CN112267100B - 一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法 - Google Patents
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112267100B CN112267100B CN202011062248.2A CN202011062248A CN112267100B CN 112267100 B CN112267100 B CN 112267100B CN 202011062248 A CN202011062248 A CN 202011062248A CN 112267100 B CN112267100 B CN 112267100B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- carbon film
- carbon
- magnetron sputtering
- current pulse
- argon
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3457—Sputtering using other particles than noble gas ions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/0605—Carbon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明属于表面加工、涂层技术领域,具体涉及一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法。本发明方法在基片表面利用直流脉冲磁控溅射方法制备炭膜材料,直流脉冲磁控溅射的工作气体为氩气和碳氢气体;通过控制直流脉冲磁控溅射过程中碳靶表面磁控溅射的功率密度1.0‑5.5W/cm2、工作气体的流量即氩气的流量10‑20sccm、碳氢气体的流量0‑20sccm,以及工作频率、占空比等,利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法,在不同基底材料上制备炭膜材料,最终制得高载流子浓度的炭膜材料。
Description
技术领域
本发明涉及一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,属于表面加工、涂层技术领域。
背景技术
石墨是传统的燃料电池双极板材料,导电性和耐腐蚀性俱佳,并且与气体扩散层之间具有很好的亲和力,但存在加工性能差、机械强度低等缺点。金属材料弥补了石墨材料的缺陷,而且导电性能更胜一筹,但耐腐蚀性差,易产生表面钝化或造成催化剂中毒。通过对金属双极板表面进行沉积炭膜的改性处理,在金属的表面形成导电耐腐蚀涂层,可以解决存在的问题。目前丰田汽车公司全球率先在旗下Mirai燃料电池汽车上使用钛合金材质双极板和低成本炭涂层,解决了腐蚀、成本和导电等一系列问题。然而,目前国内采用各种方法制备的炭膜,还存在结合力、耐蚀性和导电性等一系列问题,如炭膜内较大的应力会破坏炭膜与金属基底的结合力;炭膜内较大的应力会在变温服役过程中导致炭膜破碎、脱落,进而导致防氧化失效;炭膜内载流子浓度较低,影响炭膜与金属基底之间的导电性能;在制备炭膜的过程中需向外界排放含有Cl、F、COx、NHx、NOx等有害气体的尾气,造成环境污染;制备的炭膜存在成本高、耗时长、效率低等问题。
发明内容
本发明通过物理气相沉积与化学气相沉积相结合的制备方法得到炭膜材料,使炭膜材料具有比较高的载流子浓度,解决了上述存在的导电性问题。
为实现上述发明目的,本发明采用以下技术方案:
本发明提供了一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述方法在基片表面利用直流脉冲磁控溅射方法制备高载流子浓度炭膜材料;所述直流脉冲磁控溅射的工作气体为氩气和碳氢气体。
上述技术方案中,进一步地,所述氩气的流量为10-20sccm,所述碳氢气体的流量为0-20sccm;所述直流脉冲磁控溅射的功率密度为1.0-5.5W/cm2。
上述技术方案中,进一步地,所述直流脉冲磁控溅射以高纯碳靶为靶材,碳靶的纯度为99.99%。
上述技术方案中,进一步地,所述直流脉冲磁控溅射的温度为自然室温。
上述技术方案中,进一步地,所述直流脉冲磁控溅射的工作频率为40kHz-400kHz,占空比为10%-40%,工作气压为0.4-2.0Pa。
上述技术方案中,进一步地,所述氩的纯度为99.99%,所述碳氢气体的纯度为99.99%。
上述技术方案中,进一步地,所述基片为载玻片、石英片、金属片。
本发明还提供了一种炭膜,所述炭膜由前述方法制备得到,所述炭膜厚度为30-300nm。
上述技术方案中,进一步地,所述炭膜的载流子浓度大于1.0×1016cm-3。
本发明有益效果为:
1、本发明通过控制直流脉冲磁控溅射过程中碳靶表面磁控溅射的功率密度和碳氢气体流量,使炭膜材料具有比较高的载流子浓度。
2、本发明所述的利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法所制备的炭膜,与利用物理气相沉积方法制备的炭膜相比较,在提高载流子浓度方面的效果是非常明显的。
3、本发明磁控溅射的工作气体为高纯氩和高纯碳氢气体,氩对环境无污染,碳氢气体经过等离子体处理,变为无害的CO2和H2O。
4、本发明制备方法简单、成本低、产率高、便于大规模工业化生产。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明作进一步说明,但不以任何方式限制本发明。
实施例1
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为1.8W/cm2,工作频率为100kHz,占空比为10%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为5sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积150min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为1.55±0.14×1016cm-3。
实施例2
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为1.8W/cm2,工作频率为100kHz,占空比为10%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为10sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积150min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为2.41±0.24×1016cm-3。
实施例3
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为1.8W/cm2,工作频率为100kHz,占空比为10%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为15sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积120min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为5.48±0.39×1016cm-3。
实施例4
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为1.8W/cm2,工作频率为100kHz,占空比为10%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为20sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积90min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为1.95±0.16×1017cm-3。
实施例5
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为2.6W/cm2,工作频率为150kHz,占空比为20%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为10sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积90min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为3.35±0.18×1016cm-3。
实施例6
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为3.5W/cm2,工作频率为300kHz,占空比为25%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为15sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积90min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为6.16±0.23×1016cm-3。
对比例1
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩为溅射气体(纯度为99.99%),利用物理气相沉积的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为1.8W/cm2,工作频率为100kHz,占空比为10%;
调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积160min,分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为4.38±1.78×1015cm-3。
对比例2
一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:
以不锈钢板、载玻片、石英片作为基片,依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声波清洗10min;
利用直流脉冲磁控溅射方法,在自然室温条件下分别以不锈钢板、载玻片、石英片为基底材料,以高纯碳靶为靶材(碳靶纯度为99.99%),以高纯氩和高纯甲烷为溅射气体(氩和甲烷纯度均为99.99%),利用物理气相沉积与化学气相沉积相结合的方法制备炭膜材料;
其中:直流脉冲磁控溅射的背底真空度为3.5×10-3Pa,工作气压为0.6Pa,功率密度为0.8W/cm2,工作频率为100kHz,占空比为10%;
先调节氩的流量为10sccm,利用碳靶进行物理气相沉积30min,然后保持碳靶溅射,氩气流量不变,通入甲烷气体,流量为50sccm,调节压力阀使工作气压维持在0.6Pa,继续沉积90min。最终分别在不锈钢板、载玻片、石英片上得到炭膜材料,炭膜厚度为300nm。
对载玻片上制备的炭膜材料进行霍尔效应测试,得到载流子浓度为3.95±0.78×1015cm-3。
对于任何熟悉本领域的技术人员而言,在不脱离本发明技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均应仍属于本发明技术方案保护的范围内。
Claims (5)
1.一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法,其特征在于:所述方法在基片表面利用直流脉冲磁控溅射方法制备高载流子浓度炭膜材料;所述直流脉冲磁控溅射的工作气体为氩气和甲烷;所述氩气的流量为10-20sccm,所述甲烷的流量为0-20sccm,且甲烷流量不为0sccm;所述直流脉冲磁控溅射的功率密度为1.0-5.5W/cm2;所述基片为载玻片、石英片、金属片;所述炭膜材料的厚度为30-300nm;所述直流脉冲磁控溅射的温度为自然室温;所述直流脉冲磁控溅射的工作频率为40kHz -400kHz,占空比为10%-40%,工作气压为0.4-2.0Pa。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述直流脉冲磁控溅射以高纯碳靶为靶材,碳靶的纯度为99.99%。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述氩气的纯度为99.99%,所述甲烷气体的纯度为99.99%。
4.一种炭膜,其特征在于,所述炭膜由权利要求1所述方法制备得到,所述炭膜厚度为30-300nm。
5.根据权利要求4所述的炭膜,其特征在于,所述炭膜的载流子浓度大于1.0×1016cm-3。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011062248.2A CN112267100B (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011062248.2A CN112267100B (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112267100A CN112267100A (zh) | 2021-01-26 |
CN112267100B true CN112267100B (zh) | 2022-11-18 |
Family
ID=74338686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011062248.2A Active CN112267100B (zh) | 2020-09-30 | 2020-09-30 | 一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN112267100B (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1470263A1 (de) * | 2002-01-30 | 2004-10-27 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Verfahren zur abscheidung von metallfreien kohlenstoffschichten |
US6815054B1 (en) * | 2001-07-26 | 2004-11-09 | Seagate Technology Llc | Ultra-thin, corrosion resistant, hydrogenated carbon overcoats by combined sputtering and PECVD |
CN102453859A (zh) * | 2010-10-29 | 2012-05-16 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 含氢类金刚石碳薄膜材料的制备方法 |
CN102774065A (zh) * | 2012-06-01 | 2012-11-14 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种具有石墨烯结构的非晶碳膜及其制备方法 |
CN105951044A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-09-21 | 中车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 乙炔气体改性类石墨碳膜的制备方法 |
CN110684946A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-01-14 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种金属双极板高导电耐蚀防护涂层及其制备方法与应用 |
JP2020147850A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | Dowaサーモテック株式会社 | Dlc層の成膜方法および金型の製造方法 |
-
2020
- 2020-09-30 CN CN202011062248.2A patent/CN112267100B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6815054B1 (en) * | 2001-07-26 | 2004-11-09 | Seagate Technology Llc | Ultra-thin, corrosion resistant, hydrogenated carbon overcoats by combined sputtering and PECVD |
EP1470263A1 (de) * | 2002-01-30 | 2004-10-27 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Verfahren zur abscheidung von metallfreien kohlenstoffschichten |
CN102453859A (zh) * | 2010-10-29 | 2012-05-16 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 含氢类金刚石碳薄膜材料的制备方法 |
CN102774065A (zh) * | 2012-06-01 | 2012-11-14 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种具有石墨烯结构的非晶碳膜及其制备方法 |
CN105951044A (zh) * | 2016-05-05 | 2016-09-21 | 中车青岛四方机车车辆股份有限公司 | 乙炔气体改性类石墨碳膜的制备方法 |
JP2020147850A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | Dowaサーモテック株式会社 | Dlc層の成膜方法および金型の製造方法 |
CN110684946A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-01-14 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种金属双极板高导电耐蚀防护涂层及其制备方法与应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112267100A (zh) | 2021-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN113235062B (zh) | 一种max相多层复合涂层及其制备方法与应用 | |
WO2021259046A1 (zh) | 一种Cr-Al-C系MAX相涂层的制备方法及其应用 | |
CN112609165A (zh) | 一种不锈钢基燃料电池双极板表面复合涂层及其制备方法 | |
CN104766980B (zh) | 一种酸性介质燃料电池双极板防护涂层及其制备方法 | |
CN106587030A (zh) | 一种常压低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法 | |
CN111244493B (zh) | 一种质子交换膜燃料电池薄钛双极板的表面改性方法 | |
CN111155302A (zh) | 一种石墨烯复合碳纤维及其pecvd制备方法 | |
CN114665114A (zh) | 一种多层复合碳涂层及其制备方法和应用 | |
CN108018529A (zh) | 一种铝基燃料电池双极板表面复合涂层及其制备方法 | |
CN114481048B (zh) | 高导电耐蚀非晶/纳米晶复合共存的涂层及其制法与应用 | |
CN112267100B (zh) | 一种高载流子浓度炭膜材料的制备方法 | |
CN111519163B (zh) | 一种高导电长寿命高比表面积的硼掺杂金刚石电极及其制备方法和应用 | |
CN113718282A (zh) | 一种电解水制氢的析氢铂镀层电极材料制备方法 | |
CN113675419A (zh) | 一种表面改性的钛双极板及其制备方法和在质子交换膜燃料电池中的应用 | |
CN112195440B (zh) | 一种泡沫镍/氮化镍复合材料及其制备方法与应用 | |
CN108914060A (zh) | 一种燃料电池双极板表面防护涂层的制备方法 | |
CN108598497A (zh) | 一种用于燃料电池金属极板的纳米金属层及制备方法 | |
CN114457388B (zh) | 一种电解水析氧阳极及其制备方法 | |
CN101609898B (zh) | 具有憎水性的金属基燃料电池双极板的制备方法 | |
CN110880608A (zh) | 一种用于氢燃料电池金属双极板复合膜层及制备方法 | |
CN115044869A (zh) | 一种Cr掺杂ta-C导电耐蚀碳基薄膜及其制备方法和应用 | |
CN109775690A (zh) | 一种连续制备碳纳米管阵列的方法 | |
CN115369442A (zh) | 一种掺杂金刚石-氧化钌耦合电极及其制备方法和应用 | |
Ma et al. | Preparation and corrosion resistance of micro-arc oxidation/self-assembly composite film on 6061 aluminum alloy | |
CN115029663A (zh) | 金属极板复合涂层、金属极板及其制备方法和燃料电池 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |