CN112292480A - 喷嘴头和设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及喷嘴头(1)和用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应的设备，喷嘴头(1)包括喷嘴头本体(2)、喷嘴头输出面(4)和用于输送气体的气体通道(11、17、40)。喷嘴头(1)还包括第一通孔(20)和第一管(30)，该第一通孔(20)穿过两个或更多个喷嘴(10)中的至少两个，该第一管(30)具有管壁(34)并且装配至第一通孔中(20)，所述第一管(30)包括气体通路(32)，该气体通路(32)设置在管壁(34)中以在第一管(30)和与两个或更多个喷嘴(10)相连的气体通道(11、17、40)之间提供流体连通。

Description

喷嘴头和设备
技术领域
本发明涉及用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应的喷嘴头，并且更具体地，涉及根据独立权利要求1的前序部分的喷嘴头。
本发明还涉及用于处理基材的表面的设备，并且更具体地，涉及根据独立权利要求10的前序部分的设备。
背景技术
用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应的喷嘴头通常包括供应两种不同前驱体的多个喷嘴。从喷嘴供应的这些不同的前驱体通过吹扫气体流彼此分开，该吹扫气体流通常从设置在相邻前驱体喷嘴之间的间隙中的吹扫气体通道或从单独的吹扫气体喷嘴供应。吹扫气体通常从靠近喷嘴端部的至少一点供应。喷嘴头通常还包括从喷嘴头的输出面排出前驱体的喷嘴。用于供应前驱气体或吹扫气体或排出气体的气体布置在喷嘴头中需要很多气体连接、管道和其他连接装置。
与现有技术有关的问题之一在于，喷嘴头中的气体布置需要用于所有管道和气体连接的大量空间。如果将喷嘴头设置成可移动的喷嘴头，则还存在管道可能在相对于彼此移动时破坏的危险。
发明内容
本发明的目的是提供有效且简单的、向喷嘴头的气体通道和从喷嘴头的气体通道以及从喷嘴头向外和向内的气体输送。
本发明的目的通过其特征在于独立权利要求中所述内容的喷嘴头和设备来实现。本发明的优选实施例在从属权利要求中公开。
本发明基于为喷嘴头提供共同的气体供应或排出的思想。
根据本发明的用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应的喷嘴头包括喷嘴头本体、喷嘴头输出面、支撑至喷嘴头本体的两个或更多个喷嘴，所述两个或更多个喷嘴中的每个包括第一侧和第二侧以及喷嘴输出表面，所述两个或更多个喷嘴布置成彼此相邻，使得一个喷嘴的第二侧朝向相邻喷嘴的第一侧；和用于输送气体的气体通道，所述气体通道设置在两个或更多个喷嘴中或在相邻喷嘴之间，使得每个气体通道包括位于喷嘴头输出面中的开口。喷嘴头还包括穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第一通孔，所述第一通孔设置成使得两个或更多个喷嘴中的至少两个中的每个包括第一喷嘴通孔，该第一喷嘴通孔在喷嘴的第一侧和第二侧之间延伸并且形成穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第一通孔；和具有管壁的第一管。第一管装配至第一通孔中，并且所述第一管包括设置在管壁中的气体通路，该气体通路用于在第一管和与两个或更多个喷嘴相连的气体通道之间提供流体连通。
喷嘴输出表面在喷嘴输出表面的长度方向上设置在喷嘴的第一端部和第二端部之间，并且在喷嘴输出表面的宽度方向上设置在喷嘴的第一侧和第二侧之间。喷嘴从其端部、即从第一端部和第二端部、支撑至喷嘴头本体，该端部可以形成用于喷嘴头本体的连接部的突起或凹部。两个或更多个喷嘴可以布置成彼此相邻，使得相邻喷嘴的侧面彼此接触或者在相邻喷嘴之间可以存在间隙。气体通道可以设置在相邻喷嘴之间的间隙中或者可以设置在喷嘴中。存在前驱体喷嘴并且在相邻的前驱体喷嘴之间可以存在单独的吹扫气体喷嘴。在气体通道设置成相邻喷嘴之间的间隙的情况下，气体开口由围绕间隙的喷嘴形成，并且在气体通道设置在喷嘴中的情况下，喷嘴输出表面包括气体开口。优选地，穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第一通孔设置在喷嘴的第一端部区域或第二端部区域中或喷嘴的两端中。在本发明的另一实施例中，第一通孔在喷嘴的纵向方向上设置至喷嘴的中部部分，该纵向方向是第一端部和第二端部之间的方向。第一通孔由设置在喷嘴中的多个喷嘴通孔形成，使得该多个喷嘴通孔形成穿过喷嘴的均匀的第一通孔。
第一管装配至喷嘴头中的第一通孔中。第一管包括用于在第一管和与两个或更多个喷嘴相连的气体通道之间提供流体连通的气体通路，并且所述气体通路形成在第一管中，使得当第一管装配至第一通孔中时，气体通路布置成与喷嘴头的气体通道流体连通。第一管中的气体通路的尺寸优选地使得气体通路的总面积小于第一管的横截面积。
在本发明的一个实施例中，气体通道设置在喷嘴头中，使得气体通道为相邻喷嘴之间的间隙或缝隙的形式，并且第一管中的气体通路设置成与设置在相邻喷嘴之间的气体通道流体连通。
在本发明的另一实施例中，气体通道设置在喷嘴头中，使得气体通道位于喷嘴中，例如使得存在吹扫气体喷嘴，该吹扫气体喷嘴用于提供吹扫气体并且包括位于吹扫气体喷嘴内部的吹扫气体通道，或者使得存在前驱体气体喷嘴，该前驱体气体喷嘴用于提供前驱体气体并且包括布置在前驱体喷嘴内部的前驱体通道，或者使得存在排出喷嘴，该排出喷嘴用于经由喷嘴头表面从基材的表面排出气体并且包括位于排出喷嘴内部的排出通道。第一管中的气体通路设置成与气体通道流体连通，该气体通道设置成与喷嘴相连并且形成位于喷嘴输出表面中的气体开口，并且优选地使得一个喷嘴中设置一个气体通道。第一管包括气体通路，使得优选地第一管的一个气体通路设置成与一个气体通道流体连通。
第一管中的气体通路优选地为设置在第一管的壁中的孔的形式。第一管优选地是刚性管、诸如金属管，因为第一管还提供用于布置成平面结构的独立的喷嘴的对准结构，该平面结构中平面度很重要。
在本发明的另一实施例中，喷嘴头是弯曲的，并且第一管优选地是柔性管，使得第一管容易地装配至也是弯曲的第一通孔中。
喷嘴头还包括密封圈，该密封圈用于防止来自第一管的气体通路的气体在第一管和喷嘴通孔之间流动至喷嘴通孔中。密封圈设置为使得在第一喷嘴通孔和第一管之间设置至少一个密封圈。在本发明的优选实施例中，密封圈设置为使得该密封圈在第一管和喷嘴通孔之间位于气体通路的两侧。密封圈优选地作为O形环密封圈围绕第一管布置。
喷嘴头还包括穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第二通孔。第二通孔设置成使得两个或更多个喷嘴中的至少两个中的每个包括第二喷嘴通孔，该第二喷嘴通孔在喷嘴的第一侧和第二侧之间延伸并且形成穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第二通孔。喷嘴头还包括第二管，该第二管具有管壁并且装配至第二通孔中。第二管包括用于在第二管和端部气体通道之间提供流体连通的气体通路，该端部气体通道优选为吹扫气体通道。端部气体通道优选地设置在喷嘴头本体与喷嘴的第一端部之间和/或在喷嘴头本体与喷嘴的第二端部之间。在本发明的另一实施例中，第二管布置成使得该第二管将气体供应至端部气体通道，该端部气体通道设置在喷嘴中，使得气体开口位于喷嘴头表面的端部中、位于喷嘴的第一端部或第二端部或两者中。
所述两个或更多个喷嘴中的每个包括第一端部和第二端部，使得喷嘴输出表面设置在第一端部和第二端部之间。在本发明的实施例中，喷嘴头还包括两个第一通孔和两个第一管，该两个第一通孔穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个，该两个第一管装配至第一通孔中。两个第一通孔设置在两个或更多个喷嘴中，使得一个第一通孔设置在喷嘴的第一端部附近，另一个第一通孔设置在喷嘴的第二端部附近。在本发明的另一实施例中，喷嘴头还包括两个第二通孔和两个第二管，该两个第二通孔穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个，该两个第二管装配至第二通孔中。两个第二通孔设置在两个或更多个喷嘴中，使得一个第二通孔设置在喷嘴的第一端部附近，另一个第二通孔设置在喷嘴的第二端部附近。
相近地，如与第一管相关描述的那样，第二管中的气体通路优选地为第二管的壁中的孔的形式。第二管优选地是刚性管、诸如金属管，因为第二管还提供用于布置成平面结构的独立的喷嘴的对准结构，该平面结构中平面度很重要。
在本发明的另一实施例中，喷嘴头是弯曲的，并且第二管优选地是柔性管，使得第二管容易地装配至也是弯曲的第二通孔中。
喷嘴头还包括密封圈，该密封圈用于防止来自第二管的气体通路的气体在第二管和喷嘴通孔之间流动至喷嘴通孔中。密封圈设置为使得在第二喷嘴通孔和第二管之间设置至少一个密封圈。在本发明的优选实施例中，密封圈设置为使得该密封圈在第二管和喷嘴通孔之间位于气体通路的两侧。密封圈优选地作为O形环密封圈围绕第二管布置。
根据本发明的用于处理基材的表面的设备包括喷嘴头和气体源，该喷嘴头用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应，该气体源连接至喷嘴头以将气体供应至喷嘴头。喷嘴头包括喷嘴头本体、喷嘴头输出面、支撑至喷嘴头本体的两个或更多个喷嘴以及用于朝向基材的表面供应气体的气体通道。气体源连接至第一管以将气体供应至所述第一管中，所述第一管装配至布置成穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第一通孔中。第一管包括气体通路，该气体通路用于提供从第一管到与两个或更多个喷嘴相连的气体通道的流体连通。
气体源优选地通过连接通路连接至第一管，该连接通路连接至气体源并与第一管的第一端部形成连接，使得气体从管的一端供应至第一管。在本发明的另一实施例中，气体源布置成将气体供应至第一管的两端，使得气体从管的第一端部和/或从第一管的第二端部同时或不同时供应至第一管。换句话说，第一管包括第一管开口和第二管开口，并且所述气体源连接至第一管开口和第二管开口两者，以经由第一管将气体从第一管的两端提供至气体通道。可替代地，气体源连接至第一管开口或第二管开口，使得没有连接至吹扫气体源的另一个管开口被堵塞或阻塞。
在本发明的另一实施例中，气体源进一步连接至第二管，该第二管装配至布置成穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个的第二通孔中。第二管包括用于提供从第二管到端部气体通道的流体连通的气体通路，所述端部气体通道设置在喷嘴头本体与喷嘴之间或者在喷嘴输出表面与喷嘴头本体之间设置在喷嘴中。
两个或更多个喷嘴中的每个包括第一端部和第二端部，使得喷嘴输出表面设置在第一端部和第二端部之间。第一侧在第一端部和第二端部之间延伸，第二侧相近地在第一端部和第二端部之间延伸。喷嘴头输出面包括喷嘴输出表面。
在本发明的实施例中，喷嘴头还包括两个第一通孔和两个第一管，该两个第一通孔穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个，该两个第一管装配至第一通孔中。两个第一通孔优选地设置在两个或更多个喷嘴中，使得一个第一通孔设置在喷嘴的第一端部附近，另一个第一通孔设置在喷嘴的第二端部附近。气体源连接至两个第一供应管。此外，喷嘴头还可以包括两个第二通孔和两个第二管，该两个第二通孔穿过两个或更多个喷嘴中的至少两个，该两个第二管装配至第二通孔中。两个第二通孔设置在两个或更多个喷嘴中，使得一个第二通孔设置在第一端部附近，另一个第二通孔设置在喷嘴的第二端部附近。气体源连接至两个第二管。第二通孔优选但不是必需地在喷嘴的高度方向上比第一通孔更靠近喷嘴输出表面，即，该高度方向是喷嘴输出表面与喷嘴头的顶表面之间的方向。
本发明的一个优点在于，显著减小了从气体源到喷嘴头中的气体通道的连接件的量。本发明的另一个优点在于，第一管和/或第二管有助于平面喷嘴头中的喷嘴对准，并且第一管和/或第二管可以用于在相邻喷嘴之间提供适当的间隔。
附图说明
参考附图借助于具体实施例详细描述本发明，其中
图1a、图1b和图1c示出了根据本发明的喷嘴头的一个实施例；
图2a、图2b和图2c示出了喷嘴头的喷嘴的实施例；
图3示出了喷嘴头的实施例；
图4示出了喷嘴头的实施例；
图5a、图5b和图5c示出了喷嘴头的喷嘴的实施例；
图6示出了喷嘴头的实施例；
图7示出了喷嘴头的实施例；
图8a和图8b示出了喷嘴头的喷嘴的实施例；
图9a和图9b示出了喷嘴头的喷嘴的实施例；
图10示出了喷嘴头的细节；和
图11a、图11b和图11c示出了根据本发明的喷嘴头的另一实施例。
具体实施方式
图1a示意性地示出了喷嘴头1的横截面端视图，该喷嘴头1用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应。图1a、图1b和图1c的喷嘴头具有平坦的喷嘴头输出面4。因此，这种类型的喷嘴头1可以相对于基材的表面以线性振动运动在第一端部位置和第二端部位置之间移动。喷嘴头1可以布置成经由喷嘴头输出面4朝向基材的表面供应一种或多种前驱体。喷嘴头1包括本体2和两个或更多个喷嘴10。喷嘴10具有用于供应前驱体气体和/或排出气体的前驱体供应通道11和/或排出通道17。前驱体供应通道11包括位于喷嘴头输出面4中的前驱体供应开口21，排出通道17包括位于喷嘴头输出面4中的排出开口18。喷嘴10设置成与喷嘴头输出面4相连以供应至少一种前驱体，如图1a所示。喷嘴10包括形成喷嘴头输出面4的喷嘴输出表面16。两个或更多个喷嘴10支撑至喷嘴头本体2，并且两个或更多个喷嘴10中的每个包括第一侧13和第二侧15以及喷嘴输出表面16。两个或更多个喷嘴10布置成彼此相邻使得一个喷嘴10的第二侧15朝向相邻喷嘴10的第一侧13。喷嘴头1还包括用于供应吹扫气体的吹扫气体通道40。吹扫气体通道40包括位于喷嘴头输出面4中的吹扫气体开口42。在图1a所示的实施例中，吹扫气体通道40设置在相邻喷嘴10之间，并且吹扫气体开口形成在相邻的喷嘴输出表面16之间。为了说明的目的，在图1a中示出了第一管30。通常，第一管30优选地设置在喷嘴头1中，使得第一管30装配至第一通孔20中，并且在第一管30和气体通道之间提供流体连通的气体通路可以布置在喷嘴头1或喷嘴10的结构内。第一管30可以设置成与前驱体供应通道11、排出通道17或吹扫气体通道40流体连通。
图1b示出了从喷嘴头输出面4的方向看的喷嘴头1的示意性仰视图。喷嘴10相邻地布置，使得一个喷嘴10的第一侧13朝向相邻喷嘴10的第二侧15，如在图1b中所示。因此，喷嘴10形成喷嘴头输出面4的至少一部分。喷嘴头输出面4布置成在预定距离处朝向基材的表面，使得在处理期间在喷嘴头输出面4和基材的表面之间形成处理间隙。喷嘴头输出面4和基材的表面优选是共形的，使得喷嘴头输出面4的形状和基材的表面的形状彼此对应以形成均匀的处理间隙。图1b进一步示出了该实施例中的吹扫气体通道40设置在相邻喷嘴10之间，并且吹扫气体开口42形成在相邻的喷嘴输出表面16之间。在图1b中所示的实施例中，第一供应管30设置在喷嘴10的第一端部12附近。
图1c示意性地示出了喷嘴头1沿图1b的线A-A的截面侧视图。喷嘴10支撑至喷嘴头本体2。喷嘴10进一步设置至喷嘴头输出面4，使得喷嘴头输出面4包括喷嘴输出表面16并且喷嘴10可以经由喷嘴头输出面4供应前驱体气体或排出气体。第一通孔20设置在喷嘴的第一端部12附近。
图2a、图2b和图2c示出了喷嘴头1的喷嘴10的实施例，其中，图2a示意性地示出了喷嘴10的仰视图，图2b示出了喷嘴10的侧视图，图2c示出了喷嘴10的俯视图。喷嘴10包括第一端部12、第二端部14、喷嘴输出表面16、喷嘴顶表面61、第一侧13和第二侧15。喷嘴输出表面16和喷嘴顶表面61彼此相对并且在喷嘴10的第一端部12和第二端部14之间或在相对侧上延伸。第一端部12和第二端部14分别包括第一喷嘴端部表面和第二喷嘴端部表面。第一侧13和第二侧15分别包括第一侧表面和第二侧表面。在喷嘴头1中，相邻喷嘴10布置成使得喷嘴10的第一侧13朝向第一相邻喷嘴10的第二侧15，并且喷嘴10的第二侧15抵靠第二相邻喷嘴10的第一侧13。
喷嘴输出表面16包括通向喷嘴输出表面16的通道或凹槽，并且前驱体气体从前驱体供应通道11通过喷嘴输出表面16中的通道或凹槽朝向基材的表面供应。在本文中，前驱体供应通道11是在喷嘴10的顶表面61和喷嘴输出表面16之间延伸穿过喷嘴10的通道。前驱体供应通道11通向喷嘴输出表面16并且可以包括一个或多个前驱体供应开口21，前驱体气体可以从该一个或多个前驱体供应开口21流动至通道或凹槽。喷嘴10还可以包括位于喷嘴10内部的分配通道以将前驱体气体分配到一个或多个供应开口。喷嘴10还可以包括前驱体通路以将前驱体气体供应至喷嘴10中以及供应至分配通道。
图2a和图2b的喷嘴10包括排出通道17，该排出通道17是通向喷嘴输出表面16的通道或凹槽。排出通道17布置成围绕前驱体供应通道11的周向通道。排出通道17设置有排出开口18，经由该排出开口18可以从喷嘴输出表面16排出前驱体气体和可能的其他气体。在本发明的实施例中，排出开口18经由排出通路以及经由第一管30连接至排出设备、诸如排出装置。
喷嘴10还包括设置至第二侧15的凹部50。凹部50从顶表面61延伸穿过喷嘴到达喷嘴输出表面16，以在喷嘴10的第二侧15抵靠相反表面时提供从顶表面61到喷嘴输出表面16的气体通路。凹部50可以是凹槽等。凹部50沿喷嘴10的整个厚度或者沿整个第二侧15在垂直于喷嘴输出表面16的方向上延伸，使得凹部50通向喷嘴顶表面61和喷嘴输出表面16。凹部50也可以设置成使得凹部50仅通向喷嘴输出表面16而不通向喷嘴10的顶表面61。
应当注意，前驱体供应通道11、开口和通路，排出通道17、开口和通路以及吹扫气体通道40、开口和通路可以以多种不同的方式形成和构造，本发明不限于这些多种不同的方式。
图2b和图2c示出了从喷嘴10的第一侧13延伸至第二侧15的第一喷嘴通孔20a。第一喷嘴通孔20a是延伸穿过两个或更多个喷嘴10中的至少两个的第一通孔20的一部分。换句话说，延伸穿过两个或更多个喷嘴10中的至少两个的第一通孔20由同轴对准的多个第一喷嘴通孔20a形成。第一喷嘴通孔20a优选设置在喷嘴10的一个或两个端部部分中。喷嘴10的端部部分意味着喷嘴10的第一端部12或第二端部14附近部位。可替代地，第一喷嘴通孔20a可以设置在喷嘴的中间部分中。在图2a至图2c所示的实施例中，第一管30待装配至由第一喷嘴通孔20a形成的第一通孔20中、用于将吹扫气体提供至由喷嘴侧15中的凹部50形成的吹扫气体通道40，并且前驱体气体和排出物通过其他装置提供。
图3示出了根据本发明的喷嘴头1的实施例，其中相邻喷嘴10的喷嘴侧13、15设置成彼此抵靠，并且凹部50形成相邻喷嘴10之间的吹扫气体通道40，使得吹扫气体出口42形成在喷嘴输出表面16中。因此，当第一喷嘴侧13抵靠相邻喷嘴10的第二喷嘴侧15时，凹部50在相邻喷嘴10之间形成吹扫气体通道40并且吹扫气体开口42形成在相邻的喷嘴输出表面16之间。如图3所示，第一管30设置在喷嘴头10中，使得第一管30装配至由第一喷嘴通孔20a形成的第一通孔20中。在本发明的该实施例中，第一管30可以在第一管30和前驱体供应通道11之间或在第一管30和排出通道17之间或在第一管30和吹扫气体通道40之间提供流体连通。
图4从顶侧示出了根据本发明的喷嘴头1的实施例。在该实施例中，吹扫气体通道40被设置为相邻喷嘴10之间的通道，如结合图3所描述的凹部50，但是该凹部50不通向顶表面61。第一管30装配至由相邻喷嘴10的第一喷嘴通孔20a形成的第一通孔20中。在本发明的该实施例中，由于形成吹扫气体通道40的凹部50不通向顶表面61，因此第一管30通过第一管30中的气体通路和在喷嘴结构中延伸的可能的吹扫气体通路与吹扫气体通道40流体连通。
图5a、图5b和图5c示出了根据本发明的喷嘴头的喷嘴的实施例，其中，图5a示意性地示出了喷嘴10的仰视图，图5b示出了喷嘴10的侧视图，图5c示出了喷嘴10的俯视图。图5a、图5b和图5c中示出的喷嘴是布置成将吹扫气体提供至基材的表面的吹扫气体喷嘴。相近地，吹扫气体喷嘴如结合图2a描述的前驱体喷嘴那样包括第一端部12、第二端部14、喷嘴输出表面16、喷嘴顶表面61、第一侧13和第二侧15。喷嘴输出表面16和喷嘴顶表面61彼此相对并且在喷嘴10的第一端部12和第二端部14之间或在相对侧上延伸。吹扫气体通道40设置在吹扫气体喷嘴10的内部并且包括分配通道，所有这些分配通道共同被称为吹扫气体通道40。图5b示出了第一喷嘴通孔20a连接至吹扫气体通道40，图5c示出了第一喷嘴通孔20a从喷嘴10的第一侧13延伸至喷嘴10的第二侧15。
图6示出了根据本发明的喷嘴头1的一个实施例，其中喷嘴10设置成彼此相邻，并且每隔一个喷嘴是吹扫气体喷嘴，该吹扫气体喷嘴包括吹扫气体通道40和在喷嘴输出表面上的吹扫气体开口42，每隔一个喷嘴是前驱体喷嘴和/或排出喷嘴，该前驱体喷嘴和/或排出喷嘴通过前驱体供应通道11供应前驱体气体和/或通过排出通道17排出气体。第一管30装配至第一通孔20中并且在喷嘴10内延伸。喷嘴头还包括设置在喷嘴头1中的附加第一管30，使得一个第一管30布置在喷嘴头1的中间部分中，另一个第一管30位于喷嘴10的和又一个第一管30相对的端部上。一个第一管30布置成在第一管30和吹扫气体通道40之间提供流体连通，另一个第一管30布置成提供与前驱体供应通道11的流体连通，又一个第一管30布置成在第一管30和排出通道17之间提供流体连通。
图7示出了从顶侧示出的喷嘴头1的实施例，其中两个第一管30设置在喷嘴10的端部区域中、设置在由第一喷嘴通孔20a形成的第一通孔20中。第一管30设置成与排出通道17和吹扫气体通道40流体连通，如图所示，到前驱体供应通道11的连接位于喷嘴10的上侧。
图8a以侧视图示出了喷嘴10的实施例，图8b示出了从顶部观察的相同喷嘴，其中，喷嘴包括两个第一喷嘴通孔20a，使得一个第一喷嘴通孔20a位于喷嘴10的第一端部12附近并且第二个第一喷嘴通孔20a位于喷嘴10的第二端部14附近。在该实施例中，两个第一喷嘴通孔20a连接至相同的吹扫气体通道40，使得当两个第一管30装配至第一孔20中时，这两个第一管30将吹扫气体供应至相同的吹扫气体通道40。
图9a和图9b示出了本发明的实施例，其中喷嘴10包括一个第一喷嘴通孔20a和两个第二喷嘴通孔22a。这些图示出了当喷嘴头1包括平行于喷嘴10的端部的用于提供吹扫气体流的端部吹扫气体通道52、即平行于喷嘴10的第一端部12和/或喷嘴10的第二端部14的端部吹扫气体通道52、时的示例。端部吹扫气体通道52可以形成在喷嘴头本体2与喷嘴10的第一端部12之间和/或喷嘴头本体2与喷嘴10的第二端部14之间，或者端部吹扫气体通道52可以形成在喷嘴10中，使得喷嘴10包括与相邻喷嘴10一起形成端部吹扫气体通道52的喷嘴端部吹扫气体通道52a。喷嘴端部吹扫气体通道52a设置在喷嘴10中、与喷嘴10的第一端部12和/或第二端部14平行。第二喷嘴通孔22a设置在喷嘴10中以实施第二管33，该第二管33用于将吹扫气体供应至设置在喷嘴头本体2和喷嘴10之间的端部吹扫气体通道52，或者用于将吹扫气体供应至设置在喷嘴10中的喷嘴端部吹扫气体通道52a。图9a和9b中示出的本发明的实施例示出了喷嘴端部吹扫气体通道52，该喷嘴端部吹扫气体通道52设置在喷嘴10中使得该喷嘴端部吹扫气体通道52形成在喷嘴10的第一端部12和喷嘴10的第二端部14中。
图10示出了相近于第二管33的第一管30的细节。第一管30包括气体通路32，气体通路32优选地为第一管30中的孔的形式。气体通路32沿第一管的长度并且优选成排地设置至第一管30。图10示意性地示出了第一管30如何装配在由多个喷嘴通孔20a形成的第一通孔20中，并且气体通路32在第一管与相邻喷嘴10之间的吹扫气体通道40之间形成流体连接。在该实施例中，喷嘴头还包括密封圈50以防止来自第一管30的气体通路32的吹扫气体在第一管30与喷嘴通孔20a之间流动至喷嘴通孔20a中。密封圈50设置成使得在第一喷嘴通孔20a和第一管30之间设置至少一个密封圈50。在该实施例中，密封圈50设置成使得该密封圈50在第一通孔20和第一管30之间布置在气体通路32的两侧上。
图11a和图11b示意性地示出了喷嘴头1的另一实施例。图11a示意性地示出了喷嘴头1从喷嘴头输出面4的方向看的仰视图。图11b示出了喷嘴头1的示意性截面端视图。在该实施例中，喷嘴头包括弯曲的输出表面4。弯曲的输出表面4在第一侧结构和第二侧结构之间的方向上弯曲。弯曲的输出表面4具有曲率轴线并且输出表面4是圆形弯曲的或者是圆柱表面的一部分。在图11a、图11b和图11c的实施例中，输出表面4设置为凹形表面。在另一实施例中，弯曲的输出表面也可以设置为凸形表面。此外，应当注意，弯曲的输出表面4可以是优选的，但是本发明不仅限于任何特殊种类的输出表面4。此外，应当注意，弯曲的输出表面可以是平滑弯曲的或者弯曲的输出表面由相对于彼此以一定角度布置的多个平坦部分组成。后者可以例如设置有具有平坦喷嘴输出表面的多个喷嘴。
喷嘴10与图1a、图1b和图1c相近地喷嘴10布置成彼此相邻。图11c示意性地示出了喷嘴头1沿图11b的线B-B的截面侧视图。喷嘴10支撑至喷嘴头本体2。喷嘴10还设置至弯曲的输出表面4，使得喷嘴10可以经由输出表面4供应前驱体气体或排出气体。因此，喷嘴10安装至喷嘴头1使得喷嘴输出表面16形成弯曲的喷嘴头输出面4的至少一部分。
上面已经参考附图中示出的示例描述了本发明。然而，本发明不以任何方式限于以上示例，而是可以在权利要求书的范围内变化。

Claims (13)

1.一种喷嘴头(1)，用于根据原子层沉积原理使基材的表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应，所述喷嘴头(1)包括：
-喷嘴头本体(2)；
-喷嘴头输出面(4)；
-支撑至所述喷嘴头本体(2)的两个或更多个喷嘴(10)，所述两个或更多个喷嘴(10)中的每个包括第一侧(13)和第二侧(15)以及喷嘴输出表面(16)，所述两个或更多个喷嘴(10)布置成彼此相邻，使得一个喷嘴(10)的第二侧(15)朝向相邻喷嘴(10)的第一侧(13)；和
-用于输送气体的气体通道(11、17、40)，所述气体通道(11、17、40)设置在所述两个或更多个喷嘴(10)中或相邻喷嘴(10)之间，使得每个气体通道(11、17、40)包括位于所述喷嘴头输出面(4)中的开口(18、21、42)；其特征在于，所述喷嘴头(1)还包括：
-穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的至少两个的第一通孔(20)，所述第一通孔(20)设置成使得所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个中的每个包括第一喷嘴通孔(20a)，所述第一喷嘴通孔(20a)在所述喷嘴(10)的所述第一侧(13)和所述第二侧(15)之间延伸并且形成穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个的所述第一通孔(20)；和
-第一管(30)，所述第一管(30)具有管壁(34)并且装配至所述第一通孔(20)中，所述第一管(30)包括设置在所述管壁(34)中的气体通路(32)，所述气体通路(32)用于在所述第一管(30)和与所述两个或更多个喷嘴(10)相连的所述气体通道(11、17、40)之间提供流体连通。
2.根据权利要求1所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述第一管(30)中的所述气体通路(32)设置成与设置在所述相邻喷嘴(10)之间的所述气体通道(11、17、40)流体连通。
3.根据权利要求1所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述第一管(30)中的所述气体通路(32)设置成与设置在所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述气体通道(11、17、40)流体连通，所述气体通道(11、17、40)形成位于所述喷嘴输出表面(16)中的所述开口(18、21、42)。
4.根据权利要求2或3所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述第一管(30)的一个气体通路(32)设置成与一个气体通道(11、17、40)流体连通。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的喷嘴头(1)，其特征在于，设置在所述第一管(30)的壁中的所述气体通路(32)为孔的形式。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述第一管(30)中的所述气体通路(32)的尺寸使得所述气体通路(32)的总面积小于所述第一管(30)的横截面积。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述喷嘴头(1)还包括密封圈(50)，所述密封圈(50)用于防止来自所述第一管(30)的所述气体通路(32)的气体在所述第一管(30)和所述喷嘴通孔(20a)之间流动至所述喷嘴通孔(20a)中，所述密封圈(50)设置成使得在所述第一喷嘴通孔(20)和所述第一管(30)之间设置至少一个密封圈(50)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述喷嘴头(1)还包括：
-穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的至少两个的第二通孔(20)，所述第二通孔(20)设置成使得所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个中的每个包括第二喷嘴通孔(20a)，所述第二喷嘴通孔(20a)在所述喷嘴(10)的所述第一侧(13)和所述第二侧(15)之间延伸并且形成穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个的所述第二通孔(20)；和
-第二管(30)，所述第二管(30)具有管壁(34)并且装配至所述第二通孔(20)中，所述第二管(30)包括用于在所述第二管(30)和端部气体通道(60)之间提供流体连通的气体通路(32)，所述端部气体通道(60)设置在所述喷嘴头本体(2)和所述喷嘴(10)之间。
9.根据前述权利要求中任一项所述的喷嘴头(1)，其特征在于，所述两个或更多个喷嘴(10)中的每个包括第一端部(12)和第二端部(14)，使得所述喷嘴输出表面(16)设置在所述第一端部(12)和所述第二端部(14)之间；并且所述喷嘴头(1)还包括：
-两个第一通孔(20)和两个第一管(30)，所述两个第一通孔(20)穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个，所述两个第一管(30)装配至所述第一通孔(20)中，所述两个第一通孔(20)设置在所述两个或更多个喷嘴(10)中，使得一个第一通孔(20)设置在所述喷嘴(10)的所述第一端部(12)附近，另一个第一通孔(20)设置在所述喷嘴(10)的所述第二端部(12)附近；和/或
两个第二通孔(20)和两个第二管(30)，所述两个第二通孔(20)穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个，所述两个第二管(30)装配至所述第二通孔(20)中，所述两个第二通孔(20)设置在所述两个或更多个喷嘴(10)中，使得一个第二通孔(20)设置在所述喷嘴(10)的所述第一端部(12)附近，另一个第二通孔(20)设置在所述喷嘴(10)的所述第二端部(12)附近。
10.一种用于处理基材的表面的设备，所述设备包括：
-喷嘴头(1)，所述喷嘴头(1)用于根据原子层沉积原理使所述基材的所述表面经受至少两种前驱体的连续的表面反应，所述喷嘴头(1)包括喷嘴头本体(2)、喷嘴头输出面(4)、支撑至所述喷嘴头本体(2)的两个或更多个喷嘴(10)和气体通道(11、17、40)，所述气体通道(11、17、40)用于朝向所述基材的所述表面供应气体或用于从所述基材的所述表面排出气体；和
-气体源(100)，所述气体源(100)连接至所述喷嘴头(1)以将气体供应至所述喷嘴头(1)；
其特征在于，所述气体源(100)连接至第一管(30)以将气体供应至所述第一管(30)中，所述第一管(30)装配至布置成穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的至少两个的第一通孔(20)中，所述第一管(30)包括气体通路(32)，所述气体通路(32)用于提供从所述第一管(30)到与所述两个或更多个喷嘴(10)相连的所述气体通道(11、17、40)的流体连通。
11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，所述气体源(100)进一步连接至第二管(33)，所述第二管(33)装配至布置成穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的至少两个的第二通孔(22)中，所述第二管(33)包括用于提供从所述第二管(33)到端部气体通道(60)的流体连通的气体通路(32)，所述端部气体通道(60)设置在所述喷嘴头本体(2)和所述喷嘴(10)之间。
12.根据权利要求10或11所述的设备，其特征在于，所述两个或更多个喷嘴(10)中的每个包括第一端部(12)和第二端部(14)，使得所述喷嘴输出表面(16)设置在所述第一端部(12)和所述第二端部(14)之间；并且所述喷嘴头(1)还包括：
-两个第一通孔(20)和两个第一管(30)，所述两个第一通孔(20)穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个，所述两个第一管(30)装配至所述第一通孔(20)中，所述两个第一通孔(20)设置在所述两个或更多个喷嘴(10)中，使得一个第一通孔(20)设置在所述喷嘴(10)的所述第一端部(12)附近，另一个第一通孔(20)设置在所述喷嘴(10)的所述第二端部(12)附近；和/或
-两个第二通孔(22)和两个第二管(33)，所述两个第二通孔(22)穿过所述两个或更多个喷嘴(10)中的所述至少两个，所述两个第二管(33)装配至所述第二通孔(22)中，所述两个第二通孔(22)设置在所述两个或更多个喷嘴(10)中，使得一个第二通孔(22)设置在所述喷嘴(10)的所述第一端部(12)附近，另一个第二通孔(22)设置在所述喷嘴(10)的所述第二端部(12)附近；并且
所述气体源(100)连接至所述两个第一管(30)和/或所述两个第二管(33)。
13.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，所述第一管(30)包括第一管开口(31)和第二管开口(32)，并且所述气体源连接至所述第一管开口和所述第二管开口两者，以经由所述第一管(30)将气体从所述第一管(30)的两端提供至所述气体通道(11、17、40)。
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