CN112754958A - 一种v73e改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用 - Google Patents
一种v73e改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用 Download PDFInfo
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Abstract
本发明属于化妆品技术领域，具体涉及一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用。该高分散水性浆体是由无机‑有机复合紫外屏蔽剂通过分散于去离子水中而制得，所述的无机‑有机复合紫外屏蔽剂与去离子水质量之比为0.1～0.4:1；所述的无机‑有机复合紫外屏蔽剂是由V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中加入有机紫外屏蔽剂而制得，所述的有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的质量之比为0.5～2:1。本发明首次采用了一种新型多用途有机聚合物改性剂（V73E），该有机聚合物改性剂兼具分散和乳化等功能，即可作为无机紫外屏蔽剂的分散剂，又可作为有机紫外屏蔽剂的乳化剂，可用于制备无机‑有机紫外屏蔽剂高分散水性浆料。
Description
技术领域
本发明属于化妆品技术领域，尤其涉及一种V73E改性屏蔽剂、制备方法及其在护肤品中的应用。
背景技术
太阳光到达地球表面的紫外线大多为长波紫外线（UVA）和中波紫外线（UVB），它们能对皮肤的表皮层产生伤害，使皮肤老化甚至导致皮肤癌。为此，开发高性能紫外屏蔽剂已成为化妆品企业急需解决的难题之一。紫外屏蔽剂可分为无机紫外屏蔽剂（如：纳米二氧化钛和纳米氧化锌）和有机紫外屏蔽剂（如：亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚（MBBT）和二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯（DHHB）。但是，这些紫外屏蔽剂成份单一，这就造成其紫外线屏蔽范围窄，不能全波段地阻隔紫外线。
为此，通常采用无机-有机紫外屏蔽剂复配使用，以达到优异的全波段紫外线屏蔽效果。然而，无机紫外屏蔽剂为纳米级颗粒，表面能较高；有机紫外屏蔽剂易重结晶，这些特性使得无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂在水性体系中复配使用时存在易团聚、难分散、易沉淀和稳定性差等一系列问题，不能达到纳米级高分散的目的，不能发挥出协同屏蔽紫外线的效果，极大地影响了全波段紫外线屏蔽性能。
发明内容
针对背景技术中所存在的问题，为了解决无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂在水性体系中复配使用时存在的难分散、易团聚、易沉淀以及稳定性差等问题，本发明提供一种V73E改性屏蔽剂。
本发明另一目的在于提供一种V73E改性屏蔽剂的制备方法。
本发明再一目的在于提供一种V73E改性屏蔽剂在护肤品中的应用。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案的特征步骤如下：一种V73E改性屏蔽剂，该V73E改性屏蔽剂是由有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂而制得，其中，所述的有机聚合物改性剂V73E，其结构式如下：
其中：R1、R2、R3 = H或CH3；m=10~50，n=10~100（m、n均为整数）。
优选的，本发明所述的有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂，其质量比为1：（5.5～20.6）：（8～18）。
优选的，本发明所述的V73E改性屏蔽剂是由如下步骤制得的：
1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备
将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入无机紫外屏蔽剂，升温至80℃～95℃，继续搅拌反应3～8小时，制得V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物；其中，所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E的总质量与无机紫外屏蔽剂之比为0.05～0.2：1；
2）V73E改性屏蔽剂的制备
向步骤1）所得的V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中迅速加入有机紫外屏蔽剂，其中有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物质量之比为0.5～2：1；在此温度下继续搅拌30～60分钟后，即得V73E改性屏蔽剂。
优选的，本发明所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂选自3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷或 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷中的一种；所述的无机紫外屏蔽剂选自纳米氧化钛TiO2、纳米氧化锌ZnO、纳米氧化铈CeO2、纳米二氧化铁FeO2、纳米氧化锆ZrO2或纳米氧化镁MgO中的一种；其微观形貌为球状、棒状或片状中的一种；所述的有机机紫外屏蔽剂选自苯基苯并咪唑磺酸PBSA、亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚MBBT、乙基己基三嗪酮UVT-150、二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯DHHB、丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷BMDBM或双-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪BEMT中的一种。
优选的，本发明将V73E改性屏蔽剂用于制备高分散水性浆体，具体是将V73E改性屏蔽剂分散于去离子水中制备高分散水性浆体，所述V73E改性屏蔽剂与去离子水质量之比为0.1～0.4：1，搅拌1～3小时。
本发明的另一个目的在于，提供一种V73E改性屏蔽剂的制备方法，其具体制备步骤如下：
1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备
将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入无机紫外屏蔽剂，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E的总质量与无机紫外屏蔽剂之比为0.05～0.2：1；升温至80℃～95℃，继续搅拌反应3～8小时；
2）V73E改性屏蔽剂的制备
向步骤1）所得的V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中迅速加入有机紫外屏蔽剂，其中有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物质量之比为0.5～2：1；在此温度下继续搅拌30～60分钟后，即得V73E改性屏蔽剂。
本发明的再一个目的在于，提供一种V73E改性屏蔽剂在护肤品中的应用，该护肤品由A相、B相、C相和D相组合物组成，按质量分数计，
A相组分：
单硬脂酸甘油酯/山嵛醇/棕榈酸/硬脂酸/卵磷脂/月桂醇/肉豆蔻醇 1.2%
V73E改性屏蔽剂 1.5%
三十烷基 PVP 0.5%
马来酸二乙基己酯/双丙甘醇二苯甲酸酯/辛基聚甲基硅氧烷 6%
奥克立林 8%
二乙氨羟苯甲酰基苯甲酸己酯 1.8%
乙基己基三嗪酮 1.2%
纳米钛白粉/维生素E/卵磷脂 7%
聚羟基硬脂酸 0.7%
环五聚二甲基硅氧烷 3%
木兰醇 0.1%
B相组分：
羟乙基丙烯酸酯/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物和角鲨烷和聚山梨酸酯 -602.5%
C相组分：
阿拉伯胶树胶/黄原胶 0.1%
双甘油 3%
PEG-26-PPG-30 磷酸酯 0.5%
去离子水 余量
D相组分：
1，2-己二醇 1%
亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚/水/癸基葡糖苷/丙二醇/黄原胶 5%
苯氧乙醇/乙基己基甘油 0.6%。
优选的，本发明的护肤品由如下步骤制得：1）将A相各组分混合后加热到80℃，作为热的油相备用；2）将B相各组分混合后加入步骤1）制得的油相，搅拌均匀；3）将C相中阿拉伯胶树胶/黄原胶，加入双甘油，搅拌均匀，加水煮至80℃，加入C相中其它成分，作为水相备用；4）将步骤3）制得的水相一步加入到步骤1）制得的油相中，均质2分钟，匀质速度6000-10000转/min；5）框式搅拌，搅拌速度100转/min，搅拌时间10分钟，约45℃时加入D相各组分，边搅拌边水浴冷却即可。
本发明的有益效果是：
1、本发明首次采用了一种新型多用途有机聚合物改性剂（V73E），其优点在于：该有机聚合物改性剂兼具分散和乳化等功能，既可作为无机紫外屏蔽剂的分散剂，又可作为有机紫外屏蔽剂的乳化剂，可用于制备无机-有机紫外屏蔽剂高分散水性浆料，有效抑制在防晒护肤品、美妆产品中的纳米颗粒的团聚问题。
2、该有机聚合物改性剂V73E具有大量亲水和疏水基团，是一种新型非离子型乳化剂，不但可以为有机紫外屏蔽剂达到纳米级的乳化效果，而且可提高其在水性浆体中的分散性能和贮存稳定性能，从而整体上提高了无机-有机紫外屏蔽剂高分散水性浆料的全波段紫外线屏蔽性能。
3、本发明选用的异氰酸酯基硅烷偶联剂一端的异氰酸酯基与有机聚合物改性剂V73E中的羟基进行化学反应形成化学键（-NH-COO-）；另一端的硅氧烷以化学键合形式（Si-O-R（R=Ti、Zn、Ce、Fe、Zr、Mg））接枝于无机紫外屏蔽剂的表面，这就使得有机聚合物改性剂V73E与无机紫外屏蔽剂以化学键的形式结合起来，无机纳米粒子间会形成较大的分子斥力，大幅增强了无机紫外屏蔽剂在水性浆体中的分散性和稳定性。
附图说明
图1为实施例12所制得的一种复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体的透射电镜照片。
图2为比较例3所制得的一种复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体的透射电镜照片。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的描述。
实施例1
1、将0.03千克 3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷和1.0千克V73E混合均匀，在温度为40℃条件下搅拌反应3小时，然后加入20.6千克纳米FeO2，升温至80℃，继续搅拌反应8小时，即制得一种V73E改性纳米FeO2复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米FeO2复合物中迅速加入5.0千克PBSA，在此温度下继续搅拌30分钟后，即制得V73E改性纳米FeO2/PBSA复合屏蔽剂。
实施例2
1、将1.0千克 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷和10.0千克V73E混合均匀，在温度为50℃条件下搅拌反应1小时，然后加入55.0千克纳米CeO2，升温至95℃，继续搅拌反应3小时，即制得一种V73E改性纳米CeO2复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米CeO2复合物中迅速加入20.0千克UVT-150，在此温度下继续搅拌60分钟后，即制得V73E改性纳米CeO2/UVT-150复合屏蔽剂。
实施例3
1、将0.65千克 3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷和10.0千克V73E混合均匀，在温度为45℃条件下搅拌反应2小时，然后加入10.8千克纳米ZrO2，升温至87.5℃，继续搅拌反应5.5小时，即制得一种V73E改性纳米ZrO2复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米ZrO2复合物中迅速加入12.5千克BEMT，在此温度下继续搅拌45分钟后，即制得V73E改性纳米ZrO2/BEMT复合屏蔽剂。
实施例4
1、将0.5千克 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷和10.0千克V73E混合均匀，在温度为48℃条件下搅拌反应1.5小时，然后加入70.0千克纳米ZnO，升温至85℃，继续搅拌反应5小时，即制得一种V73E改性纳米ZnO复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米ZnO复合物中迅速加入10.0千克BMDBM，在此温度下继续搅拌50分钟后，即制得V73E改性纳米ZnO/BMDBM复合屏蔽剂。
实施例5
1、将0.8千克 3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷和10.0千克V73E混合均匀，在温度为43℃条件下搅拌反应1.8小时，然后加入135.0千克纳米MgO，升温至90℃，继续搅拌反应7小时，即制得一种V73E改性纳米MgO复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米MgO复合物中迅速加入8.0千克DHHB，在此温度下继续搅拌40分钟后，即制得V73E改性纳米MgO/DHHB复合屏蔽剂。
实施例6
1、将1.0千克 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷和10.0千克V73E混合均匀，在温度为50℃条件下搅拌反应2.5小时，然后加入110.0千克纳米TiO2，升温至90℃，继续搅拌反应4小时，即制得一种V73E改性纳米TiO2复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米TiO2复合物中迅速加入15.0千克MBBT，在此温度下继续搅拌55分钟后，即制得V73E改性纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂。
实施例7
将实施例1所得的V73E改性纳米FeO2/PBSA复合屏蔽剂分散于150克去离子水中，继续搅拌1小时，即制得一种纳米FeO2/PBSA复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。
实施例8
将实施例2所得的V73E改性纳米CeO2/UVT-150复合屏蔽剂分散于75.0千克去离子水中，继续搅拌3小时，即制得一种纳米CeO2/UVT-150复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。
实施例9
将实施例3所得的V73E改性纳米ZrO2/BEMT复合屏蔽剂分散于90.0千克去离子水中，继续搅拌2小时，即制得一种纳米ZrO2/BEMT复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。
实施例10
将实施例4所得的V73E改性纳米ZnO/BMDBM复合屏蔽剂分散于66.7千克去离子水中，继续搅拌2小时，即制得一种纳米ZnO/BMDBM复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。
实施例11
将实施例5所得的V73E改性纳米MgO/DHHB复合屏蔽剂分散于90.0千克去离子水中，继续搅拌1.5小时，即制得一种纳米MgO/DHHB复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。
实施例12
将实施例6所得的V73E改性纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂分散于100.0千克去离子水中，继续搅拌2.5小时，即制得一种纳米TiO2/MBBT复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。图1为本实施例所制得的一种复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体的透射电镜照片。
比较例1
在比较例1中，将实施例6中步骤1删去，其他工艺条件不变，具体操作步骤如下：
向10.0千克纳米TiO2粉体中迅速加入15.0千克MBBT，在温度为90℃下搅拌55分钟后，制得纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂。
将制得的纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂分散于100.0千克去离子水中，继续搅拌2.5小时，制得一种纳米TiO2/MBBT复合紫外屏蔽剂的分散水性浆体。
比较例2
在比较例2中，将实施例6步骤1中的 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷删除，V73E改性以及其他工艺条件不变，具体操作步骤如下：
1、将11.0千克V73E在温度为50℃条件下搅拌2.5小时，然后加入110.0千克纳米TiO2，升温至90℃，继续搅拌反应4小时，即制得一种V73E改性纳米TiO2复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的V73E改性纳米TiO2复合物中迅速加入15.0千克MBBT，在此温度下继续搅拌55分钟后，制得V73E改性纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂。
将制得V73E改性纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂分散于100.0千克去离子水中，继续搅拌2.5小时，即制得一种纳米TiO2/MBBT复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。
比较例3
在比较例3中，将实施例6步骤1中的V73E替换成壬基酚聚氧乙烯醚（乳化剂），其他工艺条件不变，具体操作步骤如下：
1、将1.0千克 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷和10.0千克壬基酚聚氧乙烯醚混合均匀，在温度为50℃条件下搅拌反应2.5小时，然后加入110.0千克纳米TiO2，升温至90℃，继续搅拌反应4小时，即制得一种壬基酚聚氧乙烯醚改性纳米TiO2复合物；
2、向10.0千克步骤1所得的壬基酚聚氧乙烯醚改性纳米TiO2复合物中迅速加入15.0千克MBBT，在此温度下继续搅拌55分钟后，制得壬基酚聚氧乙烯醚改性纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂。
将该壬基酚聚氧乙烯醚改性纳米TiO2/MBBT复合屏蔽剂分散于100.0千克去离子水中，继续搅拌2.5小时，即制得一种纳米TiO2/MBBT复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体。图2为本比较例所制得的一种复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体的透射电镜照片。由图1和图2对比可知，本发明实施例12制备的一种无机-有机复合紫外屏蔽剂的高分散水性浆体明显减少了纳米粒子间的团聚。
本发明各实施例中所涉及选用的V73E，其结构式如下：
其中：R1、R2、R3 = H或CH3；m=10～50，n=10～100（m、n均为整数）。
将实施例6-12所制得的V73E改性屏蔽剂应用在护肤品配方中，该护肤品由A相、B相、C相和D相组合物组成，具体配方如下：
该护肤品由如下步骤制得：1）将A相各组分混合后加热到80℃，作为热的油相备用；2）将B相各组分混合后加入步骤1）制得的油相，搅拌均匀；3）将C相中阿拉伯胶树胶/黄原胶，加入双甘油，搅拌均匀，加水煮至80℃，加入C相中其它成分，作为水相备用；4）将步骤3）制得的水相一步加入到步骤1）制得的油相中，均质2分钟，匀质速度8000转/min；5）框式搅拌，搅拌速度100转/min，搅拌时间10分钟，约45℃时加入D相各组分，边搅拌边水浴冷却即可。
性能评价
取一定量实施例7-12和比较例1-3所制得的高分散水性浆体，向其中加入蒸馏水，稀释配制成20 ppm的分散液，再超声分散30分钟后，分别在紫外-可见近红外分光光度计（UV3600型，日本岛津公司）上测量光的透过率，用光程1 cm的石英比色皿、以去离子水作参比。在308 nm处的透过率用T308表示，其反应是屏蔽剂对UVB的屏蔽能力，T308越小，说明屏蔽UVB能力越好；在360 nm处的透过率用 T360表示，其反应是屏蔽剂对UVA的屏蔽能力，T360越小，说明屏蔽UVA能力越好；在524 nm处的透过率用T524表示，其反应是屏蔽材料对可见光的透过能力，T524越大，说明透明性越好。测试结果如表1所示。
表1
Claims (9)
1.一种V73E改性屏蔽剂，其特征在于：该V73E改性屏蔽剂是由有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂而制得，其中，所述的有机聚合物改性剂V73E，其结构式如下：
其中：R1、R2、R3 = H或CH3；m=10~50，n=10～100（m、n均为整数）。
2.根据权利要求1所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：所述的有机聚合物改性剂V73E、无机紫外屏蔽剂和有机紫外屏蔽剂，其质量比为1：（5.5～20.6）：（8～18）。
3.根据权利要求1或2所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：该V73E改性屏蔽剂是由如下步骤制得的：
1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备
将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入无机紫外屏蔽剂，升温至80℃～95℃，继续搅拌反应3～8小时，制得V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物；其中，所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E的总质量与无机紫外屏蔽剂之比为0.05～0.2：1；
2）V73E改性屏蔽剂的制备
向步骤1）所得的V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中迅速加入有机紫外屏蔽剂，其中有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物质量之比为0.5～2：1；在此温度下继续搅拌30～60分钟后，即得V73E改性屏蔽剂。
4.根据权利要求1～3任一项所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂选自3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷或 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷中的一种；所述的无机紫外屏蔽剂选自纳米氧化钛TiO2、纳米氧化锌ZnO、纳米氧化铈CeO2、纳米二氧化铁FeO2、纳米氧化锆ZrO2或纳米氧化镁MgO中的一种；其微观形貌为球状、棒状或片状中的一种；所述的有机紫外屏蔽剂选自苯基苯并咪唑磺酸PBSA、亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚MBBT、乙基己基三嗪酮UVT-150、二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯DHHB、丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷BMDBM或双-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪BEMT中的一种。
5.根据权利要求3所述的V73E改性屏蔽剂，其特征在于：将V73E改性屏蔽剂用于制备高分散水性浆体，具体是将V73E改性屏蔽剂分散于去离子水中制备高分散水性浆体，所述V73E改性屏蔽剂与去离子水质量之比为0.1～0.4：1，搅拌1～3小时。
6.一种制备如权利要求1或2所述V73E改性屏蔽剂的方法，其特征在于：其制备步骤如下：
1）V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物的制备
将异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E混合均匀，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂与有机聚合物改性剂V73E的质量比为0.03～0.1：1；在温度为40℃～50℃条件下搅拌反应1～3小时，然后加入无机紫外屏蔽剂，其中异氰酸酯基硅烷偶联剂和有机聚合物改性剂V73E的总质量与无机紫外屏蔽剂之比为0.05～0.2：1；升温至80℃～95℃，继续搅拌反应3～8小时；
2）V73E改性屏蔽剂的制备
向步骤1）所得的V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物中迅速加入有机紫外屏蔽剂，其中有机紫外屏蔽剂与V73E改性无机紫外屏蔽剂复合物质量之比为0.5～2：1；在此温度下继续搅拌30～60分钟后，即得V73E改性屏蔽剂。
7.根据权利要求6所述V73E改性屏蔽剂的制备方法，其特征在于：所述的异氰酸酯基硅烷偶联剂选自3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷或 3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷中的一种；所述的无机紫外屏蔽剂选自纳米氧化钛TiO2、纳米氧化锌ZnO、纳米氧化铈CeO2、纳米二氧化铁FeO2、纳米氧化锆ZrO2或纳米氧化镁MgO中的一种；其微观形貌为球状、棒状或片状中的一种；所述的有机紫外屏蔽剂选自苯基苯并咪唑磺酸PBSA、亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚MBBT、乙基己基三嗪酮UVT-150、二乙氨基羟苯甲酰基苯甲酸己酯DHHB、丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷BMDBM或双-乙基己氧苯酚甲氧苯基三嗪BEMT中的一种。
8.一种如权利要求3所述V73E改性屏蔽剂在护肤品中的应用，其特征在于：该护肤品由A相、B相、C相和D相组合物组成，按质量分数计，
A相组分：
单硬脂酸甘油酯/山嵛醇/棕榈酸/硬脂酸/卵磷脂/月桂醇/肉豆蔻醇 1.2%
V73E改性屏蔽剂 1.5%
三十烷基 PVP 0.5%
马来酸二乙基己酯/双丙甘醇二苯甲酸酯/辛基聚甲基硅氧烷 6%
奥克立林 8%
二乙氨羟苯甲酰基苯甲酸己酯 1.8%
乙基己基三嗪酮 1.2%
纳米钛白粉/维生素E/卵磷脂 7%
聚羟基硬脂酸 0.7%
环五聚二甲基硅氧烷 3%
木兰醇 0.1%
B相组分：
羟乙基丙烯酸酯/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物和角鲨烷和聚山梨酸酯 -602.5%
C相组分：
阿拉伯胶树胶/黄原胶 0.1%
双甘油 3%
PEG-26-PPG-30 磷酸酯 0.5%
去离子水 余量
D相组分：
1，2-己二醇 1%
亚甲基双-苯并三唑基四甲基丁基酚/水/癸基葡糖苷/丙二醇/黄原胶 5%
苯氧乙醇/乙基己基甘油 0.6%。
9.根据权利要求7所述V73E改性屏蔽剂在护肤品中的应用，其特征在于：该护肤品由如下步骤制得：1）将A相各组分混合后加热到80℃，作为热的油相备用；2）将B相各组分混合后加入步骤1）制得的油相，搅拌均匀；3）将C相中阿拉伯胶树胶/黄原胶，加入双甘油，搅拌均匀，加水煮至80℃，加入C相中其它成分，作为水相备用；4）将步骤3）制得的水相一步加入到步骤1）制得的油相中，均质2分钟，匀质速度6000-10000转/min；5）框式搅拌，搅拌速度100转/min，搅拌时间10分钟，约45℃时加入D相各组分，边搅拌边水浴冷却即可。
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