JP2014093474A - 露光装置の復旧方法、および露光装置 - Google Patents

露光装置の復旧方法、および露光装置 Download PDF

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Abstract

【課題】露光装置にて発生した異常に対する復旧時間の短縮化に有利な復旧方法を提供する。
【解決手段】基板上にパターンの像を露光する露光装置にて、ある処理(S102)が正常に終了しなかった場合に復旧させる方法であって、処理に対して、予め複数の処理方法が登録され、処理が実施されるごとに、処理が正常に終了したかを判断する工程(S103)と、処理を実施した回数と、処理が正常に終了した回数とを、処理の際に採用された処理方法に関連付けて、履歴情報として記憶する工程(S104、S110)と、処理が正常に終了しなかった場合には、履歴情報に基づいて複数の処理方法から次に採用する処理方法を選択する工程(S112)とを含む。
【選択図】図3

Description

本発明は、露光装置の異常発生時の復旧方法、および復旧を行う露光装置に関する。
露光装置は、半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの製造工程に含まれるリソグラフィー工程において、原版(レチクルなど)のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板(表面にレジスト層が形成されたウエハなど)に転写する装置である。近年、露光装置は、さらなる微細化だけでなく、稼働率の向上による高い生産性が求められており、一般に終日に渡り停止することなく稼働される。そのため、露光処理がなされない時間であるダウンタイムは、計画的なものであっても生産性に影響を与える。さらに、突発的に露光装置が使用できなくなった場合には、生産性の低下は、より大きなものとなる。そこで、稼働率の向上のために、ダウンタイムを抑えることがその1つであるが、特に露光装置に異常が発生した場合には、いかに迅速に装置を復旧させるかがポイントとなる。この復旧方法に関連し、特許文献1は、基板の位置合わせ計測において異常が発生した場合に、履歴情報として記憶されている複数の計測情報に基づいて算出した計測位置を基準として、基板の位置を再計測する露光装置を開示している。また、特許文献2は、予め異常状態とその対処方法を記憶しておき、機器に異常が発生した場合に速やかに対処するよう異常状態の情報を提示する産業用機器の遠隔保守システムを開示している。
特開2001−307998号公報 特許第3919294号公報
ここで、露光装置は、稼働中に異常が発生したと認識すると、異常の内容に応じてリトライ処理やパラメータの変更、調整などを実施し、この異常状態からの復旧を試みる。このときの異常状態に対する復旧方法は、従来、あらゆるプロセス、ロット、またはデバイスを想定していることで汎用(冗長)的なものである。したがって、復旧に際して、本来必要な処理だけでなく、冗長な処理も行うことも想定され、結果的に復旧時間が多くかかり、露光装置の生産性に影響を及ぼし得る。この点、特許文献1では、基板の位置合わせ計測に関するものとされており、位置合わせ計測以外の処理にて異常が発生した場合の復旧についての言及がない。また、特許文献2では、予め異常状態とその対処方法を記憶しておくものとされているが、異常が発生した場合にはその状態に関する情報を提示するのみで、その対処方法を実際にシステム側がどのように実施するかなどの言及がない。
本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、例えば、露光装置にて発生した異常に対する復旧時間の短縮化に有利な復旧方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明は、基板上にパターンの像を露光する露光装置にて、ある処理が正常に終了しなかった場合に復旧させる方法であって、処理に対して、予め複数の処理方法が登録され、処理が実施されるごとに、処理が正常に終了したかを判断する工程と、処理を実施した回数と、処理が正常に終了した回数とを、処理の際に採用された処理方法に関連付けて、履歴情報として記憶する工程と、処理が正常に終了しなかった場合には、履歴情報に基づいて複数の処理方法から次に採用する処理方法を選択する工程と、を含むことを特徴とする。
本発明によれば、例えば、露光装置にて発生した異常に対する復旧時間の短縮化に有利な復旧方法を提供することができる。
本発明の第1実施形態に係る露光装置のシステム構成を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る露光部の構成を示す図である。 本発明の第1実施形態に係る復旧方法の流れを示すフローチャートである。
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態に係る露光装置およびその復旧方法について説明する。本実施形態に係る露光装置は、一例として、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・リピート方式にてレチクルに形成されているパターン(例えば回路パターン)を被処理基板であるウエハ上(基板上)に転写する投影型露光装置とする。図1は、本実施形態の露光装置100のシステム構成を示すブロック図である。露光装置100は、ウエハ4(図2参照)に露光を施す露光部101と、後述する復旧方法に関連した、処理方法選択部102と、メイン処理部103と、処理判定部104と、履歴情報記憶部105とを含む。以下、まず露光部101について説明する。
図2は、露光部101の構成を示す概略斜視図である。露光部101は、露光用光源を含む不図示の照明系と、レチクル1を保持する不図示のレチクルステージと、投影光学系2と、チャック3を介してウエハ4を保持するウエハステージ5と、アライメント光学系6と、制御部7とを含む。レチクル1は、ウエハ4上に転写されるべきパターンが形成された、例えば石英ガラス製の原版である。また、ウエハ4は、表面上にレジスト(感光剤)が塗布された、例えば単結晶シリコンからなる基板である。なお、図2では、投影光学系2の光軸(本実施形態では鉛直方向)に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内で露光時のウエハ4の走査方向にX軸を取り、X軸に直交する非走査方向にY軸を取っている。レチクルステージは、レチクル1を保持しつつ、XY軸方向に可動である。投影光学系2は、照明系からの照射光で照明されたレチクル1上のパターンを所定の倍率(例えば1/2〜1/5)でウエハ4上に転写する。ウエハステージ5は、ウエハ4を保持しつつ、少なくともXY軸方向に可動である。アライメント光学系6は、レチクル1の上方に配置されている。まず、照明光学系9は、ファイバー10、集光レンズ11、ビームスプリッター(ハーフミラー)12、第1ミラー13、第2ミラー14、および対物レンズ15からなる光学系を介して、レチクル1に照明光を照射する。ここで、レチクル1を透過した照明光は、投影光学系2を介してウエハ4に到達する。一方、レチクル1およびウエハ4における反射光は、もと来た光路を戻り、ビームスプリッター12を透過した後、リレーレンズ16、エレクタレンズ17および空間フィルター18からなる光学系を介して、CCDカメラ19に結像される。制御部7は、露光部101の各構成要素の動作および調整などを制御し得る。特にアライメント計測時には、制御部7は、アライメント光学系6により取得したデータを処理し、この処理結果に基づいてステージ駆動系20に対してウエハステージ5を駆動させるアライメントの誤差補正処理を実行する。また、制御部7は、例えばコンピューターで構成され、露光部101の各構成要素に回線を介して接続され、プログラムなどにしたがって各構成要素の制御を実行し得る。なお、制御部7は、図2に示すように露光部101の他の部分と一体で(共通の筐体内に)構成してもよいし、露光部101の他の部分とは別体で(別の筐体内に)構成し、例えば、図1に示す露光装置100内の復旧処理に係る各ユニットと一体としてもよい。
図1に戻り、処理方法選択部(選択部)102は、露光装置100におけるなんらかの処理にて異常が発生し、その異常から復旧させる際に、後述の履歴情報記憶部105から履歴情報を取得し、最適な処理方法を選択する。メイン処理部103は、処理方法選択部102から処理方法を取得し、露光部101へ送信する。また、メイン処理部103は、処理実施後に露光部101から処理内容および処理結果を取得し、それらを処理情報として処理判定部104に送信する。処理判定部(判定部)104は、取得した処理情報から露光部101での処理結果が正常かまたは異常かを判断し、この判断結果を処理情報とともに履歴情報記憶部105に送信する。履歴情報記憶部(記憶部)105は、例えばハードディスクなどの磁気記憶媒体またはフラッシュメモリなどの不揮発性記憶媒体などであり、処理情報および判断結果を履歴情報として記憶する。なお、処理方法選択部102、メイン処理部103、および処理判定部104は、例えばコンピューター(ボードコンピューターを含む)で構成され得るが、それぞれ単体で構成されるのか、またはそれらが一体で構成されるのかなどは、特に限定するものではない。
次に、露光装置100による各種処理について説明する。一般に露光装置では、生産性の向上の観点から、可能な限りダウンタイムを抑える必要がある。これに関連し、本実施形態に係る露光装置100では、特に、ある処理工程にて異常が発生した場合に、異常を解消し、かつ正常な処理に戻す、以下のような復旧を実施することで、復旧時間の短縮化を図る。以下、本実施形態では、一例としてTVプリアライメント計測工程において計測に異常が発生した場合を想定し、その復旧方法について説明する。なお、TVプリアライメント計測とは、ウエハ4上に設けられているアライメントマークをアライメント位置に合わせるための計測であり、これにより大まかなウエハ4の位置合わせが実施される。このTVプリアライメント計測では、まず、先の計測にて、計測が正常に終了したときのウエハ位置(位置情報)を、装置オフセットとして記憶、更新しておく。そして、次の計測にて、その記憶された位置情報を読み込み、それを基準としてアライメントマークを検出する。
図3は、本実施形態に係る復旧方法を説明するための、露光装置100におけるウエハ搬入から露光までの一連の処理工程を示すフローチャートである。まず、露光対象のウエハ4が露光装置100に搬入されると(ステップS100)、処理方法選択部102は、履歴情報記憶部105から履歴情報を取得し、TVプリアライメント計測の最適な処理方法を選択する(ステップS101)。なお、最適な処理方法とは、評価項目を参照したうち最も優先度が高い処理方法、すなわち本実施形態では、最も成功率の高い処理方法をいう。
(表1)は、上記の履歴情報を含む、履歴情報記憶部105が保持し得る記憶情報の一例を示す表である。この記憶情報は、露光装置100において実施される各種の処理と、それらの処理を実施し得る複数の処理方法と、それらの処理方法に関連付けられた、履歴情報として記憶する処理回数、成功回数および成功率を含む。ここで、露光装置100において実施される各種の処理とは、稼働中に異常が発生し得る処理を示し、予め登録されるものである。本実施形態では、この処理として上記のとおりTVプリアライメント計測を取り上げるが、(表1)では、これ以外の処理としてフォーカス計測を例示している。処理方法とは、異常の発生が想定される処理によりそれぞれ異なるものであり、処理がTVプリアライメント計測の場合には、代替マーク使用、照明モード切替、マーク模索または代替ショット使用などが考えられ、本実施形態では、これら4つを有するものとする。ここで、「代替マーク使用」とは、計測対象のアライメントマークが崩れなどにより検出できない場合に、計測対象のアライメントマークを別のアライメントマークに変更して計測する方法である。「照明モード切替」とは、プロセスに応じた照明モードに切り替えて計測する方法であり、アライメントマークの検出力がプロセス要因で変化するため有効である。「マーク模索」とは、アライメント光学系6に対して再度計測対象のアライメントマークを模索させた上で、アライメントマークを再計測させる方法である。「代替ショット使用」とは、ウエハ4上に転写したショットがずれていることにより計測対象のアライメントマークが検出できない場合に、ショット(パターン転写領域)を変更してアライメントマークを計測する方法である。なお、参考として、処理がフォーカス計測の場合、処理方法としては、例えば、波長切替または調光などが考えられる。履歴情報に含まれる処理回数および成功回数は、以下に示す特定の処理工程にて、その都度記録(カウント)されるものである。また、成功率は、本実施形態における評価項目であり、成功回数を処理回数で割ることで算出される評価値である。なお、ステップS101において、最初の露光動作であるために、まだ履歴情報が記録されていない場合の処理方法は、予めユーザー側で決定しておく。
Figure 2014093474
次に、メイン処理部103は、選択された処理方法を露光部101へ送信し、制御部7は、アライメント光学系6に対し、選択された処理方法によりTVプリアライメント計測を実施させる(ステップS102)。例えば、現在の履歴情報が(表1)に示すようなものである場合、登録されている4つの処理方法のうち最も成功率が高い処理方法は、「代替マーク使用」である。したがって、このステップS102では、「代替マーク使用」によりTVプリアライメント計測が実施されることになる。次に、処理判定部104は、ステップS102にてTVプリアライメント計測が正常に終了したかどうかを判断する(ステップS103)。ここで、TVプリアライメント計測の結果が正常であるか異常であるかは、このとき計測されたアライメントマークと、予め用意されているアライメントマークのテンプレートとの相関度により判断される。この場合、処理判定部104は、相関度が、ある閾値を超えた場合には正常と判断し、超えなかった場合には異常と判断する。加えて、処理判定部104は、計測対象となるアライメントマークを検出できなかった場合も異常と判断する。一例として、ロット間や装置機差などによりアライメントマークの検出位置にオフセットが発生することがある。具体的には、ある露光装置Aで露光したウエハに対して、ある露光装置Bでウエハを位置合わせする場合、露光装置Aが有するオフセットにより、位置ずれが発生してしまう。この場合、相関度が閾値を超えないため、処理判定部104は、今回のTVプリアライメント計測については、正常に終了させることができず異常であると判断する。
処理判定部104は、ステップS103にて、TVプリアライメント計測が正常に終了したと判断した場合(YES)、次のステップS104に移行する。まず、処理判定部104は、履歴情報として、この成功時の処理方法を履歴情報記憶部105に記憶させる(ステップS104)。具体的には、処理判定部104は、ここでの処理方法でのTVプリアライメント計測の処理回数および成功回数を1回更新し、記憶する。次に、制御部7は、位置合わせ処理であるAGA(Advanced Global Alignment)計測を実施させる(ステップS105)。そして、制御部7は、ウエハ4に対する露光を実施させ(ステップS106)、一連の処理が終了する。
一方、処理判定部104は、ステップS103にて、TVプリアライメント計測が異常であると判断した場合、ステップS110に移行する。まず、処理判定部104は、履歴情報として、この異常時の処理方法を履歴情報記憶部105に記憶させる(ステップS110)。具体的には、処理判定部104は、ここでの処理方法でのTVプリアライメント計測の処理回数を1回更新し、記憶させる。一方、処理判定部104は、処理回数は更新させるものの、成功回数については更新しない。
次に、処理判定部104は、すべての処理方法(登録されている4つの処理方法)による計測を試みたかどうかを判断する(ステップS111)。ここで、処理判定部104は、まだすべての処理方法による計測を試みていないと判断した場合(NO)、ステップS112に移行する。次に、処理方法選択部102は、履歴情報記憶部105から履歴情報を取得し、未実施で、かつ、その中で最も成功率の高い処理方法を、次の処理方法として選択する(ステップS112)。例えば、今回のTVプリアライメント計測が「代替マーク使用」により実施され、そのときの計測が異常であると判断された場合、登録されている4つの処理方法のうち、残りの3つの処理方法が未実施である。そこで、この場合、処理方法選択部102は、残りの3つの処理方法のうち最も成功率が高い「マーク模索」を次の処理方法として選択することになる。そして、ステップS102に戻り、制御部7は、ステップS112にて選択された処理方法によるTVプリアライメント計測を実施させる。結果的に、露光装置100は、このような処理方法の選択と、選択された処理方法による計測を、異常が解消されるか、または登録されている処理方法を実施し尽くすまで繰り返すことになる。参考として、例えば、今回のTVプリアライメント計測にて「マーク模索」により計測したものの異常が解消されなかった場合、登録されている4つの処理方法のうち、未実施で、かつ、最も成功率の高い処理方法は、「照明モード切替」である。したがって、処理方法選択部102は、次に「照明モード切替」を処理方法として選択することになる。
一方、処理判定部104は、ステップS111にて、すべての処理方法による計測を試みた、すなわち登録されている処理方法をすべて実施したが、いずれの方法でも復旧させることができなかったと判断した場合(YES)、ステップS113に移行する。次に、処理方法選択部102は、オペレーターによるマニュアルオペレーションを選択し、露光装置100に含まれる不図示の表示部などにて、オペレーターに対して手動で復旧処理を行うよう促す。次に、ステップS113でのマニュアルオペレーションによる復旧が終了した後、ステップS102に戻り、制御部7は、TVプリアライメント計測を再度実施させる。次に、処理判定部104は、ステップS103にて、TVプリアライメント計測が正常に終了したと判断した場合には、ステップS104にて、新規の履歴情報として、この成功時の処理方法を履歴情報記憶部105に記憶させる。このとき、今回の処理方法でのTVプリアライメント計測は、初めて実施されるものであるから、処理判定部104は、その処理回数および成功回数を新たに1回更新し、記憶させる。
このように、本実施形態の復旧方法は、TVプリアライメント計測などの処理において異常が発生した場合、最も成功率が高い処理方法から順に復旧を試みる。したがって、本来必要ではない冗長な処理を実施することがないため、復旧時間を短時間とする可能性が高く、生産性への影響を極力抑えることができる。また、この復旧方法は、上記説明では対象処理(本実施形態が適用され得る処理)としてTVプリアライメント計測を例示したが、このTVプリアライメント計測に限らず、露光装置100におけるあらゆる処理を対象とすることができる。さらに、これとは反対に、この復旧方法は、対象処理をTVプリアライメント計測やフォーカス計測などの複数の処理とすることを必須とするものではなく、例えば、対象処理としてTVプリアライメント計測に特化したものとしてもよい。
以上のように、本実施形態によれば、露光装置にて発生した異常に対する復旧時間の短縮化に有利な復旧方法を提供することができる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る露光装置およびその復旧方法について説明する。本実施形態に係る露光装置およびその復旧方法の特徴は、第1実施形態で示す記憶情報に、さらに各処理方法に対応した複数の「処理条件」を含ませる点にある。(表2)は、第1実施形態に係る(表1)に処理条件の項目を追加した、本実施形態に係る記憶情報を示す表である。例えば、TVプリアライメント計測に対する処理方法の1つとして、「代替マーク使用」が存在するが、その中でも特定の条件により成功率が異なる。このような条件としては、例えば、アライメントマークの形状パターンが挙げられる。そこで、本実施形態では、この条件を「処理条件」として情報に含ませ、処理方法選択部102が、第1実施形態でいうステップS101およびS112において処理方法を選択する際には、処理方法とともに処理条件も加味した成功率を参照する。例えば、ステップS101において、現在の履歴情報が(表2)に示すようなものであると想定する。この場合、登録されている複数の処理方法および処理条件のうち、最も成功率が高い処理方法および処理条件の組み合わせは、処理方法が「代替マーク使用」で、かつ、処理条件が「形状パターンA」である。したがって、次のステップS102では、「代替マーク使用」かつ「形状パターンA」によりTVプリアライメント計測が実施されることになる。さらに、例えば、ステップS103において、今回のTVプリアライメント計測が「代替マーク使用」かつ「形状パターンA」により実施され、そのときの計測が異常であると判断された場合を想定する。この場合、以降のステップS112では、処理方法選択部102は、残りの処理方法および処理条件の組み合わせのうち最も成功率が高い「照明モード切替」かつ「波長:A、光量:B」を次の処理方法として選択することになる。本実施形態によれば、第1実施形態のときよりも細かく場合分けされて求められた成功率(評価項目)を利用するので、復旧を成功させる可能性をより向上させることができる。
Figure 2014093474
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態に係る露光装置およびその復旧方法について説明する。上記各実施形態では、評価項目として成功率を用い、処理方法および処理条件の選択を実施している。成功率を用いた復旧方法は、その選択された処理方法に係る処理時間を考慮していないが、生産性の低下を抑える観点で言えば、処理時間は短い方がよい。ここで、処理時間とは、ある処理を実施した際の処理開始から処理終了までの平均処理時間をいう。一方、場合によっては、処理時間の短縮を優先するよりも、高精度な処理を優先したいというユーザー側の要求も考えられる。その場合には、評価項目として精度(処理がTVプリアライメント計測の場合は計測精度)を使用することもあり得る。ここで、精度とは、ある処理を実施した際の誤差(ずれ量)の平均値をいい、この値が小さいほど、その処理方法は、高精度に実施される。これらのことを考慮し、本実施形態では、第1実施形態で示す履歴情報に、さらに各処理方法に対応した複数の「処理時間」と「精度」とを含ませる。(表3)は、第1実施形態に係る(表1)に対応し、履歴情報として成功率の他に処理時間と精度とを追加した、本実施形態に係る記憶情報を示す表である。
Figure 2014093474
ここで、処理方法選択部102における評価項目の値((表3)に記載の値)の優先判断を容易とするために、ここでは、以下のように評価項目の評価値という概念を導入する。(表4)は、(表3)の履歴情報の成功率、処理時間、および精度を評価項目として、一例としてTVプリアライメント計測の各処理方法に対する評価値を算出した結果を示す表である。評価値は、評価項目ごとに0が最小で1が最大となるように正規化されている。まず、評価値が高い方が高評価となる処理方法の場合の評価値は、評価項目の値を全評価項目の値の和で除した値となる。例えば、成功率がこれに該当し、上記実施形態でいう成功率と同様である。一方、評価値が低い方が高評価となる処理方法の場合の評価値は、全評価項目の値の和と評価項目の値との差を全評価項目の値の和で除した値となる。例えば、処理時間と精度とがこれに該当する。参考として、処理方法が「代替マーク使用」で、評価項目が「処理時間」である場合の評価値を(表3)の値から算出すると、{(10+30+120+60)−10}/(10+30+120+60)=0.955となり、(表4)に記載のとおりとなる。
Figure 2014093474
さらに、上記のように複数の評価項目(評価値)が存在すると、露光装置100におけるプロセス、ロット、またはデバイスの違いなどにより、これらの評価項目のうちどれを優先するかが変わる場合がある。これは、露光装置100を用いるデバイスの製造工程にて、生産性を重視するか、または精度を重視するかに関わってくる。そこで、プロセス、ロット、またはデバイスに応じて複数の評価値に対して重み付けを行い、総合的な評価値を算出し利用することもあり得る。(表5)は、(表4)の履歴情報の成功率、処理時間、および精度を評価項目として、TVプリアライメント計測の各処理方法に対する総合的な評価値を算出した結果を示す表である。総合的な評価値は、(表4)に示す評価項目ごとの評価値と、評価項目ごとに設定される重みとの積算値の和の値となる。ここで、本実施形態では、評価項目のそれぞれに対する重みは、一例として、成功率は「3」、処理時間は「2」、精度は「1」とした。すなわち、この例では、処理の成功率を重視し、精度については、やや軽視した重みとしている。参考として、処理方法が「代替マーク使用」である場合の評価値を(表4)の値から算出すると、(0.8×3)+(0.955×2)+(0.789×1)=5.098となり、(表5)に記載のとおりとなる。(表5)によると、総合的な評価値が最も高い処理方法は、「代替マーク使用」である。すなわち、処理方法選択部102が、TVプリアライメント計測に異常が発生した際にまず選択するのは、この「代替マーク使用」ということになる。
Figure 2014093474
このように、本実施形態によれば、復旧時間の短縮化のみならず、復旧に際し高精度な処理を実施する(選択する)ことも可能となる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
100 露光装置
101 露光部
102 処理方法選択部
104 処理判定部
105 履歴情報記憶部

Claims (11)

  1. 基板上にパターンの像を露光する露光装置にて、ある処理が正常に終了しなかった場合に復旧させる方法であって、
    前記処理に対して、予め複数の処理方法が登録され、
    前記処理が実施されるごとに、該処理が正常に終了したかを判断する工程と、
    前記処理を実施した回数と、前記処理が正常に終了した回数とを、該処理の際に実施された前記処理方法に関連付けて、履歴情報として記憶する工程と、
    前記処理が正常に終了しなかった場合には、前記履歴情報に基づいて前記複数の処理方法から次に実施する前記処理方法を選択する工程と、
    を含むことを特徴とする復旧方法。
  2. 前記履歴情報は、特定の評価項目を有し、
    前記処理方法を選択する工程では、前記評価項目を参照し、優先度の高いものから選択される、
    ことを特徴とする請求項1に記載の復旧方法。
  3. 前記処理を実施した回数と、前記処理が正常に終了した回数とは、前記処理方法に加えて、さらに該処理方法に対する複数の処理条件ごとに関連付けられて記憶されることを特徴とする請求項1または2に記載の復旧方法。
  4. 前記評価項目は、前記処理が正常に終了した回数を、前記処理を実施した回数で割ることで算出される成功率であることを特徴とする請求項2または3に記載の復旧方法。
  5. 前記評価項目は、前記成功率に加え、前記処理方法の処理時間を含むことを特徴とする請求項4に記載の復旧方法。
  6. 前記評価項目は、前記成功率に加え、前記処理方法の精度を含むことを特徴とする請求項4に記載の復旧方法。
  7. 前記優先度は、複数の前記評価項目に対して重み付けを行った上で決定されることを特徴とする請求項5または6に記載の復旧方法。
  8. 前記処理は、プリアライメント計測であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の復旧方法。
  9. 前記処理方法は、代替マーク使用、照明モード切替、マーク模索、または代替ショット使用の少なくとも1つの方法を含むことを特徴とする請求項8に記載の復旧方法。
  10. 前記処理は、複数あり、
    前記複数の処理のそれぞれに対して、予め複数の処理方法が登録される、
    ことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の復旧方法。
  11. 基板上にパターンの像を露光する露光装置であって、
    ある処理に対する複数の処理方法を記憶する記憶部と、
    前記処理が実施されるごとに、該処理が正常に終了したかを判断し、前記処理を実施した回数と、前記処理が正常に終了した回数とを、該処理の際に実施された前記処理方法に関連付けて、履歴情報として前記記憶部に記憶させる判定部と、
    前記処理が正常に終了しなかった場合に、前記履歴情報に基づいて前記複数の処理方法から次に実施する前記処理方法を選択する選択部と、
    を有することを特徴とする露光装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016096269A (ja) * 2014-11-14 2016-05-26 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
CN111830792A (zh) * 2019-04-18 2020-10-27 佳能株式会社 基板处理装置、物品制造方法、基板处理方法、基板处理系统、管理装置和存储介质
JP2021051200A (ja) * 2019-09-25 2021-04-01 キヤノン株式会社 判断装置
JP2021060592A (ja) * 2020-12-08 2021-04-15 キヤノン株式会社 情報処理装置、決定方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6808684B2 (ja) * 2018-06-14 2021-01-06 キヤノン株式会社 情報処理装置、判定方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法
JP7309639B2 (ja) * 2020-03-13 2023-07-18 キオクシア株式会社 半導体装置製造システム、半導体装置製造プログラム、及び半導体装置の製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016096269A (ja) * 2014-11-14 2016-05-26 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
CN111830792A (zh) * 2019-04-18 2020-10-27 佳能株式会社 基板处理装置、物品制造方法、基板处理方法、基板处理系统、管理装置和存储介质
JP2020177143A (ja) * 2019-04-18 2020-10-29 キヤノン株式会社 基板処理装置、物品製造方法、基板処理方法、基板処理システム、管理装置、およびプログラム
JP7278138B2 (ja) 2019-04-18 2023-05-19 キヤノン株式会社 基板処理装置、物品製造方法、基板処理方法、基板処理システム、管理装置、およびプログラム
CN111830792B (zh) * 2019-04-18 2024-01-02 佳能株式会社 基板处理装置、物品制造方法、基板处理方法、基板处理系统、管理装置和存储介质
JP2021051200A (ja) * 2019-09-25 2021-04-01 キヤノン株式会社 判断装置
JP7373340B2 (ja) 2019-09-25 2023-11-02 キヤノン株式会社 判断装置
JP2021060592A (ja) * 2020-12-08 2021-04-15 キヤノン株式会社 情報処理装置、決定方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法
JP7267986B2 (ja) 2020-12-08 2023-05-02 キヤノン株式会社 情報処理装置、判定方法、算出方法、プログラム、リソグラフィシステム、および物品の製造方法

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