CN112795880A - 抗肿瘤纳米机器人的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明属于纳米材料领域,尤其涉及一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法,包括以下步骤:a)将铁靶置于溅射室内,向溅射室内通入氩和氧,启动溅射室电源进行磁控溅射;期间,溅射室的温度为800~1200℃;b)磁控溅射结束后,维持溅射室的温度为800~1200℃,向溅射室内通入乙炔;c)通乙炔结束后,向溅射室内通入保护气体,并快速将溅射室的温度降至100~300℃,得到抗肿瘤纳米机器人。实验结果表明:本方法制备的抗肿瘤纳米机器人的饱和磁化强度为19~20emu/g,剩余磁化强度为4~5emu/g,矫顽力为550~600G,粒径为70~100nm,粒径均匀性<6.5%,纯度>99.9%,石墨化程度>90%。

Description

抗肿瘤纳米机器人的制备方法
本申请要求于2019年11月14日提交中国专利局、申请号为201911113679.4、发明名称为“抗肿瘤纳米机器人的制备方法”的中国专利申请的优先权,其全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本发明属于纳米材料领域,尤其涉及一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法。
背景技术
肿瘤组织实际上是由肿瘤细胞和肿瘤血管形成的一个完整生态系统,不仅包含肿瘤细胞,内部还有丰富的肿瘤血管。现代生物医学研究已经证明,肿瘤血管与正常血管在结构上存在巨大差异。一般来说,正常血管需要一年时间才能够长成,是由内膜、中膜和外膜构成的三层密实结构,而肿瘤血管只用4天即可形成,结构上为由内皮细胞构成的单层薄膜。而由于构成肿瘤血管的内皮细胞间隙较大、结构不完整,导致肿瘤血管通常包含有大量纳米尺度的小孔,使小分子和一些纳米颗粒能够透孔而出。
当纳米颗粒的尺度在合适的尺度下(例如50~200nm),要经过几分钟甚至几十分钟才能通过肿瘤血管的间隙,在这一过程中纳米颗粒被肿瘤血管的内皮细胞所紧密包围,因此可以通过合适的设计由此特异性地破坏肿瘤血管。化学所研究人员首先利用磁性金属富勒烯,设计了尺度在150纳米左右的水溶性纳米颗粒,这种纳米颗粒能够通过吸收射频提高内能,在几分钟至几十分钟后由于内能升高发生相变,并伴随着体积剧烈膨胀50%左右。然后将金属富勒烯纳米颗粒静脉注入小鼠体内,数分钟后这些纳米颗粒抵达肿瘤位置并长时间卡在血管壁上。这时再对小鼠施加射频“引爆”这些纳米颗粒。研究结果发现,这些镶嵌在肿瘤血管壁上的金属富勒烯纳米颗粒“爆炸”有效地破坏了肿瘤血管,而后迅速阻断对肿瘤的营养供应,几个小时内就可完全“饿死”肿瘤细胞。
目前,已被报道的制备磁性金属富勒烯的方法大多还都停留在实验阶段,存在着粒径偏大、粒径均匀性差、杂质含量高、石墨化程度低等问题,严重影响了其在肿瘤治疗领域的应用。
发明内容
有鉴于此,本发明的目的在于提供一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法,采用本发明方法制备的抗肿瘤纳米机器人粒径小,粒径均匀性好,纯度高,石墨化程度高,具有较好的顺磁性。
本发明提供了一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法,包括以下步骤:
a)将铁靶置于溅射室内,向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室电源进行磁控溅射;磁控溅射的过程中,所述溅射室的腔体温度为800~1200℃;
b)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为800~1200℃,向溅射室内通入乙炔气体;
c)通乙炔气体结束后,向溅射室内通入保护气体,并在5~15min内将溅射室的腔体温度降至100~300℃,得到抗肿瘤纳米机器人。
优选的,步骤a)中,所述电源为直流电源;所述电源的电压为330~420V;所述电源的功率为2400~3600W。
优选的,步骤a)中,磁控溅射的过程中,所述溅射室的真空度为10~30Pa;所述氩气的进气流量为40~50sccm;所述氧气的进气流量为10~15sccm。
优选的,步骤a)中,所述磁控溅射的时间为5~8min。
优选的,步骤b)中,所述溅射室的真空度为10~30Pa;所述乙炔气体的进气流量为100~120sccm。
优选的,步骤b)中,所述乙炔气体的通气时间为10~15min。
优选的,步骤c)中,所述溅射室的真空度为10~30Pa;所述保护气体为氩气和/或氮气;所述保护气体的进气流量为700~1000sccm。
优选的,步骤c)中,所述溅射室进行降温的耗时为8~10min;所述腔体温度降至150~250℃。
优选的,步骤a)和步骤b)中,所述腔体温度为900~1000℃。
优选的,步骤a)中,所述铁靶为氧化铁。
与现有技术相比,本发明提供了一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法。本发明提供的制备方法包括以下步骤:a)将铁靶置于溅射室内,向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室电源进行磁控溅射;磁控溅射的过程中,所述溅射室的腔体温度为800~1200℃;b)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为800~1200℃,向溅射室内通入乙炔气体;c)通乙炔气体结束后,向溅射室内通入保护气体,并在5~15min内将溅射室的腔体温度降至100~300℃,得到抗肿瘤纳米机器人。在本发明中,启动溅射室电源后,电离产生的氩正离子轰击铁靶,使Fe粒子从靶材上溅射出来,溅射出的Fe粒子处在氧气气氛中,由于氧原子是电负性较大的原子,可以使铁的2P1和2P3特征峰向结合能较高的方向移动,使Fe粒子以铁氧化物的形式存在;之后通入到溅射室内的乙炔气体环绕包覆Fe粒子,并在高温下发生反应,生成碳管雏形;最后通过急速降温,使碳管雏形分裂形成包覆Fe粒子的碳球,并生成富勒烯形貌,即为本发明制备的抗肿瘤纳米机器人(顺磁性金属富勒烯粒子)。实验结果表明:采用本发明方法制备的抗肿瘤纳米机器人的饱和磁化强度为19~20emu/g,剩余磁化强度为4~5emu/g,矫顽力为550~600G,粒径为70~100nm,粒径均匀性<6.5%,纯度>99.9%,石墨化程度>90%。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1是本发明提供的实施例1制品的磁滞回线;
图2是本发明提供的对比例1制品的磁滞回线。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明提供了一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法,包括以下步骤:
a)将铁靶置于溅射室内,向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室电源进行磁控溅射;磁控溅射的过程中,所述溅射室的腔体温度为800~1200℃;
b)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为800~1200℃,向溅射室内通入乙炔气体;
c)通乙炔气体结束后,向溅射室内通入保护气体,并在5~15min内将溅射室的腔体温度降至100~300℃,得到抗肿瘤纳米机器人。
在本发明提供的制备方法中,首先将铁靶置于溅射室内。其中,所述铁靶优选为氧化铁。之后,向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室电源进行磁控溅射。其中,所述氩气的进气流量优选为40~50sccm,具体可为40sccm、41sccm、42sccm、43sccm、44sccm、45sccm、46sccm、47sccm、48sccm、49sccm或50sccm;所述氩气的通气时间与进行磁控溅射的时间一致;所述氧气的进气流量优选为10~15sccm,具体可为10sccm、11sccm、12sccm、13sccm、14sccm或15sccm;所述氧气的通气时间优选为3~5min,具体可为3min、3.5min、4min、4.5min或5min;所述电源优选为直流(DC)电源;所述电源的电压优选为330~420V,具体可为330V、340V、350V、360V、370V、380V、390V、400V、410V或420V;所述电源的功率优选为2400~3600W,具体可为2400W、2500W、2600W、2700W、2800W、2900W、3000W、3100W、3200W、3300W、3400W、3500W或3600W;磁控溅射的过程中,所述溅射室的真空度优选控制在10~30Pa,具体可为10Pa、15Pa、20Pa、25Pa或30Pa;磁控溅射的过程中,所述溅射室的腔体温度优选控制在800~1200℃,具体可为800℃、850℃、900℃、950℃、990℃、1000℃、1010℃、1050℃、1100℃、1150℃或1200℃;所述磁控溅射的时间优选为5~8min,具体可为5min、5.5min、6min、6.5min、7min、7.5min或8min。
在本发明提供的制备方法中,磁控溅射结束后,向溅射室内通入乙炔气体。其中,通乙炔气体的过程中,所述溅射室的腔体温度维持在800~1200℃,具体可为800℃、850℃、900℃、950℃、990℃、1000℃、1010℃、1050℃、1100℃、1150℃或1200℃;所述溅射室的真空度优选控制在10~30Pa,具体可为10Pa、15Pa、20Pa、25Pa或30Pa;所述乙炔气体的进气流量优选为100~120sccm,具体可为100sccm、105sccm、110sccm、115sccm或120sccm;所述乙炔气体的通气时间优选为10~15min,具体可为10min、10.5min、11min、11.5min、12min、12.5min、13min、13.5min、14min、14.5min或15min。
在本发明提供的制备方法中,通乙炔气体结束后,向溅射室内通入保护气体,并对溅射室进行急速降温。其中,所述溅射室的真空度优选控制在10~30Pa,具体可为10Pa、15Pa、20Pa、25Pa或30Pa;所述保护气体优选为氩气和/或氮气;所述保护气体的进气流量优选为700~1000sccm,具体可为700sccm、750sccm、800sccm、850sccm、900sccm、950sccm或1000sccm。在本发明中,所述急速降温的过程优选为在5~15min内将溅射室的腔体温度降至100~300℃,所述急速降温的耗时更优选为8~10min,具体可为8min、8.5min、9min、9.5min或10min;所述急速降温后的腔体温度更优选为150~250℃,具体可为150℃、160℃、170℃、180℃、190℃、200℃、210℃、220℃、230℃、240℃或250℃。急速降温结束后,得到抗肿瘤纳米机器人,所述抗肿瘤纳米机器人实际上是一种顺磁性金属富勒烯粒子,包括铁粒子和包覆所述铁粒子的具有富勒烯形貌的碳球。
在本发明提供的一个实施例中,所述抗肿瘤纳米机器人在设置有进片室、溅射室和出片室的磁控溅射装置中进行制备,并使用工件夹具承载制备好的抗肿瘤纳米机器人,具体过程如下:
首先对工件夹具进行清洗,之后将其安装在磁控溅射装置的运动轨道上,工件夹具沿轨道进入进片室,关闭进片室真空阀门,对进片室抽真空,待真空度达到要求后,打开溅射室的真空阀门,工件夹具沿轨道进入溅射室;在溅射室中进行抗肿瘤纳米机器人的制备,具体过程在上文中已经介绍,在此不再赘述;急速降温生成的抗肿瘤纳米机器人吸附在工件夹具四周;工作夹具沿运行轨道行至出片室,在保护气体气氛下自然冷却至室温;开启出片室的真空阀门,工作夹具沿轨道离开出片室,然后对工作夹具上的抗肿瘤纳米机器人进行收集。
在本发明中,抗肿瘤纳米机器人制备过程中涉及的物理、化学过程如下:启动溅射室电源后,电离产生的氩正离子轰击铁靶,使Fe粒子从靶材上溅射出来,溅射出的Fe粒子处在氧气气氛中,由于氧原子是电负性较大的原子,可以使铁的2P1和2P3特征峰向结合能较高的方向移动,使Fe粒子以铁氧化物的形式存在;之后通入到溅射室内的乙炔气体环绕包覆Fe粒子,并在高温下发生反应,生成碳管雏形;最后通过急速降温,使碳管雏形分裂形成包覆Fe粒子的碳球,并生成富勒烯形貌,即为本发明制备的抗肿瘤纳米机器人。
实验结果表明:采用本发明方法制备的抗肿瘤纳米机器人的饱和磁化强度为19~20emu/g,剩余磁化强度为4~5emu/g,矫顽力为550~600G,粒径为70~100nm,粒径均匀性<6.5%,纯度>99.9%,石墨化程度>90%。
为更清楚起见,下面通过以下实施例进行详细说明。
实施例1
抗肿瘤纳米机器人的制备,包括以下步骤:
1)清洗:先将玻璃材质的工件夹具进行酒精擦拭、然后放入超声波清洗机中,去离子水超洗、酒精超洗,最后将工件夹具放在酒精蒸汽中进行干燥,当工件夹具由蒸汽中取出来时,因为凝结的蒸汽由表面蒸发掉,所以工件夹具很快就可以干燥;
2)贴保护膜:将清洗干净的工件夹具贴好聚乙烯膜,保护工件夹具洁净度,并保护工件夹具不受破坏;
3)将贴好膜的工件夹具安装在磁控溅射装置的运行轨道上,在进入进片室之前撕掉保护膜;
4)工作夹具运行至磁控溅射装置的进片室,之后关闭真空门阀,真空泵开启,使真空度保持在15Pa;
5)开启磁控溅射装置溅射室的真空门阀,工件夹具通过轨道进入溅射室固定位置;
6)向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室的DC电源(380V、3000W),轰击铁靶(氧化铁)进行磁控溅射,持续5min;其中,氩气流量45sccm,通气时间与进行磁控溅射的时间一致;氧气流量10sccm,通气时间3min;磁控溅射期间,溅射室的腔体温度维持在1000℃;
7)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为1000℃,向溅射室内通入乙炔气体,乙炔气体流量100sccm,通入时间为10min;
8)通乙炔气体结束后,通入保护气体氩气,通入量800sccm,同时开启冷却装置,使溅射室的腔体温度在10min内将至200℃,得到吸附在工作夹具四周的碳球颗粒,即为本实施例制备的抗肿瘤纳米机器人;
9)之后,工作夹具沿运行轨道行至磁控溅射装置的出片室,向出片室内通入保护气体氩气,通入量300sccm,自然冷却至25℃;
10)开启出片室的真空阀门,工作夹具沿轨道离开出片室,然后对工作夹具上的抗肿瘤纳米机器人进行收集。
实施例2
抗肿瘤纳米机器人的制备,包括以下步骤:
1)清洗:先将玻璃材质的工件夹具进行酒精擦拭、然后放入超声波清洗机中,去离子水超洗、酒精超洗,最后将工件夹具放在酒精蒸汽中进行干燥,当工件夹具由蒸汽中取出来时,因为凝结的蒸汽由表面蒸发掉,所以工件夹具很快就可以干燥;
2)贴保护膜:将清洗干净的工件夹具贴好聚乙烯膜,保护工件夹具洁净度,并保护工件夹具不受破坏;
3)将贴好膜的工件夹具安装在磁控溅射装置的运行轨道上,在进入进片室之前撕掉保护膜;
4)工作夹具运行至磁控溅射装置的进片室,之后关闭真空门阀,真空泵开启,使真空度保持在15Pa;
5)开启磁控溅射装置溅射室的真空门阀,工件夹具通过轨道进入溅射室固定位置;
6)向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室的DC电源(330V、2400W),轰击铁靶(氧化铁)进行磁控溅射,持续5min;其中,氩气流量40sccm,通气时间与进行磁控溅射的时间一致;氧气流量10sccm,通气时间3min;磁控溅射期间,溅射室的腔体温度维持在990℃;
7)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为990℃,向溅射室内通入乙炔气体,乙炔气体流量100sccm,通入时间为10min;
8)通乙炔气体结束后,通入保护气体氩气,通入量800sccm,同时开启冷却装置,使溅射室的腔体温度在10min内将至190℃,得到吸附在工作夹具四周的碳球颗粒,即为本实施例制备的抗肿瘤纳米机器人;
9)之后,工作夹具沿运行轨道行至磁控溅射装置的出片室,向出片室内通入保护气体氮气,通入量300sccm,自然冷却至25℃;
10)开启出片室的真空阀门,工作夹具沿轨道离开出片室,然后对工作夹具上的抗肿瘤纳米机器人进行收集。
实施例3
抗肿瘤纳米机器人的制备,包括以下步骤:
1)清洗:先将玻璃材质的工件夹具进行酒精擦拭、然后放入超声波清洗机中,去离子水超洗、酒精超洗,最后将工件夹具放在酒精蒸汽中进行干燥,当工件夹具由蒸汽中取出来时,因为凝结的蒸汽由表面蒸发掉,所以工件夹具很快就可以干燥;
2)贴保护膜:将清洗干净的工件夹具贴好聚乙烯膜,保护工件夹具洁净度,并保护工件夹具不受破坏;
3)将贴好膜的工件夹具安装在磁控溅射装置的运行轨道上,在进入进片室之前撕掉保护膜;
4)工作夹具运行至磁控溅射装置的进片室,之后关闭真空门阀,真空泵开启,使真空度保持在15Pa;
5)开启磁控溅射装置溅射室的真空门阀,工件夹具通过轨道进入溅射室固定位置;
6)向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室的DC电源(420V、3600W),轰击铁靶(氧化铁)进行磁控溅射,持续5min;其中,氩气流量50sccm,通气时间与进行磁控溅射的时间一致;氧气流量15sccm,通气时间3min;磁控溅射期间,溅射室的腔体温度维持在1010℃;
7)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为1010℃,向溅射室内通入乙炔气体,乙炔气体流量100sccm,通入时间为10min;
8)通乙炔气体结束后,通入保护气体氩气,通入量800sccm,同时开启冷却装置,使溅射室的腔体温度在10min内将至210℃,得到吸附在工作夹具四周的碳球颗粒,即为本实施例制备的抗肿瘤纳米机器人;
9)之后,工作夹具沿运行轨道行至磁控溅射装置的出片室,向出片室内通入保护气体氩气,通入量300sccm,自然冷却至25℃;
10)开启出片室的真空阀门,工作夹具沿轨道离开出片室,然后对工作夹具上的抗肿瘤纳米机器人进行收集。
对比例1
采用热蒸发法,以天然石墨为原料,在极高温度下,非氧化气氛中,使蒸发后的碳原子合富勒烯。
性能测试
1)用Lakeshore 7410振动样品磁强计进行磁性能分析,具体包括:绘制实施例1和对比例1制备的产品的磁滞回线,并测定实施例1~3和对比例1制备的产品的饱和磁化强度、剩余磁化强度和矫顽力。其中,磁滞回线如图1和图2所示,图1是本发明提供的实施例1制品的磁滞回线,图2是本发明提供的对比例1制品的磁滞回线。饱和磁化强度、剩余磁化强度和矫顽力的测定结果如表1所示:
表1磁化性能测定结果
饱和磁化强度(emu/g) 剩余磁化强度(emu/g) 矫顽力(G)
实施例1 19.655 4.4944 567.86
实施例2 19.569 4.4689 564.76
实施例3 19.877 4.5246 569.86
对比例1 40×10<sup>-3</sup> 8.5862×10<sup>-3</sup> 162.8
2)测定实施例1~3制备的抗肿瘤纳米机器人的粒径、粒径均匀性、纯度和石墨化程度。其中,粒径和粒径均匀性通过使用JEM-2010型高分辨透射电子显微镜对制备的抗肿瘤纳米机器人进行形貌和结晶形态分析后获得,所述粒径均匀性的计算公式为:(D-D)/(D+D)×100%,D表示从制备的颗粒中测得的最大直径值,D表示表示从制备的颗粒中测得的最小直径;纯度和石墨化程度通过使用FES165傅立叶红外光谱仪(FT-IR)和cary-300VARIAN紫外可见光谱分析仪对制备的抗肿瘤纳米机器人进行水溶性分析后获得。测定结果如表2所示:
表2粒径、粒径均匀性、纯度和石墨化程度测定结果
Figure BDA0002770396240000091
Figure BDA0002770396240000101
3)肿瘤治疗
3.1)射频加热技术和加热原理介绍:
3.1.1)射频加热技术:将加热的组织置于一对电容极板间(电极与肌体不接触),在电极间加上射频电压(电容场法),进行热疗时位于电容极板间的组织体吸收了电场能并将此转化为热能,从而使组织温度升高。一般都采用射频频段13.56MHz,功率0~800W。
3.1.2)加热原理:抗肿瘤纳米机器人在交变磁场作用下吸收电磁波能量,发生振动运动,抗肿瘤纳米机器人(顺磁性金属富勒烯粒子)因磁滞损耗而发热,由于热传递抗肿瘤纳米机器人积聚的肿瘤组织也会发热。肿瘤组织中血管扭曲扩张、血液阻力大、血管感受器不健全,对温度敏感性差,在高温作用下散热因难,热量易聚集,升温快,形成巨大的储热库,可与正常组织有5~10℃的温差,同时抗肿瘤纳米机器人体积剧烈膨胀30~60%左右。如果使肿瘤组织温度达到43℃或肿瘤血管爆裂,则肿瘤细胞过热或切断营养而凋亡。
3.2)肿瘤治疗操作:
将1mg实施例1制备的抗肿瘤纳米机器人稀释到生理盐水中,之后静脉注入小鼠体内。注入到小鼠体内的纳米机器人抵达肿瘤位置后,会卡在肿瘤血管壁上(由于构成肿瘤血管的内皮细胞间隙较大、结构不完整,导致肿瘤血管通常包含有大量纳米尺度的小孔,使小分子和一些纳米颗粒能够透孔而入,当抗肿瘤纳米机器人通过肿瘤血管的间隙时,会被肿瘤血管的内皮细胞所紧密包围)。通过CT扫描确认多余的抗肿瘤纳米机器人流走后,这时再对小鼠施加射频“引爆”这些抗肿瘤纳米机器人。在几分钟至几十分钟后由于内能升高发生相变,并伴随着体积剧烈膨胀30~60%左右,这些镶嵌在肿瘤血管壁上的抗肿瘤纳米机器人“爆炸”有效地破坏了肿瘤血管,而后迅速阻断对肿瘤的营养供应,几个小时内就可完全“饿死”肿瘤细胞。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种抗肿瘤纳米机器人的制备方法,包括以下步骤:
a)将铁靶置于溅射室内,向溅射室内通入氩气和氧气,启动溅射室电源进行磁控溅射;磁控溅射的过程中,所述溅射室的腔体温度为800~1200℃;
b)磁控溅射结束后,维持溅射室的腔体温度为800~1200℃,向溅射室内通入乙炔气体;
c)通乙炔气体结束后,向溅射室内通入保护气体,并在5~15min内将溅射室的腔体温度降至100~300℃,得到抗肿瘤纳米机器人。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中,所述电源为直流电源;所述电源的电压为330~420V;所述电源的功率为2400~3600W。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中,磁控溅射的过程中,所述溅射室的真空度为10~30Pa;所述氩气的进气流量为40~50sccm;所述氧气的进气流量为10~15sccm。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中,所述磁控溅射的时间为5~8min。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤b)中,所述溅射室的真空度为10~30Pa;所述乙炔气体的进气流量为100~120sccm。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,步骤b)中,所述乙炔气体的通气时间为10~15min。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤c)中,所述溅射室的真空度为10~30Pa;所述保护气体为氩气和/或氮气;所述保护气体的进气流量为700~1000sccm。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤c)中,所述溅射室进行降温的耗时为8~10min;所述腔体温度降至150~250℃。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤a)和步骤b)中,所述腔体温度为900~1000℃。
10.根据权利要求1~9任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤a)中,所述铁靶为氧化铁。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101701332A (zh) * 2009-11-17 2010-05-05 武汉大学 中频磁控辉光放电法制备复合类金刚石涂层的方法
CN101941077A (zh) * 2010-09-02 2011-01-12 太原理工大学 一种磁性内包金属铁富勒烯碳球的制备方法
US20130020526A1 (en) * 2004-09-03 2013-01-24 Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University Water-Soluble Nanoparticles Stabilized with Multi-Functional Group Ligands and Method of Preparation Thereof
CN103811240A (zh) * 2013-12-24 2014-05-21 兰州空间技术物理研究所 碳纳米管阴极的制备方法
CN105070619A (zh) * 2015-07-17 2015-11-18 兰州空间技术物理研究所 一种铁基金属合金衬底上碳纳米管阵列阴极的制备方法
US20180057359A1 (en) * 2016-08-27 2018-03-01 Rajen Bhupendra Patel Boron Filled Hybrid Nanotubes

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130020526A1 (en) * 2004-09-03 2013-01-24 Industry-Academic Cooperation Foundation, Yonsei University Water-Soluble Nanoparticles Stabilized with Multi-Functional Group Ligands and Method of Preparation Thereof
CN101701332A (zh) * 2009-11-17 2010-05-05 武汉大学 中频磁控辉光放电法制备复合类金刚石涂层的方法
CN101941077A (zh) * 2010-09-02 2011-01-12 太原理工大学 一种磁性内包金属铁富勒烯碳球的制备方法
CN103811240A (zh) * 2013-12-24 2014-05-21 兰州空间技术物理研究所 碳纳米管阴极的制备方法
CN105070619A (zh) * 2015-07-17 2015-11-18 兰州空间技术物理研究所 一种铁基金属合金衬底上碳纳米管阵列阴极的制备方法
US20180057359A1 (en) * 2016-08-27 2018-03-01 Rajen Bhupendra Patel Boron Filled Hybrid Nanotubes

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JINJIN SHI ET AL: "A fullerene-based multi-functional nanoplatform for cancer theranostic applications", 《BIOMATERIALS》, vol. 35, 16 April 2014 (2014-04-16), pages 5773 *
朱建国 等: "《电子与光电子材料》", 国防工业出版社, pages: 277 - 278 *

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