CN112540525B - 一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法 - Google Patents

一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112540525B
CN112540525B CN202011384155.1A CN202011384155A CN112540525B CN 112540525 B CN112540525 B CN 112540525B CN 202011384155 A CN202011384155 A CN 202011384155A CN 112540525 B CN112540525 B CN 112540525B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mold
interference fringe
manufacturing
interference
dimensional
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202011384155.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112540525A (zh
Inventor
牟维忠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN202011384155.1A priority Critical patent/CN112540525B/zh
Publication of CN112540525A publication Critical patent/CN112540525A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112540525B publication Critical patent/CN112540525B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/10Moulds; Masks; Masterforms
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • G03H2001/0284Replicating a master hologram without interference recording by moulding
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03HHOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276Replicating a master hologram without interference recording
    • G03H2001/0288Replicating a master hologram without interference recording by electroforming

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

本公开涉及全息技术领域,具体提供一种干涉条纹模具制造方法及其模具与复制方法。包括如下步骤,(1)在三维模具表面复合相干波敏感材料;(2)通过三维空间光路记录干涉条纹,使三维模具复合敏感材料层上载有干涉条纹;三维空间光路的记录方法为:根据待记录信息内容的特点设置合适的三维空间光路,根据要求记录信息于敏感材料层;(3)将载有干涉条纹的三维模具进行多次反转复制,最终得到带有一定硬度的干涉条纹模具。解决现有技术中平面模板变形成三维模板复制干涉条纹导致全息幻彩图案变形或消失,复制后的全息幻彩图像只有单一观察方向和视角狭小的问题。

Description

一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法
技术领域
本公开涉及全息技术领域,具体提供一种干涉条纹模具制造方法及其模具与复制方法。
背景技术
这里的陈述仅提供与本公开有关的背景信息,而不必然构成现有技术。
随着防伪技术及全息幻彩工艺品技术的普及,人们开始利用干涉现象实现美观,防伪等需求,因此,干涉条纹复制技术应运而生,所谓干涉条纹复制技术,即将干涉条纹信息记录在模板上,然后利用模板复刻干涉条纹,所复刻的干涉条纹与原干涉条纹完全相同,当然,模板通常是反刻的。
现有技术中全息幻彩图案的加工通常在平面模板上进行,现有技术中有一种在三维模板上进行复刻的方法,具体是先在平面模板上复刻,然后将平面模板变形成三维模板,但发明人发现,变形而成的三维模板上全息幻彩图案因干涉条纹变形受损致全息幻彩图案变形或消失,而无法完成理想的全息幻彩三维复刻。
发明人还发现,由于现有技术中制备全息幻彩图案的过程中,大多在一个平面内设计光路,从单一平面方向记录干涉条纹于平面模板上,导致记录的全息幻彩图像只有狭小的视角和单一观察方向,即其它方向无法看到记录信息,难以满足视觉要求。
发明内容
针对现有技术中由平面模板变形而成的三维模板上复制干涉条纹导致全息幻彩图案变形或消失,记录的全息幻彩图像也只有狭小的视角和单一的观察方向。
本公开一个或一些实施方式中,提供一种干涉条纹三维模具制造方法,包括如下步骤,
(1)在待成型件外表面之整体或局部复合相干波敏感材料;
(2)通过三维空间光路,即引入三维空间中多个方向参考光记录干涉条纹,使相干波敏感材料层上获得浅浮雕型干涉条纹沟槽;
三维空间光路的记录方法为:根据待记录内容的透射或反射程度设置合适的三维空间光路,再根据待记录内容特点及其再现方式的要求,引入三维空间中多个方向光线记录干涉条纹,记录干涉条纹于敏感材料层;
(3)将载有浅浮雕型干涉条纹的三维模具进行多次反转复制,最终得到带有一定硬度干涉条纹模具。
本公开一个或一些实施方式中,提供上述干涉条纹三维模具制造方法制得的干涉条纹三维模具。
本公开一个或一些实施方式中,提供一种干涉条纹复制方法,其特征在于,包括如下步骤:将上述敏感材料用上述记录方法记录干涉条纹于所述敏感层。
上述技术方案中的一个或一些技术方案具有如下优点或有益效果:
1)以往对三维成型或硬度较低材料进行压制加工,大多仅限于成型,而不能或不能完好地同步复制干涉条纹。相似技术为对带有干涉条纹的非三维金属板经变形加工后再做三维成型加工。其致命弱点为:对带有干涉条纹的金属板的变形加工会使干涉条纹变形或消失,而无法或完好地实现干涉条纹的复制。而本公开首先将相干波敏感材料以适合方式直接复合于所述表面之整体或局部,然后用两步法将相干波干涉条纹以适合方式直接记录于相干波敏感材料层,并通过对三维模具表面的电铸、反转复制,获得带有浅浮雕型相干波干涉条纹的模具,所述干涉条纹模具使可软化材料及硬度低的材料三维成型并同步复制干涉条纹成为可能。
2)以往,干涉条纹或全息幻彩图像的记录光路其设置都是基于同一个水平面,即所有光学元器件的轴心都在同一个水平面上,而非在不同平面的三维空间中。其缺点是:限制了所记录干涉条纹或全息幻彩图像的照射方向,进而限制了观察干涉条纹或全息幻彩图像的视角和观察方向,不利于视觉体验。本公开则通过三维空间光路设置,引入三维空间上下左右多个方向参考光束,被摄对象能获得更多透射及反射照明,敏感材料可接收更多方向的参考光和被摄物信息。其优点在于:所记录干涉条纹或全息幻彩图像具有更大观察视角及更多观察方向,改善观察体验。
3)以往的干涉条纹或全息幻彩图像复制都是平面到平面的复制。例如,模压复制,是利用模压机将平面金属镍板上的干涉条纹或全息幻彩图像复制到平面的薄膜上;烫印复制,是利用烫印机将金属镍板上的全息幻彩图像烫印到平面的其它材料上;均是平面到平面上的复制。而本公开通过直接复合敏感材料于所述整体或局部,直接记录干涉条纹或全息幻彩图像于复合敏感材料的所述整体或局部,实现了可软化材料的三维成型并同步复制干涉条纹或全息幻彩图像,同时实现了干涉条纹或全息幻彩图像的三维到三维的立体复制,并得到比以往更好的观察体验。其优点在于:可以在后面的三维成型并同步复制干涉条纹过程中避免因变形加工致干涉条纹受损或消失而不能完好复制。
附图说明
构成本公开一部分的说明书附图用来提供对本公开的进一步理解,本公开的示意性实施例及其说明用于解释本公开,并不构成对本公开的不当限定。
图1为实施例1记录干涉条纹第一步所述三维光路俯视投影示意图。
图2为实施例1记录干涉条纹第二步所述三维光路俯视投影示意图。
图3为现有技术中平面光路的构建方法得到材料观察视角较少的原理图。
图4为本公开三维空间光路构建方法得到材料观察视角广泛的原理图。
其中,A为待记录信息内容;O为照射待记录信息的光波或H1再现时的物光波,C为参考光波,R2为H1再现照射光波,H1为市售相干波再现全息干版,H2为载有浅浮雕型干涉条纹的三维模具。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部实施例。基于本发明的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
干涉现象为简谐波传导过程中的基本现象之一,光波、水波及声波等都会发生干涉。当两束光波发生干涉时,会使有些区域变亮而有些区域变暗,即出现干涉条纹。在本公开中,主要为所需图案信息经干涉记录于敏感材料上的浅浮雕型系列沟槽。
本公开一个或一些实施方式中,提供一种干涉条纹模具制造方法,包括如下步骤,
(1)在型腔内表面或待成型件外表面之整体或局部复合相干波敏感材料;
(2)通过三维空间光路,即引入三维空间中多个方向参考光记录干涉条纹,使相干波敏感材料层上获得浅浮雕型干涉条纹沟槽;
三维空间光路的记录方法为:第一步,根据待记录内容的透射或反射程度设置合适的三维空间光路,并根据记录图案信息特点调整上下左右等多个方向的所述参考光波与物光波强度至合适比例,测量其总强度,根据所用敏感材料的敏感性,经合适曝光、处理,获得相干波再现的(即仅在所述相干波照射下方可观测到记录信息的)H1干版,H1干板用市售光刻胶(即光致抗蚀剂)玻璃干板;
第二步,利用H1干版的相干波再现实像作新的物光波与来自上下左右多个方向的所需参考光波干涉,记录干涉条纹于所述复合敏感材料层,经合适曝光、处理,获得白光再现的(即在白光下可观测记录信息的)干涉条纹(此时干涉条纹在所述敏感涂层上)模具。所述敏感材料层是不导电的。
(3)干涉条纹的反转复制:将载有浅浮雕型干涉条纹的载体进行多次反转复制,最终得到带有一定硬度的具有更大视角和更多观察方向的干涉条纹模具。
本公开之干涉条纹模具制造方法,其特点在于:在三维模具原始工作面或三维成型件外表面整体或局部直接再现干涉条纹,进行复制及反转复制时,中间模具将三维模具形状与干涉条纹沟槽同时复制,最终得到的干涉条纹模具宏观上能够看出三维模具形状,微观上可以观测到浅浮雕型干涉条纹。避免了以往为实现三维立体成型而对带有干涉条纹的非立体金属板做变形加工致干涉条纹受损或消失而无法完好复制干涉条纹。
其特点还在于:三维空间光路的设置,实现了干涉条纹观测视角的更大化和观测方向的多元化,使观测人员可以在更大的观察角度内和更多的观察方向上观察到被记录信息,改善了观察体验。
三维空间光路原理:
采用相干波干涉原理:即满足相干条件(或频率相同、位相差恒定)的两路或多路波在三维空间相干范围内相遇会产生干涉现象,放在相干场内的相干波敏感材料会记录下其干涉条纹。在一些实施方式中,两路或多路相干波系指三维空间中的两路或多路物波与参考波。
优选的,步骤(1)中,复合方法包括涂覆法;
优选的,所述涂覆法包括喷涂法、浸涂法、旋转摆涂法和粘贴法;
进一步优选的,所述喷涂法具体步骤包括,在洁净环境下,将所需敏感材料以合适浓度、适当距离和移动速度用喷枪均匀地喷涂于所述原始工作面,静置,然后放入烘箱中在一定温度下烘干一段时间,取出,冷却至室温;
进一步优选的,喷涂法静置时间为3-5分钟;
进一步优选的,喷涂法烘箱温度为100-180℃;
进一步优选的,喷涂法烘干时间为1-2小时;
此方法适合较复杂的所述原始工作面及所述整体或局部的敏感材料涂覆。
进一步优选的,所述浸涂法具体步骤包括,在洁净环境下,取适量所述敏感材料调至合适浓度,三维模具缓慢浸入其中并静置一段时间,取出沥干,然后放入烘箱中在一定温度下烘干一段时间,取出,冷却至室温;
进一步优选的,浸涂法静置时间为2-15分钟,
进一步优选的,浸涂法取出沥干5-30分钟,
进一步优选的,浸涂法烘箱温度为100-180℃;
此方法适合较复杂的所述原始工作面及所述整体或局部的敏感材料涂覆。
进一步优选的,所述旋转摆涂法具体步骤包括,在洁净环境下,取适量合适浓度的所述敏感材料,倒入单位模具表面,以适当幅度、适当速度转动或摆动三维模具,然后倒置沥干,然后放入烘箱中在一定温度下烘干一段时间,取出,冷却至室温;
进一步优选的,旋转摆涂法中转动或摆动三维模具3-15分钟,
进一步优选的,旋转摆涂法中倒置沥干时间为5-30分钟;
进一步优选的,旋转摆涂法中烘箱温度为100-180℃;
此方法适合较平缓的所述原始工作面及所述整体或局部的敏感材料涂覆。
进一步优选的,所述粘贴法具体步骤包括,在洁净环境下,手戴一次性洁净手套,将涂有所述敏感材料的贴膜平整地贴覆于所述原始工作面,并去除多余部分,室温静置;
进一步优选的,室温静置时间为10-20分钟。
此方法适合空间较大、结构简单、较平缓的所述原始工作面及所述整体或局部的敏感材料涂覆。
优选的,步骤(2)中,包括如下步骤:第一步,根据记录图案信息特点调整各路所述物波与参考波强度至合适比例,测量其总强度,根据所用敏感材料的敏感性,经合适曝光、显影、冲洗、吹干处理,获得信噪比高、衍射效率好的相干波再现的干涉条纹板即H1干版,
第二步,利用H1干版的相干波再现实像作新的物光波与来自上下左右多个方向的所述参考光波干涉,记录干涉条纹于所述复合敏感材料层,经合适曝光、处理,获得白光再现的干涉条纹模具。
所述白光再现即在白光下可观测记录信息。
优选的,步骤(3)中,包括如下步骤:对步骤(2)得到的载有干涉条纹的(此时干涉条纹在所述敏感涂层上)载体做金属化处理。
金属化处理的目的是让不导电的载有干涉条纹的载体形成导电层。
本公开实施例中优选化学镀银处理方法,目的同样是让载有干涉条纹的所述敏感涂层导电。
具体步骤为:根据三维模具面积大小及形状配制适量敏化液、化学镀银液,并做敏化处理,对无需镀银的部分做绝缘处理,然后放入镀银液中并晃动,取出并冲水,晾干备用;
优选的,在镀银液中晃动1-5分钟。
优选的,步骤(3)中,对上述化学镀银处理过的干涉条纹模具经过适当钝化,充分冲水后,放入电铸槽对其钝化表面电铸,电铸至合适厚度,然后取出并剥离,获得与步骤(2)得到的干涉条纹模具反相的银盐中间版—银盐金属版;
优选的,步骤(3)中,根据电铸面积大小配制适量钝化液,对上述银盐金属版反复钝化2-3遍,按电铸程序,对钝化好的银盐金属版电铸至合适厚度,断电、取出、冲水、剥离铸层,获得镍金属中间模版;
步骤(3)中,将所述镍金属中间模板做阴极,按电铸程序,重复上述步骤,电铸适当时间,取出并剥离,获得与镍金属中间版反相的干涉条纹模具。此时干涉条纹已复制到所述模具工作面之所述整体或局部。
优选的,所述干涉条纹模具其材料为能电铸的各种单质金属及二元或多元合金。
优选的,所述能电铸的各种单质金属或合金优选为镍或镍钴合金。
对上述能电铸的各种单质金属或合金反复钝化2-3遍,目的在于使其电铸后易于剥离;所述能电铸的各种单质金属或合金带有所需的浅浮雕型干涉条纹(即二维平面、三维立体及四维动态或其组合形式图案)。
优选的,还包括步骤(4),即对干涉条纹模具进行等厚减薄处理,获得等厚减薄的干涉条纹模具。
上述等厚减薄的干涉条纹模具可以单独用于三维成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹;也可以与等厚减薄的原始模具复合到一起,共同用于三维成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹。
优选的,在上述复合之前,对干涉条纹模具做等厚度减薄处理,即以所述干涉条纹模具之载有干涉条纹一面为基准,在保持宏观厚度一致前提下,除去电铸后产生的毛刺、疤瘤,至铸层整体宏观厚度一致。
本公开一个或一些实施方式中,提供上述干涉条纹模具制造方法制得的干涉条纹模具。
本公开一个或一些实施方式中,提供一种由载有干涉条纹的载体经反转复制制得的干涉条纹模具。
本公开一个或一些实施方式中,提供一种干涉条纹记录方法,其特征在于,包括如下步骤:用三维空间光路将待记录信息记录于载有所述敏感材料的三维模具上。
优选的,所述记录方法同所述的干涉条纹模具制造方法中步骤(2)所述的两步记录法。
将载有浅浮雕型干涉条纹的任何材料载体,用本公开步骤(3)所述干涉条纹反转复制方法所获得干涉条纹模具,均可用于可软化材料及硬度较低材料的成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹。
实施例1
本实施例提供一种钥匙扣干涉条纹模具制造方法,包括如下步骤:
(1)用喷涂法在三维模具表面复合相干波敏感材料:在洁净环境下,将所需敏感材料以合适浓度、适当距离和移动速度用喷枪均匀地喷涂于所述原始工作面,并静置3-5分钟后放入100℃烘箱至合适时间(1小时左右),180℃烘至2小时,取出,凉至室温,备用。此方法适合较复杂的所述原始工作面的敏感材料涂覆。
(2)通过三维空间光路设置,利用两步法记录干涉条纹,使三维模具表面的相干波敏感材料层上获得符合要求的干涉条纹。
根据所用敏感材料选择敏感相干波波长。本公开实施例中选择市售光致抗蚀剂为优选复合敏感材料,对应相干波波长优选488nm波长。
记录步骤包括:第一步:在图1所示的示意图中,于H1干版前(即H1左侧)法线方向适当距离(20至40厘米)处放置待记录内容,根据待记录内容的透射或反射程度,在待记录内容周围三维空间内设置照射物相干光束,根据干涉条纹再现要求设置上下左右多个方向所需参考光束。一般参考光束位于所述法线15至40度方向。调整各路所述物光与参考光强度至合适比例,测量其总强度,根据所用敏感材料的敏感性,经合适曝光、显影、冲洗、吹干处理,获得信噪比高、衍射效率好的相干波再现干涉条纹板即H1干版;
第二步,在图2所示的示意图中,利用H1干版的相干波再现实像作新的物光波与来自上下左右多个方向(相对所述法线10至70度方向)的所述参考光束干涉,记录干涉条纹于所述复合敏感材料层,经合适曝光、处理,在所述敏感材料层上获得白光再现(即在白光下可观测记录内容的)干涉条纹。
本公开所展示的所述三维空间光路设置,其特征在于:通过所述三维空间光路记录的所述干涉条纹较以往二维平面光路记录的干涉条纹,再现时具有更大的观察视角和更多的观察方向,如图3、图4示意图所示。可改善观察体验。
(3)将上述获得白光再现干涉条纹的所述敏感材料层进行多次反转复制,
最终得到带有一定硬度的干涉条纹模具。
步骤包括如下:即对所述三维模具化学镀银,再经适当钝化、冲水后,做为阴极,按照电铸程序,电铸至合适厚度后,取出并剥离铸层,获得与上述步骤(2)第二步获得的白光再现干涉条纹反相的银盐中间版—银盐金属版;然后以上述银盐中间版做阴极,重复上述步骤,按照电铸程序,电铸至合适厚度后,取出并剥离铸层,获得与上述步骤(2)第二步获得的白光再现干涉条纹同相的干涉条纹模具金属镍版或合金版。
上述干涉条纹模具金属镍版或合金版可以用于各种可软化材料及硬度较低材料的成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹。也可以与等厚减薄的原始模具复合到一起,共同用于三维成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹
实施例2
本实施例提供一种光影板干涉条纹模具制造方法,包括如下步骤:
(1)用粘贴法在三维模具表面复合相干波敏感材料:在洁净环境下,手戴一次性洁净手套,将涂有所述敏感材料的贴膜平整地贴覆于所述原始工作面,并去除多余部分,室温静置10-20分钟后,备用。
(2)记录干涉条纹于上述敏感材料。步骤同实施例1步骤(2)。
(3)获得光影板干涉条纹模具。步骤同实施例1步骤(3)。
本公开展示的一个及多个实例提供的干涉条纹模具均有65°以上的观察视角和4个以上的观察方向(即前、后、左、右多个方向均可大视角观察到记录内容),有利于改善观察体验。以往平面光路记录的干涉条纹仅有狭小的30°左右的观察视角和单一的观察方向(其它方向则无法看到记录内容),其不利于观察体验。
本公开之载有干涉条纹的三维模具可用于各种可软化材料及硬度较低材料的成型加工、压制加工及烫印加工并用于同步复制干涉条纹。
以上所揭露的仅为本发明的优选实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,因此依本发明申请专利范围所作的等同变化,仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (29)

1.一种干涉条纹模具制造方法,其特征在于,包括如下步骤,
(1)在型腔内表面或待成型件外表面之整体或局部复合相干波敏感材料;
(2)通过三维空间光路,即引入三维空间中多个方向参考光记录干涉条纹,使相干波敏感材料层上获得浅浮雕型干涉条纹沟槽;
三维空间光路的记录方法为:根据待记录内容的透射或反射程度设置合适的三维空间光路,再根据待记录内容特点及其再现方式的要求,引入三维空间中多个方向光线记录干涉条纹,记录干涉条纹于敏感材料层;
(3)将载有浅浮雕型干涉条纹的三维模具或载体进行多次反转复制,最终得到带有一定硬度干涉条纹模具。
2.如权利要求1所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,步骤(1)中,复合方法包括涂覆法。
3.如权利要求2所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述涂覆法包括喷涂法、浸涂法、旋转摆涂法和粘贴法。
4.如权利要求3所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述喷涂法具体步骤包括,在洁净环境下,将所需敏感材料以合适浓度、适当距离和移动速度用喷枪均匀地喷涂于原始工作面,静置,然后放入烘箱中在一定温度下烘干一段时间,取出,冷却至室温。
5.如权利要求4所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,喷涂法静置时间为3-5分钟。
6.如权利要求4所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,喷涂法烘箱温度为100-180℃。
7.如权利要求4所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,喷涂法烘干时间为1-2小时。
8.如权利要求3所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述浸涂法具体步骤包括,在洁净环境下,取适量所述敏感材料调至合适浓度,三维模具缓慢浸入其中并静置一段时间,取出沥干,然后放入烘箱中在一定温度下烘干一段时间,取出,冷却至室温。
9.如权利要求8所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,浸涂法静置时间为2-15分钟。
10.如权利要求8所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,浸涂法取出沥干5-30分钟。
11.如权利要求8所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,浸涂法烘箱温度为100-180℃。
12.如权利要求3所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述旋转摆涂法具体步骤包括,在洁净环境下,取适量合适浓度的所述敏感材料,倒入待成型件工作表面,以适当幅度、适当速度转动或摆动待成型件,然后倒置沥干,然后放入烘箱中在一定温度下烘干一段时间,取出,冷却至室温。
13.如权利要求12所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,旋转摆涂法中转动或摆动三维模具3-15分钟。
14.如权利要求12所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,旋转摆涂法中倒置沥干时间为5-30分钟。
15.如权利要求12所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,旋转摆涂法中烘箱温度为100-180℃。
16.如权利要求3所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述粘贴法具体步骤包括,在洁净环境下,手戴一次性洁净手套,将涂有所述敏感材料的贴膜平整地贴覆于原始工作面,并去除多余部分,室温静置。
17.如权利要求16所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,室温静置时间为10-20分钟。
18.如权利要求1所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,步骤(3)中,还包括如下步骤:对所述干涉条纹载体做导电层处理。
19.如权利要求18所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述导电层处理为化学镀银处理,根据载有干涉条纹模具的镀银面积大小及形状配制适量敏化液、镀银液;化学镀银步骤如下:对需镀银部分做敏化处理,对无需镀银部分做绝缘处理,然后放入上述镀银液中并晃动,取出并冲水,晾干备用。
20.如权利要求19所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,在镀银液中晃动1-5分钟。
21.如权利要求1所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,步骤(2)中,还包括如下步骤:首先,根据记录图案信息特点调整三维空间多个方向的参考光波与物光波强度至合适比例,测量其总强度,根据所用敏感材料的敏感性,经合适曝光、处理,获得信噪比高、衍射效率好的相干波再现的H1干版;然后利用H1干版的相干波再现实像作新的物光波与来自三维空间多个方向的所述参考光波干涉,用复合敏感材料作记录介质,经合适曝光、处理,获得白光再现的干涉条纹模具。
22.如权利要求1所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,步骤(3)中,对步骤(2)得到的载有干涉条纹的敏感材料层化学镀银并适当钝化,冲水,然后以其做阴极,电铸至适当厚度,剥离铸层,得到干涉条纹模具银盐中间版。
23.如权利要求22所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,步骤(3)中,所述银盐中间版为银盐金属版。
24.如权利要求22所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,所述干涉条纹模具其材料为能电铸的各种单质金属或二元、多元合金。
25.如权利要求22所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,步骤(3)中,对所述干涉条纹模具银盐中间版适当钝化、冲水后,做为阴极,按照电铸程序,电铸至合适厚度,取出并剥离镀层获得与步骤(2)表面有相同干涉条纹的干涉条纹模具应用版。
26.如权利要求25所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,还包括步骤(4),即对干涉条纹模具应用版进行等厚减薄处理,即以所述干涉条纹模具带有干涉条纹一面为基准,在保持厚度一致前提下,除去电铸后产生的毛刺、疤瘤,至铸层宏观厚度均匀一致。
27.如权利要求25所述的干涉条纹模具制造方法,其特征在于,干涉条纹模具应用版可单独用于三维成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹;也可等厚减薄处理后与等厚减薄的原始模具复合到一起,成为加厚干涉条纹模具应用版用于三维成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹。
28.权利要求1-27任一项所述的干涉条纹模具制造方法制得的干涉条纹模具。
29.一种干涉条纹复制方法,其特征在于,包括如下步骤:将载有干涉条纹的任何材料载体多次反转复制,获得权利要求28所述的干涉条纹模具,用于可软化材料及硬度较低材料的成型加工、压制加工及烫印加工并同步复制干涉条纹。
CN202011384155.1A 2020-12-01 2020-12-01 一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法 Active CN112540525B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011384155.1A CN112540525B (zh) 2020-12-01 2020-12-01 一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202011384155.1A CN112540525B (zh) 2020-12-01 2020-12-01 一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112540525A CN112540525A (zh) 2021-03-23
CN112540525B true CN112540525B (zh) 2022-03-22

Family

ID=75016871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202011384155.1A Active CN112540525B (zh) 2020-12-01 2020-12-01 一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112540525B (zh)

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB968651A (en) * 1963-03-11 1964-09-02 Gerster Heinrich Print drier
CN1084291A (zh) * 1992-09-14 1994-03-23 陈正道 激光全息干涉图像制模方法
JPH09171342A (ja) * 1995-07-14 1997-06-30 Nashua Corp ホログラムのリプロダクション
CN101510070A (zh) * 2008-02-01 2009-08-19 大日本印刷株式会社 全息图制作方法和制作的全息图
JP2009187027A (ja) * 2009-05-15 2009-08-20 Dainippon Printing Co Ltd ホログラム記録媒体およびその製造方法
CN102099752A (zh) * 2008-07-18 2011-06-15 新日铁化学株式会社 只读全息记录介质的记录再生方法、以及只读全息记录介质
CN208576188U (zh) * 2018-06-28 2019-03-05 嘉兴奥普劲达厨卫科技有限公司 一种铝合金覆膜装置
CN111722512A (zh) * 2019-03-20 2020-09-29 南昌欧菲光科技有限公司 全息图纹膜的制作方法及终端

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6084571A (ja) * 1983-10-17 1985-05-13 Nec Corp 多重記録ホログラムの製造方法
CN1009394B (zh) * 1988-04-18 1990-08-29 王其祥 脉冲激光全息图大批量塑料复制技术
JP2006195009A (ja) * 2005-01-11 2006-07-27 Fuji Photo Film Co Ltd ホログラム記録方法、ホログラム記録装置及びホログラム記録媒体

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB968651A (en) * 1963-03-11 1964-09-02 Gerster Heinrich Print drier
CN1084291A (zh) * 1992-09-14 1994-03-23 陈正道 激光全息干涉图像制模方法
JPH09171342A (ja) * 1995-07-14 1997-06-30 Nashua Corp ホログラムのリプロダクション
CN101510070A (zh) * 2008-02-01 2009-08-19 大日本印刷株式会社 全息图制作方法和制作的全息图
CN102099752A (zh) * 2008-07-18 2011-06-15 新日铁化学株式会社 只读全息记录介质的记录再生方法、以及只读全息记录介质
JP2009187027A (ja) * 2009-05-15 2009-08-20 Dainippon Printing Co Ltd ホログラム記録媒体およびその製造方法
CN208576188U (zh) * 2018-06-28 2019-03-05 嘉兴奥普劲达厨卫科技有限公司 一种铝合金覆膜装置
CN111722512A (zh) * 2019-03-20 2020-09-29 南昌欧菲光科技有限公司 全息图纹膜的制作方法及终端

Also Published As

Publication number Publication date
CN112540525A (zh) 2021-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5452282A (en) Optical data storage disc
US5766495A (en) Methods for providing generic and specific artwork on plastic information discs
US4102734A (en) Method for producing a design on an arcuate surface
CN112540525B (zh) 一种干涉条纹三维模具制造方法及其模具与复制方法
US1744642A (en) Manufacture of reproduced diffraction gratings
JPS5865466A (ja) ホログラムの複製方法
JPH1034870A (ja) 電鋳製品の製造方法
US3585113A (en) Process for fabricating replicating masters
JPS58115469A (ja) ホログラム複製方法
JPS5962888A (ja) マスタ−ホログラム作製方法
US6011767A (en) Optical data storage disc with a visible holographic image and method for its manufacture
US3775261A (en) Process for producing an embossing cylinder
US3537958A (en) Method of manufacturing etched metallic charm
Bartolini et al. Replication of Relief‐Phase Holograms for Prerecorded Video
CN1084291A (zh) 激光全息干涉图像制模方法
Ahlhorn et al. Transferring relief holograms formed in silver halide emulsions into nickel foils for embossing
CN103838123A (zh) 激光全息艺术品、制备方法及其使用方法
TW550188B (en) Method for generating a holographic visual effect and decoration plate formed by the method
CN105946385A (zh) 一种用于陶瓷制品制作中的模压彩虹全息图象印刷工艺
JPS6323275B2 (zh)
JPS59154482A (ja) ホログラムおよびその製作方法
JPH07241856A (ja) 電鋳複製スタンパの製造方法
CN1422983A (zh) 增强型硬币类制品及其制作方法
KR100479952B1 (ko) 고 만곡률을 갖는 3차원 홀로그램 제조방법
JP2689181B2 (ja) 多孔質焼結金属製金型の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant