CN112620254B - 盖板承载装置、盖板清洗装置和盖板的清洗方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种盖板承载装置、盖板清洗装置和盖板的清洗方法，盖板承载装置包括本体和设置于本体的气体通道，其中，本体包括两个沿第一方向分立的侧壁，与侧壁连接的底壁和由侧壁与底壁围合形成的容纳腔，容纳腔与曲面盖板的形状相匹配；气体通道的出气口设置于侧壁，气体通道用于向侧壁背离底壁的一侧吹出具有预设角度的气体，以阻挡流动体对曲面盖板的功能涂层的侵蚀。该盖板承载装置可防止位于曲面盖板朝向容纳腔一侧的表面受到流动体的破坏，从而可以保护曲面盖板以避免其性能受损、提高曲面盖板的良率。

Description

盖板承载装置、盖板清洗装置和盖板的清洗方法

技术领域

本发明属于显示设备技术领域，尤其涉及一种盖板承载装置、盖板清洗装置和盖板的清洗方法。

背景技术

柔性显示产品“3D全贴合”生产过程中，包括将玻璃盖板与面板贴合制程，此制程需要对玻璃盖板中用于与面板贴合的表面即贴合面进行等离子体清洁。现有技术中，在清洁过程中，存在着容易对曲面盖板的功能涂层造成损坏的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供了一种盖板承载装置、盖板清洗装置和盖板的清洗方法，该盖板承载装置可防止位于曲面盖板朝向容纳腔一侧的表面受到流动体的破坏，从而可以保护曲面盖板以避免其性能受损、提高曲面盖板的良率。

本发明实施例一方面提供了一种盖板承载装置，用于承载具有功能涂层的曲面盖板，所述盖板承载装置包括：

本体，所述本体包括两个沿第一方向分立的侧壁，与所述侧壁连接的底壁和由所述侧壁与所述底壁围合形成的容纳腔，所述容纳腔与所述曲面盖板的形状相匹配；

气体通道，设置于所述本体，所述气体通道的出气口设置于所述侧壁，所述气体通道用于向所述侧壁背离所述底壁的一侧吹出具有预设角度的气体，以阻挡流动体对所述曲面盖板的功能涂层的侵蚀。

本申请提供的上述盖板承载装置可避免在对曲面盖板的贴合面进行清洁时，损伤曲面盖板背离贴合面一侧的功能涂层，从而有助于提升曲面盖板的良率。

可选地，所述出气口的数量为至少一个。

上述实施方式中，出气口的数量为一个，便于节省制作工艺、节省制备时间。

可选地，至少一个所述出气口位于所述侧壁和所述底壁连接的部分，和/或，至少一个所述出气口沿所述侧壁中靠近所述容纳腔的一侧的侧边排列。

上述实施方式中，出气口位于侧壁和底壁连接的部分，或沿侧壁靠近容纳腔的一侧的侧边排列，从而便于吹出具有预设角度的气体，以在采用等离子体对曲面盖板的贴合面进行清洁时，阻止等离子体进入曲面盖板与盖板承载装置之间的间隙内，从而可以有效阻止等离子体与曲面盖板的功能涂层接触，有效保护功能涂层。

可选地，所述盖板承载装置还包括与所述气体通道的进气口连通的供气装置，所述进气口与所述供气装置通过气管连通，所述供气装置内设有洁净干燥的压缩空气。

上述实施方式中，采用盛有洁净干燥的压缩空气的供气装置与气体通道的进气口连通，从而使得气体通道的出气口吹出具有预设角度的洁净干燥的压缩空气，洁净干燥的压缩空气一方面阻挡等离子体，另一方面不会影响功能涂层的性能，从而有效防止功能涂层受损。

可选地，所述气管上设置有用于调节气体流量的调节阀。

上述实施方式中，用于连通气体通道的进气口与供气装置的气管上设置有调节阀，从而便于根据实际的等离子体发射情况调节气体喷出的流量，从而达到有效阻止等离子体的效果。

可选地，所述盖板承载装置还包括两个沿第二方向分立的外壁，所述底壁和所述侧壁与所述外壁连接；

所述侧壁、所述底壁和所述外壁共同围合形成所述容纳腔；

其中，所述第一方向和所述第二方向交叉。

上述实施方式中，盖板承载装置不仅可以承载双曲的曲面盖板，还可以承载四曲的曲面盖板，应用范围进一步扩大，从而可以提高盖板承载装置的利用率，节省工艺成本。

可选地，所述本体具有多个真空吸附通道，所述真空吸附通道包括真空进气口和真空出气口，所述真空进气口位于所述底壁朝向所述容纳腔的表面，所述真空出气口位于所述本体背离所述容纳腔的表面。

上述实施方式中，采用真空吸附的方式将本体与曲面盖板进行固定，可有效防止损坏曲面盖板，且固定与分离方便。

可选地，所述底壁朝向所述容纳腔的表面具有多个与所述真空进气口一一对应的真空吸盘。上述实施方式中，盖板承载装置的底壁采用真空吸盘吸附曲面盖板，真空吸盘采用柔性材质，从而可进一步保护曲面盖板，防止划伤等现象出现。

根据本发明的一个方面，还提供了一种盖板清洗装置，包括本发明第一方面提供的任意一种盖板承载装置，和等离子体发射装置，用于向所述曲面盖板的待清洗表面发射等离子体。

根据本发明的一个方面，还提供了一种盖板的清洗方法，应用本发明提供的盖板清洗装置，包括：

将具有功能涂层的曲面盖板设置于盖板承载装置的容纳腔内，所述功能涂层位于所述曲面盖板朝向所述盖板承载装置的一侧；

将所述盖板承载装置与所述等离子体发射装置对位，以使所述等离子体发射装置位于所述曲面盖板背离所述盖板承载装置一侧且与所述曲面盖板相对；

通过所述盖板承载装置的气体通道向所述侧壁背离所述底壁一侧吹出具有预设角度的气体；

通过所述等离子体发射装置向所述曲面盖板背离所述盖板承载装置的一侧表面发射等离子体，以对所述曲面盖板进行清洁。

与现有技术相比，本发明实施例提供的盖板承载装置，该盖板承载装置包括本体和气体通道，本体包括侧壁、底壁和容纳腔，在使用时，将曲面盖板放置于本体的容纳腔中，使得底壁与曲面盖板接触，从而承载该曲面盖板，侧壁围绕在曲面盖板周侧，以对曲面盖板进行防护，侧壁上形成有气体通道的出气口，气体通道用于向侧壁背离底壁的一侧吹出具有预设角度的气体，气体经排列在各个侧壁的各个出气口沿预设角度吹出，气体通道吹出的气体与流动体发生对流，以防止流动体与曲面盖板朝向容纳腔的一侧表面接触，防止位于曲面盖板朝向容纳腔一侧的表面的功能涂层受到该流动体的破坏，从而可以保护曲面盖板以避免其性能受损、提高曲面盖板的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种盖板承载装置的结构示意图；

图2是图1沿A-A的截面示意图；

图3是图2中B处的放大示意图；

图4是图1所示一种盖板承载装置的使用示意图；

图5是本发明实施例提供的一种盖板承载装置的气体流向示意图；

图6是本发明实施例提供的一种盖板清洗装置的结构示意图；

图7是本发明实施例提供的一种盖板的清洗方法的流程图。

附图标记：

1-曲面盖板；2-盖板承载装置；21-本体；211-侧壁；212-底壁；213-容纳腔；22-气体通道；221-出气口；3-等离子体发射装置；4-等离子体；5-气体。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

发明人长期研究发现，玻璃盖板包括用于与面板进行贴合的贴合面，玻璃盖板背离贴合面的一侧具有功能涂层，功能涂层包括防指纹涂层，在将玻璃盖板与面板进行贴合之前，需要对玻璃盖板的贴合面进行清洁，常用的清洁方式为等离子体清洁，在采用等离子体清洁之前，需要将玻璃盖板放置于玻璃盖板承载平台上，使得防指纹涂层位于玻璃盖板朝向玻璃盖板承载平台的一侧，在清洁过程中，等离子体作用在玻璃盖板的贴合面上，有助于去除贴合面的油性物质，但在玻璃盖板承载平台左右移动时，由于气流影响，产生的部分等离子体会越过贴合面进入玻璃盖板承载平台与玻璃盖板之间的间隙，然后与玻璃盖板的防指纹涂层接触，从而损坏防指纹涂层。

为了更好地理解本发明，下面结合图1至图7根据本发明实施例的盖板承载装置2、盖板清洗装置和盖板的清洗方法进行详细描述。

请参阅图1、图2和图3，本发明实施例提供了一种盖板承载装置2，用于承载具有功能涂层的曲面盖板1，盖板承载装置2包括本体21和设置于本体21的气体通道22，其中，本体21包括两个沿第一方向分立的侧壁211，与侧壁连接的底壁212和由侧壁211与底壁212围合形成的容纳腔213，容纳腔213与曲面盖板的形状相匹配；气体通道22的出气口221设置于侧壁211，气体通道22用于向侧壁211背离底壁212的一侧吹出具有预设角度的气体5，以阻挡流动体对曲面盖板1的功能涂层的侵蚀。

可以理解的是，第一方向指的是图1中的X方向，即沿其中一个侧壁211到另一个侧壁211的方向。

本发明实施例提供了一种盖板承载装置2，该盖板承载装置2包括本体21和气体通道22，本体21包括侧壁211、底壁212和容纳腔213，在使用时，如图4所示，将曲面盖板1放置于本体21的容纳腔213中，使得底壁212与曲面盖板1的功能涂层的区域接触，从而承载该曲面盖板1，侧壁211围绕在曲面盖板1的周侧，以对曲面盖板1进行防护，侧壁211上形成有气体通道22的出气口221，气体通道22用于向侧壁211背离底壁212的一侧吹出具有预设角度的气体5，气体5经排列在各个侧壁211的各个出气口221沿预设角度吹出，气体通道22吹出的气体5可以与流动体发生对流，防止流动体进入曲面盖板1与盖板承载装置2之间的间隙内，防止位于曲面盖板1朝向容纳腔213一侧的功能涂层受到该流动体的破坏，从而可以保护功能涂层以避免其性能受损、提高曲面盖板1的良率。

在一种可行的实施方式中，功能涂层可以为防指纹涂层，即本发明提供的盖板承载装置2可在对具有防指纹涂层的曲面盖板1进行等离子体4清洁时使用，该盖板承载装置2可以起到防止等离子体4破坏防指纹涂层的作用。本发明以此举例说明，但本发明提供的盖板承载装置不限于在采用等离子体4对具有防指纹涂层的曲面盖板1进行清洁时使用。

在进行曲面盖板1与面板的贴合之前，需要对曲面盖板1中用于与面板进行贴合的贴合面进行清洁，常用的清洁手段为采用等离子体4进行清洁，曲面盖板1中背离贴合面的一侧具有防指纹涂层，用于对贴合面进行清洁的等离子体4与防指纹涂层接触后会破坏防指纹涂层，从而造成防指纹功能的失效，采用本发明提供的盖板承载装置2，将具有防指纹涂层的曲面盖板1放置于容纳腔213中，防指纹涂层位于曲面盖板1朝向容纳腔213的一侧，在对贴合面进行等离子体4清洁之前，可以通过气体通道22吹出具有预设角度的气体5，在等离子体4朝向贴合面发射时，由气体通道22吹出的气体5可与等离子体4发生对流，阻止等离子体4与防指纹涂层接触，从而可以避免防指纹涂层受损，提高经等离子体4清洁后的曲面盖板1的良率。

具体地，气体5的预设角度为通过对流可阻止迎面吹来的流动体与功能涂层接触的角度，在上述实施方式中，如图5所示，预设角度a的范围为：沿垂直于侧壁211的表面的方向、至沿相切于底壁212的曲面及A点的方向，其中A点位于侧壁211背离底壁212一侧且朝向容纳腔213一侧的边沿上，从而可以在不影响等离子体4与贴合面接触的前提下，即保证清洁效果的前提下，阻止等离子体4与防指纹涂层接触。

具体地，底壁212包括相连接的平面和曲面，曲面与侧壁211连接。具体的，平面可以与具有功能涂层的曲面盖板1的平面部分相接触，曲面可以与具有功能涂层的曲面盖板1的曲面部分相接触。

在一种可行的实施方式中，出气口221的数量为至少一个。具体地，出气口221的数量可以为一个，便于节省制作工艺、节省制备时间。

在一种可行的实施方式中，至少一个出气口221位于侧壁211和底壁212连接的部分。可以理解，仅设置一个出气口221时，可以将该出气口221设置于侧壁211和底壁212连接的部分；当设置多个出气口221时，也可以将所有出气口221均设置于侧壁211和底壁212连接的部分。

上述实施方式中，出气口221位于侧壁211与底壁212连接的部分，从而便于吹出具有预设角度的气体5，以更好的阻挡迎面吹来的等离子体4。

在一种可行的实施方式中，如图3所示，出气口211的数量为多个且沿侧壁211的延伸方向排列，每个出气口221均位于侧壁211与底壁212连接的部分，具体的，相邻两个出气口221间隔排布，且相邻两个出气口221之间的距离相同。

在另一种可行的实施方式中，侧壁211上包括多个出气口221，具体地，多个出气口221位于侧壁211的背离底壁212一侧顶部表面，且多个出气口221沿侧壁211中靠近容纳腔213的一侧的侧边排列。具体的，相邻两个出气口221间隔排布，且相邻两个出气口221之间的距离相同。

上述实施方式中，出气口221位于侧壁211背离底壁212一侧的顶部表面，便于制作，且便于吹出具有预设角度的气体5，以便于阻挡沿垂直于底壁212朝向容纳腔213的表面的方向发射的等离子体4。

在一种可行的实施方式中，出气口221的数量为多个，至少一个出气口221位于侧壁211和底壁212连接的部分，且剩余多个出气口221位于侧壁211背离底壁212一侧的顶部表面。进一步地，可以将剩余多个出气口221沿侧壁211中靠近容纳腔213的一侧的侧边排列。通过此种设置方式，能更便于阻挡等离子体4。

在一种可行的实施方式中，盖板承载装置2还包括与气体通道22的进气口连通的供气装置(图中未画出)，进气口与供气装置通过气管连通，供气装置内设有洁净干燥的压缩空气。

上述实施方式中的洁净干燥的压缩空气供气装置可以为气泵等，供气装置用于向气体通道22提供洁净干燥的压缩空气，从而当由出气口221吹出气体5时，该气体5不仅可阻挡迎面吹来的等离子体4，即使与防指纹涂层接触也不会影响防指纹涂层的性能，同时即便有极少量气体5与贴合面接触也不会影响对贴合面的清洁效果。

在一种可行的实施方式中，气管上设置有用于调节气体5流量的调节阀，从而使得通过气体通道22吹出的气体5的流量可以调节，以保证气等离子体4流动体的对流效果，使得气体5可以将与该气体5发生对流的等离子体4全部阻挡，防止等离子体4与防指纹涂层接触，避免对防指纹涂层造成损坏。

在一种可行的实施方式中，如图4所示，侧壁211形成于底壁212相对的两个侧边，从而该盖板承载装置2可适用于双曲的曲面盖板1；或者，盖板承载装置2还包括两个沿第二方向分立的外壁(图中未画出)，底壁212、侧壁211与外壁连接；侧壁211、底壁212和外壁共同围合形成容纳腔213，其中，第二方向和第一方向交叉。从而该盖板承载装置2可适用于四曲的曲面盖板1，同时也适用于双曲的曲面盖板1。

在一个具体的实施例中，第二方向如图1中的Y方向，在本实施例中，第一方向和第二方向垂直。可知的，在其他实施例中，第一方向和第二方向的位置关系可以是除垂直外其他的交叉方式，具体可根据实际情况进行设置。

在一种可行的实施方式中，曲面盖板1通过真空吸附的方式与本体21贴合，本体21具有多个真空吸附通道(图中未画出)，真空吸附通道包括真空进气口和真空出气口，真空进气口位于底壁212朝向容纳腔213的表面，真空出气口位于本体21背离容纳腔213的表面。

上述实施方式中，盖板承载装置2采用真空吸附的方式固定待清洁的曲面盖板1，固定效果好且方便分离，分离后曲面盖板1上无残留。

在一种可行的实施方式中，底壁212朝向容纳腔213的表面具有多个与真空进气口一一对应的真空吸盘(图中未画出)。

上述实施方式中，盖板承载装置2通过真空吸盘吸附待清洁的曲面盖板1，真空吸盘与曲面盖板1的贴合面采用柔性材质制备，如硅胶，从而可对曲面盖板1进行保护，避免划伤曲面盖板1。

本发明还提供了一种盖板清洗装置，如图6所示，包括上述技术方案中提供的任意一种盖板承载装置2和等离子体发射装置，等离子体发射装置用于向曲面盖板1的待清洗表面发射等离子体4。

上述盖板清洗装置采用等离子体4清洗曲面盖板1的待清洗表面即贴合面，盖板清洗装置中包括盖板承载装置2，从而在对具有防指纹涂层的曲面盖板1进行清洁时，可以防止等离子体4对防指纹涂层造成损坏，从而可以提高曲面盖板1的良率。

本发明还提供了一种盖板的清洗方法，如图7所示，应用上述技术方案中提供的盖板清洗装置，包括：

S101：将具有功能涂层的曲面盖板1设置于盖板承载装置2的容纳腔213内，功能涂层位于曲面盖板1朝向盖板承载装置2的一侧；

S102：将盖板承载装置2与等离子体发射装置3对位，以使等离子体发射装置3位于曲面盖板1背离盖板承载装置2一侧且与曲面盖板1相对；

S103：通过盖板承载装置2的气体通道22向侧壁211背离底壁212一侧吹出具有预设角度的气体5；

S104：通过等离子体发射装置3向曲面盖板1背离盖板承载装置2的一侧表面发射等离子体4，以对曲面盖板1进行清洁。

上述盖板的清洗方法中，等离子体4的发射位于气体通道22吹出气体5之后，从而可在等离子体4开始发射时，靠近曲面盖板1边沿的等离子体4即与盖板承载装置2侧壁211上的出气口221中吹出的气体5发生对流，防止等离子体4沿曲面盖板1与盖板承载装置2之间的间隙进入容纳腔213，从而与防指纹涂层接触并损坏防指纹涂层，采用本发明提供的盖板清洗方法可有效防止等离子体4对防指纹涂层的损坏，从而进一步提高曲面盖板1的良率。

以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。

还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。

Claims (10)

1.一种盖板承载装置，用于承载具有防指纹涂层的曲面盖板，其特征在于，所述盖板承载装置包括：

本体，所述本体包括两个沿第一方向分立的侧壁，与所述侧壁连接的底壁和由所述侧壁与所述底壁围合形成的容纳腔，所述容纳腔与所述曲面盖板的形状相匹配；

气体通道，设置于所述本体，所述气体通道的出气口设置于所述侧壁，所述气体通道用于向所述侧壁背离所述底壁的一侧吹出具有预设角度的气体，所述具有预设角度的气体通过对流阻止迎面吹来的等离子体与所述防指纹涂层接触，以阻挡所述等离子体对所述曲面盖板的防指纹涂层的侵蚀、避免所述防指纹涂层受损。

2.根据权利要求1所述的盖板承载装置，其特征在于，所述出气口的数量为至少一个。

3.根据权利要求1所述的盖板承载装置，其特征在于，至少一个所述出气口位于所述侧壁和所述底壁连接的部分，和/或，至少一个所述出气口沿所述侧壁中靠近所述容纳腔的一侧的侧边排列。

4.根据权利要求1所述的盖板承载装置，其特征在于，所述盖板承载装置还包括与所述气体通道的进气口连通的供气装置，所述进气口与所述供气装置通过气管连通，所述供气装置内设有洁净干燥的压缩空气。

5.根据权利要求4所述的盖板承载装置，其特征在于，所述气管上设置有用于调节气体流量的调节阀。

6.根据权利要求1所述的盖板承载装置，其特征在于，还包括两个沿第二方向分立的外壁，所述底壁和所述侧壁与所述外壁连接；

所述侧壁、所述底壁和所述外壁共同围合形成所述容纳腔；

其中，所述第一方向和所述第二方向交叉。

7.根据权利要求1所述的盖板承载装置，其特征在于，所述本体具有多个真空吸附通道，所述真空吸附通道包括真空进气口和真空出气口，所述真空进气口位于所述底壁朝向所述容纳腔的表面，所述真空出气口位于所述本体背离所述容纳腔的表面。

8.根据权利要求7所述的盖板承载装置，其特征在于，所述底壁朝向所述容纳腔的表面具有多个与所述真空进气口一一对应的真空吸盘。

9.一种盖板清洗装置，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的盖板承载装置，

和等离子体发射装置，用于向所述曲面盖板的待清洗表面发射等离子体。

10.一种盖板的清洗方法，其特征在于，应用如权利要求9所述的盖板清洗装置，包括：

将具有防指纹涂层的曲面盖板设置于盖板承载装置的容纳腔内，所述防指纹涂层位于所述曲面盖板朝向所述盖板承载装置的一侧；

将所述盖板承载装置与所述等离子体发射装置对位，以使所述等离子体发射装置位于所述曲面盖板背离所述盖板承载装置一侧且与所述曲面盖板相对；

通过所述盖板承载装置的气体通道向所述侧壁背离所述底壁一侧吹出具有预设角度的气体；

通过所述等离子体发射装置向所述曲面盖板背离所述盖板承载装置的一侧表面发射等离子体，以对所述曲面盖板进行清洁。

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