CN112531127B - 一种有机电致发光显示面板及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种有机电致发光显示面板及其制备方法，涉及显示技术领域，包括：一玻璃基板，所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域；一盲孔，穿设所述透光区域且所述盲孔内填充有一透明的第一胶体；一封装层，形成于所述透光区域和所述非透光区域的上方。有益效果是保证盲孔区域的透过率大于80％的同时，防止摄像头透过盲孔区域时出现拍摄异常形态；生产工艺复杂度较低，具备量产优势。

Description

一种有机电致发光显示面板及其制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种有机电致发光显示面板及其制备方法。

背景技术

从手机进入全面屏时代后，屏占比就是各大厂商比拼的关键参数，屏占比越高，意味着这个手机的视界更震撼，更接近满眼全是屏幕的视觉效果，而前置摄像头是影响手机实现极致屏占比的元凶之一，随着全面屏手机的普及，盲孔屏幕逐渐走进大家的视野。

OLED(Organic Light-Emitting Diode，又称为有机电致发光显示)手机屏幕采用两层结构，包括表层的保护玻璃层和位于其下方的液晶面板层，采用OLED屏幕的盲孔屏幕是指实现屏幕的摄像头区域透明，但是屏幕未开孔，即保留屏幕上的保护玻璃层和液晶显示面板，外部光线通过保护玻璃层和液晶显示面板层两层结构，最终到达摄像头。由于液晶显示面板层的透光率低于正常玻璃面板的透光率，一定程度上会影响手机前置摄像头的成像效果，摄像头透过盲孔区域时，会导致摄像头拍摄异常形态，主要的异常形态包括干涉光、重影和炫彩。

发明内容

针对现有技术中存在的问题，本发明提供一种有机电致发光显示面板，包括：

一玻璃基板，所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域；

一盲孔，穿设所述透光区域且所述盲孔内填充有一透明的第一胶体；

一封装层，形成于所述透光区域和所述非透光区域的上方。

优选的，所述透光区域包括依次叠层设置于所述玻璃基板上方的一有机层、一阴极层和一封盖层。

优选的，去除所述封盖层、所述阴极层和所述有机层，暴露所述玻璃基板以形成所述盲孔。

优选的，采用激光刻蚀方式去除所述透光区域的所述封盖层、所述阴极层和所述有机层。

优选的，所述非透光区域包括依次叠层设置于所述玻璃基板上方的一画素电路层、一阳极层、一有机层、一阴极层和一封盖层，所述非透光区域的所述有机层、所述阴极层和所述封盖层分别与所述透光区域的所述有机层、所述阴极层和所述封盖层形成连续结构。

优选的，所述第一胶体为UV光学胶，所述UV光学胶的折射率的取值范围为1.2-1.8。

优选的，所述封装层采用盖板封装。

本申请还提供一种有机电致发光显示屏幕，包括上述的有机电致发光显示面板，还包括：

一偏振片，设置于所述有机电致发光显示面板的所述封装层的上方，所述偏振片上开设有一通孔，所述通孔与所述盲孔对应设置；

一外层保护板，贴合于所述偏振片的上方；

所述通孔中填充有一透明的第二胶体，所述偏振片与所述外层保护板之间填充有一透明的第三胶体。

优选的，所述第二胶体及所述第三胶体为光学胶。

优选的，所述第二胶体为光学透明树脂胶，所述第三胶体为光学胶。

本申请还提供一种有机电致发光显示面板的制备方法，包括：

步骤S1、提供一玻璃基板；

步骤S2、于所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域；

步骤S3、于所述透光区域形成一盲孔；

步骤S4、于所述盲孔内填充一透明的第一胶体；

步骤S5、采用封装工艺以于所述透光区域和所述非透光区域上方形成一封装层。

优选的，所述步骤S2包括：

步骤S21、于所述玻璃基板上定义所述透光区域及所述非透光区域的位置；

步骤S22、于所述玻璃基板上表面形成一低温多晶硅层，使所述低温多晶硅层覆盖所述非透光区域，并于所述低温多晶硅层中制备画素电路以形成画素电路层；

步骤S23、于所述画素电路层上表面形成一阳极层，并使所述阳极层与所述画素电路层中的画素电路于预定位置形成接触；

步骤S24、于所述阳极层上表面及所述透光区域上表面形成一连续的有机层；

步骤S25、于所述有机层上表面形成一阴极层；

步骤S26、于所述阴极层上表面形成一封盖层。

优选的，所述步骤S3中，采用激光刻蚀方式去除所述透光区域的所述封盖层、所述阴极层和所述有机层，暴露所述玻璃基板以形成所述盲孔。

优选的，所述第一胶体为UV光学胶，所述UV光学胶的折射率的取值范围为1.2-1.8。

优选的，所述步骤S5中，形成所述封装层后还包括对所述UV光学胶进行UV固化。

优选的，所述步骤S5中，所述封装工艺为盖板封装工艺。

本申请还提供一种有机电致发光显示屏幕的制备方法，在采用上述的有机电致发光显示面板的制备方法制备得到所述有机电致发光显示面板后，包括：

于所述有机电致发光显示面板的所述封装层上方叠设一偏振片，所述偏振片上预开设有一通孔，所述通孔与所述盲孔对应设置；

采用一透明的第二胶体填充所述通孔；

于所述偏振片的上方采用一透明的第三胶体贴合一外层保护板。

优选的，所述第二胶体和所述第三胶体为光学胶。

优选的，所述第二胶体为光学透明树脂胶，所述第三胶体为光学胶。

上述技术方案具有如下优点或有益效果：

1)保证盲孔区域的透过率大于80％的同时，防止摄像头透过盲孔区域时出现拍摄异常形态；

2)生产工艺复杂度较低，具备量产优势。

附图说明

图1为本申请的较佳的实施方式中，玻璃基板上形成透光区域和非透光区域的示意图；

图2为本申请的较佳的实施方式中，形成盲孔后的示意图；

图3为本申请的较佳的实施方式中，有机电致发光显示面板的结构示意图；

图4为本申请的较佳的实施方式中，有机电致发光显示屏幕的结构示意图；

图5为本申请的较佳的实施方式中，有机电致发光显示屏幕的结构示意图；

图6为本申请的较佳的实施方式中，有机电致发光显示面板的制备方法的流程示意图；

图7为本申请的较佳的实施方式中，透光区域和非透光区域的制备方法的流程示意图；

图8为本申请的较佳的实施方式中，有机电致发光显示屏幕的制备方法的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。本发明并不限定于该实施方式，只要符合本发明的主旨，则其他实施方式也可以属于本发明的范畴。

作为优选的实施方式，基于现有技术中存在的上述问题，现提供一种有机电致发光显示面板，如图1至图3所示，包括：

一玻璃基板1，玻璃基板1上形成一透光区域2和一非透光区域3；

一盲孔4，穿设透光区域2且盲孔4内填充有一透明的第一胶体5；

一封装层6，形成于透光区域2和非透光区域3的上方。

具体地，本实施方式中，通过设置穿设透光区域2的盲孔4，能够将透过率提高20％-30％；通过在盲孔4内填充透明第一胶体5，能够有效减少由于开设盲孔4造成的玻璃基板1和封装层6的反射，防止玻璃基板1和封装层6之间由于盲孔4的存在造成形变，能够将透过率提高10％左右的同时，防止干涉条纹出现。

进一步地，可以在玻璃基板1的下方对应于盲孔4的位置设置摄像头200，由于透过率的提升，摄像头200透过盲孔区域时，能够消除摄像头200拍摄出现干涉光、重影和炫彩等异常形态。

作为优选的实施方式，上述玻璃基板1的厚度可以是0.2毫米，其折射率可以是1.53，其透过率可以是91％；上述封装层6的厚度可以是0.3毫米，其折射率可以是1.53，其透过率可以是91％。

作为优选的实施方式，如图1所示，为未形成盲孔4前在玻璃基板1上形成透光区域2和非透光区域3的示意图，上述非透光区域可以围合或半围合上述透光区域，透光区域2包括依次叠层设置于玻璃基板1上方的一有机层100、一阴极层101和一封盖层102。

具体地，本实施方式中，上述透光区域2形成有机电致发光显示板的非显示区域。

作为优选的实施方式，去除封盖层102、阴极层101和有机层100，暴露玻璃基板1以形成盲孔4。

作为优选的实施方式，采用激光刻蚀方式去除透光区域2的封盖层102、阴极层101和有机层100。

作为优选的实施方式，非透光区域3包括依次叠层设置于玻璃基板1上方的一画素电路层103、一阳极层104、一有机层100、一阴极层101和一封盖层102，非透光区域3的有机层100、阴极层101和封盖层102分别与透光区域2的有机层100、阴极层101和封盖层102形成连续结构。

具体地，本实施例中，上述非透光区域3形成有机电致发光显示板的显示区域。上述有机层100包括依次叠层设置于阳极层104上方的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层以及电子注入层，上述各膜层可以采用有机物分子或有机聚合物构成，因此，统一定义为有机层100。

作为优选的实施方式，上述玻璃基板1上形成有一LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)层，上述画素电路层103形成于LTPS层。

作为优选的实施方式，第一胶体5为UV光学胶，UV光学胶的折射率的取值范围为1.2-1.8。

具体地，本实施方式中，采用激光刻蚀后，会造成玻璃基板1表面出现凹凸不平，上述第一胶体5为流动性胶体，能够有效覆盖上述凹凸不平区域，作为优选，上述第一胶体5的厚度可以是7微米，折射率可以取1.5，透过率可以是99.7％。

作为优选的实施方式，封装层采用盖板封装。

具体地，本实施例中，采用光学胶涂布以及盖板封装进一步提升透光度，即上述透过率。

本申请还提供一种有机电致发光显示屏幕，包括上述的有机电致发光显示面板，如图4和图5所示，还包括：

一偏振片7，设置于有机电致发光显示面板300的封装层6的上方，偏振片7上开设有一通孔9，通孔9与盲孔4对应设置；

一外层保护板8，贴合于偏振片7的上方；

通孔9中填充有一透明的第二胶体，偏振片7与外层保护板8之间填充有一透明的第三胶体。

具体地，本实施方式中，通过偏振片7的对应盲孔4的位置开设通孔9，进一步提升透过率，保证摄像头的拍摄效果。其中，通孔9的尺寸与盲孔4的尺寸相匹配，通孔9的尺寸也可以略大于盲孔4的尺寸。作为优选的实施方式，上述外层保护板8的对应于通孔9以及盲孔4的位置设有一透光区域400，其余位置可以通过喷涂油墨增加美观，也可以不做处理。

上述外层保护板8的厚度可以是0.7毫米，其折射率可以是1.5，其透过率可以是92％。

作为优选的实施方式，第二胶体及第三胶体为光学胶OCA。

具体地，本实施方式中，上述通孔9的填充以及偏振片7与外层保护板8之间的贴合可以采用一种透明胶体，即光学胶OCA，上述光学胶OCA的厚度可以是0.2毫米，其折射率可以是1.48，其透过率可以是99％，上述光学胶OCA填充通孔9并由该通孔9中溢出涂布于偏振片7与外层保护板8的接触区域，仅采用一种透明胶体能够实现同时填充通孔9以及实现偏振片7与外层保护板8之间的贴合，进一步简化了生产工艺。且光学胶OCA具有高透过率，不影响摄像头的拍摄效果。

作为优选的实施方式，第二胶体为光学透明树脂胶OCR，第三胶体为光学胶OCA。

作为优选的实施方式，通孔9采用光学透明树脂胶填充，偏振片7与外层保护板8之间采用光学胶贴合。

具体地，本实施例中，也可以采用两种不同的透明胶体分别填充通孔9以及贴合偏振片7与外层保护板8，其中，优选采用光学透明树脂胶OCR填充通孔9，该光学透明树脂胶OCR的厚度适应偏振片7的厚度，优选为0.15毫米，其折射率可以是1.48，其透过率可以是99％。优选采用光学胶OCA贴合偏振片7与外层保护板8，上述光学胶OCA的厚度可以是0.2毫米，其折射率可以是1.48，其透过率可以是99％。

本申请还提供一种有机电致发光显示面板的制备方法，如图6所示，包括：

步骤S1、提供一玻璃基板；

步骤S2、于玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域；

步骤S3、于透光区域形成一盲孔；

步骤S4、于盲孔内填充一透明的第一胶体；

步骤S5、采用封装工艺以于透光区域和非透光区域上方形成一封装层。

作为优选的实施方式，如图7所示，步骤S2包括：

步骤S21、于玻璃基板上定义透光区域及非透光区域的位置；

步骤S22、于玻璃基板上表面形成一低温多晶硅层，使低温多晶硅层覆盖非透光区域，并于低温多晶硅层中制备画素电路以形成画素电路层；

步骤S23、于画素电路层上表面形成一阳极层，并使阳极层与画素电路层中的画素电路于预定位置形成接触；

步骤S24、于阳极层上表面及透光区域上表面形成一连续的有机层；

步骤S25、于有机层上表面形成一阴极层；

步骤S26、于阴极层上表面形成一封盖层。

作为优选的实施方式，步骤S3中，采用激光刻蚀方式去除透光区域的封盖层、阴极层和有机层，暴露玻璃基板以形成盲孔。

作为优选的实施方式，第一胶体为UV光学胶，UV光学胶的折射率的取值范围为1.2-1.8。

作为优选的实施方式，步骤S5中，形成封装层后还包括对UV光学胶进行UV固化。

作为优选的实施方式，步骤S5中，封装工艺为盖板封装工艺，经过盖板封装工艺后，盲孔内填充的胶体会被挤压流平，进而对胶体进行UV固化，能够有效防止玻璃基板与封装盖板之间由于盲孔的存在而发生形变，同时防止干涉条纹出现。

本申请还提供一种有机电致发光显示屏幕的制备方法，在采用上述的有机电致发光显示面板的制备方法制备得到有机电致发光显示面板后，如图8所示，包括：

于有机电致发光显示面板的封装层上方叠设一偏振片，偏振片上预开设有一通孔，通孔与盲孔对应设置；

采用一透明的第二胶体填充通孔；

于偏振片的上方采用一透明的第三胶体贴合一外层保护板。

作为优选的实施方式，第二胶体和第三胶体为光学胶。

作为优选的实施方式，第二胶体为光学透明树脂胶，第三胶体为光学胶。

以上所述仅为本发明较佳的实施例，并非因此限制本发明的实施方式及保护范围，对于本领域技术人员而言，应当能够意识到凡运用本说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案，均应当包含在本发明的保护范围内。

Claims (19)

1.一种有机电致发光显示面板，其特征在于，包括：

一玻璃基板，所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域；

一盲孔，穿设所述透光区域且所述盲孔内填充有一透明的第一胶体；

一封装层，形成于所述透光区域和所述非透光区域的上方；

所述第一胶体为流动性胶体，所述第一胶体的厚度为7微米，折射率为1.5；

所述玻璃基板的厚度为0.2毫米，折射率为1.53，所述封装层的厚度为0.3毫米，折射率为1.53。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述透光区域包括依次叠层设置于所述玻璃基板上方的一有机层、一阴极层和一封盖层。

3.根据权利要求2所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，去除所述封盖层、所述阴极层和所述有机层，暴露所述玻璃基板以形成所述盲孔。

4.根据权利要求3所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，采用激光刻蚀方式去除所述透光区域的所述封盖层、所述阴极层和所述有机层。

5.根据权利要求2所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述非透光区域包括依次叠层设置于所述玻璃基板上方的一画素电路层、一阳极层、一有机层、一阴极层和一封盖层，所述非透光区域的所述有机层、所述阴极层和所述封盖层分别与所述透光区域的所述有机层、所述阴极层和所述封盖层形成连续结构。

6.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述第一胶体为UV光学胶。

7.根据权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述封装层采用盖板封装。

8.一种有机电致发光显示屏幕，其特征在于，包括如权利要求1-7中任意一项所述的有机电致发光显示面板，还包括：

一偏振片，设置于所述有机电致发光显示面板的所述封装层的上方，所述偏振片上开设有一通孔，所述通孔与所述盲孔对应设置；

一外层保护板，贴合于所述偏振片的上方；

所述通孔中填充有一透明的第二胶体，所述偏振片与所述外层保护板之间填充有一透明的第三胶体,所述外层保护板的厚度为0.7毫米，折射率为1.5。

9.根据权利要求8所述的有机电致发光显示屏幕，其特征在于，所述第二胶体及所述第三胶体为光学胶，所述光学胶的厚度为0.2毫米，折射率为1.48。

10.根据权利要求8所述的有机电致发光显示屏幕，其特征在于，所述第二胶体为光学透明树脂胶，所述光学透明树脂胶的厚度为0.15毫米，折射率为1.48，所述第三胶体为光学胶，所述光学胶的厚度为0.2毫米，折射率为1.48。

11.一种有机电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

步骤S1、提供一玻璃基板；

步骤S2、于所述玻璃基板上形成一透光区域和一非透光区域；

步骤S3、于所述透光区域形成一盲孔；

步骤S4、于所述盲孔内填充一透明的第一胶体；

步骤S5、采用封装工艺以于所述透光区域和所述非透光区域上方形成一封装层；

所述第一胶体为流动性胶体，所述第一胶体的厚度为7微米，折射率为1.5，所述玻璃基板的厚度为0.2毫米，折射率为1.53，所述封装层的厚度为0.3毫米，折射率为1.53。

12.根据权利要求11所述的有机电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S2包括：

步骤S21、于所述玻璃基板上定义所述透光区域及所述非透光区域的位置；

步骤S22、于所述玻璃基板上表面形成一低温多晶硅层，使所述低温多晶硅层覆盖所述非透光区域，并于所述低温多晶硅层中制备画素电路以形成画素电路层；

步骤S23、于所述画素电路层上表面形成一阳极层，并使所述阳极层与所述画素电路层中的画素电路于预定位置形成接触；

步骤S24、于所述阳极层上表面及所述透光区域上表面形成一连续的有机层；

步骤S25、于所述有机层上表面形成一阴极层；

步骤S26、于所述阴极层上表面形成一封盖层。

13.根据权利要求12所述的有机电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S3中，采用激光刻蚀方式去除所述透光区域的所述封盖层、所述阴极层和所述有机层，暴露所述玻璃基板以形成所述盲孔。

14.根据权利要求11所述的有机电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一胶体为UV光学胶。

15.根据权利要求14所述的有机电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S5中，形成所述封装层后还包括对所述UV光学胶进行UV固化。

16.根据权利要求11所述的有机电致发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述步骤S5中，所述封装工艺为盖板封装工艺。

17.一种有机电致发光显示屏幕的制备方法，其特征在于，在采用如权利要求11-16任意一项所述的有机电致发光显示面板的制备方法制备得到所述有机电致发光显示面板后，包括：

于所述有机电致发光显示面板的所述封装层上方叠设一偏振片，所述偏振片上预开设有一通孔，所述通孔与所述盲孔对应设置；

采用一透明的第二胶体填充所述通孔；

于所述偏振片的上方采用一透明的第三胶体贴合一外层保护板；所述外层保护板的厚度为0.7毫米，折射率为1.5。

18.根据权利要求17所述的有机电致发光显示屏幕的制备方法，其特征在于，所述第二胶体和所述第三胶体为光学胶，所述光学胶的厚度为0.2毫米，折射率为1.48。

19.根据权利要求17所述的有机电致发光显示屏幕的制备方法，其特征在于，所述第二胶体为光学透明树脂胶，所述光学透明树脂胶的厚度为0.15毫米，折射率为1.48，所述第三胶体为光学胶，所述光学胶的厚度为0.2毫米，折射率为1.48。

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