M1，辅助底座20向衬底基板11的垂直投影为第二投影M2，第一投影M1位于第二投影M2的范围内。

本实施例进一步限定了第一投影M1位于第二投影M2的范围内，即辅助支撑柱14朝向衬底基板11的一端位于辅助底座20与其接触的范围内，从而保证了一体成型的效果，不会造成错位；并且，第一投影M1位于第二投影M2的范围内，使辅助底座20与像素定义层132的接触面积进一步变大，从而进一步增加辅助底座20与像素定义层132之间的粘附力，减小了掩膜板移动时，辅助底座20带动辅助支撑柱14从像素定义层132上脱离的风险。

在一些可选实施例中，请参考图13、图14、图15和图16，图13-图16均是图12的局部放大图，本实施例中，辅助底座20和辅助支撑柱14均包括截面，该截面垂直于衬底基板11且平行于显示区AA垂直指向非显示区NA的方向；辅助底座20的截面形状为长方形或者正方形中的任意一种；辅助支撑柱14的截面形状为梯形(如图13所示)、直角梯形(如图14所示)、三角形(如图15所示)、弓形(图中未示意)、半椭圆形(如图16所示)中的任意一种。

本实施例中，将辅助底座20的截面形状设计为长方形或者正方形中的任意一种，因为长方形或者正方形的形状相比于其他形状而言稳定性更好一点，因此适用于辅助底座，使其与像素定义层132的接触更稳固。

当连接辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为平面时，将辅助支撑柱14的截面形状设计为梯形(如图13所示)、直角梯形(如图14所示)，均能满足沿着由第一端141指向第二端142的方向，第一侧面1431和第二侧面1432朝相互靠近的趋势倾斜，且第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度；而将辅助支撑柱14的截面形状设计为三角形(如图15所示)，可以使掩膜板与辅助支撑柱14的接触面达到理想的点接触，使他们之间的接触面积达到最小，从而更进一步的减少在掩膜板移动时，辅助支撑柱14掉落下来的颗粒物的体积，减小划伤；

当连接辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为弧面时，将辅助支撑柱14的截面形状设计为弓形(图中未示意)或者半椭圆形(如图16所示)，可以在满足沿着由第一端141指向第二端142的方向，第一侧面1431和第二侧面1432朝相互靠近的趋势倾斜，且第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度的同时，还可以使辅助支撑柱14的外边缘尽可能的圆润，降低因掩膜板的移动而带来的颗粒物掉落的风险。

需要说明的是，本实施例仅是举例说明了辅助底座20截面和辅助支撑柱14截面的几种形状，但不限于以上几种形状，也可以为本领域技术人员公知的其他能达到相同或相似效果的形状，本实施例在此不作赘述。

在一些可选实施例中，请参考图17和图18，图17是本发明实施例提供的另一种有机发光显示面板的结构示意图，图18是图17的一种B-B’向剖面结构示意图，本实施例中，非显示区NA至少包括一个阻挡部30，阻挡部30围绕显示区AA及显示功能层13设置，至少部分辅助支撑柱14设置于阻挡部30远离衬底基板11一侧的端部。

本实施例中，进一步限定了本发明实施例的有机发光显示面板至少还包括一个阻挡部30，该阻挡部30位于非显示区NA，且围绕显示区AA及显示功能层13设置，阻挡部30在非显示区NA远离显示区AA的外围区域也可以起到支撑掩膜板的作用，从而防止掩膜板在下压过程中造成对该区域其他膜层的损伤。因此，在阻挡部30远离衬底基板11一侧的端部设置辅助支撑柱14，可以在掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动至非显示区NA外围区域时，进一步使阻挡部30远离衬底基板11一侧的端部不容易掉落，避免对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

需要说明的是，本实施例中的阻挡部30的截面形状可以为图18所示的梯形，但不限于此梯形形状，也可以为本领域技术人员公知的其他能达到相同或相似效果的形状，本实施例在此不作赘述。

在一些可选实施例中，请参考图19和图20，图19是本发明实施例提供的又一种有机发光显示面板的结构示意图，图20是图19的一种C-C’向剖面结构示意图，本实施例中，至少部分辅助支撑柱14位于显示区AA内且到显示区AA边缘的最小距离L在0～100μm范围内。

本实施例中，进一步限定了在显示区AA内也设置有辅助支撑柱14，且该辅助支撑柱14到显示区AA边缘的最小距离L为0～100μm范围内，，由于通常在制作有机发光显示面板时，利用掩膜板刻蚀各个膜层结构时，为了支撑掩膜板，在显示区AA内一般也会设置支撑柱。因此在到显示区AA边缘的最小距离L为0～100μm范围内的显示区AA内进一步设置辅助支撑柱14，可以在掩膜板校准位置过程中，掩膜板从显示区AA往非显示区NA移动移动时，避免掩膜板损伤显示区AA边缘的部分支撑柱，从而将颗粒物带离至非显示区NA，对非显示区NA的已有膜层造成划伤，进一步提升产品良率。

由上所知，请结合参考图19和图20，本发明实施例的辅助支撑柱14至少可以包括多个第一辅助支撑柱1401、多个第二辅助支撑柱1402、多个第三辅助支撑柱1403，其中，第一辅助支撑柱1401位于阻挡部30和显示区AA边缘之间的区域内，且位于像素定义层132远离阵列层12的一侧，第二辅助支撑柱1402设置于阻挡部30远离衬底基板11一侧的端部，第三辅助支撑柱1403位于显示区AA内且到显示区AA边缘的最小距离L在0～100μm范围内。三种位于不同位置的辅助支撑部14的设置，可以多方面的避免掩膜板移动时支撑柱损伤掉落的颗粒物对已有膜层造成划伤，从而更进一步的提升产品良率。

在一些可选实施例中，请继续参考图19，本实施例中，非显示区NA的面积为A，辅助支撑柱14向衬底基板11的垂直投影的面积总和为B，B占A的比例为0.5％～3％。

本实施例中，进一步限定了辅助支撑柱14设置在非显示区NA内的密度范围为0.5％～3％，由于在单个辅助支撑柱14向衬底基板11的垂直投影的面积一定的情况下，非显示区NA内设置的辅助支撑柱14的数量是一定的，若B占A的比例小于0.5％，则非显示区NA内辅助支撑柱14的数量会很少，若B占A的比例大于3％，则非显示区NA内辅助支撑柱14的数量会很多，那么放置显示面板的其他结构的空间就会变小，因此将B占A的比例限定为0.5％～3％，可以使非显示区NA内辅助支撑柱14的数量不会太多也不会太少，在达到较好的支撑掩膜板的作用的同时，给非显示区NA留有足够的空间放置显示面板的其他结构。

需要说明的是，本发明实施例中的辅助支撑柱14的设置可以均匀分布，也可以随意分布，只要满足辅助支撑柱14向衬底基板11的垂直投影的面积总和B占非显示区NA的面积A的比例为0.5％～3％即可，本实施例在此不作具体限定。

在一些可选实施例中，请继续参考图20，本实施例中，辅助支撑柱14在垂直于衬底基板11方向上的高度h的范围为0.5～2μm。

本实施例中，进一步限定了辅助支撑柱14在垂直于衬底基板11方向上的高度h的范围为0.5～2μm，因为对于有机发光显示面板，辅助支撑柱14的高度如果过高，则可能会使封装效果较差或者出现封装失效的情况；辅助支撑柱14的高度如果过矮，则可能导致支撑效果差，因此辅助支撑柱14在垂直于衬底基板11方向上的高度h范围设置为0.5～2μm，可以既不影响有机发光显示面板的封装效果，又能达到较好的支撑掩膜板的作用。

在一些可选实施例中，请继续参考图15和图16，本实施例中的夹角范围为2.8°～21.8°，即当连接辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为平面时，则侧面143与衬底基板11所在平面之间的夹角大小范围为2.8°～21.8°；当连接辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为弧面时，则作为弧面竖截面的弧形两端点的连线与衬底基板11所在平面之间的夹角大小范围为2.8°～21.8°。

本实施例进一步限定了夹角范围为2.8°～21.8°，请结合图21，图21是本发明实施例的夹角分析示意图，以连接辅助支撑柱14第一端141与第二端142之间的侧面143为平面为例，假设如图21所示，在显示区AA垂直指向非显示区NA的方向上，辅助支撑柱14的宽度为d，在实际制作时，受工艺和行业要求的影响，一般取辅助支撑柱14的宽度d范围为6-11μm。第一侧面1431与衬底基板11所在平面之间的夹角为α，第二侧面1432与衬底基板11所在平面之间的夹角为β。

以辅助支撑柱14的远离衬底基板11一侧的顶点K为分界点，可将辅助支撑柱14分成朝向显示区AA和背离显示区AA的两部分，在辅助支撑柱14靠近衬底基板11一侧，该两部分的宽度分别为d1和d2，d1+d2＝d，这是因为实际制作时受工艺限制(比如有机膜曝光和光线穿透的影响)，辅助支撑柱14的背离显示区AA的部分不能完全做到没有，即不能做到辅助支撑柱14的截面为直角三角形的理想形状，那么辅助支撑柱14必定会在背离显示区AA一侧存在如图21所示的一部分，根据工艺参数和实验分析可知，d1可取极限值1μm。

由于辅助支撑柱14在垂直于衬底基板11方向上的高度h范围一般为0.5～2μm，当d＝6μm时，由于d1可取极限值1μm，则d2＝5μm，又由于h范围一般为0.5～2μm，所以tanα的范围为计算可得α的范围为5.7°～21.8°之间。

当d＝11μm时，由于d1可取极限值1μm，则d2＝10μm，又由于h范围一般为0.5～2μm，所以tanα的范围为计算可得α的范围为2.8°～11.3°之间。

综上可得，α取5.7°～21.8°和2.8°～11.3°的并集，即第一侧面1431与衬底基板11所在平面之间的夹角α的范围为2.8°～21.8°，而第一侧面1431的倾斜程度大于第二侧面1432的倾斜程度，所以第二侧面1432与衬底基板11所在平面之间的夹角为β大于α即可。

在一些可选实施例中，请参考图22，图22是本发明实施例提供的一种显示装置000的结构示意图，本实施例提供的显示装置000，包括本发明上述实施例提供的有机发光显示面板001。图22实施例仅以手机为例，对显示装置000进行说明，可以理解的是，本发明实施例提供的显示装置000，可以是电脑、电视、车载显示装置等其他具有显示功能的显示装置000，本发明对此不作具体限制。本发明实施例提供的显示装置000，具有本发明实施例提供的有机发光显示面板001的有益效果，具体可以参考上述各实施例对于有机发光显示面板001的具体说明，本实施例在此不再赘述。

通过上述实施例可知，本发明提供的有机发光显示面板和显示装置，至少实现了如下的有益效果：

通过设置至少部分辅助支撑柱位于像素定义层远离阵列层的一侧且位于非显示区，可以在使用掩膜板蒸镀有机层和阴极时，起到支撑掩膜板的作用，防止掩膜板在下压过程中对其他膜层造成的损伤。进一步对辅助支撑柱限定了沿着由第一端指向第二端的方向，第一侧面和第二侧面朝相互靠近的趋势倾斜，这样可以尽量减小辅助支撑柱与掩膜板的接触面积，尽量增大辅助支撑柱与像素定义层的接触面积，从而减少在掩膜板移动时，辅助支撑柱掉落下来的颗粒物的体积，减小划伤，还可以增加辅助支撑柱与像素定义层之间的粘附力，减小辅助支撑柱从像素定义层上脱离的风险。进一步限定了第一侧面的倾斜程度大于第二侧面的倾斜程度，可以在掩膜板从显示区往非显示区移动时，进一步使辅助支撑柱不容易掉落，避免对已有膜层造成划伤，从而提升产品良率。

虽然已经通过例子对本发明的一些特定实施例进行了详细说明，但是本领域的技术人员应该理解，以上例子仅是为了进行说明，而不是为了限制本发明的范围。本领域的技术人员应该理解，可在不脱离本发明的范围和精神的情况下，对以上实施例进行修改。本发明的范围由所附权利要求来限定。

Claims (12)

1.一种有机发光显示面板，其特征在于，包括：显示区和非显示区，所述非显示区围绕所述显示区设置；

还包括衬底基板；

阵列层，所述阵列层位于所述衬底基板一侧；

显示功能层，所述显示功能层位于所述阵列层远离所述衬底基板一侧，所述显示功能层包括发光器件和像素定义层；

辅助支撑柱，至少部分所述辅助支撑柱位于所述像素定义层远离所述阵列层的一侧且位于所述非显示区；

所述辅助支撑柱包括在第一方向上相对设置的第一端和第二端，所述第一端朝向所述衬底基板，所述第二端远离所述衬底基板，其中，所述第一方向为垂直于所述衬底基板的方向；

所述辅助支撑柱还包括连接在所述第一端与所述第二端之间的侧面，所述侧面包括第一侧面和第二侧面，所述第一侧面朝向所述显示区，所述第二侧面背离所述显示区；

其中，沿着由所述第一端指向所述第二端的方向，所述第一侧面和所述第二侧面朝相互靠近的趋势倾斜，且所述第一侧面的倾斜程度大于所述第二侧面的倾斜程度。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述侧面为弧面；所述辅助支撑柱包括竖截面，所述竖截面垂直于所述衬底基板且平行于所述显示区垂直指向所述非显示区的方向；

所述侧面的所述竖截面为一弧形，所述倾斜程度即为所述弧形两端点的连线与所述衬底基板所在平面之间的夹角大小。

3.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述侧面为平面；所述倾斜程度即为所述侧面与所述衬底基板所在平面之间的夹角大小。

4.根据权利要求2或3所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述夹角范围为2.8°～21.8°。

5.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括辅助底座，所述辅助底座位于所述辅助支撑柱朝向所述衬底基板的一侧，且所述辅助底座与所述辅助支撑柱一体成型。

6.根据权利要求5所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述辅助支撑柱向所述衬底基板的垂直投影为第一投影，所述辅助底座向所述衬底基板的垂直投影为第二投影，所述第一投影位于所述第二投影的范围内。

7.根据权利要求1或5所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述辅助底座和所述辅助支撑柱均包括截面，所述截面垂直于所述衬底基板且平行于所述显示区垂直指向所述非显示区的方向；所述辅助底座的所述截面形状为长方形或者正方形中的任意一种；所述辅助支撑柱的所述截面形状为梯形、直角梯形、三角形、弓形、半椭圆形中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述非显示区至少包括一个阻挡部，所述阻挡部围绕所述显示区及所述显示功能层设置，至少部分所述辅助支撑柱设置于所述阻挡部远离所述衬底基板一侧的端部。

9.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，

至少部分所述辅助支撑柱位于所述显示区内且到所述显示区边缘的最小距离在0～100μm范围内。

10.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述非显示区的面积为A，所述辅助支撑柱向所述衬底基板的垂直投影的面积总和为B，所述B占A的比例为0.5％～3％。

11.根据权利要求1所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述辅助支撑柱在垂直于所述衬底基板方向上的高度范围为0.5～2μm。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-11任一项所述的有机发光显示面板。