CN112744788A - 一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法 - Google Patents

一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112744788A
CN112744788A CN202011484304.1A CN202011484304A CN112744788A CN 112744788 A CN112744788 A CN 112744788A CN 202011484304 A CN202011484304 A CN 202011484304A CN 112744788 A CN112744788 A CN 112744788A
Authority
CN
China
Prior art keywords
gas
adsorption
rectification
psa
ahf
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202011484304.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112744788B (zh
Inventor
钟雨明
钟娅玲
汪兰海
陈运
唐金财
蔡跃明
蒋强
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sichuan Techairs Co ltd
Original Assignee
Sichuan Techairs Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sichuan Techairs Co ltd filed Critical Sichuan Techairs Co ltd
Priority to CN202011484304.1A priority Critical patent/CN112744788B/zh
Publication of CN112744788A publication Critical patent/CN112744788A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112744788B publication Critical patent/CN112744788B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B7/00—Halogens; Halogen acids
    • C01B7/19—Fluorine; Hydrogen fluoride
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
    • B01D3/143—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column by two or more of a fractionation, separation or rectification step
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
    • B01D53/047—Pressure swing adsorption
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/1418—Recovery of products
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/1431—Pretreatment by other processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/14—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by absorption
    • B01D53/1431—Pretreatment by other processes
    • B01D53/1437—Pretreatment by adsorption
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2256/00—Main component in the product gas stream after treatment
    • B01D2256/26—Halogens or halogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/204—Inorganic halogen compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/30—Sulfur compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/30—Sulfur compounds
    • B01D2257/302—Sulfur oxides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/40—Nitrogen compounds
    • B01D2257/406—Ammonia
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/50—Carbon oxides
    • B01D2257/504—Carbon dioxide
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/55—Compounds of silicon, phosphorus, germanium or arsenic
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
    • Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
    • Y02C20/40—Capture or disposal of greenhouse gases of CO2
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/151—Reduction of greenhouse gas [GHG] emissions, e.g. CO2
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

本发明公开了一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法，涉及氟硅酸法生产无水氟化氢(AHF)精制过程中脱水与除杂的分离与净化方法，利用氟硅酸法制备AHF过程中反应产生的反应气及其经过洗涤与冷凝后得到的不凝气体中各组分(HF为有效组分，H2O、H2SO4、SO2、SiF4、NH3、CO2为主要杂质组分)本身在不同压力与温度下的吸附/冷凝/精馏分离系数及物理化学性质的差异性，采取以两段中温变压吸附工序为主与冷凝及HF精馏耦合，使得中温变压吸附过程中吸附与解吸易于匹配和平衡的循环操作来进行分离与净化，从而实现HF的深度脱水与除杂。实现AHF产品的含水量小于100ppm的技术要求，AHF产品可用于半导体领域，填补了技术空白。

Description

一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离 与净化方法
技术领域
本发明涉及一种氟硅酸氨化硫酸分解的氟硅酸法生产无水氟化氢(AHF)精制过程中脱水与除杂的分离与净化方法，更具体的说是涉及一种氟硅酸法生产AHF的FTrPSA(全温程变压吸附)深度脱水除杂的分离与净化方法。
背景技术
氟化氢(HF)是氟化工的基本原料，可用来制造有机氟、无机氟盐及其它诸如含氟催化剂、氟硅酸等领域，其中，HF在制冷剂、表面活性剂、氟橡胶、氟涂料、含氟树脂、含氟农药、高纯度氟树脂、医药中间体等有机氟领域的应用越来越多，尤其是高纯度无水HF(AHF)业已成为半导体生产领域中的蚀刻、清洗、沉积等加工制程中必不可少的电子级化学品原料之一。
工业上制备无水氟化氢(AHF)的主要方法有萤石法与氟硅酸法。由于萤石矿资源限制，并且该法法成本高、能耗大、工艺复杂等，因而，国内外纷纷转向磷矿生产磷肥的副产物氟硅酸，作为制备AHF产品的新途径。目前，处于研发或工业化应用的氟硅酸法有几种，主要包括人造氟化钙法、氟氢化钠热分解法、氟硅酸氨化硫酸分解法及氟硅酸硫酸分解法等，其中，前三种方法都会在制备AHF过程中产生较多的氨水或氨气，这与萤石法制备AHF生产过程所产生的粗HF气(液)中所含杂质有所不同，除了硫酸(H2SO4)、水(H2O)、二氧化硫(SO2)及四氟化硅(SiF4)等杂质外，还含有极易与水互溶的极性组分氨(NH3)以及二氧化碳(CO2)等杂质组分，使得氟硅酸法的粗HF精制，诸如深度脱水与除杂更为复杂，因而，在工业上通过传统的粗精馏及脱气精馏方法很难达到水含量小于100ppm的水平，尤其无法达到电子级AHF品质要求。
以氟硅酸氨化硫酸分解法为例，氟硅酸(H2SiF6)与液氨(NH3)混合后进入氨解反应器，形成氟化铵(NH4F)溶液与二氧化硅(SiO2)沉淀，经过滤后，NH4F滤液经过蒸发浓缩、预反应、预混合形成的氟化氢氨(NH4HF2)反应液，进入反应炉与硫酸(H2SO4)进行反应，生成硫酸铵((NH4)2SO4)和粗HF气体，而粗HF气体经过冷凝得到粗HF液体进入精馏工序进行精制，从中脱除低沸点的轻组分SiF4、SO2、NH3、CO2等杂质，以及高沸点的重组分H2SO4、H2O等杂质。虽然CO2、SO2及NH3的沸点比较低，容易与HF通过相对挥发度的差异实现精馏的分离，但由于与水在许多工况下形成互溶，尤其是CO2，在常温下就处于临界状态，使得沸点为19.5℃的HF有效组分与CO2实际的相对挥发度很接近，同时也使得这些低沸点轻组分杂质容易与硫酸、水等重组分杂质混在一起，加剧了精馏相平衡的限制，进而难以通过精馏实现HF的深度脱水与除杂。
有报道采用吸附法进行AHF精制，其中，吸附剂多为碱性金属的氟化物，利用金属氟化物与HF在较低温度下发生化学反应而选择性地进行化学吸附，形成金属氟化物-HF的络合物，再在较高的温度下进行络合物的分解反应，从而实现HF从吸附剂上脱附，其它杂质在吸附剂上没有选择性，从而实现HF的分离与净化。这种化学吸附法适用的工况，大多为氟化反应制备氟氯烷烃(CFC)、含氢氯氟烷烃(HCFC)、含氢氟烷烃(HFC)、硫酰氟(SO2F2)等产品，反应的混合气对HF的选择性吸附、分离及回收，效果比较好，但吸附剂损失率大。而对含有水或硫酸或SiF4或NH3或CO2的氟硅酸法得到的粗HF或精HF，吸附剂因与水等杂质组分也会发生化学反应导致吸附剂粉化与失效严重而无法有效地进行深度脱水除杂。因此，化学吸附法几乎无法对氟硅酸法制备AHF过程中有效地应用。这也是为什么我国目前无法生产深度脱水与除杂净化的电子级AHF产品的主要原因之一，也是2019年韩日两国发生的电子级半导体化学品贸易争端中日本以其技术优势而限制出口电子级AHF给韩国的一个重要原因之一。
发明内容
本发明的目的在于：针对上述存在化学吸附法几乎无法对氟硅酸法制备AHF过程中有效地应用的问题，本发明提供一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA(全温程变压吸附)深度脱水除杂的分离与净化方法。
全温程变压吸附(英文全称：Full Temperature Range-Pressure SwingAdsorption，简称：FTrPSA)是一种以变压吸附(PSA)为基础并可与各种分离技术相耦合的方法，利用氟硅酸法制备AHF过程中反应产生的反应气及其经过洗涤与冷凝后得到的不凝气体中各组分(HF为有效组分，H2O、H2SO4、SO2、SiF4、NH3、CO2为主要杂质组分)本身在不同压力与温度下的吸附/冷凝/精馏分离系数及物理化学性质的差异性，采取以两段中温变压吸附工序为主与冷凝及HF精馏耦合，使得中温变压吸附过程中吸附与解吸易于匹配和平衡的循环操作来进行分离与净化，从而实现HF的深度脱水与除杂。
本发明采用的技术方案如下：
一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法，原料气来自氟硅酸法制备无水氟化氢(AHF)生产过程中的反应气体经冷凝后产生的不凝气体，即粗氟化氢(HF)气体，主要含有浓度为大于等于70％(v/v)的HF，以及硫酸(H2SO4)、水(H2O)，二氧化硫(SO2)、四氟化硅(SiF4)、氨(NH3)及二氧化碳(CO2)，其中，水含量不超过3％(v/v)，温度为20～60℃，压力为常压或微正压；包括如下步骤：
(1)中温变压吸附，原料气经冷热交换至60～80℃、常压或微正压，进入由两段变压吸附(PSA)组成的中温变压吸附工序，每段变压吸附至少2个以上的吸附塔组成，并且至少1个吸附塔处于吸附步骤，其余吸附塔处于包括降压逆放或抽真空、增压或终充的不同阶段的解吸步骤，原料气从第一段PSA(1#PSA)吸附塔底进入，1#PSA的操作压力为常压或微正压，操作温度为60～80℃，从处于吸附步骤的吸附塔顶部流出的非吸附相气体为精HF气体，经冷凝后的不凝气体经过水洗得到浓度为40％的HF水溶液外输，而经冷凝后形成的精HF液体进入下一个工序—HF精馏，从处于解吸步骤的1#PSA吸附塔的解吸气，从第二段PSA(2#PSA)的吸附塔底进入，2#PSA吸附塔的操作压力为常压或微正压，操作温度为60～80℃，从处于吸附步骤的2#PSA吸附塔顶流出的非吸附相的中间气体，与原料气混合返回至1#PSA吸附塔，而从2#PSA吸附塔底流出的解吸气为浓缩气体，进入后续的氨水脱碳工序，进一步回收有效组分；
(2)HF精馏，来自中温变压吸附工序并经冷凝形成的精HF液体，进入HF精馏工序的精馏塔，本工序的精馏塔采用上下两段精馏组成，精HF液体或从下段精馏的顶部或从上段精馏的底部进入，从上段精馏塔顶馏出的轻组分杂质气体，进入后续的尾气吸收工序，或从上段精馏的底部或从下段精馏的顶部馏出物经冷凝后所形成的不凝气体为AHF产品气，纯度大于等于99.99％，经冷凝后所形成的液体，作为上段或下段精馏的回流，从下段精馏的底部馏出的含少量重组分杂质组分的塔底物流体，经冷凝后所形成的不凝气体，返回至中温变压吸附工序，进一步回收有效组分，经冷凝后所形成的液体，返回至氟硅酸法制备AHF过程的冷凝器；
(3)氨水脱碳，来自中温变压吸附工序的浓缩气体，经过增压至常压或微正压后，进入由来自氟硅酸法制备AHF生产过程中产生的副产物氨水及反应物硫酸为吸收剂的氨水脱碳吸收塔，从吸收塔底形成的碳酸氢铵溶液，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的混合机，与来自氟硅酸法的反应炉产生的硫酸铵混合，形成硫酸铵，一部分作为副产品输出，一部分作为返料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中的预混合器，与氟化氢铵(NH4HF2)预混合后进入反应炉反应，而从吸收塔顶流出的不凝气体，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的冷凝器，进一步回收有效组分；
(4)尾气吸收，来自HF精馏工序的上段精馏塔顶馏出的轻组分杂质气体，进入以硫酸为吸收剂的尾气吸收塔，从吸收塔底形成氟硅酸溶液，作为原料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程的原料液循环使用，而从吸收塔顶流出的不凝气体，作为排放气直接排放。
进一步的，若所述原料气中HF体积浓度不高于78％，硫酸(H2SO4)体积浓度不低于2％、水(H2O)体积浓度不低于3％，二氧化硫(SO2)体积浓度不低于3％、四氟化硅(SiF4)体积浓度不低于4％、氨(NH3)体积浓度不低于5％、二氧化碳(CO2)体积浓度不低于3％，其余氯化氢(HCl)及氢气(H2)杂质，温度为20～25℃，压力为常压，则所述的中温变压吸附工序中的两段PSA吸附为，原料气进入1#PSA吸附塔，从处于吸附步骤的吸附塔顶流出的非吸附相气体的中间气体，直接进入2#PSA吸附塔，从其处于吸附步骤的吸附塔顶流出的非吸附相气体为精HF气体，经冷凝后的不凝气体再经水洗得到浓度为40％的HF水溶液外输，而经冷凝后形成的精HF液体进入HF精馏，从处于解吸步骤的1#PSA吸附塔底流出的解吸气，经冷凝后形成的液体与氟硅酸法制备AHF生产过程中的硫酸铵返料及预反应器流出的氟化氢铵混合进入预混合器，进而形成反应液进入反应炉继续反应，而冷凝后形成的不凝气体返回至1#PSA，进一步回收有效组分，从处于解吸步骤的2#PSA吸附塔底流出的解吸气为浓缩气体，进入后续的氨水脱碳工序，进一步回收有效组分。
进一步的，所述的中温变压吸附工序中的1#PSA吸附塔底流出的解吸气可作为2#PSA吸附塔处于升压或终充气体，或2#PSA吸附塔顶流出的非吸附相气体作为1#PSA吸附塔抽真空后的回填气升压或终充气体。
进一步的，所述的中温变压吸附工序中的吸附塔中装填有活性三氧化二铝、硅胶与分子筛的组合，其中，三种吸附剂的装填数量及分布取决于原料气HF浓度的大小与杂质组分含量的大小，并且在二段PSA吸附塔中的吸附剂装填数量分布也不经相同。
进一步的，所述的HF精馏工序中的返回至氟硅酸法制备HF生产过程中的氨水脱碳吸收工序，吸收剂包括来自氟硅酸法制备AHF生产过程的副产物氨水及硫酸混合溶液，来自HF精馏工序下段精馏底部的馏出物经冷凝后的液体，或来自中温变压吸附工序解吸气或浓缩气并经冷凝后所形成的液体。
更进一步的，氨水脱碳吸收工序的吸收剂从吸收塔上部喷淋而下，与从吸收塔底部进入的来自HF精馏工序上段精馏顶部馏出的轻组分杂质气体从进行逆向传质吸收，所形成的吸收液为碳酸氢铵与氟化氢铵溶液，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的混合机，与来自氟硅酸法的反应炉产生的硫酸铵混合，形成硫酸铵，一部分作为副产品输出，一部分作为返料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中的预混合器，与氟化氢铵(NH4HF2)预混合后进入反应炉反应，而从吸收塔顶流出的不凝气体，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的冷凝器，进一步回收有效组分。
进一步的，所述的HF精馏工序的精HF液体进口端，设置在上段底部或下段顶部，取决于原料气中包括H2O、H2SO4、SO2、SiF4、NH3、CO2主要杂质组分含量的大小。
与现有的技术相比本发明的有益效果是：
1)本发明将传统的氟硅酸法制备AHF生产过程中的AHF净化或精馏与脱气精馏的精制工艺替代，解决了AHF精制或受制于生产过程中前端工序含水量的调控及精馏受制于水含量的相平衡的问题，或吸附净化因吸附剂使用寿命短的问题，从而实现AHF产品的含水量小于100ppm的技术要求，AHF产品可用于半导体领域，填补了技术空白；
2)本发明利用氟硅酸法制备AHF过程中反应产生的反应气及其经冷凝后得到的不凝气体中各组分(HF为有效组分，H2O、H2SO4、SO2、SiF4、NH3、CO2为主要杂质组分)本身在不同压力与温度下的吸附/冷凝/精馏分离系数及物理化学性质的差异性，采取以两段中温变压吸附工序为主与冷凝、HF精馏与吸收耦合，使得中温变压吸附过程中吸附与解吸易于匹配和平衡的循环操作来进行分离与净化，从而实现HF的深度脱水与除杂，同时也副产40％的HF溶液；
3)本发明克服了现有化学吸附净化法因HF与吸附剂在低温下发生化学(敖合)反应进行吸附而在高温下发生分解反应进行解吸所导致的吸附与解吸频繁循环操作过程中的吸附剂损失率大的问题，同时，对含有水或硫酸或SiF4或NH3/CO2的氟硅酸法得到的粗HF或精HF，现有的化学吸附中的吸附剂因与水等杂质组分也会发生化学反应导致吸附剂粉化与失效严重而无法有效地进行深度脱水除杂，本发明采用物理吸附与精馏、吸收、冷凝耦合，可有效地避免这种现象，吸附剂的使用寿命大幅度延长；
4)本发明避免了AHF精制过程中单纯精馏过程包括精馏塔中部温度出现较大波动、塔底温度达不到要求、HF浓度波动较大导致的精馏效果差等问题的出现，因为本发明是先采用二段PSA将主要的重组分杂质先脱除大部分，使得进入HF精馏工序的HF浓度波动较小，并且采用上下二段精馏方式，从中实现AHF产品制备的深度脱水与除杂；
5)本发明在获得高纯度AHF产品生产的同时，通过中温变压吸附与HF精馏工序的物料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中前端的预混合反应或混合机，在进一步回收HF的同时，副产物作为返料或原料都可以返回至氟硅酸法制备AHF生产的各个环节循环利用，使得AHF产品收率超过了90％，并通过尾气吸收工序实现了尾气排放的达标。
附图说明
图1为本发明实施例1流程示意图；
图2为本发明实施例2流程示意图；
图3为本发明实施例3流程示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明，即所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
实施例1
如图1所示，一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，原料气来自氟硅酸法制备无水氟化氢(AHF)生产过程中经冷凝后产生的不凝气体，即粗氟化氢(HF)气体，HF浓度为90％(v/v)，硫酸(H2SO4)为1.5％、水(H2O)为1.5％，二氧化硫(SO2)为1.5％、四氟化硅(SiF4)1.5％、氨(NH3)为2.2％、二氧化碳(CO2)为1.5％，其余杂质为0.3％，温度为20～25℃，压力为常压。
具体实施步骤包括，
(1)中温变压吸附，原料气经换热器至60～70℃并经增压至0.2～0.3MPa，进入由两段变压吸附(PSA)组成的中温变压吸附工序，其中，第一段PSA(1#PSA)吸附塔为3个，1个吸附塔吸附，另外2个吸附塔分别进行降压与抽真空、原料气充压与终充的解吸步骤，原料气从第一段PSA(1#PSA)吸附塔底进入，1#PSA的操作压力为0.2～0.3MPa，操作温度为60～70℃，从1个处于吸附步骤的吸附塔顶部流出的非吸附相气体为精HF气体，经冷凝后的不凝气体，经过水洗得到浓度为40％的HF水溶液外输，而经冷凝后形成的精HF液体进入下一个工序—HF精馏，从1个处于降压与抽真空解吸步骤的1#PSA吸附塔底流出的解吸气，经增压至0.2～0.3MPa后，再从由3个吸附塔组成的第二段PSA(1#PSA)系统中处于吸附步骤的1个吸附塔底进入，2#PSA吸附塔的操作压力为0.2～0.3MPa，操作温度为60～70℃，从1个处于吸附步骤的2#PSA吸附塔顶流出的非吸附相的中间气体，与原料气混合返回至1#PSA吸附塔，进一步回收有效组分HF，而从1个处于降压与抽真空解吸2#PSA吸附塔底流出的解吸气为浓缩气体，进入后续的氨水脱碳工序，进一步回收有效组分；
(2)HF精馏，来自中温变压吸附工序并经冷凝形成的精HF液体，进入HF精馏工序的精馏塔，本工序的精馏塔采用上下两段精馏组成，精HF液体从下段精馏的顶部进入，上段精馏塔的操作温度为15～25℃，从上段精馏塔顶馏出的轻组分杂质气体，主要包括SO2、SiF4、NH3及少量的CO2等低沸点杂质组分，进入到尾气吸收工序，从上段精馏的底部馏出物经冷凝后所形成的不凝气体为AHF产品气，纯度大于等于99.99％，产品气收率大于90％，经冷凝后所形成的液体，作为上段精馏的回流，下段精馏的操作温度为25～100℃，从下段精馏的底部馏出的含少量重组分杂质组分的塔底物流体，含有残留的水、H2SO4、CO2，经冷凝后所形成的不凝气体，返回至中温变压吸附工序，进一步回收有效组分，经冷凝后所形成的液体，返回至氟硅酸法制备AHF过程的冷凝器，HF精馏的操作压力为0.03～0.2MPa。
(3)氨水脱碳，来自中温变压吸附工序的浓缩气体，经过增压至常压或微正压后，进入由来自氟硅酸法制备AHF生产过程中产生的副产物氨水及反应物硫酸为吸收剂的氨水脱碳吸收塔，从吸收塔底形成的碳酸氢铵溶液，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的混合机，与来自氟硅酸法的反应炉产生的硫酸铵混合，形成硫酸铵，一部分作为副产品输出，一部分作为返料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中的预混合器，与氟化氢铵(NH4HF2)预混合后进入反应炉反应，而从吸收塔顶流出的不凝气体，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的冷凝器，进一步回收有效组分。
(4)尾气吸收，来自HF精馏工序的上段精馏塔顶馏出的轻组分杂质气体，进入以硫酸为吸收剂的尾气吸收塔，从吸收塔底形成氟硅酸溶液，作为原料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程的原料液循环使用，而从吸收塔顶流出的不凝气体，作为排放气达标后直接排放。
实施例2
如图2所示，在实施例1基础上，原料气中HF浓度为78％(v/v)，硫酸(H2SO4)为2％、水(H2O)为3％，二氧化硫(SO2)为3％、四氟化硅(SiF4)为4％、氨(NH3)为5％、二氧化碳(CO2)为3％，其余氯化氢(HCl)及氢气(H2)等低沸点杂质组分总量为2％，温度为20～25℃，压力为常压，原料气经增压至0.2～0.3MPa后进入1#PSA吸附塔，从1个处于吸附步骤的吸附塔顶流出的非吸附相气体，直接进入2#PSA吸附塔，从其1个处于吸附步骤的吸附塔顶流出的非吸附相气体为精HF气体，经冷凝后的不凝气体，经过水洗得到浓度为40％的HF水溶液外输，而经冷凝后形成的精HF液体进入HF精馏，从处于解吸步骤的1#PSA吸附塔底流出的解吸气，经冷凝后形成的液体与氟硅酸法制备AHF生产过程中的硫酸铵返料及预反应器流出的氟化氢铵混合进入预混合器，进而形成反应液进入反应炉继续反应，而冷凝后形成的不凝气体返回至1#PSA，进一步回收有效组分，从处于解吸步骤的2#PSA吸附塔底流出的解吸气为浓缩气体，进入后续的氨水脱碳工序，进一步回收有效组分。
实施例3
如图3所示，在实施例1基础上，所述的HF精馏工序中的返回至氟硅酸法制备HF生产过程中的氨水脱碳吸收工序，采用的吸收剂是来自氟硅酸法制备AHF生产过程的副产物氨水及硫酸混合溶液，从吸收塔上部喷淋而下，与从吸收塔底部进入的来自HF精馏工序上段精馏顶部馏出的轻组分杂质气体从进行逆向传质吸收，所形成的吸收液为碳酸氢铵与氟化氢铵溶液，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的混合机，与来自氟硅酸法的反应炉产生的硫酸铵混合，形成硫酸铵，一部分作为副产品输出，一部分作为返料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中的预混合器，与氟化氢铵(NH4HF2)预混合后进入反应炉反应，而从吸收塔顶流出的不凝气体，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的冷凝器，进一步回收有效组分。
实施例4
如图3所示，在实施例1与3基础上，所述的HF精馏工序中的返回至氟硅酸法制备HF生产过程中的氨水脱碳吸收工序，采用的吸收剂是来自HF精馏工序下段精馏底部的馏出物经冷凝后的液体。
所述的HF精馏工序中的返回至萤石法制备HF生产过程中的尾气吸收工序，吸收剂为来自HF精馏工序下段精馏底部的馏出物经冷凝后的液体，从吸收塔上部喷淋而下，与从吸收塔底部进入的来自HF精馏工序上段精馏顶部馏出的轻组分杂质气体从进行逆向传质吸收，所形成的吸收液为氟硅酸溶液，作为副产品输出，而从吸收塔顶流出的不凝气体达到排放要求直接排放。
以上所述实施例仅表达了本申请的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本申请保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请技术方案构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。

Claims (9)

1.一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)中温变压吸附，原料气经冷热交换至60～80℃、常压或微正压，进入由两段变压吸附PSA组成的中温变压吸附工序，每段变压吸附至少2个以上的吸附塔组成，且至少1个吸附塔处于吸附步骤，其余吸附塔处于包括降压逆放或抽真空、增压或终充的不同阶段的解吸步骤，原料气从1#PSA吸附塔底进入，1#PSA的操作压力为常压或微正压，操作温度为60～80℃，从处于吸附步骤的吸附塔顶部流出的非吸附相气体为精HF气体，经冷凝后的不凝气体经过水洗得到浓度为40％的HF水溶液外输，而经冷凝后形成的精HF液体进入下一个工序—HF精馏，从处于解吸步骤的1#PSA吸附塔的解吸气，从2#PSA的吸附塔底进入，2#PSA吸附塔的操作压力为常压或微正压，操作温度为60～80℃，从处于吸附步骤的2#PSA吸附塔顶流出的非吸附相的中间气体，与原料气混合返回至1#PSA吸附塔，而从2#PSA吸附塔底流出的解吸气为浓缩气体，进入后续的氨水脱碳工序，进一步回收有效组分；
(2)HF精馏，来自中温变压吸附工序并经冷凝形成的精HF液体，进入HF精馏工序的精馏塔，本工序的精馏塔采用上下两段精馏组成，精HF液体或从下段精馏的顶部或从上段精馏的底部进入，从上段精馏塔顶馏出的轻组分杂质气体，进入后续的尾气吸收工序，或从上段精馏的底部或从下段精馏的顶部馏出物经冷凝后所形成的不凝气体为AHF产品气，纯度大于等于99.99％，经冷凝后所形成的液体，作为上段或下段精馏的回流，从下段精馏的底部馏出的含少量重组分杂质组分的塔底物流体，经冷凝后所形成的不凝气体，返回至中温变压吸附工序，进一步回收有效组分，经冷凝后所形成的液体，返回至氟硅酸法制备AHF过程的冷凝器；
(3)氨水脱碳，来自中温变压吸附工序的浓缩气体，经过增压至常压或微正压后，进入物氨水及反应物硫酸为吸收剂的氨水脱碳由来自氟硅酸法制备AHF生产过程中产生的副产吸收塔，从吸收塔底形成的碳酸氢铵溶液，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的混合机，与来自氟硅酸法的反应炉产生的硫酸铵混合，形成硫酸铵，一部分作为副产品输出，一部分作为返料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中的预混合器，与氟化氢铵(NH4HF2)预混合后进入反应炉反应，而从吸收塔顶流出的不凝气体，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的冷凝器，进一步回收有效组分。
2.如权利要求1所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，所述的原料气来自氟硅酸法制备无水氟化氢AHF生产过程中的反应气体经冷凝后产生的不凝气体，即粗氟化氢(HF)气体浓度为大于等于70％(v/v)的HF，以及硫酸(H2SO4)、水(H2O)，二氧化硫(SO2)、四氟化硅(SiF4)、氨(NH3)及二氧化碳(CO2)，其中，水含量不超过3％(v/v)，温度为20～60℃，压力为常压或微正压。
3.如权利要求1所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，还包括尾气吸收工序，来自HF精馏工序的上段精馏塔顶馏出的轻组分杂质气体，进入以硫酸为吸收剂的尾气吸收塔，从吸收塔底形成氟硅酸溶液，作为原料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程的原料液循环使用，而从吸收塔顶流出的不凝气体，作为排放气直接排放。
4.如权利要求1所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，若所述原料气中HF体积浓度不高于78％，硫酸(H2SO4)体积浓度不低于2％、水(H2O)体积浓度不低于3％，二氧化硫(SO2)体积浓度不低于3％、四氟化硅(SiF4)体积浓度不低于4％、氨(NH3)体积浓度不低于5％、二氧化碳(CO2)体积浓度不低于3％，其余氯化氢(HCl)及氢气(H2)杂质，温度为20～25℃，压力为常压，则所述的中温变压吸附工序中的两段PSA吸附为，原料气进入1#PSA吸附塔，从处于吸附步骤的吸附塔顶流出的非吸附相气体的中间气体，直接进入2#PSA吸附塔，从其处于吸附步骤的吸附塔顶流出的非吸附相气体为精HF气体，经冷凝后的不凝气体再经水洗得到浓度为40％的HF水溶液外输，而经冷凝后形成的精HF液体进入HF精馏，从处于解吸步骤的1#PSA吸附塔底流出的解吸气，经冷凝后形成的液体与氟硅酸法制备AHF生产过程中的硫酸铵返料及预反应器流出的氟化氢铵混合进入预混合器，进而形成反应液进入反应炉继续反应，而冷凝后形成的不凝气体返回至1#PSA，进一步回收有效组分，从处于解吸步骤的2#PSA吸附塔底流出的解吸气为浓缩气体，进入后续的氨水脱碳工序，进一步回收有效组分。
5.如权利要求1或4所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，所述的中温变压吸附工序中的吸附塔中装填有活性三氧化二铝、硅胶与分子筛的组合。
6.如权利要求1或4所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，所述的中温变压吸附工序中的1#PSA吸附塔底流出的解吸气可作为2#PSA吸附塔处于升压或终充气体，或2#PSA吸附塔顶流出的非吸附相气体作为1#PSA吸附塔抽真空后的回填气升压或终充气体。
7.如权利要求1或4所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，所述的HF精馏工序中的返回至氟硅酸法制备HF生产过程中的氨水脱碳吸收工序，吸收剂包括来自氟硅酸法制备AHF生产过程的副产物氨水及硫酸混合溶液，来自HF精馏工序下段精馏底部的馏出物经冷凝后的液体，或来自中温变压吸附工序解吸气或浓缩气并经冷凝后所形成的液体。
8.如权利要求7所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，氨水脱碳吸收工序的吸收剂从吸收塔上部喷淋而下，与从吸收塔底部进入的来自HF精馏工序上段精馏顶部馏出的轻组分杂质气体从进行逆向传质吸收，所形成的吸收液为碳酸氢铵与氟化氢铵溶液，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的混合机，与来自氟硅酸法的反应炉产生的硫酸铵混合，形成硫酸铵，一部分作为副产品输出，一部分作为返料返回至氟硅酸法制备AHF生产过程中的预混合器，与氟化氢铵(NH4HF2)预混合后进入反应炉反应，而从吸收塔顶流出的不凝气体，返回到氟硅酸法制备AHF生产过程中的冷凝器，进一步回收有效组分。
9.如权利要求1或4所述的一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂与净化方法，其特征在于，所述的HF精馏工序的精HF液体进口端，设置在上段底部或下段顶部。
CN202011484304.1A 2020-12-16 2020-12-16 一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法 Active CN112744788B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011484304.1A CN112744788B (zh) 2020-12-16 2020-12-16 一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011484304.1A CN112744788B (zh) 2020-12-16 2020-12-16 一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112744788A true CN112744788A (zh) 2021-05-04
CN112744788B CN112744788B (zh) 2022-09-23

Family

ID=75647931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011484304.1A Active CN112744788B (zh) 2020-12-16 2020-12-16 一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112744788B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022127018A1 (zh) * 2020-12-16 2022-06-23 浙江天采云集科技股份有限公司 一种工业级高浓度HF精制为电子级的FTrPSA分离与提纯方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0128998A2 (en) * 1983-02-11 1984-12-27 Air Products And Chemicals, Inc. Treatment process for commercial pellets to improve gas separation kinetics
CN1181716A (zh) * 1996-05-20 1998-05-13 高级技术材料公司 包含高工作量的物理吸附剂的流体贮藏和分送系统
CN1363412A (zh) * 2000-12-29 2002-08-14 普莱克斯技术有限公司 以高回收率回收高纯气体的改进变压吸附方法
CN1895996A (zh) * 2006-06-15 2007-01-17 南京工业大学 合成氨原料气吸附净化技术
CN101254387A (zh) * 2007-12-04 2008-09-03 魏玺群 分离含有氢及氯硅烷和/或氯化氢混合气体的变压吸附方法
CN102351147A (zh) * 2011-07-15 2012-02-15 清华大学 一种用于co2、h2s与h2混合气体分离的中温变压吸附方法
CN103043613A (zh) * 2013-01-17 2013-04-17 昆明道尔森科技有限公司 一种氟化物的制备方法
CN105008019A (zh) * 2013-01-09 2015-10-28 英瓦卡尔公司 利用真空变压吸附的产品气体浓缩器及与其相关联的方法
CN105749699A (zh) * 2016-03-31 2016-07-13 四川天采科技有限责任公司 一种全温程变压吸附气体分离提纯与净化的方法
CN108609583A (zh) * 2018-05-29 2018-10-02 四川天采科技有限责任公司 一种led-mocvd制程高浓度含氨尾气全温程变压吸附制氢再利用方法
CN108715436A (zh) * 2018-05-29 2018-10-30 四川天采科技有限责任公司 半导体制程常压废氢气全温程变压吸附提纯再利用的方法
CN111701433A (zh) * 2020-07-06 2020-09-25 北京赛科康仑环保科技有限公司 一种led-mocvd含氨废气资源化处理方法及其处理系统

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0128998A2 (en) * 1983-02-11 1984-12-27 Air Products And Chemicals, Inc. Treatment process for commercial pellets to improve gas separation kinetics
CN1181716A (zh) * 1996-05-20 1998-05-13 高级技术材料公司 包含高工作量的物理吸附剂的流体贮藏和分送系统
CN1363412A (zh) * 2000-12-29 2002-08-14 普莱克斯技术有限公司 以高回收率回收高纯气体的改进变压吸附方法
CN1895996A (zh) * 2006-06-15 2007-01-17 南京工业大学 合成氨原料气吸附净化技术
CN101254387A (zh) * 2007-12-04 2008-09-03 魏玺群 分离含有氢及氯硅烷和/或氯化氢混合气体的变压吸附方法
CN102351147A (zh) * 2011-07-15 2012-02-15 清华大学 一种用于co2、h2s与h2混合气体分离的中温变压吸附方法
CN105008019A (zh) * 2013-01-09 2015-10-28 英瓦卡尔公司 利用真空变压吸附的产品气体浓缩器及与其相关联的方法
CN103043613A (zh) * 2013-01-17 2013-04-17 昆明道尔森科技有限公司 一种氟化物的制备方法
CN105749699A (zh) * 2016-03-31 2016-07-13 四川天采科技有限责任公司 一种全温程变压吸附气体分离提纯与净化的方法
CN108609583A (zh) * 2018-05-29 2018-10-02 四川天采科技有限责任公司 一种led-mocvd制程高浓度含氨尾气全温程变压吸附制氢再利用方法
CN108715436A (zh) * 2018-05-29 2018-10-30 四川天采科技有限责任公司 半导体制程常压废氢气全温程变压吸附提纯再利用的方法
CN111701433A (zh) * 2020-07-06 2020-09-25 北京赛科康仑环保科技有限公司 一种led-mocvd含氨废气资源化处理方法及其处理系统

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
黄欢: "采用变压吸附法回收氯乙烯精馏尾气中的氯乙烯和乙炔", 《聚氯乙烯》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022127018A1 (zh) * 2020-12-16 2022-06-23 浙江天采云集科技股份有限公司 一种工业级高浓度HF精制为电子级的FTrPSA分离与提纯方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN112744788B (zh) 2022-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103991847B (zh) 电子级氢氟酸制备方法
CN112607707B (zh) 一种工业级高浓度HF精制为电子级的FTrPSA分离与提纯方法
CN101570318B (zh) 一种生产电子级氢氟酸的方法
CN109503312B (zh) 一种利用氯苯生产的副产氯化氢连续化生产氯乙烷的工艺
EP1947057A1 (en) Process for production of silicon tetrafluoride, and apparatus for the process
WO2023202270A1 (zh) 一种分级利用磷矿石中氟、硅资源的方法
CN112661115B (zh) 一种萤石法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法
CN212050528U (zh) 一种氟化氢高效提纯系统
CN107055477A (zh) 由氟硅酸制备氟化氢的方法及其装置
CN108163812B (zh) 一种氟化氢的制备方法、氢氟酸的制备方法
CN112744788B (zh) 一种氟硅酸法生产无水HF精制的FTrPSA深度脱水除杂的分离与净化方法
CN111186820A (zh) 一种高纯硫酸生产工艺及生产系统
CN112591711B (zh) 一种HF/HCl混合气体高纯度高收率的FTrPSA分离与净化提取方法
CN111484389A (zh) 一种联产高纯电子级氟化氢与氟化碳的生产工艺
CN115010091B (zh) 一种氟化氢的除杂方法、氟化氢的提纯方法、氟化氢的提纯装置
CN115487522B (zh) 氟化氢提纯系统及工艺
CN116354349A (zh) 一种氟硅酸生产氟化氢的脱氯方法及系统
CN105417556A (zh) 一种氟化氢铵的制备方法
KR101183367B1 (ko) 사불화규소 제조방법 및 이에 사용되는 제조장치
CN206970204U (zh) 用于氟硅酸制备氟化氢的装置
CN105174265B (zh) 回收系统及回收方法
CN103664713A (zh) 一种制备氟磺酰亚胺酸的方法及装置
CN112138524A (zh) 多晶硅还原工艺尾气的净化方法及净化系统
CN114870589B (zh) 一种六氟磷酸锂尾气综合利用的方法
CN219689347U (zh) 一种以氟硅酸为原料制备高纯四氟化硅的生产装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant