CN112885874B - 阵列基板和显示面板 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种阵列基板和显示面板。该阵列基板包括基板；图案化层，设置在基板上，图案化层包括图案化结构；平坦化层，设置在图案化层远离基板的一侧，平坦化层覆盖图案化层；像素限定层，设置在平坦化层远离基板的一侧，像素限定层设置有多个凹槽，凹槽用于形成子像素；图案化结构在至少一个凹槽底部内的垂直投影面积占对应凹槽底部面积的比例大于或等于80％，在通过平坦化层对图案化结构进行平坦化时，从而改善凹槽底部对应的平坦化层表面的均一性，可以在比较平坦的凹槽底部形成子像素，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

Description

阵列基板和显示面板

技术领域

本申请实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板和显示面板。

背景技术

显示面板包括驱动电路走线膜层，驱动电路走线膜层会使得子像素所在的平坦化层表面不平坦，使得子像素膜层均一性较差，从而使得子像素的出光方向的一致性比较差，从而影响了显示面板的显示一致性。当驱动电路走线膜层使得不同的子像素所在平坦化层表面的平坦程度不同时，不同的子像素的出光效果会有差异，进一步地影响显示面板的显示一致性。

发明内容

本申请提供一种阵列基板和显示面板，以提高显示面板的显示一致性。

第一方面，本申请实施例提供了一种阵列基板，包括：

基板；

图案化层，设置在所述基板上，所述图案化层包括图案化结构；

平坦化层，设置在所述图案化层远离所述基板的一侧，所述平坦化层覆盖所述图案化层；

像素限定层，设置在所述平坦化层远离所述基板的一侧，所述像素限定层设置有多个凹槽，所述凹槽用于形成子像素；所述图案化结构在至少一个所述凹槽底部内的垂直投影面积占对应所述凹槽底部面积的比例大于或等于80％。

可选地，所述图案化结构在每一所述凹槽底部内的垂直投影面积占对应所述凹槽底部面积的比例大于或等于80％。

可选地，所述图案化层为金属层，所述金属层与所述平坦化层相邻设置，所述图案化结构设置于所述金属层。

可选地，所述图案化结构包括走线，所述走线在所述凹槽底部内垂直投影的线宽大于所述走线在所述凹槽底部外的平坦化层上垂直投影的线宽。

可选地，所述凹槽底部的边缘在所述走线上的垂直投影至少部分在所述走线的边缘内。

可选地，所述走线包括外边缘，对应所述凹槽底部的所述走线的所述外边缘位于所述凹槽底部在所述走线上的垂直投影外，所述凹槽底部的边缘在所述走线上的垂直投影到所述外边缘的最小距离大于或等于1um。

可选地，所述走线包括第一走线和第二走线；所述第一走线和所述第二走线的延伸方向相同。

可选地，沿所述走线的线宽方向，所述第一走线在所述凹槽底部内的垂直投影和所述第二走线在所述凹槽底部内的垂直投影的最大间距小于或等于3um。

可选地，阵列基板还包括阳极层；所述阳极层设置于所述平坦化层远离所述图案化层的一侧；所述阳极层在所述凹槽底部形成阳极。

第二方面，本申请实施例还提供了一种显示面板，包括第一方面任意实施例提供的阵列基板。

本申请实施例的技术方案，通过设置图案化层的图案化结构在对应凹槽底部内的垂直投影面积占对应凹槽底部面积的比例大于或等于80％，然后通过平坦化层对图案化结构进行平坦化，从而改善凹槽底部表面的平坦化效果，可以在比较平坦的凹槽底部形成子像素，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

附图说明

图1为现有技术提供的一种阵列基板的驱动电路走线膜层与子像素的俯视结构示意图；

图2为图1提供的一种阵列基板沿剖面线AA’进行剖面得到的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图；

图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图；

图6为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图7为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图；

图8为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图；

图9为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图；

图11为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

图1为现有技术提供的一种阵列基板的驱动电路走线膜层与子像素的俯视结构示意图，图2为图1提供的一种阵列基板沿剖面线AA’进行剖面得到的剖面结构示意图。如图1和图2所示，阵列基板包括基板101，以及设置在基板101上的驱动电路走线膜层102，驱动电路走线膜层102可以图案化形成走线，用于传输驱动信号。在驱动电路走线膜层102远离基板101的一侧依次设置有平坦化层105和像素定义层103，像素定义层103设置有像素坑104，用于形成子像素。由于驱动电路走线膜层102具有图案化的结构例如走线，当驱动电路走线膜层102对应像素坑104位置处也具有图案化的结构，且图案化结构之间的间距较大，在制备平坦化层105时，较多的平坦化层105的材料会填充于图案化结构之间的间隙内，从而使得形成的平坦化层105表面凹凸不平，以至于在平坦化层105上制备子像素膜层例如阳极层、发光层时，子像素膜层的表面也存在凹凸不平现象，使得在阵列基板形成显示面板时，像素坑104内的子像素的出光方向的一致性比较差，从而导致显示面板的显示一致性比较差。

针对上述技术问题，本申请实施例提供了一种阵列基板。图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的剖面结构示意图。如图3所示，该阵列基板包括基板110、图案化层120、平坦化层130和像素限定层140。图案化层设置在基板110上，图案化层120包括图案化结构121；平坦化层130设置在图案化层120远离基板110的一侧，平坦化层130覆盖图案化层120；像素限定层140设置在平坦化层130远离基板110的一侧，像素限定层140设置有多个凹槽141，凹槽141内用于形成子像素；图案化结构121在至少一个凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％。

具体地，图案化层120具有图案化结构121，可以形成走线和元件等结构。平坦化层130覆盖图案化层120，同时可以填充图案化层120中图案化结构121的间隙，对图案化层120远离基板110的表面进行平坦化。像素限定层140上设置的凹槽141可以有多个，每个凹槽141作为像素坑，用于形成一个子像素。在本申请中，图案化结构121在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％，此时可以使凹槽141底部对应的图案化层120的80％以上均为图案化结构121，即凹槽底部141对应的图案化层120中图案化结构121之间的间隙较少，因此在该处形成的平坦化层130的表面平坦化效果较好，从而改善了凹槽141底部的平坦化效果，可以在比较平坦的凹槽141底部形成子像素，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

示例性地，在图3中，图案化结构121在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例为100％，即图案化结构121在对应凹槽141底部内的垂直投影覆盖对应凹槽141的底部，，再通过平坦化层130对图案化结构121进行平坦化，进一步地提高了凹槽141底部的平坦化效果，可以使得凹槽141底部的表面不存在凹凸起伏结构。

另外，图案化层120包括多个独立的图案化结构121时，在对应凹槽141底部内的垂直投影可以包括多个独立的垂直投影，此时可以设置不同的图案化结构121之间的间距，以保证至少部分图案化结构121在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％。

在上述技术方案的基础上，图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图。如图4所示，图案化结构121在每一凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％。

具体地，参考图3和图4，图4中示例性地示出了阵列基板包括凹槽141形成的像素坑，沿阵列基板的厚度方向X，每一像素坑内对应的图案化结构121在凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％，然后通过平坦化层130对图案化结构121进行平坦化时，平坦化层130在凹槽底部对应的位置处的平坦化效果较好，从而可以整体改善每一凹槽141底部表面的平坦化效果，实现在比较平坦的凹槽141底部形成子像素，使得子像素的膜层均一性较好，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

需要说明的是，图4中仅是示例性地示出了图案化结构121在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例为100％，可以进一步地提高凹槽141底部的平坦化效果。而且，不同的凹槽141的大小可以不同，可以用于形成具有不同发光颜色的子像素。

在上述各技术方案的基础上，图案化层为金属层，金属层与平坦化层相邻设置，图案化结构设置于金属层。

具体地，阵列基板包括多层金属层和绝缘层，用于形成走线和元件，在后续形成显示面板时用于驱动子像素发光。图案化层可以为金属层，通过对金属层图案化，可以形成阵列基板内的走线。示例性地，可以形成阵列基板内的电源信号线和数据信号线等。金属层与平坦化层相邻设置，当金属层图案化后形成图案化结构后，图案化结构在对应凹槽底部内的垂直投影面积占对应凹槽底部面积的比例大于或等于80％。然后平坦化层覆盖金属时，只有少量的平坦化层材料填充于图案化结构间的缝隙，从而使得凹槽底部对应的平坦化层的表面较为平坦，进而可以在比较平坦的凹槽底部形成子像素，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

继续参考图3和图4，图案化结构121包括走线1211，走线1211在凹槽141底部内垂直投影的线宽w1大于走线1211在凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽w2。

具体地，走线1211在凹槽141底部内垂直投影的线宽为w1，即为走线1211对应凹槽141的部分的线宽，走线1211位于凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽为w2，即为走线1211对应凹槽141以外部分的线宽。通过设置走线1211在凹槽141底部内垂直投影的线宽w1大于走线1211在凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽w2，即设置走线1211位于凹槽141在图案化层120上的垂直投影内的线宽w1比较大，可以增加走线1211在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例，使走线1211在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％，在减小走线1211阻抗的同时还能使得凹槽141底部对应的平坦化层的表面较为平坦，进而可以在比较平坦的凹槽141底部形成子像素，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

继续参考图4，凹槽141底部的边缘在走线1211上的垂直投影至少部分在走线1211的边缘内。

具体地，图4中示例性地示出了凹槽141底部的边缘在走线1211上的垂直投影均在走线1211的边缘内，可以避免图案化走线1211制备时，因工艺波动造成的对应凹槽141底部的部分走线1211的宽度减小，从而避免影响凹槽141底部表面的平坦化效果，提高了子像素膜层的均一性，保证了子像素的出光方向的一致性，进而保证了显示面板的显示一致性。

在上述各技术方案的基础上，走线1211包括外边缘S，对应凹槽141底部的部分走线1211的外边缘S位于凹槽141底部在走线1211上的垂直投影外，凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到外边缘的最小距离d1大于或等于1um。

具体地，如图4所示，走线1211的外边缘S包括走线1211的所有边缘，凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到外边缘S的最小距离d1一般为凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到与其靠近，且延伸方向相同的走线1211的边缘的最小垂直距离。通过设置凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到外边缘S的最小距离大于或等于1um，可以保证凹槽141底部的边缘在走线1211上的垂直投影均在走线1211的边缘内，可以更好地避免因工艺波动影响凹槽141底部表面的平坦化效果。

需要说明的是，图4中示例性地示出了凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到外边缘S的距离d1均相等。在其他实施例中，还可以设置凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到外边缘S的距离d1不相等，只需保证凹槽1211底部的边缘在走线1211上的垂直投影到外边缘S的最小距离d1大于或等于1um。

另外，凹槽1211的形状可以根据子像素的排布设置，此处不做限定。图4中示例性地示出了沿走线1211延伸的方向Y，凹槽141底部为矩形。在其他实施例中，凹槽1211底部还可以为其他形状。示例性地，图5为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图。如图5所示，沿走线1211延伸的方向Y，凹槽141底部还可以为菱形。

图6为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，图7为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图。如图6和图7所示，走线包括第一走线1211A和第二走线1211B；第一走线1211A和第二走线1211B的延伸方向相同。

具体地，第一走线1211A和第二走线1211B同层设置，可以用于传输不同的信号。例如，第一走线1211A可以为数据信号线，用于传输数据信号。第二走线1211B可以为电源信号线，用于传输电源信号。当走线1211包括第一走线1211A和第二走线1211B时，第一走线1211A和第二走线1211B的延伸方向相同，且第一走线1211A和第二走线1211B之间具有间隙，避免第一走线1211A和第二走线1211B之间短路。

继续参考图6和图7，第一走线1211A在凹槽141底部内垂直投影的线宽w3大于第一走线1211A在凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽w4。和/或，第二走线1211B在凹槽141底部内垂直投影的线宽w5大于第二走线1211B在凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽w6，可以增加第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例，以使第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积之和占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％，在减小走线1211阻抗的同时还能使得凹槽141底部对应的平坦化层的表面较为平坦，进而可以在比较平坦的凹槽141底部形成子像素，提高了子像素的出光方向的一致性，进而提高了显示面板的显示一致性。

另外，第一走线1211A包括位于凹槽141底部在走线1211上的垂直投影外的第一外边缘S1，第二走线1211B包括位于凹槽141底部在走线1211上的垂直投影外的第二外边缘S2，可以避免图案化形成第一走线1211A和第二走线1211B时，因工艺波动造成的对应凹槽141底部的部分第一走线1211A和部分第二走线1211B的宽度减小，从而避免了因工艺波动影响凹槽141底部表面的平坦化效果，保证了子像素的出光方向的一致性，进而保证了显示面板的显示一致性。

需要说明的是，第一走线1211A和第二走线1211B还可以包括与走线的线宽方向Z平行的外边缘，可以进一步地减小工艺波动影响凹槽141底部表面的平坦化效果。而且，第一走线1211A和第二走线1211B之间具有间隙，第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％且小于100％。

而且，图7中示例性地示出了第一走线1211A在凹槽141底部内垂直投影的线宽w3大于第一走线1211A在凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽w4。以及，第二走线1211B在凹槽141底部内垂直投影的线宽w5大于第二走线1211B在凹槽141底部外的平坦化层140上垂直投影的线宽w6，以增加第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积占对应凹槽141底部面积的比例。在其他实施例中，只有对应凹槽141的第一走线1211A或第二走线1211B部分的线宽比较大，并且保证第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积之和占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％。

继续参考图6和图7，沿走线的线宽方向Z，第一走线1211A在凹槽141底部内的垂直投影和第二走线1211B在凹槽141底部内的垂直投影之间的最大间距d2小于或等于3um。

具体地，第一走线1211A和第二走线1211B之间具有间隙，避免第一走线1211A和第二走线1211B之间短路。同时，第一走线1211A在凹槽141底部内的垂直投影和第二走线1211B在凹槽141底部内的垂直投影之间的最大间距d2小于或等于3um，以保证第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积之和占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％，改善凹槽141底部表面的平坦化效果。

需要说明的是，图7中示例性地示出了沿第一走线1211A和第二走线1211B延伸的方向Y，凹槽141底部为矩形。在其他实施例中，凹槽1211底部还可以为其他形状。示例性地，图8为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图。如图8所示，沿第一走线1211A和第二走线1211B延伸的方向Y，凹槽底部141还可以为菱形。

另外，图9为本发明实施例提供的另一种阵列基板的图案化层的俯视结构示意图。如图9所示，第一走线1211A和第二走线1211B位于不同的凹槽141底部的垂直投影不同，通过设置第一走线1211A和第二走线1211B在对应凹槽141底部内的垂直投影面积之和占对应凹槽141底部面积的比例大于或等于80％，可以保证不同凹槽141内形成的子像素的出光方向的一致性，进一步地提高了显示面板的显示一致性。

图10为本发明实施例提供的另一种阵列基板的剖面结构示意图，如图10所示，该阵列基板还包括阳极层150；阳极层150设置于平坦化层130远离图案化层130的一侧；阳极层150在凹槽141底部形成阳极151。

具体地，在凹槽141底部形成阳极151，可以提高阳极151的平坦化效果。在后续过程中，通过在阳极151上形成发光层和阴极层构成子像素，从而保证发光层和阴极层的平坦化效果，进而提高了子像素的出光方向的一致性，提高了显示面板的显示均一性。

本申请实施例还提供了一种显示面板。图11为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图。如图11所示，该显示面板20包括本申请任意实施例提供的阵列基板21。

注意，上述仅为本申请的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本申请不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本申请的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本申请进行了较为详细的说明，但是本申请不仅仅限于以上实施例，在不脱离本申请构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本申请的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (9)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

基板；

图案化层，设置在所述基板上，所述图案化层包括图案化结构；

平坦化层，设置在所述图案化层远离所述基板的一侧，所述平坦化层覆盖所述图案化层；

像素限定层，设置在所述平坦化层远离所述基板的一侧，所述像素限定层设置有多个凹槽，所述凹槽用于形成子像素；所述图案化结构在至少一个所述凹槽底部内的垂直投影面积占对应所述凹槽底部面积的比例大于或等于80%；

所述图案化结构包括走线，所述走线在所述凹槽底部内垂直投影的线宽大于所述走线在所述凹槽底部外的平坦化层上垂直投影的线宽。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述图案化结构在每一所述凹槽底部内的垂直投影面积占对应所述凹槽底部面积的比例大于或等于80%。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述图案化层为金属层，所述金属层与所述平坦化层相邻设置，所述图案化结构设置于所述金属层。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽底部的边缘在所述走线上的垂直投影至少部分在所述走线的边缘内。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述走线包括外边缘，对应所述凹槽底部的所述走线的所述外边缘位于所述凹槽底部在所述走线上的垂直投影外，所述凹槽底部的边缘在所述走线上的垂直投影到所述外边缘的最小距离大于或等于1um。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述走线包括第一走线和第二走线；所述第一走线和所述第二走线的延伸方向相同。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，沿所述走线的线宽方向，所述第一走线在所述凹槽底部内的垂直投影和所述第二走线在所述凹槽底部内的垂直投影的最大间距小于或等于3um。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括阳极层；所述阳极层设置于所述平坦化层远离所述图案化层的一侧；所述阳极层在所述凹槽底部形成阳极。

9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的阵列基板。

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