CN112558430A - 光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机 - Google Patents

光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机，光罩位置匹配装置具有一空腔，内有一工作台，包括第一传感器、第二传感器和处理器，处理器存储有多个光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，工作台可在竖直方向上进行升降动作，并可在水平方向上进行旋转动作，第二传感器用于获取光罩的位置信息，处理器根据匹配对信息判断光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号匹配，若两者不匹配，则驱动工作台以调整光罩的位置。本发明通过增加第二传感器，并通过设置工作台在空腔的水平方向上进行旋转动作，从而使光罩的摆放位置与当前光刻机的机台型号相匹配，避免机台因识别不到光罩发生宕机，提高工作效率，减少人力成本，降低人为错误。

Description

光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机
技术领域
本发明涉及半导体设备技术领域，特别涉及一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机。
背景技术
光刻是指在光照作用下，将光罩上的图形转移到硅片上的技术，是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤。其中，光罩也称光掩模版或掩模版，其上刻有图形，一般需要在光罩表面上覆盖一层薄膜以保护图形。
在生产过程中，根据半导体厂生产的晶圆的层数不同，会用到不同的光罩，光刻机中一般能储存12～14块光罩。光罩一般放入光罩盒内保存，当光刻机中存储的光罩需要更替时，光刻机会通过转移装置进行光罩的更替，然后再根据生产工艺选取可用的光罩放置于掩模台上。
当半导体厂有多个由不同光刻机制造厂商出厂的光刻机时，就会出现同一块光罩需要进入不同厂商出厂的光刻机的情况，例如：某一半导体厂有不同厂商出厂的光刻机A和光刻机B，那么生产到晶圆的同一层需要用到的光罩就需同样适用于光刻机A和光刻机B，但是对于不同厂商出厂的光刻机或同一厂商出厂的不同型号的光刻机，需求的光罩摆放到掩模台上的位置是不同的，例如光刻机A与光刻机B需求的光罩摆放到掩模台上位置相差180度，如果以错误的位置将光罩摆放到掩模台上，会导致机台因无法识别到光罩发生宕机报警的情况。
目前，主要是通过人眼识别的方法来判断光罩位置是否摆放正确，发现错误后则需要人为手动通过光罩夹更正光罩的摆放位置，消耗人力与时间，也容易导致光罩破损。
发明内容
本发明的目的在于提供一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机，以解决现有技术中同一光罩不能每次同时满足不同厂商出厂的光刻机中对光罩位置的不同摆放需求，容易出现光罩在光刻机中摆放位置出错的情况，导致机台因无法识别到光罩发生宕机报警的问题。具体技术方案如下：
第一方面，本发明提供一种光罩位置匹配装置，用于调整光罩的摆放位置，所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设置有一工作台，所述光罩位置匹配装置包括第一传感器、第二传感器和处理器，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息；所述工作台用于承载光罩盒，所述光罩盒用于存储光罩，所述工作台可在所述空腔的竖直方向上进行升降动作，并可在所述空腔的水平方向上进行旋转动作；
所述第一传感器用于获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器；
所述处理器用于接收所述光罩盒的存储信息，并根据所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩，若所述光罩盒中没有存储所述光罩，则驱动所述工作台以将所述光罩装载进所述光罩盒；
所述第二传感器用于获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器；
所述处理器用于接收所述光罩的位置信息，并根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配，若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台以调整所述光罩的位置。
可选的，所述空腔内设置有三个供所述工作台停滞的区域，分别为位于空腔顶部的第一区域、位于空腔底部的第二区域以及位于空腔中部的第三区域；
所述第一传感器设置在所述第二区域的空腔侧壁上；
所述第二传感器设置在所述第三区域的空腔侧壁上。
可选的，所述光罩的一侧设有可识别图像；
所述第二传感器用于获取所述可识别图像在一水平面上相对于所述光罩的位置信息。
可选的，所述可识别图像为条形码或者二维码。
第二方面，本发明提供一种基于如第一方面所述的光罩位置匹配装置进行的光罩位置匹配方法，所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设置有一工作台，其特征在于，所述光罩位置匹配装置包括第一传感器、第二传感器和处理器，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，所述光罩位置匹配方法包括：将光罩盒放置在所述工作台上；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第一传感器处；
所述第一传感器获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器；
所述处理器接收所述光罩盒的存储信息，并根据所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩：
若所述光罩盒中没有存储所述光罩，则驱动所述工作台以将所述光罩装载进所述光罩盒；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第二传感器处；
所述第二传感器获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器；
所述处理器接收所述光罩的位置信息，并根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配：
若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台以调整所述光罩的位置。
可选的，所述空腔内设置有三个供所述工作台停滞的区域，分别为位于空腔顶部的第一区域、位于空腔底部的第二区域以及位于空腔中部的第三区域，所述第一传感器设置在所述第二区域的空腔侧壁上，所述第三传感器设置在所述第三区域的空腔侧壁上；
将光罩盒放置在所述工作台上，具体包括：
在所述第一区域处将所述光罩盒放置在所述工作台上；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第一传感器处，具体包括：
所述处理器驱动所述工作台在所述空腔的竖直方向上下降至所述第二区域处；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第二传感器处，具体包括：
所述处理器驱动所述工作台在所述空腔的竖直方向上上升至所述第三区域处。
可选的，所述光罩的一侧设有可识别图像；
所述第二传感器用于获取所述光罩的位置信息，具体包括：
所述第二传感器用于获取所述可识别图像在一水平面上相对于所述光罩的位置信息。
可选的，所述可识别图像为条形码或者二维码。
第三方面，本发明提供一种光刻机，包括掩模台、传送装置及如权利要求1-4任意一项所述的光罩位置匹配装置，所述传送装置用以将所述光罩从所述光罩位置匹配装置传送至所述掩模台上。
可选的，所述传送装置为机械手。
本发明提供的一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机，具有以下有益效果：其中所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设有一工作台，所述光罩位置匹配装置包括第一传感器、第二传感器和处理器，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，所述工作台用于承载光罩盒，所述工作台可在所述空腔的竖直方向上进行升降动作，并可在所述空腔的水平方向上进行旋转动作，在使用所述光罩位置匹配装置对光罩位置进行匹配时，先经所述第一传感器获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器，所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩，若无，先将所述光罩装载进所述光罩盒，然后经所述第二传感器获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器，所述处理器根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配，若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台以调整所述光罩的位置，使所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号相匹配。本发明通过在光罩位置匹配装置中增加第二传感器，以及通过设置工作台在空腔的水平方向上进行旋转动作，从而自动实现光罩的摆放位置与当前光刻机的机台型号相匹配，避免机台因识别不到光罩发生宕机，提高工作效率，减少人力成本，降低人为错误。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明一实施例提供的一种光罩位置匹配装置的结构示意图；
图2是本发明一实施例提供的一种光罩位置匹配方法的流程图；
其中，附图1～2的附图标记说明如下：
1-工作台；2-第一传感器；3-第二传感器；4-光罩盒；10-第一区域；20-第二区域；30-第三区域。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本发明提出的一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机作进一步详细说明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所述的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义至少是两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
如背景技术所述，当半导体厂有多个由不同光刻机制造厂商出厂的光刻机时，就会出现同一块光罩需要进入不同厂商出厂的光刻机的情况，例如：某一半导体有不同厂商出厂的光刻机A和光刻机B，那么生产到晶圆的同一层需要用到的光罩就需同样适用于光刻机A和光刻机B，但是对于不同厂商出厂的光刻机或同一厂商出厂的不同型号的光刻机，需求的光罩摆放到掩模台上的位置是不同的，例如光刻机A与光刻机B需求的光罩摆放到掩模台上位置相差180度，如果以错误的位置将光罩摆放到掩模台上，会导致机台因无法识别到光罩发生宕机报警的情况。目前，主要是通过人眼识别的方法来判断光罩位置是否摆放正确，发现错误后则需要人为手动通过光罩夹更正光罩的摆放位置，消耗人力与时间，也容易导致光罩破损。
因此，本发明的核心思想在于提供一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机，通过在光罩位置匹配装置中增加第二传感器，以及通过设置工作台在空腔的水平方向上进行旋转动作，从而自动实现光罩的摆放位置与当前光刻机的机台型号相匹配，避免机台因识别不到光罩发生宕机，提高工作效率，减少人力成本，降低人为错误。
为此，本发明实施例提供一种光罩位置匹配装置，用于调整光罩的摆放位置，请参阅图1，所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设置有一工作台1，所述光罩位置匹配装置包括第一传感器2、第二传感器3和处理器(图中未示出)，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息。例如，有一匹配对信息为光刻机A中光罩的摆放形式为a，又有一匹配对信息为光刻机B中光罩的摆放形式为b。
所述工作台1用于承载光罩盒4，所述光罩盒4用于存储光罩，所述工作台1可在所述空腔的竖直方向上进行升降动作，并可在所述空腔的水平方向上进行旋转动作。
具体的，请参阅图1，所述空腔内设置有三个供所述工作台1停滞的区域，分别为位于空腔顶部的第一区域10、位于空腔底部的第二区域20以及位于空腔中部的第三区域30，所述处理器可控制所述工作台1上升或下降至所述第一区域10或第二区域20或第三区域30处。
所述第一传感器2用于获取所述光罩盒4的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器。优选的，所述第一传感器2设置在所述第二区域20的空腔侧壁上。
所述处理器用于接收所述光罩盒4的存储信息，并根据所述存储信息判断所述光罩盒4是否存储有所述光罩，若所述光罩盒4中没有存储所述光罩，则驱动所述工作台1以将所述光罩装载进所述光罩盒4。
所述第二传感器3用于获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器。优选的，所述第二传感器3设置在所述第三区域30的空腔侧壁上。
进一步的，所述光罩的一侧设有可识别图像。具体的，所述第二传感器用于获取所述可识别图像在一水平面上相对于所述光罩的位置信息，例如，获取到一位置信息为所述可识别图像在一水平面上位于所述光罩的左上角，或者获取到一位置信息为所述可识别图像在一水平面上位于所述光罩的右下角。本实施例中，所述可识别图像包括但不限于是条形码，还可以是二维码或者其他的可识别图像，本实施例对此不作限制。
所述处理器用于接收所述光罩的位置信息，并根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配，若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台1以调整所述光罩的位置。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种基于如上所述的光罩位置匹配装置进行的光罩位置匹配方法，包括：
步骤S1，将光罩盒放置在所述工作台上。
具体的，在所述第一区域10处将所述光罩盒4放置在所述工作台1上。
步骤S2，所述处理器驱动所述工作台移动至所述第一传感器处。
具体的，所述第一传感器2设置在所述第二区域20的空腔侧壁上，所述处理器驱动所述工作台1在所述空腔的竖直方向上下降至所述第二区域20处。
步骤S3，所述第一传感器获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器。
步骤S4，所述处理器接收所述光罩盒的存储信息，并根据所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩：
若所述光罩盒中没有存储所述光罩，则执行步骤S5。
步骤S5，驱动所述工作台以将所述光罩装载进所述光罩盒。
若所述光罩盒中有存储所述光罩，则执行步骤S6。
步骤S6，所述处理器驱动所述工作台移动至所述第二传感器处。
具体的，所述第二传感器3设置在所述第三区域30的空腔侧壁上，所述处理器驱动所述工作台1在所述空腔的竖直方向上上升至所述第三区域30处。
步骤S7，所述第二传感器获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器。
具体的，所述光罩的一侧设有可识别图像，所述第二传感器3用于获取所述可识别图像在一水平面上相对于所述光罩的位置信息。
进一步的，在执行步骤S7之前，可通过所述第二传感器3先获取当前光刻机的机台型号，并将所述光刻机的机台型号发送至所述处理器。或者，事先在处理器内设置好当前光刻机的机台型号。
步骤S8，所述处理器接收所述光罩的位置信息，并根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配：
若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，例如，已知当前光刻机的机台型号为A0，其需求所述光罩在掩模台上的摆放位置是所述可识别图像在掩模台上位于所述光罩的右下角，其中所述掩模台为水平设置，但是，所述处理器接收到的光罩的位置信息为所述可识别图像在一水平面上位于所述光罩的左上角，则执行步骤S9。
步骤S9，所述处理器驱动所述工作台以调整所述光罩的位置。
具体的，针对上述举例情形，处理器经分析计算后驱动所述工作台1在空腔的水平方向上逆时针或者顺时针旋转180°，旋转完成后，驱动所述工作台1平移至所述光罩匹配装置的出口处，等待光刻机中传送装置将其传送至掩模台上。
基于同一发明构思，本发明还提供一种光刻机，包括掩模台、传送装置及如上所述的光罩位置匹配装置，所述传送装置用以将所述光罩从所述光罩位置匹配装置传送至所述掩模台上。具体的，所述传送装置为机械手。
综上所述，在本发明提供的一种光罩匹配装置及其匹配方法、光刻机，具有以下优点：其中所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设有一工作台，所述光罩匹配装置包括第一传感器、第二传感器和处理器，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，所述工作台用于承载光罩盒，所述工作台可在所述空腔的竖直方向上进行升降动作，并可在所述空腔的水平方向上进行旋转动作，在使用所述光罩位置匹配装置对光罩位置进行匹配时，先经所述第一传感器获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器，所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩，若无，先将所述光罩装载进所述光罩盒，然后经所述第二传感器获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器，所述处理器根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配，若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台以调整所述光罩的位置，使所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号相匹配。本发明通过在光罩位置匹配装置中增加第二传感器，以及通过设置工作台在空腔的水平方向上进行旋转动作，从而自动实现光罩的摆放位置与当前光刻机的机台型号相匹配，避免机台因识别不到光罩发生宕机，提高工作效率，减少人力成本，降低人为错误。
最后所应说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种光罩位置匹配装置，用于调整光罩的摆放位置，所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设置有一工作台，其特征在于，所述光罩位置匹配装置包括第一传感器、第二传感器和处理器，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息；
所述工作台用于承载光罩盒，所述光罩盒用于存储光罩，所述工作台可在所述空腔的竖直方向上进行升降动作，并可在所述空腔的水平方向上进行旋转动作；
所述第一传感器用于获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器；
所述处理器用于接收所述光罩盒的存储信息，并根据所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩，若所述光罩盒中没有存储所述光罩，则驱动所述工作台以将所述光罩装载进所述光罩盒；
所述第二传感器用于获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器；
所述处理器用于接收所述光罩的位置信息，并根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配，若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台以调整所述光罩的位置。
2.如权利要求1所述的光罩位置匹配装置，其特征在于，所述空腔内设置有三个供所述工作台停滞的区域，分别为位于空腔顶部的第一区域、位于空腔底部的第二区域以及位于空腔中部的第三区域；
所述第一传感器设置在所述第二区域的空腔侧壁上；
所述第二传感器设置在所述第三区域的空腔侧壁上。
3.如权利要求1所述的光罩位置匹配装置，其特征在于，所述光罩的一侧设有可识别图像；
所述第二传感器用于获取所述可识别图像在一水平面上相对于所述光罩的位置信息。
4.如权利要求3所述的光罩位置匹配装置，其特征在于，所述可识别图像为条形码或者二维码。
5.一种基于如权利要求1-4任意一项所述的光罩位置匹配装置进行的光罩位置匹配方法，所述光罩位置匹配装置具有一空腔，所述空腔内设置有一工作台，其特征在于，所述光罩位置匹配装置包括第一传感器、第二传感器和处理器，所述处理器存储有多个关于光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，所述光罩位置匹配方法包括：
将光罩盒放置在所述工作台上；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第一传感器处；
所述第一传感器获取所述光罩盒的存储信息，并将所述存储信息发送至所述处理器；
所述处理器接收所述光罩盒的存储信息，并根据所述存储信息判断所述光罩盒是否存储有所述光罩：
若所述光罩盒中没有存储所述光罩，则驱动所述工作台以将所述光罩装载进所述光罩盒；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第二传感器处；
所述第二传感器获取所述光罩的位置信息，并将所述位置信息发送至所述处理器；
所述处理器接收所述光罩的位置信息，并根据所述匹配对信息判断所述光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号相匹配：
若所述光罩的位置信息与光刻机的机台型号不相匹配，则驱动所述工作台以调整所述光罩的位置。
6.如权利要求5所述的光罩位置匹配方法，其特征在于，所述空腔内设置有三个供所述工作台停滞的区域，分别为位于空腔顶部的第一区域、位于空腔底部的第二区域以及位于空腔中部的第三区域，所述第一传感器设置在所述第二区域的空腔侧壁上，所述第三传感器设置在所述第三区域的空腔侧壁上；
将光罩盒放置在所述工作台上，具体包括：
在所述第一区域处将所述光罩盒放置在所述工作台上；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第一传感器处，具体包括：
所述处理器驱动所述工作台在所述空腔的竖直方向上下降至所述第二区域处；
所述处理器驱动所述工作台移动至所述第二传感器处，具体包括：
所述处理器驱动所述工作台在所述空腔的竖直方向上上升至所述第三区域处。
7.如权利要求5所述的光罩位置匹配方法，其特征在于，所述光罩的一侧设有可识别图像；
所述第二传感器用于获取所述光罩的位置信息，具体包括：
所述第二传感器用于获取所述可识别图像在一水平面上相对于所述光罩的位置信息。
8.如权利要求7所述的光罩位置匹配方法，其特征在于，所述可识别图像为条形码或者二维码。
9.一种光刻机，其特征在于，包括掩模台、传送装置及如权利要求1-4任意一项所述的光罩位置匹配装置，所述传送装置用以将所述光罩从所述光罩位置匹配装置传送至所述掩模台上。
10.如权利要求9所述的光刻机，其特征在于，所述传送装置为机械手。
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Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10279073A (ja) * 1997-04-07 1998-10-20 Nikon Corp マスク搬送装置
US6190807B1 (en) * 1998-07-22 2001-02-20 United Integrated Circuits Corp. Mask compatible with different steppers
JP2004241736A (ja) * 2003-02-10 2004-08-26 Nikon Corp 露光システム及び露光装置
US20050006266A1 (en) * 2003-07-08 2005-01-13 Hoya Corporation Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package
KR20070104841A (ko) * 2006-04-24 2007-10-29 닛본 세이고 가부시끼가이샤 노광 장치
CN101315514A (zh) * 2007-06-01 2008-12-03 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法
CN101464633A (zh) * 2007-12-17 2009-06-24 上海华虹Nec电子有限公司 多光罩平台的曝光系统及曝光方法
CN102445858A (zh) * 2011-11-28 2012-05-09 上海华力微电子有限公司 一种光刻机之间的工艺匹配方法
CN104166317A (zh) * 2014-08-27 2014-11-26 上海华力微电子有限公司 一种光罩自动派工控制方法及控制系统
CN107422611A (zh) * 2017-07-27 2017-12-01 中国电子科技集团公司第五十五研究所 一种实现asml不同型号光刻机套刻匹配的方法
CN111221221A (zh) * 2019-11-28 2020-06-02 上海华力微电子有限公司 光罩识别系统及其识别方法、光刻设备

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10279073A (ja) * 1997-04-07 1998-10-20 Nikon Corp マスク搬送装置
US6190807B1 (en) * 1998-07-22 2001-02-20 United Integrated Circuits Corp. Mask compatible with different steppers
JP2004241736A (ja) * 2003-02-10 2004-08-26 Nikon Corp 露光システム及び露光装置
US20050006266A1 (en) * 2003-07-08 2005-01-13 Hoya Corporation Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and mask blank package
KR20070104841A (ko) * 2006-04-24 2007-10-29 닛본 세이고 가부시끼가이샤 노광 장치
CN101315514A (zh) * 2007-06-01 2008-12-03 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法
CN101464633A (zh) * 2007-12-17 2009-06-24 上海华虹Nec电子有限公司 多光罩平台的曝光系统及曝光方法
CN102445858A (zh) * 2011-11-28 2012-05-09 上海华力微电子有限公司 一种光刻机之间的工艺匹配方法
CN104166317A (zh) * 2014-08-27 2014-11-26 上海华力微电子有限公司 一种光罩自动派工控制方法及控制系统
CN107422611A (zh) * 2017-07-27 2017-12-01 中国电子科技集团公司第五十五研究所 一种实现asml不同型号光刻机套刻匹配的方法
CN111221221A (zh) * 2019-11-28 2020-06-02 上海华力微电子有限公司 光罩识别系统及其识别方法、光刻设备

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