CN112650019A - 一种防静电铬版及其制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种防静电的铬版，其包括玻璃基板层、铬版图案层以及透明导电层，其中透明导电层可以铺设在玻璃基板层和铬版图案层之间，也可以铺设在铬版图案层的上表面，也可以分别在铬版图案层的上表面以及在玻璃基板层和铬版图案层之间各铺设一层透明导电层。本发明提供的铬版具有显著的防静电的性能，可以使铬版在储存、运输、周转以及生产使用过程中，降低被静电击伤的风险，有效的提高了铬版的使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及光罩领域，具体涉及一种防静电铬版及其制备工艺。
背景技术
随着铬版图案越来越精细，环境干燥、摩擦等因素都会导致铬版图案积累大量的静电电荷（Electric Static charge），这些静电电荷放电时，会导致光罩上的铬版图案被击穿、熔化或剥落，破坏图案的完整性，严重的会导致铬版报废。
为了解决生产过程中静电放电破坏光罩图案的问题，现有技术一般是采用离子风扇吹铬版表面、铬版金属接地、操作人员佩戴静电手环等措施，然而上述方法并不能使光罩从根源上有效地防止静电放电破坏铬版。公开号为CN102181838A的中国专利公开了一种铬版的制造工艺，该工艺是在真空的环境中对玻璃基板进行遮光层溅射镀膜和吸光层溅射镀膜，该工艺尽管能够从根本上解决铬版被静电放电破坏的问题，但是操作条件要求相对苛刻，操作过程比较繁琐，不适于工业化扩大应用。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种新型结构的防静电铬版，本发明提供的防静电铬版有效地解决了铬版储存、运输、周转以及生产使用过程中容易被静电放电破坏，而导致铬版图案完整性被破坏或铬版报废的问题。
具体的，本发明提供 了一种防静电铬版，它包括玻璃基板层、铬版图案层以及透明导电层，由于透明导电层的存在，使得静电电荷可以在铬版图案和透明导电层之间自由流动，避免聚集，从而避免放电击穿铬版图案。另一方面，该导电层的透明属性，使得铬版使用时，所需要的紫外光或可见光得以穿透玻璃基板和透明导电层，实现对光阻或干膜进行曝光。
材料方面，本发明提供的防静电铬版中的透明导电层的材料可以是氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格中的任意一种材料，也可以是氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格任意几种的组合。本发明涉及的铬版图案层由金属铬形成。
在一些具体的实施例中，透明导电层位于玻璃基板层、铬版图案层之间。
在另一些具体的实施例中，透明导电层位于铬版图案层的上表面。
在另一些具体的实施例中，在铬版图案层的上表面、以及玻璃基板层和铬版图案层之间各设有一层透明导电层。
本发明还涉及一种防静电铬版的制备工艺，所述的防静电铬版包括玻璃基板层、铬版图案层以及透明导电层，所述的工艺为将玻璃基板层、铬版图案层粘合在一起后，在铬版图案层的上表面铺设透明导电层，所述透明导电层的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合。
本发明还涉及一种防静电铬版的制备工艺，所述的防静电铬版包括玻璃基板层、铬版图案层以及透明导电层，所述的工艺为在玻璃基板层和铬版图案层之间一层铺设透明导电层，所述透明导电层的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合。
本发明还涉及一种防静电铬版的制备工艺，所述的防静电铬版包括玻璃基板层、铬版图案层以及透明导电层，所述的工艺为在玻璃基板层和铬版图案层之间、以及在铬版图案层的上表面各铺设透明导电层，所述透明导电层的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合，通常情况下，这两层透明导电层的材料可以相同，也可以不同。
本发明提供的铬版具有显著的防静电的性能，可以使铬版在储存、运输、周转以及生产使用过程中，降低被静电击伤的风险，有效的提高了铬版的使用寿命。
附图说明
图1为普通的铬版叠构侧视图；
图2为透明导电层铺设在玻璃基板层、铬版图案层之间的铬版叠构侧视图；
图3为透明导电层铺设在铬版图案层上表面的铬版叠构侧视图；
图4为在铬版图案层的上表面、以及玻璃基板层和铬版图案层之间各铺设一层透明导电层的铬版叠构侧视图；
图中，1-玻璃基板层，2-铬版图案层，3-透明导电层。
具体实施方式
为了使本发明的目的、特征和优点更加的清晰，以下结合附图及实施例，对本发明的具体实施方式做出更为详细的说明，在下面的描述中，阐述了很多具体的细节以便于充分的理解本发明，但是本发明能够以很多不同于描述的其他方式实施，因此本发明不受以下公开的具体实施的限制。
参见图2，本实施例提供了这样一种结构的铬版，其包括玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2，并且在玻璃基板层1和铬版图案层2之间设置有一层透明导电层3，本实施例中的透明导电层3的材料为氧化铟锡。本实施例提供的铬版的制作工艺为将玻璃基板层1、铬版图案层2粘合在一起后，在铬版图案层2的上表面铺设透明导电层3。
参见图2，本实施例提供了这样一种结构的铬版，其包括玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2，并且在玻璃基板层1和铬版图案层2之间设置有一层透明导电层3，本实施例中的透明导电层3的材料为氧化铟锡和石墨烯的组合。本实施例提供的铬版的制作工艺为将玻璃基板层1、铬版图案层2粘合在一起后，在铬版图案层2的上表面铺设透明导电层3。
参见图3，本实施例提供了这样一种结构的铬版，其包括玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2，并且在铬版图案层2的上表面设置有一层透明导电层3，本实施例中的透明导电层3的材料为碳纳米管。本实施例提供的铬版的制作工艺为在玻璃基板层1和铬版图案层2之间一层铺设透明导电层3。
参见图3，本实施例提供了这样一种结构的铬版，其包括玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2，并且在铬版图案层2的上表面设置有一层透明导电层3，本实施例中的透明导电层3的材料为碳纳米管和石墨烯的组合。本实施例提供的铬版的制作工艺为在玻璃基板层1和铬版图案层2之间一层铺设透明导电层3。
参见图4，本实施例提供了这样一种结构的铬版，其包括玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2，并且在玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2之间，以及在铬版图案层2的上表面各铺设有一层透明导电层3，这两层的透明导电层3的材料相同，均为氧化铟锡。本实施例提供的铬版的制作工艺为在玻璃基板层和铬版图案层之间、以及在铬版图案层的上表面各铺设透明导电层。
参见图4，本实施例提供了这样一种结构的铬版，其包括玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2，并且在玻璃基板层1和由金属铬形成的铬版图案层2之间，以及在铬版图案层2的上表面各铺设有一层透明导电层3，这两层的透明导电层3的材料不同，一层为氧化铟锡，另一层为碳纳米管和石墨烯的组合。本实施例提供的铬版的制作工艺为在玻璃基板层和铬版图案层之间、以及在铬版图案层的上表面各铺设透明导电层。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下做出若干等同替代或明显变型，而且性能或用途相同，都应当视为属于本发明由所提交的权利要求书确定的专利保护范围。
Claims (8)
1.一种防静电铬版，其特征在于，所述的防静电铬版包括玻璃基板层（1）、铬版图案层（2）以及透明导电层（3），所述透明导电层（3）的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合。
2.根据权利要求1所述的防静电铬版，其特征在于，所述的透明导电层（3）位于玻璃基板层（1）、铬版图案层（2）之间。
3.根据权利要求1所述的防静电铬版，其特征在于，所述的透明导电层（3）位于铬版图案层（2）的上表面。
4.根据权利要求1所述的防静电铬版，其特征在于，所述的铬版图案层（2）的上表面、以及玻璃基板层（1）和铬版图案层（2）之间各设有一层透明导电层（3）。
5.根据权利要求1所述的防静电铬版，其特征在于，所述的铬版图案层（2）由金属铬形成。
6.一种防静电铬版的制备工艺，其特征在于，所述的防静电铬版包括玻璃基板层（1）、铬版图案层（2）以及透明导电层（3），所述的工艺为将玻璃基板层（1）、铬版图案层（2）粘合在一起后，在铬版图案层（2）的上表面铺设透明导电层（3），所述透明导电层（3）的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合。
7.一种防静电铬版的制备工艺，其特征在于，所述的防静电铬版包括玻璃基板层（1）、铬版图案层（2）以及透明导电层（3），所述的工艺为在玻璃基板层（1）和铬版图案层（2）之间一层铺设透明导电层（3），所述透明导电层（3）的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合。
8.一种防静电铬版的制备工艺，其特征在于，所述的防静电铬版包括玻璃基板层（1）、铬版图案层（2）以及透明导电层（3），所述的工艺为在玻璃基板层（1）和铬版图案层（2）之间、以及在铬版图案层（2）的上表面各铺设透明导电层（3），所述透明导电层（3）的材料选自氧化铟锡、透明导电聚合物、石墨烯、碳纳米管、金属网格的一种或几种的组合。
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