CN112864180B - 阵列基板、柔性显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请实施例公开了一种阵列基板、柔性显示面板及显示装置。所述阵列基板包括一柔性基底；阵列驱动层，设置于所述柔性基底上，并包括金属走线，所述金属走线由所述显示区延伸至所述弯折区、并继续延伸至所述绑定区，位于所述弯折区内的所述金属走线上覆盖有至少一有机层；其中至少一所述有机层上远离所述金属走线一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽。本申请实施例可以避免弯折区的金属走线发生断裂。
Description
技术领域
本申请涉及显示面板技术领域，具体涉及一种阵列基板、柔性显示面板及显示装置。
背景技术
目前，柔性AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体，也称主动矩阵有机发光二极体)是平板显示的重要发展趋势。柔性AMOLED可以实现卷曲或弯折，而制约柔性AMOLED抗弯折能力的要素，除了面板基材，还有AMOLED背板中的金属走线，因此，金属走线的抗弯折能力也非常关键，然而，目前金属薄膜材料在弯折过程中，由于柔韧度、延展性欠佳，金属线容易发生断裂，影响面板正常使用。
发明内容
本申请实施例提供一种阵列基板、柔性显示面板及显示装置，可以提升柔性显示面板的抗弯折能力，尤其是降低金属走线因弯折时所受应力过大而发生断裂的风险。
本申请实施例第一方面提供一种阵列基板，所述阵列基板包括显示区、位于所述显示区至少一侧的绑定区，及位于所述显示区和所述绑定区之间的弯折区；所述阵列基板还包括：
一柔性基底；
阵列驱动层，设置于所述柔性基底上，并包括金属走线，所述金属走线由所述显示区延伸至所述弯折区、并继续延伸至所述绑定区，位于所述弯折区内的所述金属走线上覆盖有至少一有机层；
其中，至少一所述有机层上远离所述金属走线一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽。
可选的，在本申请的一些实施例中，在同一所述有机层上，所述多个深度不同的凹槽由所述弯折区的弯折轴向其两侧的方向按照深度递减的方式排列。
可选的，在本申请的一些实施例中，在同一所述有机层上，所述多个凹槽以所述弯折区的弯折轴为对称轴，在所述弯折轴的两侧呈对称排布。
可选的，在本申请的一些实施例中，在同一所述有机层上，所述多个凹槽阵列分布在所述有机层上。
可选的，在本申请的一些实施例中，至少两层所述有机层上远离所述金属走线一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽；相邻所述有机层上的所述凹槽错开设置。
可选的，在本申请的一些实施例中，沿着平行于所述柔性基底方向，所述错开设置的距离不小于一个凹槽的尺寸。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述凹槽沿着垂直于所述柔性基底方向的截面呈梯形或长方形。
可选的，在本申请的一些实施例中，所述凹槽沿着平行于所述柔性基底方向的截面呈圆形、椭圆形或长方形。
本申请实施例第二方面提供一种阵列基板，包括本申请实施例第一方面所述的阵列基板。
本申请实施例第三方面提供一种显示装置，包括本申请实施例第一方面所述的阵列基板。
本申请实施例在覆盖金属走线的有机层的表面形成多个深度不同的凹槽，这样可以根据未开槽时有机层在弯折时不同位置所受应力大小来配置不同深度的凹槽，进而在弯折时通过不同深度的凹槽对有机层上不同位置所受应力进行释放，这样则可以减少金属走线受到的应力，降低了在弯折时弯折区的金属走线因承受过大应力而发生断裂的风险。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的所述阵列基板的俯视结构示意图；
图2是沿图1中X-X方向的所述显示区和弯折区的截面图；
图3是图2中S区域的结构示意图；
图4是图3中所述光阻间隙层的俯视结构示意图；
图5是图3中所述像素定义层的俯视结构示意图；
图6是图3中所述像素定义层的俯视结构示意图；
图7是本申请实施例提供的所述封装层的位置示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。此外，应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本申请，并不用于限制本申请。在本申请中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上”和“下”通常是指装置实际使用或工作状态下的上和下，具体为附图中的图面方向；而“内”和“外”则是针对装置的轮廓而言的。
本申请实施例提供一种阵列基板、柔性显示面板及显示装置。以下分别进行详细说明。需说明的是，以下实施例的描述顺序不作为对实施例优选顺序的限定。
请参阅图1至图6，本实施例提供了一种阵列基板，所述阵列基板包括显示区A、位于所述显示区A至少一侧的绑定区C，及位于所述显示区A和所述绑定区C之间的弯折区B。
示例地，如图1所示，所述阵列基板包括一显示区A，一绑定区C及一弯折区B；其中所述绑定区C位于所述显示区A的一侧；所述绑定区C与所述显示区A之间通过所述弯折区B相连。
如图2所示，所述阵列基板包括一柔性基底100和阵列驱动层200。
所述柔性基底100的材料可以是聚酰亚胺、聚乙烯醇或聚酯等。所述柔性基底100可以为单层结构，也可以为多层结构，例如，如图2中示出的双层柔性聚酰亚胺薄膜基板，依序包括第一聚酰亚胺膜层110，阻隔层130，第二聚酰亚胺膜层120和缓冲层140。
所述阵列驱动层200设置于所述柔性基底100上。在一实施例中，如图2所示，所述阵列驱动层200包括薄膜晶体管210，所述薄膜晶体管210至少分布在所述显示区A。具体地，所示薄膜晶体管210包括依序叠置的有源层211、第一栅极绝缘层212、第一栅极213、第二栅极绝缘层214、第二栅极215和层间介质层216；所述薄膜晶体管210还包括源极217和漏极218；所述源极217和所述漏极218形成在所述层间介质层216之上，并电连接于所述有源层211。
所述阵列驱动层200还包括平坦层220、像素定义层230和光阻间隙层(Photospacer，PS)240。所述平坦层220至少覆盖在所述薄膜晶体管210之上；像素定义层230形成在所述平坦层220之上；所述光阻间隙层240形成在所述像素定义层230之上。
所述阵列驱动层200还包括金属走线219。在一实施例中，所述金属走线219与所述源极217和所述漏极218同层，所述金属走线219也形成在所述层间介质层216之上。在另一实施例中，为了增强阵列基板的弯折性，可以在所述金属走线219与所述柔性基底100之间蚀刻较深的孔洞600，所述孔洞600呈阶梯形，所述孔洞600内部填充有机光阻材料，以减小弯折时所述金属走线219与所述柔性基底100之间产生的应力。位于所述弯折区B的所述金属走线219则形成于所述有机光阻材料之上。
所述金属走线219由所述显示区A延伸至所述弯折区B、并继续延伸至所述绑定区C，位于所述弯折区B内的所述金属走线219上覆盖有至少一有机层300。所述有机层300的数量可以为一层、两层、三层或更多。所述有机层300的材料一般为有机材料，例如树脂高分子材料，主要起到平坦、绝缘和/或柔性等作用。
所述有机层300可以是同时覆盖在所述薄膜晶体管210上的膜层，如图2和3所示，例如为平坦层220、像素定义层230和光阻间隙层240，也可以是在所述弯折区B单独形成的膜层。其中优选为同时覆盖在所述薄膜晶体管210上的膜层，这样制程更简单。
如图2和图3所示，图2中未示出凹槽500，至少一所述有机层300上远离所述金属走线219一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽500。所述凹槽500的结构参数(如凹槽500的截面形状、凹槽500各个侧壁的曲率、凹槽500的孔径或长度宽度、以及深度等)中除了深度不同以外其他参数均相同。在所有所述有机层300中，可以在每一所述有机层300上均形成所述凹槽500，也可以在其中至少一层所述有机层300上形成所述凹槽500，当具有所述凹槽500的所述有机层300的数量为两层或两层以上时，具有所述凹槽500的所述有机层300可以是相邻的，也可以是间隔设置的。如图3所示，每层所述机层300上所述凹槽500的数量可以相同，也可以不同。
通过在覆盖所述金属走线219的所述有机层300的表面形成多个深度不同的凹槽500，可以根据未开槽时所述有机层300在弯折时其不同位置所受应力大小来配置不同深度的凹槽500，例如在所述有机层300受到应力大的位置设置深度更大的凹槽500，在所述有机层300受到应力小的位置设置深度小的凹槽500，进而在弯折时通过不同深度的凹槽500对所述有机层300上不同位置所受应力进行释放，进而减少所述金属走线219受到的应力，降低了在弯折时所述弯折区B的所述金属走线219因承受过大应力而发生断裂的风险。此外，通过在所述有机层300上形成凹槽500还可以有效优化所述金属走线219的热应力释放，如金属受热时，通过内部局部塑性变形或局部的弛豫过程使得残余应力松弛而达到消除的目的。
在一实施例中，在同一具有所述凹槽500的所述有机层300上，所述多个深度不同的所述凹槽500由所述弯折区B的弯折轴BL向所述弯折轴BL两侧的方向按照深度递减的方式排列。例如，如图3所示，在所述金属走线219上方覆盖了三层所述有机层300，依次为所述平坦层220、所述像素定义层230和所述光阻间隙层240；在所述平坦层220中，按照由所述弯折轴BL至所述弯折轴BL两侧的方向，所述弯折轴BL两侧的所述凹槽500深度均依次为所述平坦层220的厚度的60％和30％；所述光阻间隙层240的所述凹槽500的深度及位置与所述平坦层220完全相同；所述像素定义层230中，所述弯折轴BL处的所述凹槽500的深度为所述像素定义层230的厚度的80％，按照由所述弯折轴BL至所述弯折轴BL两侧的方向，所述凹槽500深度均依次为所述像素定义层230的厚度的60％和30％。每层所述有机层300中的所述凹槽500中除了深度不同以外，其他结构参数完全相同，如直径或长度宽度、截面形状等。
在弯折时，所述弯折轴BL处为应力集中处，所受应力最大，并由弯折轴BL向其两侧方向逐渐减小，故将多个深度不同的凹槽500由弯折轴BL向其两侧的方向分别按照深度递减的方式排列，这样可以将应力逐渐释放，进而避免所述金属走线219因弯折时所受应力过大而断裂。如图3所示，向外弯折(图3中P方向)时，所述凹槽500可以将所述弯折区B受到的应力释放缓解，从而避免所述金属走线219因弯折时所受应力过大而断裂；如图3所示，向内弯折(图3中T方向)时，所述凹槽500可以将所述弯折区B的应力释放缓解，提升所述金属走线219的抗弯折能力。
如图3所示，在一实施例中，在同一具有所述凹槽500的所述有机层300上，所述多个凹槽500以所述弯折区B的弯折轴BL为对称轴，在所述弯折轴BL的两侧呈对称排布。
如图4至图6所示，在一实施例中，在同一具有所述凹槽500的所述有机层300上，所述多个凹槽500阵列分布在所述有机层300上。
如图3所示，在一实施例中，至少两层所述有机层300上远离所述金属走线219一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽500；其中，相邻所述有机层300上的所述凹槽500错开设置。这样的结构设置可以防止由于所述凹槽500在垂直所述柔性基底100方向上集中导致所述有机层300的强度大幅降低，使得所述有机层300容易在外力下破裂。在一实施例中，沿着平行于所述柔性基底100方向，所述错开设置的距离不小于一个凹槽500的尺寸，以保证具有较好的防止所述有机层300强度大幅降低导致易破裂的效果。所述凹槽500的尺寸是指所述凹槽500沿着平行于所述柔性基底100方向的最大尺寸，如所述凹槽500的直径、宽度或长度等。
如图3所示，在一实施例中，所述凹槽500沿着垂直于所述柔性基底100方向的截面(即纵截面)呈梯形或长方形。
如图4至图6所示，所述凹槽500沿着平行于所述柔性基底100方向的截面(即横截面)呈圆形、椭圆形或长方形。其中优选为圆形或椭圆形，其可以对应力具有较好的过渡作用，进而避免应力集中。
本实施例还提供了一种柔性显示面板，包括前述一种或多种实施例相结合所界定的所述阵列基板。所述柔性显示面板还包括封装层700，所述封装层700覆盖在所述阵列驱动层200之上。示例性的，如图7所示，所述封装层700覆盖在所述有机层300之上。所述柔性显示面板还包括发光器件层，所述发光器件层设置于所述阵列驱动层200上。示例性的，如图2所示，所示发光器件层通过阳极400与所述漏极218电连接。
本实施例还提供了一种显示装置，包括前述一种或多种实施例相结合所界定的所述阵列基板或所述柔性显示面板。
以上对本申请实施例所提供的一种阵列基板、柔性显示面板及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想；同时，对于本领域的技术人员，依据本申请的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。
Claims (9)
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括显示区、位于所述显示区至少一侧的绑定区，及位于所述显示区和所述绑定区之间的弯折区；所述阵列基板还包括：
一柔性基底；
阵列驱动层，设置于所述柔性基底上，并包括金属走线，所述金属走线由所述显示区延伸至所述弯折区、并继续延伸至所述绑定区，位于所述弯折区内的所述金属走线上覆盖有至少一有机层；
其中，至少一所述有机层上远离所述金属走线一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽，所述凹槽的侧壁为曲面，所述有机层包括依次层叠设置于所述金属走线上方的平坦层、像素定义层、光阻间隙层，多个深度不同的所述凹槽由所述弯折区的弯折轴向所述弯折轴两侧的方向按照深度递减的方式排列，所述弯折轴处的所述凹槽设置于所述像素定义层，所述弯折轴处的所述凹槽的深度为所述像素定义层的厚度的80％，在所述平坦层中，按照由所述弯折轴至所述弯折轴两侧的方向，所述弯折轴两侧的所述凹槽深度均依次为所述平坦层的厚度的60％和30％，所述光阻间隙层的所述凹槽的深度及位置与所述平坦层的所述凹槽的深度及位置完全相同。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在同一所述有机层上，所述多个凹槽以所述弯折区的弯折轴为对称轴，在所述弯折轴的两侧呈对称排布。
3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在同一所述有机层上，所述多个凹槽阵列分布在所述有机层上。
4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，至少两层所述有机层上远离所述金属走线一侧的表面上形成有多个深度不同的凹槽；相邻所述有机层上的所述凹槽错开设置。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，沿着平行于所述柔性基底方向，所述错开设置的距离不小于一个凹槽的尺寸。
6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽沿着垂直于所述柔性基底方向的截面呈梯形或长方形。
7.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽沿着平行于所述柔性基底方向的截面呈圆形、椭圆形或长方形。
8.一种柔性显示面板，其特征在于，包括如权利要求1所述的阵列基板。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1所述的阵列基板。
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