CN112363636A - 一种显示面板和显示设备 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示面板和显示设备，所述显示面板包括封装层和设置在封装层上的触控结构，所述封装层包括多个像素开口部以及位于像素开口部之间的间隔部，所述触控结构其中，所述触控结构包括第一导电膜层、第二导电膜层和设置在第一导电膜层和第二导电膜层之间的绝缘层，其中第一导电膜层包括多个触控块，第二导电膜层包括触控线和虚拟线，所述触控块通过导电通路与触控线电连接，所述虚拟线与触控线之间电绝缘设置。采用本申请的方案,第二导电膜层上形成多根有虚拟线，使得触控线的分布不再突兀，相比于现有技术中周围区域为空白的方式，触控线不会明显可见，改善了视觉效果。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体地，涉及一种显示面板和显示设备。
背景技术
OLED(有机发光二极管)显示屏是利用有机电致发光二极管制成的显示屏，由于采用自发光有机电激发光二极管，具备不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及工艺相对简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。
相比于LCD(液晶显示屏)及刚性OLED，柔性OLED具有更加广阔的应用前景。可弯折，可卷曲的柔性屏被大量应用在手机、平板上，这就要求触控层也需要弯折性能，所以现在的AMOLED柔性屏幕由外挂式互容的结构变成了Oncell互容结构，其中，Oncell技术是指将触摸屏嵌入到显示屏的彩膜基板和偏光片之间的方法。
Oncell互容结构距离AMOLED屏幕的阴极非常近，且随着panel的尺寸变大，盖板减薄，互容式的设计的寄生电容以及触控的信噪比SNR将会变差，这就需要IC有较高的能力才能检测出手指的触控位置，而Oncell自容结构的触控由于扫描的原理不一样就不存在这个问题，所以现阶段大尺寸的FMLOC(Flexible Multi-Layer On Cell，柔性多层结构)更倾向于采用Oncell自容结构。
但每个自容触控单元需要拉出一条触控信号线连接到IC中，在样品制作完成后发现，触控信号线清晰可见,对屏幕图像产生不良影响。
发明内容
鉴于现有技术中任一缺陷或不足，本申请提供一种解决上述任一问题的一种显示面板，包括封装层和设置在封装层上的触控结构，所述封装层包括多个像素开口部以及位于像素开口部之间的间隔部，所述触控结构包括第一导电膜层、第二导电膜层和设置在第一导电膜层和第二导电膜层之间的绝缘层，其中第一导电膜层包括多个触控块，第二导电膜层包括触控线和虚拟线，所述触控块通过设置于所述绝缘层中的导电通路与触控线电连接，所述虚拟线与触控线之间电绝缘，所述虚拟线在对应于所述间隔部的位置设置。
在一个实施方案中，所述虚拟线包括与触控线延伸方向基本垂直的多根相互间隔开的第一方向走线。
在一个实施方案中，所述虚拟线包括与触控线的延伸方向基本平行或同轴设置的第二方向走线。
在一个实施方案中，至少部分所述多个第一方向走线之间通过第二方向走线连接。
在一个实施方案中，至少部分虚拟线的布置区域分块设置,构成多个区域块，至少部分区域块的位置及外周形状与所述触控块对应。
在一个实施方案中，所述触控线和虚拟线均对应于所述间隔部的位置设置。
在一个实施方案中，所述触控线和虚拟线围成的开口与所述像素开口部的位置和形状对应。
在一个实施方案中，所述触控线和虚拟线至少在对应30％的间隔部的位置设置。
在一个实施方案中，所述触控块为栅格结构，包括相互连通的栅格线和位于所述栅格线之间的栅格开口，其中，所述栅格开口与像素开口部位置和形状对应。
在一个实施方案中，至少部分所述栅格开口的尺寸大于所述像素开口部的尺寸。
在一个实施方案中，所述栅格结构在与触控线重叠至少部分位置没有栅格线。
本申请还提供一种显示设备，其包括了上述任一实施方案所述的触控结构或者显示面板。
采用本申请的方案,显示面板的触控结构中，第二导电膜层上形成多根有虚拟线，使得触控线的分布不再突兀，相比于现有技术中周围区域为空白的方式，触控线不会明显可见，改善了视觉效果。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本申请触控结构的俯视图；
图2为本申请触控结构的剖视图；
图3为本申请第一导电膜层俯视图；
图4为本申请第二导电膜层俯视图；
图5为本申请一个方案第二导电膜层局部视图；
图6为本申请另一方案第二导电膜层局部视图；
图7为本申请封装层局部结构俯视图；
图8为本申请另一方案第二导电膜层局部视图；；
图9为图7和图8的叠加视图；
图10为申请另一方案第二导电膜层局部视图；
图11为申请另一方案第二导电膜层局部视图；
图12为申请另一方案第二导电膜层局部视图；
图13为申请另一方案第二导电膜层局部视图；
图14为本申请另一方案触控块放大图；
图15为图14与封装层的叠加视图；
图16为本申请另一方案触控块放大图；
图17为本申请显示面板结构视图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
本申请中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指在该词前的要素涵盖在该词后列举的要素，并不排除也涵盖其他要素的可能。“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
如图1-4所示，本申请的一种显示面板，包括封装层200和设置在封装层200上的触控结构100，所述封装层200包括多个像素开口部201以及位于像素开口部201之间的间隔部202，所述触控结构100包括第一导电膜层130、第二导电膜层110和设置在第一导电膜层110和第二导电膜层130之间的绝缘层120。其中第一导电膜层130包括多个触控块131，第二导电膜层110包括触控线111和虚拟线112，所述虚拟线112与触控线111之间绝缘设置；其中所述触控线111通过设置在绝缘层120中的导电通路113与触控块131电连接。其中，优选地，所述虚拟线112在对应于所述间隔部202的位置设置。优选地，所述虚拟线112包括与触控线111基本垂直的多根相互间隔开的第一方向走线1121。
其中，如图3所示，所述第一导电膜层130包括多行、多列成阵列排布的多个触控块131(图中展示了四行四列，实际情况)，图中多个触控块131为矩形，应当知道，其也可以是其他形状。每个触控块131通过下方的导电通路113与第二导电膜层110中的触控线111连接。
如图4所示，第二导电膜层110上的多个触控线均延伸连接至触控侦测芯片(图中未示出)。虚拟线112绝缘设置在触控线111的周围。图中，第二导电膜层110的虚拟线112的设置区域也为分块结构，构成多个区域块，至少部分区域块的位置及外周形状与第一导电膜层130上的触控块131对应，在所述区域块内设置有虚拟线112。其中，如图所示，触控线111在延伸往触控侦测芯片的路径中，会穿过多个设置虚拟线112的区域块，以图中左下角的一个区域块为例，有3条触控线111完全穿过该区域块，将区域块分为四个部分，最右侧一条触控线111从该区域块内的某一位置开始往触控侦测芯片，将区域块局部分开(图中显示的触控块有四行，所以最下一行每一个区域块内分布有四条触控线111，实际情况中，最下一行每个区域块内设置有与行数对应触控线，以此类推，每一行区域块内对应有与所在行数对应相等的触控线)。
当然，第二导电膜层110内的虚拟线112可以不是以区域块的方式分布，例如，在未设置虚拟线112的区域均设置有虚拟线112。
在一个实施方案中，触控线111两侧均设置有所述虚拟线112。
在一个实施方案中，所述触控线111和虚拟线112均对应于所述间隔部202的位置设置。
在一个实施方案中，所述触控线111和虚拟线112围成的开口与所述像素开口部201的位置和形状对应
采用这样的方案，第二导电膜层110上形成有多根与触控线111垂直的第一方向走线，使得触控线111的分布不再突兀，相比于现有技术中周围区域为空白的方式，触控线不会明显可见，改善了视觉效果。
图中，触控块131位于触控线111和虚拟线112的上方，实际中，所述触控块131也可以位于触控线111和虚拟线112的下方。
如图5所示，显示了一个实施例中一个区域块的放大图，其中显示了虚拟线112的细节结构(其中，实际中触控线要延伸出所述区域块下方，这里为示意图未按实际展示)。
具体地，所述区域块包括四根相互平行的向触控侦测芯片延伸的触控线111，以及分布在触控线111周围的虚拟线112，其中所述虚拟线112包括多根与触控线111基本垂直的第一方向走线1121，多根第一方向走线1121相互间隔分布，使得在整个区域块内线路分布比较均匀。
其中优选地，所述虚拟线112包括与触控线111平行或同轴设置的第二方向走线1122。例如，如图5右侧所示，对于未完全穿过所述区域块的触控线，与其同轴分布有第二方向走线1122。这样的方案，使得整个第二导电膜层110的布线分布更加均匀。
在一个实施方案中，如图6所示，所述多个第一方向走线1121之间通过第二方向走线1122连接。具体地，在相邻的两根触控线111之间采用一根第二方向走线1122将多根第一方向走线121连接。图中虽未示出，但是应当知道，也可以是采用多根相互平行的第二方向走线1122，具体数量可以根据第一方向走线1121的间距进行选择，例如间距相同或近似。在另一个实施方案中，每一根图6中的第二方向走线1122可分为多段同轴间隔的第二方向走线。
在上面的实施方案中，所述第一方向走线1121、第二方向走线1122均为直线结构，但是，应当知道，也可以采用沿第一方向、第二方向延伸的锯齿线、波浪线、长城线或类似线条等等。
如图7-13，在一个实施方案中，为了更好的显示效果，对所述虚拟线112的布置进行了优化。具体，如图7所示，在显示设备中，所述触控结构100设置在封装层200上，封装层200包括多个像素开口部201以及位于像素开口部201之间的间隔部202(例如分别为像素界定层PDL上的开口和开口之间的间隔)，所述像素开口部201用于暴露下方的发光子像素，例如RGB子像素)。如图8、9所示，所述触控线111和虚拟线112均在对应所述间隔部202的位置设置，即避开像素开口部201设置。此时，RGB子像素发出的光不会被上方的触控线111或者虚拟线112遮挡，这样能够得到更好的显示效果。
在此种情况下，由于每一行、每一列子像素的尺寸并非完全相同，相邻行和相邻列子像素之间的间隔部202并非直线结构，导致第一方向走线1121、第二方向走线1122并非直线结构，而是适应间隔部202的弯折结构(图中为长城线)。
如前所述，触控线111和第一方向走线1121、第二方向走线1122均适应所述间隔部202的形状来布置，因此，在子像素尺寸、布置方式不同的情况下，间隔部202的形状也会有多种不同情况下，此时的触控线111和第一方向走线1121、第二方向走线1122形状也会适应性调整。不限于如前所述的几种线条形状。
在图中8、9中，对应任意两相邻的像素开口部201之间的间隔部202的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112，这样对应每一像素开口202的四周均设置有触控线111和/或虚拟线112，所述触控线111和虚拟线112形成了包围每个所述像素开口部201的形状(由于触控线111和虚拟线112之间为断开绝缘结构，所以，由触控线111和虚拟线112共同对某一像素开口包围时，所述包围并非封闭结构。当然当某一像素开口部201的四周均为虚拟线112时，所述包围可以是封闭结构)。
采用这样的方案，在第二导电膜层110上对应每一像素开口部201的周围的位置均设置有布线，使得整个第二导电膜层110的布线分布非常均匀，触控线111很好的隐藏在虚拟线112中，使得触控线111相比于周围不太明显，改善了视觉效果。
如图10-13，在第二导电膜层110上对应部分相邻的像素开口部201之间的间隔部202的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112，对应部分间隔部202的位置上没有触控线111和虚拟线112。这样，在对应部分像素开口部201的四周位置，只有部分边设置有触控线111和/或虚拟线112，即触控线111和/或虚拟线112并非形成包围结构，而是局部包围。
采用这样的方案，触控线111较好的隐藏在虚拟线112中，使得触控线111相比于周围不太明显，改善了视觉效果，同时，减少了虚拟线112的数量，节约了制造成本和工序时间。优选地，所述触控线和虚拟线至少在对应30％的间隔部的位置设置，优选在对应30％的间隔部的位置设置，就可以实现本申请的效果。
具体地，如图10，以四个像素开口部201为一组，对应该组中每一像素开口部201的四周的触控线111和虚拟线112构成包围结构；再相邻的四个像素开口部201为另一组，对应该组内每一像素开口的四周的触控线111和虚拟线112构成局部包围结构，并以四个一组的方式在两个方向均交替分布。例如，图中左上角四个像素开口部201的四周，均为一个边是触控线111、两个边是虚拟线112的三边包围的局部包围结构。与该四个像素开口部201相邻的四个像素开口部201的四周，均为一个边是触控线111、三个边是虚拟线112的四边包围的全包围结构。图中右上角的四个像素开口部201的四周，为四个边均为虚拟线112的全包围结构，其下方的四个像素开口部201的四周，为三条虚拟线112的局部包围结构。
这样的结构，相当于是对应间隔部202的87.5％的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112。
如图11，对应一行像素开口中的任一像素开口部201的四周有三个边有触控线111和/或虚拟线112，形成局部包围结构。相邻行像素开口中任一像素开口部201的四周有四个边有触控线111和/或虚拟线112，形成全包围结构。这样较低交替分布。
这样的结构，与图10相同，相当于是对应间隔部202的87.5％的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112。
如图12，对应每个像素开口部201的四周均为三边包围的局部包围结构，这样相当于是对应间隔部202的75％的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112。
如图13，对应每个像素开口部201的四周均为两个边包围的局部包围结构，这样相当于是对应间隔部202的50％的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112。
上面图10-13中，采用了在相邻的两根触控线111之间不采用或只采用一根第二方向走线1122将多根第一方向走线121连接，应当知道，在相邻的两根触控线111之间对应超过两个像素开口部201的宽度时，比如说有四个像素开口部201的宽度时，对应有，每两个像素开口部201之间有一个隔离部202，总共三个隔离部202，则此时，可在相邻的两根触控线111之间设置两根或三根第二方向走线1122。这样实际中，可以在更少的对应间隔部202的位置上设置有触控线111和/或虚拟线112，实验发现，在达到30％以上的对应隔离部202位置上设置触控线111和虚拟线112，即基本能够实现本发明目的，达到预定效果。优选的方案中，越该比例大于50％，更优选为大于90％。当然，这里设置比率的一个前提是指所述触控线111和虚拟线112整体相对比较均匀的设置，不能是相邻一定比率的像素开口之间的位置设置，另外相邻一定比率的像素开口之间完全不设置。例如，优选地，以20×20个像素为一组，一组内的触控线111和虚拟线112布置量与其他任一组的内触控线111和虚拟线112的布置量差异在20％以内。
如图14、15，在一个实施方案中，所述第一导电膜层130的每个触控块131为栅格结构触控块，所述栅格结构触控块131包括相互连通的栅格线1311和位于所述栅格线1311之间的栅格开口1312。其中优选地，如图13，所述栅格开口1312的形状位置与所述像素开口部201对应，优选地，至少部分所述栅格开口1312的尺寸略大于所述像素开口部201。采用这样的方案，相互连通的栅格线1311能够很好地实现对于触摸检测，同时，由于所述栅格开口1312与像素开口212位置形状对应，不会对像素发光产生遮挡，提升了显示效果。
如图16，在一个实施方案中，为了减小在使用中所述栅格线1311与第二导电膜层110上的触控线111产生干扰(比如产生寄生电容)，所述栅格结构触控块1311在与触控线1311重叠至少部分位置没有栅格线(所述重叠是指第二导电膜层的线路与第一导电膜层线路在第二导电膜层的投影重叠)，例如通过断开的方式形成空白，对比图14和图12、图5可见，图14中与图5触控线111对应的大部分位置为空白。当然为了实现整个栅格线的连通，图中上下最外侧栅格线并未断开(当然只在一个位置不断开即可，也可以是其他中间某一位置不断开)。
采用这样的方案，在第一导电膜层130的栅格线1311与第二导电膜层110的触控线111尽量不发生重叠，这样避免了两者之间产生电容，减少了触摸干扰的产生，提高了检测精度。
本申请还提供另外一种显示面板，如图17所示，其包括基板10以及在基板10上依次层叠的封装层(TFE)200、触控结构100、圆偏振片(CPOL)300、光学胶层(OCA)400、盖板500。
其中，所述触控结构100采用上述任一实施方案所述的触控结构。
在一个实施方案中，所述封装层200包括多个RGB子像素和像素界定层，所述像素界定层上形成有像素开口部201和间隔部202。
在一个实施方案中，所述触控结构100的触控线111和虚拟线112设置为与所述封装层200的间隔部202对应的位置。
在一个实施方案中，所述第一导电膜层130的每个触控块131为栅格结构触控块，所述栅格结构触控块131包括相互连通的栅格线1311和位于所述栅格线1311之间的栅格开口1312。所述栅格开口1312的形状位置与所述像素开口部201对应，优选地，至少部分所述栅格开口1312的尺寸略大于所述像素开口部201。采用这样的方案，相互连通的栅格线1311能够很好地实现对于触摸检测，同时，由于所述栅格开口1312与像素开口212位置形状对应，不会对像素发光产生遮挡，提升了显示效果。
本申请还提供一种显示设备，其包括了上述任一方案所述触控结构100或显示面板。
在一个实施方案中，所述第一导电膜层130和第二导电膜层110的材料为金属材料(例如铜)或者导电非金属材料(例如氧化铟锡ITO)。
在一个方案中，所述触控线111的线宽为2-4微米，所述间隔部的宽度为12-20微米。
在一个方案中，所述虚拟线112之间的断口宽度为4-6微米。
在一个方案中，所述触控线111与临近的虚拟线112的最小间距为1-2微米。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的公开范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离前述公开构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (12)
1.一种显示面板，包括封装层和设置在封装层上的触控结构，所述封装层包括多个像素开口部以及位于像素开口部之间的间隔部，其特征在于：所述触控结构包括第一导电膜层、第二导电膜层和设置在第一导电膜层和第二导电膜层之间的绝缘层，其中第一导电膜层包括多个触控块，第二导电膜层包括触控线和虚拟线，所述触控块通过设置于所述绝缘层中的导电通路与触控线电连接，所述虚拟线与触控线之间电绝缘，所述虚拟线在对应于所述间隔部的位置设置。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：所述虚拟线包括与触控线延伸方向基本垂直的多根相互间隔开的第一方向走线。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于：所述虚拟线包括与触控线延伸方向基本平行或同轴设置的第二方向走线。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于：至少部分所述多个第一方向走线之间通过第二方向走线连接。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于：至少部分虚拟线的布置区域分块设置,构成多个区域块，至少部分区域块的位置及外周形状与所述触控块对应。
6.根据权利要求1-5任一项所述的显示面板，其特征在于：所述触控线和虚拟线均对应于所述间隔部的位置设置。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于：所述触控线和虚拟线围成的开口与所述像素开口部的位置和形状对应。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于：所述触控线和虚拟线在对应至少30％的所述间隔部的位置设置。
9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于：所述触控块为栅格结构，包括相互连通的栅格线和位于所述栅格线之间的栅格开口，其中，所述栅格开口与所述像素开口部的位置和形状对应。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于：至少部分所述栅格开口的尺寸大于所述像素开口部的尺寸。
11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于：所述栅格结构在与所述触控线重叠的至少部分位置没有栅格线。
12.一种显示设备，其特征在于包括了权利要求1-11任一项所述的显示面板。
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