CN112277417A - 一种三层共挤高透明高阻隔bopet薄膜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，包括PET基膜层，阻隔层与PET基膜层相背的一面上设置有涂布材料层，改性填充材料在制备过程中，具有片层结构的改性蒙脱土在聚对苯二甲酸乙二醇酯中，能够大大提升材料的阻隔性能，从而改善传统的BOPET膜所有的阻隔性能不佳的特点，同时，分散的蒙脱土片层具有良好的透光性能，不会对薄膜的透光性能造成负面影响，另外，均匀分布的纳米二氧化硅起到散射光的效果，使薄膜的反射光更加均匀，提升薄膜的使用效果，且通过将纳米二氧化硅与改性蒙脱土固定后再作为改性填充材料进行使用，能够提升两者在聚对苯二甲酸乙二醇酯中的分散稳定性。

Description

一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜
技术领域
本发明属于高分子材料膜技术领域，具体的，涉及一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜。
背景技术
BOPET薄膜是指双向拉伸聚酯薄膜，BOPET薄膜具有强度高、刚性好、透明、光泽度高等特点，且无嗅、无味、无色、无毒、具有突出的强韧性，其拉伸强度是PC膜、尼龙膜的3倍，冲击强度是BOPP膜的3-5倍，有极好的耐磨性、耐折叠性、耐针孔性和抗撕裂性等；热收缩性极小，处于120℃下，15分钟后仅收缩1.25％；具有良好的抗静电性，易进行真空镀铝，可以涂布PVDC，从而提高其热封性、阻隔性和印刷的附着力；BOPET还具有良好的耐热性、优异的耐蒸煮性、耐低温冷冻性，良好的耐油性和耐化学品性等。
然而BOPET薄膜的吸附性能稍差，热封性能差，且阻隔性能较差，为了改善BOPET薄膜的性能，现有技术中通过添加填料来改善，但是容易造成薄膜的透光性变差，为了解决上述问题，在提升BOPET薄膜阻隔性的同时不对其透光性造成影响，本发明提供了以下技术方案。
发明内容
本发明的目的在于提供一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜。
本发明需要解决的技术问题为：
然而BOPET薄膜的吸附性能稍差，热封性能差，且阻隔性能较差，为了改善BOPET薄膜的性能，现有技术中通过添加填料来改善，但是容易造成薄膜的透光性变差。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，包括处于中间的PET基膜层，PET基膜层的两面上分别设置有一层阻隔层，阻隔层与PET基膜层相背的一面上设置有涂布材料层，其中PET基膜层与两个阻隔层为共挤出成型，涂布材料层为涂布材料通过在线涂布涂覆在阻隔层的表面固化形成；
所述PET基膜层的厚度为12-75μm，所述阻隔层的厚度为PET基膜层厚度的7％-20％，所述涂布材料层的厚度为PET基膜层厚度的0.5％-10％；
所述PET基膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯加工制备而成；
所述阻隔层采用阻隔层材料加工制备而成；
所述涂布材料为丙烯酸、硅油或共聚聚酯；
该三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜的制备方法为：
第一步，制备阻隔层材料；
第二步，分别对阻隔层材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯进行预结晶干燥，然后挤出成熔体后，按照重量比将聚对苯二甲酸乙二醇酯熔体与阻隔层材料熔体进行共挤出，得到复合片材，再对复合片材进行纵向拉伸、横向拉伸、切边与电晕处理，得到PET基膜层与阻隔层的复合结构；
第三步，在阻隔层与PET基膜层相背的一面上，通过在线涂布涂覆有涂布材料，经烘干干燥后收卷，得到所述的三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜。
所述阻隔层材料的制备方法为：
S1、制备改性纳米二氧化硅颗粒；
S2、制备改性蒙脱土；
S3、配制固含量为14％-22％的聚氨酯乳液，将步骤S1中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入聚氨酯乳液中，在40-80KHz的频率下超声处理10-20min，得到分散液一，再将改性蒙脱土加入N,N-二甲基甲酰胺中，在40-80KHz的频率下超声处理20-35min，得到分散液二，保持频率对分散液二进行超声处理，并向其中缓慢加入分散液一，待分散液一完全加入后，保持频率继续超声处理10-15min后，静置10-15min，固液分离；
聚氨酯乳液中固相颗粒的粒径为1-6nm；
其中纳米二氧化硅与聚氨酯乳液中固相物的重量比为1:0.6-1.6；
S4、将步骤S3中得到的固相产物在65-75℃温度下烘干后，加入球磨机中，在240-400r/min的转速下干磨2-2.5h，得到改性填充材料；
S5、将步骤S4中制备得到的改性填充材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯按照重量比混合后加入挤出机中挤出造粒，得到阻隔层材料，其中改性填充材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯重量的2.5％-7％。
均匀分散的，具有片层结构的改性蒙脱土在聚对苯二甲酸乙二醇酯中，能够大大提升材料的阻隔性能，从而改善传统的BOPET膜所有的阻隔性能不佳的特点，同时，分散的蒙脱土片层具有良好的透光性能，不会对薄膜的透光性能造成负面影响，同时，附着在改性蒙脱土片层上的纳米二氧化硅材料一方面起到填充效果，提升制备所得到的BOPET薄膜的拉伸强度与抗冲击强度，另外，均匀分布的纳米二氧化硅还会起到散射光的效果，使薄膜的反射光更加均匀，提升薄膜的使用效果，且通过将纳米二氧化硅与改性蒙脱土固定后再作为改性填充材料进行使用，能够提升两者在聚对苯二甲酸乙二醇酯中的分散稳定性。
所述改性纳米二氧化硅颗粒的制备方法为：
S11、将无水乙醇与去离子水按照体积比10：1-2均匀混合后，向其中加入氨水，氨水的添加量为无水乙醇体积的1/2-3/4，搅拌混合分散均匀后，向其中加入正硅酸四乙酯，在温度50-65℃，转速200-450r/min的条件下搅拌反应2-2.5h后，固液分离，并用水与无水乙醇分别冲洗固相产物后，在100-115℃的条件下烘干处理12-24h，得到纳米二氧化硅颗粒；
S12、将步骤S12中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中纳米二氧化硅颗粒与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：7-11mL，在频率为70-100KHz的条件下超声处理15-25min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至60-120KHz继续超声处理20-35min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在30-33℃的条件下保温反应36-48h后，固液分离后，将固相产物在60-70℃温度下烘干后,得到改性纳米二氧化硅颗粒。
在该步骤中，将纳米二氧化硅分散在N,N-二甲基甲酰胺，通过超声处理降低纳米二氧化硅的聚团，然后再向其中加入甲苯二异氰酸酯，通过甲苯二异氰酸酯与纳米二氧化硅表面的羟基进行反应，对纳米二氧化硅进行表面改性，提升纳米二氧化硅的分散性；
所述改性蒙脱土的制备方法为：
将天然蒙脱土加入去离子水中，在转速1600-3600r/min的条件下高速搅拌处理15-30min，制备得到蒙脱土悬浊液，其中天然蒙脱土与去离子水的用量比为1g:7-12mL，然后向其中加入氢氧化钠调节蒙脱土悬浊液的pH至3.5-5，向其中加入硬脂酸，硬脂酸的添加量为天然蒙脱土重量的12％-35％，然后在75-85℃的温度下回流反应2-3h，固液分离后用去离子水与60-75℃的热乙醇分别对固相产物进行1-3次的冲洗，然后在65-90℃的温度下烘干，得到蒙脱土中间体；
将蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中蒙脱土中间体与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：12-16mL，在频率为100-160KHz的条件下超声处理20-30min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至60-160KHz继续超声处理30-50min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在30-33℃的条件下保温反应36-48h后，固液分离后，将固相产物在60-70℃温度下烘干后,得到改性蒙脱土。
在该步骤中以硬脂酸作为插层剂，对蒙脱土进行有机改性，提升了天然蒙脱土的层间距，从而提升了天然蒙脱土在有机物中的分散性，然后再将有机改性处理后得到的蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中进行超声分散，然后通过甲苯二异氰酸酯与蒙脱土结构侧面的羟基基团反应，从而使蒙脱土中间体的侧面接枝有苯环与异氰酸酯基，从而进一步提升蒙脱土的层间距，并有利于提升蒙脱土在有机物中分散的稳定性。
本发明的有益效果：
本发明所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，包括处于中间的PET基膜层，PET基膜层的两面上分别设置有一层阻隔层，阻隔层与PET基膜层相背的一面上设置有涂布材料层，其中阻隔层材料在制备时，是将改性填充材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯按照重量比混合后加入挤出机中挤出造粒得到，而改性填充材料在制备过程中，是利用均匀分散的，具有片层结构的改性蒙脱土在聚对苯二甲酸乙二醇酯中，能够大大提升材料的阻隔性能，从而改善传统的BOPET膜所有的阻隔性能不佳的特点，同时，分散的蒙脱土片层具有良好的透光性能，不会对薄膜的透光性能造成负面影响，同时，附着在改性蒙脱土片层上的纳米二氧化硅材料一方面起到填充效果，提升制备所得到的BOPET薄膜的拉伸强度与抗冲击强度，另外，均匀分布的纳米二氧化硅还会起到散射光的效果，使薄膜的反射光更加均匀，提升薄膜的使用效果，且通过将纳米二氧化硅与改性蒙脱土固定后再作为改性填充材料进行使用，能够提升两者在聚对苯二甲酸乙二醇酯中的分散稳定性，具体的，改性纳米二氧化硅是将纳米二氧化硅分散在N,N-二甲基甲酰胺，通过超声处理降低纳米二氧化硅的聚团，然后再向其中加入甲苯二异氰酸酯，通过甲苯二异氰酸酯与纳米二氧化硅表面的羟基进行反应，对纳米二氧化硅进行表面改性，提升纳米二氧化硅的分散性；改性蒙脱土是以硬脂酸作为插层剂，对蒙脱土进行有机改性，提升了天然蒙脱土的层间距，从而提升了天然蒙脱土在有机物中的分散性，然后再将有机改性处理后得到的蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中进行超声分散，然后通过甲苯二异氰酸酯与蒙脱土结构侧面的羟基基团反应，从而使蒙脱土中间体的侧面接枝有苯环与异氰酸酯基，从而进一步提升蒙脱土的层间距，并有利于提升蒙脱土在有机物中分散的稳定性。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，包括处于中间的PET基膜层，PET基膜层的两面上分别设置有一层阻隔层，阻隔层与PET基膜层相背的一面上设置有涂布材料层，其中PET基膜层与两个阻隔层为共挤出成型，涂布材料层为涂布材料通过在线涂布涂覆在阻隔层的表面固化形成；
所述PET基膜层的厚度为30μm，所述阻隔层的厚度为4.5μm，所述涂布材料层的厚度为2.2μm；
所述PET基膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯加工制备而成；
所述阻隔层采用阻隔层材料加工制备而成；
所述涂布材料为丙烯酸；
该三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜的制备方法为：
第一步，制备阻隔层材料；
第二步，分别对阻隔层材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯进行预结晶干燥，然后挤出成熔体后，按照重量比将聚对苯二甲酸乙二醇酯熔体与阻隔层材料熔体进行共挤出，得到复合片材，再对复合片材进行纵向拉伸、横向拉伸、切边与电晕处理，得到PET基膜层与阻隔层的复合结构；
第三步，在阻隔层与PET基膜层相背的一面上，通过在线涂布涂覆有涂布材料，经烘干干燥后收卷，得到所述的三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜。
所述阻隔层材料的制备方法为：
S1、制备改性纳米二氧化硅颗粒；
S2、制备改性蒙脱土；
S3、配制固含量为16％的聚氨酯乳液，将步骤S1中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入聚氨酯乳液中，在60KHz的频率下超声处理16min，得到分散液一，再将改性蒙脱土加入N,N-二甲基甲酰胺中，在60KHz的频率下超声处理25min，得到分散液二，保持频率对分散液二进行超声处理，并向其中缓慢加入分散液一，待分散液一完全加入后，保持频率继续超声处理12min后，静置15min，固液分离；
聚氨酯乳液中固相颗粒的粒径为1-6nm；
其中纳米二氧化硅与聚氨酯乳液中固相物的重量比为1:1.2；
S4、将步骤S3中得到的固相产物在70℃温度下烘干后，加入球磨机中，在320r/min的转速下干磨2.5h，得到改性填充材料；
S5、将步骤S4中制备得到的改性填充材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯按照重量比混合后加入挤出机中挤出造粒，得到阻隔层材料，其中改性填充材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯重量的4.5％。
所述改性纳米二氧化硅颗粒的制备方法为：
S11、将无水乙醇与去离子水按照体积比10：1.5均匀混合后，向其中加入氨水，氨水的添加量为无水乙醇体积的1/2，搅拌混合分散均匀后，向其中加入正硅酸四乙酯，在温度60℃，转速360r/min的条件下搅拌反应2.5h后，固液分离，并用水与无水乙醇分别冲洗固相产物后，在105℃的条件下烘干处理24h，得到纳米二氧化硅颗粒；
S12、将步骤S12中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中纳米二氧化硅颗粒与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：10mL，在频率为90KHz的条件下超声处理20min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至100KHz继续超声处理30min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在32℃的条件下保温反应40h后，固液分离后，将固相产物在70℃温度下烘干后,得到改性纳米二氧化硅颗粒。
所述改性蒙脱土的制备方法为：
将天然蒙脱土加入去离子水中，在转速3000r/min的条件下高速搅拌处理20min，制备得到蒙脱土悬浊液，其中天然蒙脱土与去离子水的用量比为1g:10mL，然后向其中加入氢氧化钠调节蒙脱土悬浊液的pH至3.5-4，向其中加入硬脂酸，硬脂酸的添加量为天然蒙脱土重量的20％，然后在80℃的温度下回流反应2.5h，固液分离后用去离子水与70℃的热乙醇分别对固相产物进行3次的冲洗，然后在75℃的温度下烘干，得到蒙脱土中间体；
将蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中蒙脱土中间体与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：12mL，在频率为140KHz的条件下超声处理20min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至140KHz继续超声处理40min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在32℃的条件下保温反应40h后，固液分离后，将固相产物在70℃温度下烘干后,得到改性蒙脱土。
实施例2
一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，包括处于中间的PET基膜层，PET基膜层的两面上分别设置有一层阻隔层，阻隔层与PET基膜层相背的一面上设置有涂布材料层，其中PET基膜层与两个阻隔层为共挤出成型，涂布材料层为涂布材料通过在线涂布涂覆在阻隔层的表面固化形成；
所述PET基膜层的厚度为30μm，所述阻隔层的厚度为4.5μm，所述涂布材料层的厚度为2.2μm；
所述PET基膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯加工制备而成；
所述阻隔层采用阻隔层材料加工制备而成；
所述涂布材料为丙烯酸；
该三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜的制备方法为：
第一步，制备阻隔层材料；
第二步，分别对阻隔层材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯进行预结晶干燥，然后挤出成熔体后，按照重量比将聚对苯二甲酸乙二醇酯熔体与阻隔层材料熔体进行共挤出，得到复合片材，再对复合片材进行纵向拉伸、横向拉伸、切边与电晕处理，得到PET基膜层与阻隔层的复合结构；
第三步，在阻隔层与PET基膜层相背的一面上，通过在线涂布涂覆有涂布材料，经烘干干燥后收卷，得到所述的三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜。
所述阻隔层材料的制备方法为：
S1、制备改性纳米二氧化硅颗粒；
S2、制备改性蒙脱土；
S3、配制固含量为18％的聚氨酯乳液，将步骤S1中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入聚氨酯乳液中，在60KHz的频率下超声处理16min，得到分散液一，再将改性蒙脱土加入N,N-二甲基甲酰胺中，在70KHz的频率下超声处理30min，得到分散液二，保持频率对分散液二进行超声处理，并向其中缓慢加入分散液一，待分散液一完全加入后，保持频率继续超声处理12min后，静置10min，固液分离；
聚氨酯乳液中固相颗粒的粒径为1-6nm；
其中纳米二氧化硅与聚氨酯乳液中固相物的重量比为1:1.2；
S4、将步骤S3中得到的固相产物在75℃温度下烘干后，加入球磨机中，在320r/min的转速下干磨2.5h，得到改性填充材料；
S5、将步骤S4中制备得到的改性填充材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯按照重量比混合后加入挤出机中挤出造粒，得到阻隔层材料，其中改性填充材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯重量的5％。
所述改性纳米二氧化硅颗粒的制备方法为：
S11、将无水乙醇与去离子水按照体积比10：1.5均匀混合后，向其中加入氨水，氨水的添加量为无水乙醇体积的1/2，搅拌混合分散均匀后，向其中加入正硅酸四乙酯，在温度60℃，转速400r/min的条件下搅拌反应2.5h后，固液分离，并用水与无水乙醇分别冲洗固相产物后，在105℃的条件下烘干处理24h，得到纳米二氧化硅颗粒；
S12、将步骤S12中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中纳米二氧化硅颗粒与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：8mL，在频率为80KHz的条件下超声处理20min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至100KHz继续超声处理25min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在32℃的条件下保温反应44h后，固液分离后，将固相产物在70℃温度下烘干后,得到改性纳米二氧化硅颗粒。
所述改性蒙脱土的制备方法为：
将天然蒙脱土加入去离子水中，在转速3200r/min的条件下高速搅拌处理25min，制备得到蒙脱土悬浊液，其中天然蒙脱土与去离子水的用量比为1g:10mL，然后向其中加入氢氧化钠调节蒙脱土悬浊液的pH至3.5-4，向其中加入硬脂酸，硬脂酸的添加量为天然蒙脱土重量的20％，然后在80℃的温度下回流反应3h，固液分离后用去离子水与70℃的热乙醇分别对固相产物进行3次的冲洗，然后在75℃的温度下烘干，得到蒙脱土中间体；
将蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中蒙脱土中间体与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：14mL，在频率为140KHz的条件下超声处理30min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至140KHz继续超声处理40min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在31℃的条件下保温反应40h后，固液分离后，将固相产物在65℃温度下烘干后,得到改性蒙脱土。
对比例1
所述改性蒙脱土的制备方法为：
将天然蒙脱土加入去离子水中，在转速3000r/min的条件下高速搅拌处理20min，制备得到蒙脱土悬浊液，其中天然蒙脱土与去离子水的用量比为1g:10mL，然后向其中加入氢氧化钠调节蒙脱土悬浊液的pH至3.5-4，向其中加入硬脂酸，硬脂酸的添加量为天然蒙脱土重量的20％，然后在80℃的温度下回流反应2.5h，固液分离后用去离子水与70℃的热乙醇分别对固相产物进行3次的冲洗，然后在75℃的温度下烘干，得到改性蒙脱土。
其它条件与实施例1相同。
对比例2
所述改性填充材料的制备方法为：
将天然蒙脱土加入去离子水中，在转速1600-3600r/min的条件下高速搅拌处理15-30min，制备得到蒙脱土悬浊液，其中天然蒙脱土与去离子水的用量比为1g:7-12mL，然后向其中加入氢氧化钠调节蒙脱土悬浊液的pH至3.5-5，向其中加入硬脂酸，硬脂酸的添加量为天然蒙脱土重量的12％-35％，然后在75-85℃的温度下回流反应2-3h，固液分离后用去离子水与60-75℃的热乙醇分别对固相产物进行1-3次的冲洗，然后在65-90℃的温度下烘干，得到蒙脱土中间体；
将蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中蒙脱土中间体与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：12-16mL，在频率为100-160KHz的条件下超声处理20-30min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至60-160KHz继续超声处理30-50min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在30-33℃的条件下保温反应36-48h后，固液分离后，将固相产物在60-70℃温度下烘干后,得到改性填充材料；
其它条件与实施例1相同。
实验数据与结果分析
对实施例1至实施例2以及对比例1至对比例2中制备得到的BOPET薄膜的雾度、透光率以及阻隔性能(O2，cm3·mm/m2·d·0.1Mpa，GB/T19789-2005)进行检测，具体结果见表1：
表1
雾度(％) 透光率(％) 阻隔性能
实施例1 16.6 85 2.7
实施例2 15.9 83 2.5
对比例1 20.1 77 4.0
对比例2 24.8 76 4.3
由上表可知，本发明所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜具有良好的透光性与阻隔性，同时，较高的雾度也能够改善薄膜的反光性质，提升薄膜的使用范围与使用效果。
以上内容仅仅是对本发明结构所作的举例和说明，所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，包括处于中间的PET基膜层，PET基膜层的两面上分别设置有一层阻隔层，阻隔层与PET基膜层相背的一面上设置有涂布材料层，其中PET基膜层与两个阻隔层为共挤出成型，涂布材料层为涂布材料通过在线涂布涂覆在阻隔层的表面固化形成；
所述PET基膜层由聚对苯二甲酸乙二醇酯加工制备而成；
所述阻隔层采用阻隔层材料加工制备而成；
该三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜的制备方法为：
第一步，制备阻隔层材料；
第二步，分别对阻隔层材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯进行预结晶干燥，然后挤出成熔体后，按照重量比将聚对苯二甲酸乙二醇酯熔体与阻隔层材料熔体进行共挤出，得到复合片材，再对复合片材进行纵向拉伸、横向拉伸、切边与电晕处理，得到PET基膜层与阻隔层的复合结构；
第三步，在阻隔层与PET基膜层相背的一面上，通过在线涂布涂覆有涂布材料，经烘干干燥后收卷，得到所述的三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，所述PET基膜层的厚度为12-75μm，所述阻隔层的厚度为PET基膜层厚度的7％-20％，所述涂布材料层的厚度为PET基膜层厚度的0.5％-10％。
3.根据权利要求1所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，所述涂布材料为PVA及其共聚物、丙烯酸、硅油或共聚聚酯。
4.根据权利要求1所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，所述阻隔层材料的制备方法为：
S1、制备改性纳米二氧化硅颗粒；
S2、制备改性蒙脱土；
S3、配制固含量为14％-22％的聚氨酯乳液，将步骤S1中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入聚氨酯乳液中，在40-80KHz的频率下超声处理10-20min，得到分散液一，再将改性蒙脱土加入N,N-二甲基甲酰胺中，在40-80KHz的频率下超声处理20-35min，得到分散液二，保持频率对分散液二进行超声处理，并向其中缓慢加入分散液一，待分散液一完全加入后，保持频率继续超声处理10-15min后，静置10-15min，固液分离；
S4、将步骤S3中得到的固相产物在65-75℃温度下烘干后，加入球磨机中，在240-400r/min的转速下干磨2-2.5h，得到改性填充材料；
S5、将步骤S4中制备得到的改性填充材料与聚对苯二甲酸乙二醇酯按照重量比混合后加入挤出机中挤出造粒，得到阻隔层材料，其中改性填充材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯重量的2.5％-7％。
5.根据权利要求4所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，步骤S3中聚氨酯乳液中固相颗粒的粒径为1-6nm；其中纳米二氧化硅与聚氨酯乳液中固相物的重量比为1:0.6-1.6。
6.根据权利要求4所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，所述改性纳米二氧化硅颗粒的制备方法为：
S11、将无水乙醇与去离子水按照体积比10：1-2均匀混合后，向其中加入氨水，氨水的添加量为无水乙醇体积的1/2-3/4，搅拌混合分散均匀后，向其中加入正硅酸四乙酯，在温度50-65℃，转速200-450r/min的条件下搅拌反应2-2.5h后，固液分离，并用水与无水乙醇分别冲洗固相产物后，在100-115℃的条件下烘干处理12-24h，得到纳米二氧化硅颗粒；
S12、将步骤S12中制备得到的纳米二氧化硅颗粒加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中纳米二氧化硅颗粒与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：7-11mL，在频率为70-100KHz的条件下超声处理15-25min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至60-120KHz继续超声处理20-35min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在30-33℃的条件下保温反应36-48h后，固液分离后，将固相产物在60-70℃温度下烘干后,得到改性纳米二氧化硅颗粒。
7.根据权利要求4所述的一种三层共挤高透明高阻隔BOPET薄膜，其特征在于，所述改性蒙脱土的制备方法为：
将天然蒙脱土加入去离子水中，在转速1600-3600r/min的条件下高速搅拌处理15-30min，制备得到蒙脱土悬浊液，其中天然蒙脱土与去离子水的用量比为1g:7-12mL，然后向其中加入氢氧化钠调节蒙脱土悬浊液的pH至3.5-5，向其中加入硬脂酸，硬脂酸的添加量为天然蒙脱土重量的12％-35％，然后在75-85℃的温度下回流反应2-3h，固液分离后用去离子水与60-75℃的热乙醇分别对固相产物进行1-3次的冲洗，然后在65-90℃的温度下烘干，得到蒙脱土中间体；
将蒙脱土中间体加入N,N-二甲基甲酰胺中，其中蒙脱土中间体与N,N-二甲基甲酰胺的用量比为1g：12-16mL，在频率为100-160KHz的条件下超声处理20-30min，然后向其中滴加甲苯二异氰酸酯，在甲苯二异氰酸酯完全滴加后，调节超声频率至60-160KHz继续超声处理30-50min，然后向其中滴加二月桂酸二丁基锡，在30-33℃的条件下保温反应36-48h后，固液分离后，将固相产物在60-70℃温度下烘干后,得到改性蒙脱土。
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