CN112216731A - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,该显示面板包括依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、发光层以及第二电极层;第一电极层包括交替设置的多个第一电极组和多个触控电极组,且相邻的第一电极组与触控电极组相互绝缘;第二电极层上设有贯穿所述第二电极层的多个开口区域,每个开口区域分别与一个触控电极组对应。本发明通过将触控电极组集成在第一电极层内,可以降低显示面板的厚度,提高了柔性面板的弯折性能。此外,开口区域的设置可以提高第二电极层的透过率,减少了触控电极组的磁力线穿过第二电极层时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示面板具有自发光、对比度高、厚度薄、响应速度快、宽视角、低功耗、可实现柔性显示等特性,因此,被广泛应用于显示装置中。
相关技术中,显示面板通常包括依次层叠设置衬底、显示模组、触控模组以及封装层,其中,触控模组包括感应层和驱动层,当感应层感应到手指的触碰位置时,将感应信号传递至驱动层,进而驱动层驱动显示模组进行显示。
但是,上述的显示面板的厚度较大,即降低了显示面板的柔性,也会影响用户的使用体验。
发明内容
鉴于上述问题,本发明实施例提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,可以降低显示面板的厚度,在提高显示面板的柔性的同时,也提高了用户的使用体验。
为了实现上述目的,本发明实施例提供如下技术方案:
本发明实施例的第一方面提供一种显示面板,其包括依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、发光层以及第二电极层;所述第一电极层包括交替设置的多个第一电极组和多个触控电极组,且相邻的所述第一电极组与所述触控电极组相互绝缘;所述第二电极层上设有贯穿所述第二电极层的多个开口区域,每个所述开口区域与一个所述触控电极组对应,用于供所述触控电极组的磁力线穿过。
如上所述的显示面板,其中,所述第一电极层为阳极层,所述第一电极组为阳极电极组,每个所述阳极电极组包括沿第一方向排列的多个阳极块。
如上所述的显示面板,其中,所述发光层包括像素限定层和多个发光单元,所述像素限定层包括多条纵横交错的像素限定条,多条所述像素限定条限定出多个开口,每个所述开口内设有一个所述发光单元,且每个所述开口用于暴露一个所述阳极块;每个所述触控电极组被对应的一个所述像素限定条覆盖。
如上所述的显示面板,其中,每个所述触控电极组包括多个沿第一方向延伸的条形电极,多个所述条形电极沿第二方向间隔设置,且相邻的所述条形电极之间具有长度差;所述第一方向与所述第二方向互相垂直。
如上所述的显示面板,其中,沿所述第二方向,所述条形电极的长度依次增加或者依次减小。
如上所述的显示面板,其中,相邻的所述条形电极的长度差等于所述显示面板长边的长度与每组所述触控电极组中条形电极的个数之比。
本发明实施例的第二方面提供一种显示装置,其包括:如上所述的显示面板。
本发明实施例的第三方面提供一种显示面板的制备方法,其包括如下几个步骤:
提供阵列基板。
在所述阵列基板上形成第一电极层,所述第一电极层包括交替设置的多个第一电极组和多个触控电极组,且相邻的所述第一电极组与所述触控电极组相互绝缘。
在所述第一电极层上形成发光层,所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层。
在所述发光层上形成具有开口区域的第二电极层,其中,开口区域贯穿第二电极层,并与触控电极组对应。
如上所述的显示面板的制备方法,其中,在所述阵列基板上形成第一电极层的步骤中包括:
在所述阵列基板上形成金属层。
在所述金属层上形成光刻胶膜层。
图形化所述光刻胶膜层,形成光刻胶掩膜图案,所述光刻胶掩膜图案包括第一掩膜区、第二掩膜区以及蚀刻区。
去除与所述蚀刻区对应的部分深度的所述金属层,形成第一电极组和触控电极组。
如上所述的显示面板的制备方法,其中,在所述发光层上形成具有开口区域的第二电极层的步骤包括:
提供具有掩膜开口的精细掩膜板,相邻所述掩膜开口之间区域在第一电极层上投影与所述触控电极组对应。
在所述掩膜开口内沉积或者蒸镀第二电极层的材料。
去除精细掩膜板,形成具有开口区域的第二电极层。
如上所述的显示面板的制备方法,其中,在所述发光层上形成具有开口区域的第二电极层的步骤包括:
在所述像素限定层上形成抑制层,所述抑制层与所述触控电极组对应。
在所述像素限定层除去抑制层的区域内沉积或者蒸镀第二电极层的材料。
去除所述抑制层,形成具有开口区域的第二电极层。
本发明实施例所提供的显示面板及其制备方法、显示装置中,第一电极层内具有相互绝缘设置的第一电极组和触控电极组,通过将触控电极组集成在第一电极层内,不必像相关技术中将触控电极组设置在封装层上,这样可以降低显示面板的厚度,提高了柔性面板的弯折性能。
此外,第二电极层与触控电极组相对应的位置上设有开口区域,可以提高第二电极层的透过率,减少了触控电极组的磁力线穿过第二电极层时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
除了上面所描述的本发明实施例解决的技术问题、构成技术方案的技术特征以及由这些技术方案的技术特征所带来的有益效果外,本发明实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置所能解决的其他技术问题、技术方案中包含的其他技术特征以及这些技术特征带来的有益效果,将在具体实施方式中作出进一步详细的说明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的第一电极层的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的触控电极组的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图一;
图5为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图二;
图6为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图三;
图7为本发明实施例提供的显示面板的制备方法的流程图四;
图8为本发明实施例提供的显示面板去除抑制层之前的结构示意图。
附图标记:
100:阵列基板;
110:衬底;
120:TFT阵列层;
130:平坦层;
200:第一电极层;
210:第一电极组;
220:触控电极组;
221:条形电极;
300:发光层;
310:发光单元;
320:像素限定层;
400:第二电极层;
410:开口区域;
500:手指;
600:抑制层。
具体实施方式
相关技术中,为了实现显示面板的触控功能,通常需要将触控模组集成在封装层靠近衬底的侧面上,或者是封装层背离衬底的侧面上,这样既会增加显示面板的厚度,也会增加显示面板的脆性,在弯折显示面板过程中,容易造成显示面板的断裂。
针对上述的技术问题,本发明实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置中,第一电极层内具有相互绝缘设置的多个第一电极组和多个触控电极组,通过将触控电极组集成在第一电极层内,不必像相关技术中将触控电极组设置在封装层上,这样可以降低显示面板的厚度,提高了柔性面板的弯折性能。
此外,第二电极层与触控电极组相对应的位置上设有开口区域,可以提高第二电极层的透过率,减少了触控电极组的磁力线穿过第二电极层时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
为了使本发明实施例的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,均属于本发明保护的范围。
实施例一
如图1所示,本发明实施例提供的显示面板包括依次层叠设置的阵列基板100、第二电极层200、发光层300以及第二电极层400。
阵列基板100作为显示面板的承载部件,用于支撑设置在其上的元件,以及用于控制设置在其上元件中的电流或电压。
阵列基板100可以包括衬底110、设置在衬底上的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor,简称为TFT)阵列层120以及设置在TFT阵列层120上的平坦层130等,衬底110可以为硬质衬底,如玻璃衬底、塑料衬底;也可以为柔性衬底,如包括聚酰亚胺(Polyimide,简称PI)的柔性衬底。
阵列基板100的平坦层130上设有第一电极层200,其中,第一电极层200可以包括交替设置的第一电极组210和触控电极组220,第一电极组210用于为发光层300供电,触控电极组220用于产生触控信号,为了防止第一电极组210与触控电极组220之间形成电连接,第一电极组210与触控电极组220之间绝缘设置。
也就是说,第一电极组210和触控电极组220同层设置,这样可以采用同一种制备工艺在平坦层130上同时制备阳极电极组210和触控电极组220,使得第一电极层200具备OLED显示面板载流子注入的能力的同时,也具备触控功能。
如图2所示,以显示面板为矩形结构为例,第一电极组210和触控电极组220可以沿着显示面板的宽度方向间隔排布,也就是说,第一电极组210和触控电极组220可以沿着X方向间隔排布,其中,触控电极组220的个数可以为20-50组,至于具体的组数,本实施例在此不做具体限定,可以根据显示面板中实际的阳极电极组210的个数进行调整。
第一电极层200背离阵列基板100的一侧上依次设有发光层300以及第二电极层400,其中,第二电极层400用于产生电子或者空穴,比如,当第一电极层200为阳极层、第二电极层400为阴极层时,第二电极层400产生的电子和第一电极层200产生的空穴在发光层300中复合形成电子空穴对,即激子,激子能够将能量传递至发光层300的有机发光材料,使得有机发光材料发出光线。
由于第二电极层400通常为金属材质,相应地,第二电极层400能够阻挡磁力线的传递,因此,本发明实施例提供的第二电极层400中设有贯穿第二电极层400的多个开口区域410,每个开口区域410分别与一个触控电极组220对应,也就是说,开口区域410在衬底110上的投影,与触控电极组220在衬底110上的投影至少部分重合,这样,触控电极组220的磁力线可以从开口区域410穿设至显示面板的表面,减少了触控电极组220的磁力线穿过阴极层400时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
需要说明的是,本实施例中,开口区域410与触控电极组200对应,可以理解为,开口区域410在第一电极层200上的投影可以与触控电极组220完全重合,或者是,开口区域410在第一电极层200上的投影的一部分位于触控电极组220上,再者,开口区域410在第一电极层200上的投影环绕在触控电极组220上,即,开口区域410在阳极层上的投影的面积大于触控电极组220的面积。
此外,开口区域410可以为贯穿第二电极层400的通孔,且通孔可以规则的形状,比如,圆形、方形或者椭圆形;通孔还可以为不规则的形状。
本实施例中,第一电极层内具有相互绝缘设置的多个第一电极组和多个触控电极组,通过将触控电极组集成在第一电极层内,不必像相关技术中将触控电极组设置在封装层上,这样可以降低显示面板的厚度,提高了显示面板的弯折性能。
此外,第二电极层与触控电极组相对应的位置上设有开口区域,可以提高第二电极层的透过率,减少了触控电极组的磁力线穿过第二电极层时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
在一些实施例中,第一电极层200为阳极层,第一电极组210为阳极电极组,每个阳极电极组包括沿第一方向排列的多个阳极块,且每个阳极块上形成有一个发光单元310,这样实现对发光单元310的独立控制,保证了发光单元310的发光精度。
需要说明的是,当第一电极层200为阳极层时,相应地,第二电极层400为阴极层,第一方向可以为行方向或者列方向。
为了方便下文的描述,以下的实施例均以第一电极层为阳极层,第二电极层为阴极层为例,进行详细的阐述。
在一些实施例中,发光层300包括像素限定层320和多个发光单元310,像素限定层320包括多条纵横交错的像素限定条,多条像素限定条限定出多个开口,每个开口内设有一个发光单元310,通过像素限定层320将多个发光单元310分割开,可以保证多个发光单元310独立发光,防止发光单元310之间发生混色,提高了显示面板的显示效果。
其中,每个开口用于暴露一个阳极块,这样可以将一个发光单元310设置在一个阳极块上,并在阵列基板100中阵列电路的控制下实现电流的通断,同时,当第二电极层400,即阴极层也通入电流时,可以控制发光单元310进行发光。
此外,每个触控电极组220被对应的一个像素限定条覆盖,可以利用像素限定条实现阳极电极组与触控电极组220之间的绝缘设置,防止上述两者之间形成电连接,保证了阳极电极组和触控电极组220的独立工作,进而保证了显示面板的正常显示。
作为触控电极组220的一种可选地实施方式,如图3和图4所示,每个触控电极组220包括多个沿第一方向延伸的条形电极221,多个条形电极221沿第二方向间隔设置,且相邻的条形电极221之间具有长度差,第一方向与第二方向互相垂直。
以显示面板的长方形为例,第一方向可以为显示面板的长度方向,也就是图2中的Y方向,相应地,第二方向可以为显示面板的宽度方向,也就是图2中的X方向。
每个触控电极组220可以包括多个条形电极221,比如,条形电极221可以为长方形的电极,且每个触控电极组可以包括30-100个条形电极。
相邻的条形电极221之间具有长度差H,当使用者的手指500触控到显示面板背离衬底的侧面时,手指500与其中一个触控电极组的两个电极之间形成耦合电容,通过影响触控电极组的电容,定位出触控的横坐标;同时,通过两个条形电极之间所形成的电容,从而定位出触控的纵坐标,进而实现显示面板的触控功能。
在一些实施例中,沿第二方向,条形电极221的长度依次增加或者依次减小,这样可以提高触控精度,保证显示面板的正常工作。
需要说明的是,条形电极221的长度是指代条形电极的上端面到平坦层之间垂直长度,以图3所示的方位为例,条形电极的长度依次增加,这样当手指500触控到任意两个相邻的条形电极时,两个相邻的条形电极之间会通过手指进行耦合,则会影响两个条形电极所形成电容的大小,从而更加精准定位出触控的纵坐标,进而实现显示面板的触控功能。
此外,本实施例中,多个条形电极221并非呈高低交错布置,而是呈规则的排布,这样可以便于显示面板的控制器精准地计算出触控的横纵坐标,进而提高了显示面板的触控精度。
在一些实施例中,相邻条形电极221的长度差H等于显示面板长边的长度与每组触控电极组中条形电极的个数之比,这样可以为触控电极组的设计提供理论基础,同时,也可以保证显示面板的触控精度。
需要说明的是,显示面板长边的长度即显示面板沿图2中Y方向上的尺寸。
实施例二
本发明实施例还提供一种显示装置,其包括上述实施例中的显示面板。其中,显示装置可以应用于智能手机、平板电脑、笔记本电脑以及具有显示面板的移动终端或者其他终端设备。
本实施例提供的显示装置中,通过将显示面板的第一电极层200内同时设置相互绝缘的多个第一电极组210和触控电极组220,不必像相关技术中将触控电极组设置在封装层上,这样可以降低显示面板的厚度,提高了柔性面板的弯折性能。
此外,显示面板的第二电极层400与触控电极组220相对应的位置上设有开口区域410,可以提高第二电极层400的透过率,减少了触控电极组220的磁力线穿过第二电极层400时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
实施例三
本发明实施例还提供了一种显示面板的制备方法,如图4所示,包括如下的步骤:
S100:提供阵列基板;
阵列基板100用于承载柔性显示装置的其他器件,以及用于控制流入各发光单元的电流。阵列基板100通常包括衬底110,设置衬底110上TFT阵列层120以及覆盖TFT阵列层120的平坦化层130。
S200:在阵列基板上形成第一电极层,第一电极层包括交替设置的多个第一电极组和多个触控电极组,其中,相邻的第一电极组与触控电极组相互绝缘;
比如,当第一电极层为阳极层时,此步骤可以采用沉积、蒸镀或溅射等工艺在阵列基板100的平坦层130上形成阳极层;阳极层包括多个交替设置的阳极电极组和触控电极组220,其中,每个阳极电极组中的阳极块通过形成在平坦化层中的过孔与TFT阵列层120中的源极或漏极连接。
S300:在第一电极层上形成发光层,发光层包括多个发光单元和用于隔离各发光单元的像素限定层。
在此步骤中,可以先在阳极层上形成多条纵横交错的像素限定条,以使多条像素限定条限定出多个开口,然后在向开口内蒸镀有机发光材料,以形成位于开口内的发光单元310。
S400:在发光层上形成具有开口区域的第二电极层,其中,开口区域贯穿第二电极层,并与触控电极组220对应。
当第二电极层为阴极层时,在此步骤中,可以利用掩膜板在发光层上蒸镀阴极材料,形成具有开口区域的阴极层。其中,阴极材料可以为银(Ag)、铝(Al)、锂(Li)以及镁(Mg)中的任意一种,或者两种上述材料的混合物。
也可以直接在发光层上蒸镀整面的阴极层,然后利用刮刀或者其他的设备,将阴极层中部分区域挖除,这样被挖除的区域形成开口区域。
本发明实施例中提供的显示面板的制备方法中,一方面,在阵列基板上形成同层设置的第一电极组和触控电极组,使得第一电极层具备产生空穴或者电子的能力的同时,也具备触控功能,这样可以减小显示面板的厚度,提高了柔性面板的弯折性能。
另外,通过蒸镀或者刮刀方式在发光层形成具有开口区域的第二电极层,可以提高第二电极层的透过率,减少了触控电极组的磁力线穿过与触控电极组对应的第二电极层时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
在一些实施例中,如图5所示,在阵列基板上形成第一电极层的步骤中包括:
S210:在阵列基板上形成金属层。
采用沉积、蒸镀或溅射等工艺在阵列基板100的平坦层130上蒸镀金属材料,例如金(Au)、铂(Pt)、钛(Ti)、银(Ag)、氧化铟锡(ITO)、氧化锌锡(IZO)的单层或多层复合薄膜。
S220:在金属层上形成光刻胶膜层。
可以采用涂布-固化法、喷墨打印法或沉积法在金属层上形成光刻胶膜层,也就是说,光刻胶膜层覆盖金属层的上表面。
S230:图形化光刻胶膜层,形成光刻胶掩膜图案,光刻胶掩膜图案包括第一掩膜区、第二掩膜区以及蚀刻区。
通过掩膜、曝光、显影、刻蚀等图形化处理方式,对光刻胶膜层进行图形化处理,形成光刻胶掩膜图案。
S240:去除与蚀刻区对应的金属层,形成第一电极组和触控电极组。
在此步骤中,可以通过干法刻蚀或者湿法刻蚀,去除与刻蚀区对应的金属层,形成分别与第一掩膜区和第二掩膜区对应的凸台,通过清洗等方式去除凸台上的光刻胶膜层,这样相邻的凸台形成第一电极组210和触控电极组220。
在一些实施例中,如图6所示,在发光层上形成具有开口区域的第二电极层的步骤包括:
S410:提供具有掩膜开口的精细掩膜板,相邻掩膜开口之间的区域在第一电极层上投影与触控电极组对应;
S420:在掩膜开口内沉积或者蒸镀第二电极层的材料。
也就说,此步骤可以是在掩膜开口内沉积或者蒸镀阴极层的材料,比如,银(Ag)、铝(Al)、锂(Li)以及镁(Mg)中的任意一种,或者两种上述材料的混合物。
S430:去除精细掩膜板,形成具有开口区域的第二电极层。
在一些实施例中,如图7和图8所示,在发光层上形成具有开口区域的第二电极层的步骤包括:
S440:在像素限定层上形成抑制层,抑制层与触控电极组对应,形成图8中所示的结构。
可以在像素限定层320涂覆一定厚度的抑制剂,其中,抑制剂能够阻止阴极材料的蒸镀。
S450:在像素限定层除去抑制层的区域内沉积或者蒸镀第二电极层的材料。
采用沉积、蒸镀或溅射等工艺在像素限定层上蒸镀阴极材料,以形成阴极层。
S460:去除抑制层,形成具有开口区域的第二电极层。
在此步骤中,可以通过剥离或者刮除的方式清理抑制层600,以形成具有开口区域的阴极层。
在本实施例中,通过先在像素限定层上形成抑制层的方式,再向像素限定层上形成具有开口区域的第二电极层,可以提高第二电极层的透过率,减少了触控电极组的磁力线穿过与触控电极组对应的第二电极层时的损失,从而提高了显示面板的触控精度。
本说明书中各实施例或实施方式采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分相互参见即可。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施方式”、“一些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (11)
1.一种显示面板,其特征在于,包括依次层叠设置的阵列基板、第一电极层、发光层以及第二电极层;
所述第一电极层包括交替设置的多个第一电极组和多个触控电极组,且相邻的所述第一电极组与所述触控电极组相互绝缘;
所述第二电极层上设有贯穿所述第二电极层的多个开口区域,每个所述开口区域与一个所述触控电极组对应,用于供所述触控电极组的磁力线穿过。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一电极层为阳极层,所述第一电极组为阳极电极组,每个所述阳极电极组包括沿第一方向排列的多个阳极块。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述发光层包括像素限定层和多个发光单元,所述像素限定层包括多条纵横交错的像素限定条,多条所述像素限定条限定出多个开口,每个所述开口内设有一个所述发光单元,且每个所述开口用于暴露一个所述阳极块;
每个所述触控电极组被对应的一个所述像素限定条覆盖。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板,其特征在于,每个所述触控电极组包括多个沿第一方向延伸的条形电极,多个所述条形电极沿第二方向间隔设置,且相邻的所述条形电极之间具有长度差;
所述第一方向与所述第二方向互相垂直。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,沿所述第二方向,所述条形电极的长度依次增加或者依次减小。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,相邻的所述条形电极的长度差等于所述显示面板长边的长度与每个所述触控电极组中条形电极的个数之比。
7.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的显示面板。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下几个步骤:
提供阵列基板;
在所述阵列基板上形成第一电极层,所述第一电极层包括交替设置的多个第一电极组和多个触控电极组,且相邻的所述第一电极组与所述触控电极组相互绝缘;
在所述第一电极层上形成发光层,所述发光层包括多个发光单元和用于隔离各所述发光单元的像素限定层;
在所述发光层上形成具有开口区域的第二电极层,其中,开口区域贯穿第二电极层,并与触控电极组对应。
9.根据权利要求8所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述阵列基板上形成第一电极层的步骤中包括:
在所述阵列基板上形成金属层;
在所述金属层上形成光刻胶膜层;
图形化所述光刻胶膜层,形成光刻胶掩膜图案,所述光刻胶掩膜图案包括第一掩膜区、第二掩膜区以及蚀刻区;
去除与所述蚀刻区对应的部分深度的所述金属层,形成第一电极组和触控电极组。
10.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述发光层上形成具有开口区域的第二电极层的步骤包括:
提供具有掩膜开口的精细掩膜板,相邻所述掩膜开口之间区域在第一电极层上投影与所述触控电极组对应;
在所述掩膜开口内沉积或者蒸镀第二电极层的材料;
去除精细掩膜板,形成具有开口区域的第二电极层。
11.根据权利要求9所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述发光层上形成具有开口区域的第二电极层的步骤包括:
在所述像素限定层上形成抑制层,所述抑制层与所述触控电极组对应;
在所述像素限定层除去抑制层的区域内沉积或者蒸镀第二电极层的材料;
去除所述抑制层,形成具有开口区域的第二电极层。
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