CN112877667A - 一种真空镀膜中样品翻转装置 - Google Patents

一种真空镀膜中样品翻转装置 Download PDF

Info

Publication number
CN112877667A
CN112877667A CN202110031442.2A CN202110031442A CN112877667A CN 112877667 A CN112877667 A CN 112877667A CN 202110031442 A CN202110031442 A CN 202110031442A CN 112877667 A CN112877667 A CN 112877667A
Authority
CN
China
Prior art keywords
fixed
gear
driving gear
sample
turntable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202110031442.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112877667B (zh
Inventor
郑军
赵栋才
王启民
张泽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anhui University of Technology AHUT
Original Assignee
Anhui University of Technology AHUT
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anhui University of Technology AHUT filed Critical Anhui University of Technology AHUT
Priority to CN202110031442.2A priority Critical patent/CN112877667B/zh
Publication of CN112877667A publication Critical patent/CN112877667A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112877667B publication Critical patent/CN112877667B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50—Substrate holders
    • C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开一种真空镀膜中样品翻转装置，包括旋转轴、固定架、转盘、翻转栅条、被动齿轮、主动齿轮和固定转动部，所述旋转轴通过所述固定架与所述转盘固定连接，所述旋转轴的轴线穿过所述转盘中心，所述旋转轴带动所述转盘绕自身轴线旋转，所述翻转栅条设置在所述转盘上，且所述翻转栅条可绕自身轴线转动，一所述翻转栅条的一端固定设置有所述主动齿轮，其余所述翻转栅条的一端固定设置有所述固定齿轮，所述固定转动部可与所述主动齿轮传动连接，所述主动齿轮和相邻的所述固定齿轮啮合连接，相邻所述固定齿轮之间啮合连接；本发明的有益效果是样品在翻转时不需要额外的真空室空间，也不会对有效镀膜面积造成浪费。

Description

一种真空镀膜中样品翻转装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜中样品翻转装置。
背景技术
在真空镀膜技术中，样品一旦放入真空室，就很难再干预样品的位置，所以当需要样品做某种运动时，会变得非常困难。
目前最常用的改变样品位置的方法是通过磁流体传递一个旋转的力，旋转的力驱动工件架旋转，从而也驱动装载在工件架上的样品旋转。通过对工件架做合适的设定，能完成类似行星的旋转。该类装置适合从侧面对工件进行镀膜的装置。
镀膜过程中，如果从下向上镀膜，或从上向下镀膜，只能完成样品面向蒸发源或者靶源的面的镀膜，另一面会被遮挡。针对这种现象，目前公开的样品翻转方法是将放置样品的整个转盘进行翻转；或者将放置样品的转盘分成梯形，当转盘转动时，会驱动梯形自转，从而完成样品的翻转。前者完成样品翻转时，对有效的镀膜空间并无浪费，但转盘的直径决定转盘翻转时所占据的空间，所以真空室的设计会很大；后者虽然对真空室空间无特殊要求，但将转盘分割成梯形时，在梯形上摆放样品会对有效镀膜空间造成浪费，降低镀膜效率。
鉴于上述缺陷，本发明创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本发明。
发明内容
为解决上述技术缺陷，本发明采用的技术方案在于，提供一种真空镀膜中样品翻转装置，包括旋转轴、固定架、转盘、翻转栅条、被动齿轮、主动齿轮和固定转动部，所述旋转轴通过所述固定架与所述转盘固定连接，所述旋转轴的轴线穿过所述转盘中心，所述旋转轴带动所述转盘绕自身轴线旋转，所述翻转栅条设置在所述转盘上，且所述翻转栅条可绕自身轴线转动，一所述翻转栅条的一端固定设置有所述主动齿轮，其余所述翻转栅条的一端固定设置有所述固定齿轮，所述固定转动部可与所述主动齿轮传动连接，所述主动齿轮和相邻的所述固定齿轮啮合连接，相邻所述固定齿轮之间啮合连接。
较佳的，所述固定转动部设置为固定齿轮，所述转盘下方设置有圆环形的所述固定齿轮，所述固定齿轮上端面设置有轮齿，所述固定齿轮和所述主动齿轮啮合连接。
较佳的，所述固定齿轮上端面的所述轮齿弧形排布。
较佳的，所述固定齿轮上端面的所述轮齿环形排布。
较佳的，所述固定转动部设置为拨片，所述拨片对应所述主动齿轮设置。
与现有技术比较本发明的有益效果在于：本发明的有益效果是样品在翻转时不需要额外的真空室空间，也不会对有效镀膜面积造成浪费。
附图说明
图1为所述真空镀膜中样品翻转装置的结构示意图；
图2为所述转盘的连接结构立体视图；
图3为所述转盘的连接结构正视图；
图4为所述转盘的连接结构仰视图；
图5为所述转盘的结构视图；
图6为所述固定齿轮的结构视图；
图7为所述拨片的结构视图；
图8为当转盘为伞状时的栅条结构示意图；
图9为以拨片代替固定齿轮时的传动示意图。
图中数字表示：
1-旋转轴；2-固定架；3-转盘；4-翻转栅条；5-被动齿轮；6-主动齿轮；7-固定齿轮；8-拨片。
具体实施方式
以下结合附图，对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。
本发明所述真空镀膜中样品翻转装置，包括旋转轴1、固定架2、转盘3、翻转栅条4、被动齿轮5、主动齿轮6和固定齿轮7。
所述旋转轴1通过所述固定架2与所述转盘3固定连接，所述旋转轴1的轴线穿过所述转盘3中心，所述旋转轴1带动所述转盘3绕自身轴线旋转，所述翻转栅条4设置在所述转盘3上，且所述翻转栅条4可绕自身轴线转动，一所述翻转栅条4的一端固定设置有所述主动齿轮6，其余所述翻转栅条4的一端固定设置有所述固定齿轮7，所述转盘3下方设置有圆环形的所述固定齿轮7，所述固定齿轮7上端面设置有轮齿，所述固定齿轮7和所述主动齿轮6啮合连接，在所述转盘3绕自身轴线旋转时，所述主动齿轮6在所述固定齿轮7上作圆周滚动，从而实现设置所述主动齿轮6的所述翻转栅条4的转动。
所述主动齿轮6和相邻的所述固定齿轮7啮合连接，相邻所述固定齿轮7之间啮合连接，从而实现所述主动齿轮6带动所有所述固定齿轮7转动，进而实现所有所述翻转栅条4的转动。
待镀膜的样品被固定在所述翻转栅条4上，样品会随着所述翻转栅条4的转动而转动，从而实现样品两面均匀镀膜。根据待镀样品设计栅条的具体结构，样品的宽度不能超过和该栅条链接的齿轮的直径，避免转动时的干涉。
所述固定齿轮7可替换设置为拨片8，仅在需要翻转时通过所述拨片8的转动完成所述主动齿轮6的所述翻转栅条4的翻转。
所述转盘3可以做出伞状。但做成伞状时，所述翻转栅条4设置为圆弧状，为了动力传递，所述翻转栅条4上固定样品的装置需要做成分段的装置，段与段之间完成动力传递。
实施例一：正方形玻璃连续翻转时完成金膜镀制
待镀样品为正方形，要求双面镀膜，两面均有掩膜区域。掩膜区域适合工装装夹。
待镀样品为正方形，能在每个栅条上并排布置，然后布满整个栅条。针对该正方形样品，和栅条链接的齿轮的直径需略大于正方形样品的边长，避免栅条连续转动时互相干涉，且主动齿轮6和固定齿轮7之间始终处于齿合状态。这里要求在正方形样品的两面镀膜，故在栅条的设计上需要设计成镂空结构，利用不需要镀膜的掩膜区域固定样品。设计转盘时需考虑膜层厚度和镀膜速率的关系，设计合适大小的主动齿轮6。
将清洗好的样品固定在所述翻转栅条4上。
真空室抽真空，直至达到膜层镀制的真空条件。
电机通过磁流体或者其他方式通过真空室壁驱动所述旋转轴1转动。
所述旋转轴1和所述转盘3通过所述固定架2连接，所述旋转轴1转动时，所述转盘3也随着转动。
所述转盘3转动时，所述转盘3会驱动所述主动齿轮6沿着所述固定齿轮7向前行进，所述主动齿轮6会随之转动，并且带动和所述主动齿轮6固定的所述翻转栅条4转动。
所述主动齿轮6转动时，会随着带动所有被动齿轮5转动，所述被动齿轮5转动时，会带动所有和所述被动齿轮5连接的所述翻转栅条4转动。
在所述转盘3转动，且所述栅条4自转的同时完成镀膜前离子束清洗处理。
在所述转盘3转动，且所述栅条4自转的同时完成金膜层镀制。
完成镀膜30min后，开启真空室，取出样品，包装样品，完成金膜层镀制。
实施例二：正方形玻璃片间歇翻转时完成金膜镀制
待镀样品为正方形，要求双面镀膜，两面均有掩膜区域。掩膜区域适合工装装夹。
待镀样品为正方形，能在每个栅条上并排布置，然后布满整个栅条。针对该正方形样品，和栅条链接的齿轮的直径需略大于正方形样品的边长，避免栅条连续转动时互相干涉，且主动齿轮6和固定齿轮7之间始终处于齿合状态。这里要求在正方形样品的两面镀膜，故在栅条的设计上需要设计成镂空结构，利用不需要镀膜的掩膜区域固定样品。所述主动齿轮6的设计需要和所述拨片8匹配，且齿数为偶数。
将清洗好的样品固定在所述翻转栅条4上。所述翻转栅条4互相平行，且最有利于样品的一个面镀膜。
真空室抽真空，直至达到膜层镀制的真空条件。
电机通过磁流体或者其他方式通过真空室壁驱动所述旋转轴1转动。
所述旋转轴1和所述转盘3通过所述固定架2连接，所述旋转轴1转动时，所述转盘3也随着转动。
所述转盘3转动时，所述转盘3会驱动所述主动齿轮6沿圆周方向运动，当运动至所述拨片8位置时，所述拨片8处在远离所述主动齿轮6的位置，即所述拨片8和所述主动轮6之间没有任何相互作用。
所述拨片8对应所述主动齿轮6设置，当所述主动齿轮6移动至所述拨片8位置处，所述拨片8与所述主动齿轮6接触，并在所述主动齿轮6作圆周滚动时，拨动所述主动齿轮6使其转动。
在所述转盘3转动，所述翻转栅条4无自转时完成镀膜前离子束清洗处理。
在所述转盘3转动，所述翻转栅条4无自转时完成样品一个面的金膜层镀制。
控制所述转盘3的转动，直至所述主动齿轮6旋转至和所述拨片8互相耦合的位置。
电机通过磁流体或者其他方式通过真空室壁驱动所述拨片8转动(即通过所述旋转轴9转动，图6)，并控制所述拨片8转动的圈数。所述主动齿轮6旋转180°时所述拨片8停止转动，并使所述拨片8停留于不和所述主动齿轮6发生互相作用的位置。
所述主动齿轮6转动时会带动和其固定的栅条转动，且转动的角度是180°。
所述主动齿轮6转动时，会随着带动所有被动齿轮5转动，所述被动齿轮5转动时，会带动所有和所述被动齿轮5连接的所述翻转栅条4转动。所有和所述被动齿轮5固定的所述翻转栅条4完成了180°翻转。
重复步骤8和步骤9，完成膜层镀制。
完成镀膜30min后，开启真空室，取出样品，包装样品，完成金膜层镀制。
实施例三：伞状转盘情况下正方形玻双面金膜镀制
待镀样品为正方形，要求双面镀膜，两面均有掩膜区域。掩膜区域适合工装装夹。
待镀样品为正方形，能在每个栅条上并排布置，然后布满整个栅条。针对该正方形样品，和栅条链接的齿轮的直径需略大于正方形样品的边长，避免栅条连续转动时互相干涉，且主动齿轮6和固定齿轮7之间始终处于齿合状态。这里要求正方形样品两面镀膜，故在栅条的设计上需要设计成镂空结构，利用不需要镀膜的掩膜区域固定样品。且栅条的整体走向需和图5吻合，所以在设计栅条时按照样品得的大小设计合适形状，已达到样品的最大装载量。设计转盘时需考虑膜层厚度和镀膜速率的关系，设计合适大小的主动齿轮6。
栅条整体呈折线状，在折角10处，通过齿轮连接，保证旋转动力的传递。
将清洗好的样品固定在所述翻转栅条4上。
真空室抽真空，直至达到膜层镀制的真空条件。
电机通过磁流体或者其他方式通过真空室壁驱动所述旋转轴1转动。
所述旋转轴1和所述转盘3通过所述固定架2连接，所述旋转轴1转动时，所述转盘3也随着转动。
所述转盘3转动时，所述转盘3会驱动所述主动齿轮6沿着所述固定齿轮7向前行进，所述主动齿轮6会随之转动，并且带动和所述主动齿轮6固定的所述翻转栅条4转动。
所述主动齿轮6转动时，会随着带动所有被动齿轮5转动，所述被动齿轮5转动时，会带动所有和所述被动齿轮5连接的所述翻转栅条4转动。
在所述转盘3转动，且所述翻转栅条4自转的同时完成镀膜前离子束清洗处理。
在所述转盘3转动，且所述翻转栅条4自转的同时完成金膜层镀制。
完成镀膜30min后，开启真空室，取出样品，包装样品，完成金膜层镀制。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，对本发明而言仅仅是说明性的，而非限制性的。本专业技术人员理解，在本发明权利要求所限定的精神和范围内可对其进行许多改变，修改，甚至等效，但都将落入本发明的保护范围内。

Claims (5)

1.一种真空镀膜中样品翻转装置，其特征在于，包括旋转轴、固定架、转盘、翻转栅条、被动齿轮、主动齿轮和固定转动部，所述旋转轴通过所述固定架与所述转盘固定连接，所述旋转轴的轴线穿过所述转盘中心，所述旋转轴带动所述转盘绕自身轴线旋转，所述翻转栅条设置在所述转盘上，且所述翻转栅条可绕自身轴线转动，一所述翻转栅条的一端固定设置有所述主动齿轮，其余所述翻转栅条的一端固定设置有所述固定齿轮，所述固定转动部可与所述主动齿轮传动连接，所述主动齿轮和相邻的所述固定齿轮啮合连接，相邻所述固定齿轮之间啮合连接。
2.如权利要求1所述的真空镀膜中样品翻转装置，其特征在于，所述固定转动部设置为固定齿轮，所述转盘下方设置有圆环形的所述固定齿轮，所述固定齿轮上端面设置有轮齿，所述固定齿轮和所述主动齿轮啮合连接。
3.如权利要求2所述的真空镀膜中样品翻转装置，其特征在于，所述固定齿轮上端面的所述轮齿弧形排布。
4.如权利要求2所述的真空镀膜中样品翻转装置，其特征在于，所述固定齿轮上端面的所述轮齿环形排布。
5.如权利要求1所述的真空镀膜中样品翻转装置，其特征在于，所述固定转动部设置为拨片，所述拨片对应所述主动齿轮设置。
CN202110031442.2A 2021-01-11 2021-01-11 一种真空镀膜中样品翻转装置 Active CN112877667B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110031442.2A CN112877667B (zh) 2021-01-11 2021-01-11 一种真空镀膜中样品翻转装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110031442.2A CN112877667B (zh) 2021-01-11 2021-01-11 一种真空镀膜中样品翻转装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112877667A true CN112877667A (zh) 2021-06-01
CN112877667B CN112877667B (zh) 2022-11-25

Family

ID=76046093

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110031442.2A Active CN112877667B (zh) 2021-01-11 2021-01-11 一种真空镀膜中样品翻转装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112877667B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116716582A (zh) * 2023-08-10 2023-09-08 南京银茂微电子制造有限公司 一种电子元件用的真空蒸镀膜设备
TWI848471B (zh) * 2021-12-17 2024-07-11 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 供給裝置、成膜裝置及保持構件

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0382762A (ja) * 1989-08-25 1991-04-08 Shin Meiwa Ind Co Ltd 基板の反転装置
CN1690244A (zh) * 2004-04-30 2005-11-02 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 真空镀膜装置
CN101363117A (zh) * 2007-08-08 2009-02-11 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜支架及镀膜机
JP2011105983A (ja) * 2009-11-16 2011-06-02 Fujifilm Corp ワーク連続反転装置
CN111850475A (zh) * 2019-04-28 2020-10-30 东泰高科装备科技有限公司 翻转装置和真空镀膜设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0382762A (ja) * 1989-08-25 1991-04-08 Shin Meiwa Ind Co Ltd 基板の反転装置
CN1690244A (zh) * 2004-04-30 2005-11-02 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 真空镀膜装置
CN101363117A (zh) * 2007-08-08 2009-02-11 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜支架及镀膜机
JP2011105983A (ja) * 2009-11-16 2011-06-02 Fujifilm Corp ワーク連続反転装置
CN111850475A (zh) * 2019-04-28 2020-10-30 东泰高科装备科技有限公司 翻转装置和真空镀膜设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI848471B (zh) * 2021-12-17 2024-07-11 日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 供給裝置、成膜裝置及保持構件
CN116716582A (zh) * 2023-08-10 2023-09-08 南京银茂微电子制造有限公司 一种电子元件用的真空蒸镀膜设备
CN116716582B (zh) * 2023-08-10 2023-11-14 南京银茂微电子制造有限公司 一种电子元件用的真空蒸镀膜设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN112877667B (zh) 2022-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112877667B (zh) 一种真空镀膜中样品翻转装置
CN206502858U (zh) 一种圆形平面靶磁控溅射基片运动装置
CN201587977U (zh) 一种镀膜机用镀膜夹具
CN110747444B (zh) 微纳米材料镀膜设备
CN108193187B (zh) 一种可实现自动翻转的基片架
CN101240411B (zh) 溅镀式镀膜装置及方法
KR100703087B1 (ko) 다중 기판의 화학 기상 증착 장치
CN215103524U (zh) 一种应用在真空工具镀膜设备上的三维转盘结构
CN112191564A (zh) 一种清洁效果好的刹车片生产用钢背清洗装置
CN117385333A (zh) 一种镀膜机自动翻转机构
CN213113477U (zh) 一种真空镀膜机的靶挡板机构
CN113463057A (zh) 一种实现圆柱体外表面光学镀膜的磁控溅射装置及方法
CN107344382B (zh) 一种用于刮除竹青的装置
JP2000282234A (ja) スパッタリング装置
CN112192423A (zh) 一种多类型多刀具同时抛光装置
TWI827398B (zh) 單向旋轉裝置、上料裝置以及真空鍍膜設備
JP2009108384A (ja) 成膜装置
CN115386852A (zh) 一种光学镜片镀膜系统
CN206385255U (zh) 一种应用于直流伸展电弧化学气相沉积领域的工件架
CN211339671U (zh) 一种靶材高利用率的脉冲激光沉积装置用靶台
JPH0428860A (ja) イオンプレーティング装置用回転テーブル
CN114144543B (zh) 在pvd工艺中用于圆柱、长形基材的夹具
CN212095071U (zh) 一种新型焊接旋转变位机
CN201538811U (zh) 一种镀膜传动机构
CN112251730A (zh) 一种真空镀膜用非接触式的公自转转架系统

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant