CN112133844A - 发光器件及其制备方法、显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开提供了一种发光器件及其制备方法、显示面板及其制备方法和显示装置，涉及显示技术领域，能够提高发光器件的发光亮度。该发光器件包括：第一电极和发光功能图案；其中，第一电极设置有至少一个第一凹陷部；发光功能图案设置于第一电极之上，发光功能图案至少覆盖第一凹陷部，且发光功能图案中覆盖第一凹陷部的部分与第一凹陷部共形。

Description

发光器件及其制备方法、显示面板及其制备方法和显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种发光器件及其制备方法、显示面板及其制备方法和显示装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示、有机发光半导体。将OLED应用于显示装置中时，可制成OLED显示装置；由于OLED显示装置具备自发光、不需要背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较为简单等优异特性，被认为是下一代显示装置的主流发展方向；还可以将OLED应用于灯具中，制成OLED灯具，由于OLED器件的特性，OLED灯具可以被制作为柔性面光源，从而使得照明效果更好。

发明内容

本发明的实施例提供一种发光器件及其制备方法、显示面板及其制备方法和显示装置，能够提高发光器件的发光亮度。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种发光器件。所述发光器件包括第一电极和发光功能图案。所述第一电极设置有至少一个第一凹陷部。所述发光功能图案设置于所述第一电极之上，所述发光功能图案至少覆盖所述第一凹陷部，且所述发光功能图案中覆盖所述第一凹陷部的部分与所述第一凹陷部共形。

在一些实施例中，沿所述发光器件的厚度的方向，所述第一凹陷部中靠近所述发光功能图案一侧的边缘为弧线和/或折线。

在一些实施例中，沿所述发光器件的厚度方向，所述第一凹陷部的截面为半圆形、半椭圆形、三角形、倒梯形、矩形中的任一种。

在一些实施例中，发光器件还包括：第二电极，所述第二电极与所述第一电极相对设置，且所述发光功能图案位于所述第一电极和所述第二电极之间。

另一方面，提供一种显示面板，至少包括一个上述任一实施例所述的发光器件。

在一些实施例中，所述显示面板具有多种发光颜色不同的亚像素，所述亚像素中的至少部分发光颜色为蓝色的亚像素包括所述发光器件。

在一些实施例中，所述显示面板还包括平坦层，设置于所述第一电极远离所述发光功能图案的一侧，所述平坦层包括多个第二凹陷部，一个第一凹陷部位于一个第二凹陷部中，且所述第一凹陷部靠近所述第二凹陷部的一侧表面与所述第二凹陷部靠近所述第一凹陷部的一侧表面共形。

在一些实施例中，所述平坦层的材料为感光材料。

在一些实施例中，所述显示面板还包括：像素界定层，设置于所述发光器件中的第一电极之上，包括多个镂空部，所述镂空部至少露出所述第一电极的第一凹陷部。

在一些实施例中，多个所述发光器件中的第二电极耦接。

又一方面，提供一种显示装置。所述显示装置包括：如上述任一实施例所述的显示面板。

又一方面，提供一种发光器件的制备方法，包括：形成第一电极，所述第一电极设置有至少一个第一凹陷部。

在第一电极之上形成发光功能图案，所述发光功能图案至少覆盖所述第一凹陷部，且所述发光功能图案中覆盖所述第一凹陷部的部分与所述第一凹陷部共形。

在一些实施例中，所述发光器件的制备方法还包括：在形成第一电极之前，形成平坦图案，所述平坦图案包括至少一个第二凹陷部，一个所述第一凹陷部位于一个第二凹陷部中，且所述第一凹陷部靠近所述第二凹陷部的一侧表面与所述第二凹陷部靠近所述第一凹陷部的一侧表面共形。

在一些实施例中，所述发光器件的制备方法还包括：在所述发光功能图案之上形成第二电极，所述第二电极与所述第一电极相对设置。

又一方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：形成第一电极层，所述第一电极层包括多个第一电极，每个第一电极设置有至少一个第一凹陷部。

在第一电极层之上形成发光功能层，所述发光功能层包括多个发光功能图案，一个发光功能图案至少覆盖一个所述第一电极中的所述第一凹陷部，且所述发光功能图案中覆盖所述第一凹陷部的部分与所述第一凹陷部共形。

在一些实施例中，所述显示面板的制备方法还包括：在形成第一电极层之前，形成平坦层，所述平坦层包括多个第二凹陷部，一个所述第一凹陷部位于一个第二凹陷部中，且所述第一凹陷部靠近所述第二凹陷部的一侧表面与所述第二凹陷部靠近所述第一凹陷部的一侧表面共形。

在一些实施例中，形成所述平坦层包括：形成材料为感光材料的平坦薄膜，图案化以形成所述多个第二凹陷部。

在一些实施例中，图案化以形成所述多个第二凹陷部，包括：对所述平坦薄膜上待形成所述第二凹陷部的区域进行曝光。

其中，在曝光的过程中，对每个待形成所述第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光时间大于除中间区域外的边缘区域的曝光时间；或者，对每个待形成所述第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光强度大于除中间区域外的边缘区域的曝光强度。

在一些实施例中，在形成所述发光功能层之后，还包括：在所述发光功能层之上形成第二电极层，所述第二电极层与所述第一电极层相对设置。

在一些实施例中，沿所述显示面板的厚度方向，所述第一凹陷部中靠近所述发光功能层一侧的边缘为弧线和/或折线。

在一些实施例中，沿所述显示面板的厚度方向，所述第一凹陷部的截面为半圆形、半椭圆形、三角形、倒梯形、矩形中的任一种。

本公开提供了一种发光器件、显示面板和显示装置，其中发光器件包括第一电极和发光功能图案。该第一电极设置有第一凹陷部，第一凹陷部可以增大第一电极的表面积，而发光功能图案至少覆盖第一凹陷部且发光功能图案覆盖第一凹陷部的部分与第一凹陷部共形，因此，在第一电极的长度和宽度相同的前提下，本公开中的发光功能图案的面积相对于相关技术中的发光功能图案的面积更大。当发光功能图案的面积越大时，一方面有利于产生更多的光线，增大发光器件的发光亮度；另一方面，由于第一凹陷部的存在，可以使得位于第一凹陷部侧壁上的部分发光功能图案所发出的光线向发光器件的中间区域汇聚，从而可以进一步提高发光器件的发光亮度。由于OELD发光器件被应用于照明时，具有显示柔和以及色域广的优点，因此当本公开中的发光器件也被应用于照明时，当该发光器件的发光亮度越大时，其照明效果越好，从而有利于降低各类照明器件的功耗，延长照明器件的使用寿命；当本公开中的发光器件被应用于显示面板中时，以及当发光器件的发光亮度越大时，可以保证显示面板实际所显示的亮度与预设所显示的亮度之间的差异越小，进而提高显示面板的显示效果，且由于是每个发光器件中第一电极存在第一凹陷部，因此不会因为发光器件的结构限制显示面板的柔韧性，从而本公开中的显示面板可以为柔性显示面板。

附图说明

为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。

图1为根据本公开的一些实施例提供的显示面板的结构图；

图2A为根据本公开的一些实施例提供的一种像素驱动电路的结构图；

图2B为根据本公开的一些实施例提供的另一种像素驱动电路的结构图；

图2C为根据本公开的一些实施例提供的一种驱动电路的结构图；

图3A为根据本公开的一些实施例提供的一种发光器件的俯视结构图；

图3B为图3A中A-A′向所对应的截面图；

图3C为根据本公开的一些实施例提供的一种第一电极的结构图；

图3D为根据本公开的一些实施例提供的另一种发光器件的俯视结构图；

图3E为图3D中B-B′向所对应的截面图；

图3F为根据本公开的一些实施例提供的另一种第一电极的结构图；

图3G为根据本公开的一些实施例提供的另一种发光器件的俯视结构图；

图3H为图3G中C-C′向所对应的截面图；

图3I为根据本公开的一些实施例提供的另一种第一电极的结构图；

图3J为根据本公开的一些实施例提供的另一种发光器件的俯视结构图；

图3K为图3J中D-D′向所对应的截面图；

图3L为根据本公开的一些实施例提供的另一种第一电极的结构图；

图3M为根据本公开的一些实施例提供的又一种发光器件的俯视结构图；

图3N为根据本公开的一些实施例提供的一种发光功能图案的结构图；

图4A为相关技术中的发光器件的俯视结构图；

图4B为图4A中E-E′向所对应的截面图；

图5A为相关技术中的发光器件和本公开中的发光器件的发光亮度与距离之间的曲线图；

图5B为相关技术中的发光器件的发光亮度的分布图；

图5C为根据本公开的一些实施例提供的一种发光器件的发光亮度的分布图；

图6A为根据本公开的一些实施例提供的又一种发光器件的俯视结构图；

图6B和图6C为图6A中F-F′向所对应的截面图；

图7A为根据本公开的一些实施例提供的另一种显示面板的俯视结构图；

图7B为图7A中G-G′向所对应的截面图；

图8为根据本公开的一些实施例提供的另一种显示面板的纵截面结构图；

图9A为根据本公开的一些实施例提供的一种发光器件的制备方法的流程图；

图9B为根据本公开的一些实施例提供的一种发光器件的制备过程结构图；

图10A为根据本公开的一些实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程图；

图10B为根据本公开的一些实施例提供的一种显示面板中的第一电极层的制备过程的俯视结构图；

图10C为根据本公开的一些实施例提供的一种显示面板中的发光功能层的制备过程的俯视结构图；

图10D为根据本公开的一些实施例提供的一种显示面板中的第一电极层的制备过程的纵截面结构图；

图10E为根据本公开的一些实施例提供的一种显示面板中的像素界定层的制备过程的纵截面结构图；

图10F为根据本公开的一些实施例提供的一种显示面板中的第二电极层的制备过程的纵截面结构图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。

以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在描述一些实施例时，可能使用了“耦接”和“连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。又如，描述一些实施例时可能使用了术语“耦接”以表明两个或两个以上部件有直接物理接触或电接触。然而，术语“耦接”或“通信耦合(communicatively coupled)”也可能指两个或两个以上部件彼此间并无直接接触，但仍彼此协作或相互作用。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。

“A、B和C中的至少一个”与“A、B或C中的至少一个”具有相同含义，均包括以下A、B和C的组合：仅A，仅B，仅C，A和B的组合，A和C的组合，B和C的组合，及A、B和C的组合。

“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。

如本文中所使用，根据上下文，术语“如果”任选地被解释为意思是“当……时”或“在……时”或“响应于确定”或“响应于检测到”。类似地，根据上下文，短语“如果确定……”或“如果检测到[所陈述的条件或事件]”任选地被解释为是指“在确定……时”或“响应于确定……”或“在检测到[所陈述的条件或事件]时”或“响应于检测到[所陈述的条件或事件]”。

本文中“适用于”或“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。

另外，“基于”的使用意味着开放和包容性，因为“基于”一个或多个所述条件或值的过程、步骤、计算或其他动作在实践中可以基于额外条件或超出所述的值。

如本文所使用的那样，“约”或“近似”包括所阐述的值以及处于特定值的可接受偏差范围内的平均值，其中所述可接受偏差范围如由本领域普通技术人员考虑到正在讨论的测量以及与特定量的测量相关的误差(即，测量系统的局限性)所确定。

如本文所使用的那样，相同的附图标记既表示信号端，也表示该信号端所提供的信号。

本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。

本公开的实施例提供一种OLED显示装置，该OLED显示装置例如包括：显示面板。参考图1所示，该显示面板1例如包括：基板10，设置在基板10上的多个亚像素P，每个亚像素P例如包括耦接的驱动电路11和发光器件12，该驱动电路11被配置为驱动发光器件12发光。

示例的，参考图2A和图2B，驱动电路11驱动发光器件12发光采用的为有源驱动的方式，此时驱动电路11可以称为像素驱动电路。

在一些实施例中，参考图2A，该像素驱动电路包括晶体管T1、晶体管T2和电容C，其中晶体管T2为驱动晶体管。

晶体管T1的栅极与栅极信号端Gate耦接，晶体管T1的第一极与数据信号端Data耦接，晶体管T1的第二极与节点N耦接。晶体管T2的栅极与节点N耦接，晶体管T2的第一极与电源电压信号端VDD耦接，晶体管T2的第二极与发光器件12耦接。电容C的一端与电源电压信号端VDD耦接，另一端与节点N耦接。

该像素驱动电路的工作原理例如为：在数据写入阶段，在栅极信号端Gate的控制下，晶体管T1开启，将数据信号端Data提供的数据信号Data传输至节点N，以及对电容C开始充电；在发光阶段，电容C开始放电，节点N的电位继续升高，晶体管T2开启，在其栅极电压和源极电压的控制下向发光器件12输出驱动信号。

参考图2A，晶体管T2的栅极电压等于节点N的电位，源极电压例如等于电源电压信号端VDD提供的电源电压信号VDD，晶体管T2向发光器件12输出的驱动信号例如为驱动电流。

在另一些实施例中，参考图2B，该像素驱动电路包括晶体管T1、晶体管T2、晶体管T3、晶体管T4、晶体管T5、晶体管T6、晶体管T7和电容C，其中晶体管T3为驱动晶体管。

晶体管T1的栅极与复位信号端Reset耦接，晶体管T1的第一极与初始化信号端Vinit耦接，晶体管T1的第二极与节点N耦接。

晶体管T2的栅极与栅极信号端Gate耦接，晶体管T2的第一极与晶体管T3的第二极耦接，晶体管T2的第二极与节点N耦接。

晶体管T3的栅极与节点N耦接，晶体管T3的第一极与第五晶体管T5的第二极耦接，晶体管T3的第二极与第六晶体管T6的第一极耦接。

晶体管T4的栅极与栅极信号端Gate耦接，晶体管T4的第一极与数据信号端Data耦接，晶体管T4的第二极与第三晶体管T3的第一极耦接。

晶体管T5的栅极与发光控制信号端EM耦接，晶体管T5的第一极与电源电压信号端VDD耦接。

晶体管T6的栅极与发光控制信号端EM耦接，晶体管T6的第二极与发光器件12的阳极耦接。

晶体管T7的栅极与复位信号端Reset耦接，晶体管T7的第一极与初始化信号端Vinit耦接，晶体管T7的第二极与发光器件12的阳极耦接。

电容C的一端与电源电压信号端VDD耦接，另一端与节点N耦接。

发光器件12的阴极与电源电压信号端VSS耦接，该电源电压信号端VSS提供的电压与电源电压信号端VDD所提供的电压不同。

示例的，电源电压信号端VDD所提供的电源电压信号VDD例如为5V～15V，电源电压信号端VSS所提供的电源电压信号VSS例如为0V。

该像素驱动电路的工作过程例如包括以下阶段：

复位阶段：在复位信号端Reset提供的复位信号Reset的控制下，晶体管T1和晶体管T7开启，将初始化信号端Vinit提供的初始化信号Vinit传输至驱动晶体管T3的栅极和待驱动元件D的阳极进行复位。

数据写入阶段：在栅极信号端Gate提供的栅极信号Gate的控制下，晶体管T2和晶体管T4开启，将数据信号端Data提供的数据信号Data通过晶体管T4、晶体管T3和晶体管T2传输至晶体管T3的栅极，以及对电容C进行充电，此时晶体管T3处于自饱和状态，即晶体管T3的栅极电压Vg与其源极(例如为第一极)电压Vs之差等于其阈值电压Vth。

发光阶段：在发光控制信号端EM提供的发光控制信号EM的控制下，晶体管T5和晶体管T6开启，电容C开始放电，使得晶体管T3的栅极电压进一步抬升，晶体管T3开启，从而向发光器件12输出驱动信号，发光器件12开始发光。其中的驱动信号例如为驱动电流Id，该驱动电流Id的大小例如与晶体管T3的栅极电压Vg和电源电压信号端VDD提供的电源电压VDD相关。

在一些实施例中，参考图2C，驱动电路11驱动发光器件12发光采用的为无源驱动的方式。该无源驱动的电路例如包括阴极线COM和阳极线SEG，阴极线COM与发光器件12的阴极耦接，阳极线SEG与发光器件12的阳极耦接，同时采用该种驱动电路11的显示面板1需要外接驱动芯片来为阴极线COM和阳极线SEG提供信号。

上述过程重点介绍了驱动电路11的结构，下面介绍发光器件12的具体结构。

参考图3A、图3B、图3D、图3E、图3G、图3H、图3J、图3K和图3M，本公开一些实施提供的发光器件12，包括：第一电极121和发光功能图案122。

示例的，第一电极121例如为阳极。第一电极121的材料例如为透明导电材料，例如ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)。

参考图3A～图3M，第一电极121上设置有至少一个第一凹陷部1210。

示例的，参考图3A～图3M，沿发光器件12的厚度方向，在第一凹陷部1210的纵截面图中，第一凹陷部1210中靠近发光功能图案122一侧的边缘为弧线和/或折线。其中，由于第一凹陷部1210具有厚度，因此第一凹陷部1210中靠近发光功能图案122一侧的边缘可以理解为第一凹陷部1210的上侧边缘。

进而，参考图3B，第一凹陷部1210的上侧边缘为弧线；或者参考图3E、图3H和图3K，第一凹陷部1210的上侧边缘为折线。

由于第一电极121的厚度较薄，因此在本公开的实施例中，以第一凹陷部1210的上侧边缘的形状和下侧边缘的形状大致相同为例进行示意，实际上，在工艺可以实现的前提下，只要保证第一凹陷部1210的上侧边缘存在凹陷区域即可。

在一些实施例中，沿发光器件12的厚度方向，第一凹陷部1210的截面为半圆形、半椭圆形、三角形、倒梯形、矩形中的任一种。

示例的，沿发光器件12的厚度方向，参考图3B，第一凹陷部1210的纵截面为半椭圆形；参考图3E，第一凹陷部1210的纵截面为三角形；参考图3H和图3K，第一凹陷部1210的纵截面为倒梯形。需要说明的是，同一个第一凹陷部1210的纵截面的形状可能对应不同的第一凹陷部1210的俯视图，例如参考图3H，该第一凹陷部1210的纵截面为倒梯形，但是该第一凹陷部1210所对应的俯视图可以是图3G，也可以是图3M。因此，虽然在此列举了一些第一凹陷部1210的纵截面和俯视图的具体形状，但是，本公开并不限于此，其它一些第一凹陷部1210的纵截面形状也可能适用于本公开中，也就是说适用于本公开中的第一凹陷部1210的形状并不能穷举，因此本公开中所列举的第一凹陷部1210的形状仅为示例。

需要说明的是，在图3E、图3H和图3K中，在忽略第一凹陷部1210厚度的情况下，第一凹陷部1210的纵截面形状并不是完整的三角形和倒梯形，其中的三角形和倒梯形均具有开口，但这并不影响本领域技术人员理解本公开所描述的第一凹陷部1210的纵截面的形状。

上述的发光功能图案122设置于第一电极121之上，发光功能图案122至少覆盖第一凹陷部1210，且发光功能图案122中覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形。

示例的，参考图3A、图3B、图3D、图3E、图3G、图3H，一个第一电极121设置有一个第一凹陷部1210，一个发光功能图案122仅覆盖了该一个第一凹陷部1210。

又示例的，参考图3J和图3K，一个第一电极121设置有两个第一凹陷部1210，一个发光功能图案122覆盖了该两个第一凹陷部1210。

示例的，第一电极121的厚度例如为：50nm～100nm，发光功能图案122的厚度例如为：180nm～220nm。

从而，本领域技术人员可以理解的是，发光功能图案122至少覆盖第一凹陷部1210可以理解为，无论第一电极121上设置有几个第一凹陷部1210，发光功能图案122均覆盖了每个第一凹陷部1210。发光功能图案122至少覆盖第一凹陷部1210时，沿发光器件12的厚度方向，发光功能图案122面积大于等于第一凹陷部1210的面积。

发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形可以理解为发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210的形状相同。

需要说明的是，本领域技术人员可以理解的是，发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210的部分的形状由第一凹陷部1210的上侧表面(靠近发光功能图案122的一侧)所决定，以及由于第一电极121的厚度较薄，第一凹陷部1210的上侧表面和其下侧表面的形状大致相同，因此，最终使得发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210的形状相同。

基于上述，由于第一电极121设置有第一凹陷部1210，当发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210，且发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形时，会使得发光功能图案122的表面也存在凹陷部，该凹陷部的形状与第一凹陷部1210的形状相同。参考图3B、图3E、图3H和图3K，此时由于在发光功能图案122的表面也存在凹陷部，而发光功能图案122后续在阳极和阴极的作用下会发光，因此第一电极121上所存在的第一凹陷部1210，会使得附着于第一凹陷部1210侧壁上用于制作发光功能图案122的发光材料所发出的光线2向第一凹陷部1210的中间区域汇聚，从而使得从发光功能图案122出射的光线2更加集中，亮度更高。

参考图3N，上述的发光功能图案122至少包括发光图案1220。发光功能图案122还可以包括电子传输图案(election transporting layer，简称ETL)1221、电子注入图案(election injection layer，简称EIL)1222、空穴传输图案(hole transporting layer，简称HTL)1223以及空穴注入图案(hole injection layer，简称HIL)1224中的一图案或多图案。

需要说明的是，图3N仅以发光功能图案122包括：发光图案1220、ETL1221、EIL2115、HTL2116、HIL2117进行示意，并不因此而限定，发光功能图案122仅能包括该些图案，其还可以包括其它图案。

参考图4A和图4B，相关技术中的发光器件12例如包括第一电极121″和发光功能图案122″，该第一电极121″和该发光功能图案122″的纵截面均为矩形，从该发光功能图案122″出射的光线2分散出射。

而在本公开中，第一电极121设置有第一凹陷部1210，第一凹陷部1210可以增大第一电极121的表面积，而发光功能图案122至少覆盖第一凹陷部1210且发光功能图案122覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形，因此，在第一电极121的长度和宽度相同的前提下，本公开中的发光功能图案122的面积相对于相关技术中的发光功能图案122″的面积更大。当发光功能图案122的面积越大时，一方面有利于产生更多的光线2，增大发光器件12的发光亮度；另一方面，由于第一凹陷部1210的存在，可以使得位于第一凹陷部1210侧壁上的部分发光功能图案122所发出的光线2向发光器件12的中间区域汇聚，从而可以进一步提高发光器件12的发光亮度。由于OELD发光器件被应用于照明时，具有显示柔和以及色域广的优点，因此当本公开中的发光器件12也被应用于照明时，当该发光器件12的发光亮度越大时，其照明效果越好，从而有利于降低各类照明器件的功耗，延长照明器件的使用寿命；当本公开中的发光器件12被应用于显示面板1中时，以及当发光器件12的发光亮度越大时，可以保证显示面板1实际所显示的亮度与预设所显示的亮度之间的差异越小，进而提高显示面板1的显示效果，且由于是每个发光器件12中第一电极121存在第一凹陷部1210，因此不会因为发光器件12的结构限制显示面板1的柔韧性，从而本公开中的显示面板1可以为柔性显示面板。

示例的，参考图5A，经过软件模拟分析，在使用相同的光源参数(例如光线视角)的情况下，本公开中的发光器件12的发光亮度整体优于相关技术中发光器件12的发光亮度，且本公开中发光器件12的中心亮度远远大于相关技术中的发光器件12的中心亮度。

需要说明的是，在图5A中，因为光源并不是面光源，且带有视角，因此发光器件12的亮度和距离之间存在相应的关系。

又示例的，经过软件模拟分析，对比图5B和图5C中发光器件12的发光亮度的分布图，可知，本公开中的发光器件12的发光亮度在中间区域更为集中，发光面积更大，发光亮度更高。其中，图5B为相关技术中的发光器件12的发光亮度的分布图，图5C为本公开中的发光器件12的发光亮度发分布图，且在图5B和图5C中，颜色越深，代表发光亮度越高，因此相关技术和本公开中的发光器件12的发光亮度均是由中间区域向外递减的。

由于OLED发光器件在高电流密度下，电压滚降较快，因此，当发光功能图案122的面积越大，即发光面积越大时，可以延缓电压滚降的速度，从而在发光器件12的工作电压相同的情况下，本公开中的发光器件12的发光亮度相对于相关技术中的发光器件12的发光亮度更高。

在一些实施例中，参考图6A和图6B，发光器件12还包括：第二电极123，第二电极123与第一电极121相对设置，且发光功能图案122位于第一电极121和第二电极123之间。

示例的，第二电极123例如为阴极。第二电极123的材料例如为金属材料，例如银(Ag)、铝(Al)等。

第一电极121和第二电极123被配置为提供电压信号，从而使得发光功能图案122可以产生光线2。示例的，第一电极121用于提供阳极电压，第二电极123例如用于提供阴极电压。

在一些实施例中，显示面板1具有多种发光颜色不同的亚像素P，亚像素P中的至少部分发光颜色为蓝色的亚像素包括发光器件12。

上述的多种发光颜色例如为三基色，例如红、绿、蓝。由于发光颜色为蓝色的亚像素的发光效率低于发光颜色为红色和发光颜色为绿色的亚像素的发光效率，因此当发光颜色为蓝色的亚像素所包括的发光器件12中的第一电极121设置有第一凹陷部1210时，可以提高该发光颜色为蓝色的亚像素的发光效率，从而改善显示面板1的显示效果。

在本公开中的实施例中，可以设置部分亚像素中的发光器件12的第一电极121具有第一凹陷部1210，从而以改善某一类亚像素P的发光效率，因此可以通过调节各类亚像素的发光比例，以使本公开中的显示面板发出任意色调的光线2，从而可以使得显示面板1的适用范围更广。

在一些实施例中，参考图7A和图7B，显示面板1还包括平坦层13，设置于第一电极121远离发光功能图案122的一侧，平坦层13包括多个第二凹陷部130，一个第一凹陷部1210位于一个第二凹陷部130中，且第一凹陷部1210靠近第二凹陷部130的一侧表面与第二凹陷部130靠近第一凹陷部1210的一侧表面共形。

参考图7B，在平坦层13靠近发光器件12的一侧设置有多个第二凹陷部130，一个发光器件12位于一个第二凹陷部130中，因此第一电极121覆盖第二凹陷部130的部分与第二凹陷部130的上表面共形，即第一凹陷部1210靠近第二凹陷部130的一侧表面(第一凹陷部1210的下表面)和第二凹陷部130靠近第一凹陷部1210的一侧表面(第二凹陷部130的上表面)共形。

由于需要使得第一电极121上可以形成第一凹陷部1210，因此在制作发光器件12时，先在平坦层13上形成第二凹陷部130，再在平坦层13上形成多个第一电极121，每个第一电极121包括至少一个第一凹陷部1210，每个第一凹陷部1210的形状与每个第二凹陷部130的上表面的形状相同。

示例的，平坦层13的材料为感光材料，例如感光型的聚酰亚胺(Polyimide，PI)或者光刻胶。由于使用感光材料制作的膜层可以通过掩膜板图案化，且图案化的过程较为简单，因此当平坦层13的材料为感光材料时，便于制作第二凹陷部130。

示例的，首先，在基板10上涂覆一层感光型的聚酰亚胺形成平坦薄膜；其次，利用紫外光透过掩膜板对该平坦薄膜进行曝光，掩膜板中设置有多个开口，每个开口处例如后续用于形成第一电极121。紫外光透过开口时，会在开口的周边形成Shadow(阴影)区域，Shadow区域和开口中心区域所接收的紫外光的量不同，开口中心区域所接收的紫外光的量最大，因此会使得从开口的中心区域到边缘区发生不同的程度的固化。最后，对平坦薄膜进行显影液处理，由于整个平坦薄膜从中心区域到边缘区的固化程度不同，从而在显影后可得到具有第二凹陷部130的平坦层13。

示例的，上述的紫外光在照射开口的过程中，紫外光与开口之间存在倾斜角，该倾斜角不等于90°，且紫外光在照射的过程中相对于掩膜板是运动的，从而可以保证开口相对两侧的区域所接收的紫外光的量是大致相同的，以保证可以形成具有对称结构的第二凹陷部130。

在一些实施例中，参考图8，显示面板1还包括：像素界定层14，设置于发光器件12中的第一电极121之上，包括多个镂空部140，镂空部140至少露出第一电极121的第一凹陷部1210。

像素界定层14的材料为感光型的有机材料，例如光刻胶。

在制作显示面板1时，在制作完第一电极121之后，需要制作像素界定层14，在制作像素界定层14的过程中也需要图案化，以在像素界定层14上形成多个镂空部140，每个镂空部140至少露出第一电极121中的第一凹陷部1210。

示例的，参考图8，一个第一电极121设置有一个第一凹陷部1210，因此，像素界定层14中与该第一电极121相对应的一个镂空部140至少露出第一电极121中该一个第一凹陷部1210即可。

需要说明的是，参考图3K，当一个第一电极121设置有两个第一凹陷部1210时，此时，像素界定层14中与该第一电极121相对应的一个镂空部140至少露出该第一电极121中的两个第一凹陷部1210。

结合上述，每个镂空部140至少露出第一电极121中的第一凹陷部1210，可以理解为，每个镂空部140至少露出第一电极121的部分，该第一电极121的部分包括所有的第一凹陷部1210。

像素界定层14用于界定发光功能图案122的位置，以便在显示面板1上形成与设计图纸相符合的发光器件12的结构和位置。

在一些实施例中，多个发光器件12中的第二电极123耦接。

示例的，显示面板1例如包括第二电极层123′，该第二电极层123′无需图案化。当第二电极层123′未图案化时，实际上无法在第二电极层123′中区分出一个个第二电极123，但是本领域技术人员可以将第二电极层123′中与每个第一电极121相对的部分理解为第二电极123，第二电极层123′中的剩余部分可以理解为用于耦接相邻的第二电极123的连接部。

又示例的，第二电极层123′例如为阴极层。

当多个第二电极123耦接时，可直接制作无需图案化的第二电极层123′，制作工艺较为简单。

参考图9A，本公开的实施例还提供一种发光器件12的制备方法，包括：

S1、参考图3C、图3F、图3I、图3L，形成第一电极121，第一电极121设置有至少一个第一凹陷部1210。

S2、参考图3A、图3B、图3D、图3E、图3G、图3H、图3J和图3K，在第一电极121之上形成发光功能图案122，发光功能图案122至少覆盖第一凹陷部1210，且发光功能图案122中覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形。

上述发光器件12的制备方法与上述的发光器件12具有相同的有益效果，因此不再赘述。

在一些实施例中，参考图9B，在形成第一电极121之前，上述发光器件12的制备方法还包括：形成平坦图案131，平坦图案131包括至少一个第二凹陷部130，一个第一凹陷部1210位于一个第二凹陷部130中，且第一凹陷部1210靠近第二凹陷部130的一侧表面与第二凹陷部130靠近第一凹陷部1210的一侧表面共形。

示例的，平坦图案131的厚度例如为100微米。

平坦图案131的材料例如为感光型的聚酰亚胺，通过图案化的方式可以在聚酰亚胺形成的薄膜上制作出具有第二凹陷部130的平坦图案131。由于平坦图案131的厚度远远大于第一电极121的厚度，因此图案化平坦图案131更易实现。

本领域技术人员可以理解的是，在制作发光器件12中的过程时，必然是需要承载的，该承载例如可以是基板10，发光器件12中的各个膜层被制作在该基板10上，例如参考图9B所示，平坦图案131设置于基板10上，基板10的材料例如为玻璃；第一电极121设置于平坦图案131之上(即平坦图案131远离基板10的一侧)，发光功能图案122设置于第一电极121之上。

通过先形成平坦图案131，且该平坦图案131设置有第二凹陷部130，再在平坦图案131上形成第一电极121。从而使得第一电极121可以具有第一凹陷部1210。示例的，第一电极121例如通过磁控溅射的方式形成，从而用于形成第一电极121的材料会沉积在第二凹陷部130中，并最终形成第一凹陷部1210。

在一些实施例中，参考图6A～图6C，发光器件12的制备方法还包括：

在发光功能图案122之上形成第二电极123，第二电极123与第一电极121相对设置。

第二电极123的材料例如为银，例如通过磁控溅射的方式形成。

第二电极123和第一电极121相对设置可以理解为，沿发光器件12的厚度方向，第二电极123在第一电极121上的正投影与第一电极121至少部分重合。

第二电极123被配置为向发光器件12例如提供阴极电压，以保证发光器件12的正常工作。

参考图10A，本公开的实施例还提供了一种显示面板1的制备方法，包括：

S10、参考图10B，形成第一电极层121′，第一电极层121′包括多个第一电极121，每个第一电极121设置有至少一个第一凹陷部1210。

示例的，参考图10B，多个第一电极121相对独立，并无耦接关系。

S20、参考图7A和图10C，在第一电极层121′之上形成发光功能层122′，发光功能层122′中覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形。

其中，参考图7A，发光功能层122′包括多个发光功能图案122，一个发光功能图案122至少覆盖一个第一电极121中的第一凹陷部1210，且发光功能图案122中覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形。

或者参考图10C，发光功能层122′整层覆盖第一电极层121′，发光功能层122′中覆盖第一凹陷部1210的部分与第一凹陷部1210共形，即此时发光功能层122′上存在多个与第一凹陷部1210形状相同的凹陷部。

参考图10C，本领域技术人员可以理解的是，当发光功能层122′整层覆盖第一电极层121′时，也可以认为发光功能层122′包括多个发光功能图案122，其中每个发光功能图案122在第一电极121上的正投影覆盖第一凹陷部1210，且多个发光功能图案122相连。

在一些实施例中，参考图10D，显示面板1的制备方法还包括：

在形成第一电极层121′之前，形成平坦层13，平坦层13包括多个第二凹陷部130，一个第一凹陷部1210位于一个第二凹陷部130中，且第一凹陷部1210靠近第二凹陷部130的一侧表面与第二凹陷部130靠近第一凹陷部1210的一侧表面共形。

示例的，参考图10D，形成第一凹陷部1210是通过先在平坦层13上形成第二凹陷部130的方式形成的，也就是说第一凹陷部1210的形状是由第二凹陷部130所决定的。

在一些实施例中，形成平坦层13例如包括：形成材料为感光材料的平坦薄膜，图案化以形成多个第二凹陷部130。

由于感光材料的平坦薄膜通过使用掩膜板结合曝光便可以进行图案化，因此，直接采用感光材料制作平坦薄膜，可以较为简单的制备出平坦层13。

在一些实施例中，图案化以形成多个第二凹陷部130，包括：对平坦薄膜上待形成第二凹陷部的区域进行曝光。

其中，在一些实施例中，在曝光的过程中，对每个待形成第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光时间大于除中间区域外的边缘区域的曝光时间。

在另一些实施例中，在曝光的过程中，对每个待形成第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光强度大于除中间区域外的边缘区域的曝光强度。

在每个待形成第二凹陷部的区域最终可以形成一个第二凹陷部130。

由于在第二凹陷部130中，其中间区域的深度大于其边缘区域的深度，因此在曝光时，若对待形成第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光时间越长和/或曝光强度越大，后续在刻蚀的过程中便可以去除较多的感光材料，从而以形成符合设计要求的第二凹陷部130。其中，对于本公开中的感光材料而言，曝光时间越长或曝光强度越大，则可以去除的感光材料的量越多。

在一些实施例中，参考图10E，在形成发光功能层122′之前，显示面板1的制备方法还包括：形成像素界定层14，像素界定层14包括多个镂空部140，每个镂空部140至少露出第一电极121中的第一凹陷部1210。

在一些实施例中，参考图10F，在形成发光功能层122′之后，显示面板1的制备方法还包括：在发光功能层122′之上形成第二电极层123′，第二电极层123′与第一电极层121′相对。

参考图10F，第二电极层123′整层覆盖发光功能层122′。

第二电极层123′中正投影落与第一电极121重合的部分可以理解为是上述的第二电极123。发光功能层122′中位于镂空部140中的部分，在第一电极层121′和第二电极层123′的作用可以发光，因此，发光功能层122′中位于镂空部140中的部分可以被理解为上述的发光功能图案122。

在一些实施例中，参考图3B、图3E、图3H和图3K，沿显示面板1的厚度方向，第一凹陷部1210的截面中靠近发光功能层122′的一侧为弧形和/或折线。

在一些实施例中，参考图3B、图3E、图3H和图3K，沿显示面板1的厚度方向，第一凹陷部1210的截面为半圆形、半椭圆形、三角形、倒梯形、矩形中的任一种。

当第一凹陷部1210的纵截面的形状为上述形状时，便于制作第一凹陷部1210。

基于上述，本公开中的发光器件12和显示面板1包括第一电极121，而第一电极121设置有至少一个第一凹陷部1210。第一凹陷部1210可以增大发光功能图案122的面积，以及使得从发光功能图案122出射的光线2向第一凹陷部1210的中心汇聚，从而提高发光器件12和显示面板1的亮度。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (20)

1.一种发光器件，包括：

第一电极，设置有至少一个第一凹陷部；

发光功能图案，设置于所述第一电极之上，所述发光功能图案至少覆盖所述第一凹陷部，且所述发光功能图案中覆盖所述第一凹陷部的部分与所述第一凹陷部共形。

2.根据权利要求1所述的发光器件，其中，沿所述发光器件的厚度的方向，所述第一凹陷部中靠近所述发光功能图案一侧的边缘为弧线和/或折线。

3.根据权利要求2所述的发光器件，其中，沿所述发光器件的厚度方向，所述第一凹陷部的截面为半圆形、半椭圆形、三角形、倒梯形、矩形中的任一种。

4.根据权利要求1～3任一项所述的发光器件，还包括：第二电极，所述第二电极与所述第一电极相对设置，且所述发光功能图案位于所述第一电极和所述第二电极之间。

5.一种显示面板，至少包括一个权利要求1～4任一项所述的发光器件。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其中，所述显示面板具有多种发光颜色不同的亚像素，所述亚像素中的至少部分发光颜色为蓝色的亚像素包括所述发光器件。

7.根据权利要求5所述的显示面板，还包括平坦层，设置于第一电极远离所述发光功能图案的一侧，所述平坦层包括多个第二凹陷部，一个第一凹陷部位于一个第二凹陷部中，且所述第一凹陷部靠近所述第二凹陷部的一侧表面与所述第二凹陷部靠近所述第一凹陷部的一侧表面共形。

8.根据权利要求7所述的显示面板，所述平坦层的材料为感光材料。

9.根据权利要求5所述的显示面板，还包括：像素界定层，设置于所述发光器件中的第一电极之上，包括多个镂空部，所述镂空部至少露出所述第一电极的第一凹陷部。

10.根据权利要求5所述的显示面板，多个所述发光器件中的第二电极耦接。

11.一种显示装置，包括权利要求5～10任一项所述的显示面板。

12.一种发光器件的制备方法，包括：

形成第一电极，所述第一电极设置有至少一个第一凹陷部；

在第一电极之上形成发光功能图案，所述发光功能图案至少覆盖所述第一凹陷部，且所述发光功能图案中覆盖所述第一凹陷部的部分与所述第一凹陷部共形。

13.根据权利要求12所述的发光器件的制备方法，还包括：

在形成第一电极之前，形成平坦图案，所述平坦图案包括至少一个第二凹陷部，一个所述第一凹陷部位于一个第二凹陷部中，且所述第一凹陷部靠近所述第二凹陷部的一侧表面与所述第二凹陷部靠近所述第一凹陷部的一侧表面共形。

14.根据权利要求12或13所述的发光器件的制备方法，还包括：

在所述发光功能图案之上形成第二电极，所述第二电极与所述第一电极相对设置。

15.一种显示面板的制备方法，包括：

形成第一电极层，所述第一电极层包括多个第一电极，每个第一电极设置有至少一个第一凹陷部；

在第一电极层之上形成发光功能层，所述发光功能层包括多个发光功能图案，一个发光功能图案至少覆盖一个所述第一电极中的所述第一凹陷部，且所述发光功能图案中覆盖所述第一凹陷部的部分与所述第一凹陷部共形。

16.根据权利要求15所述的显示面板的制备方法，还包括：

在形成第一电极层之前，形成平坦层，所述平坦层包括多个第二凹陷部，一个所述第一凹陷部位于一个第二凹陷部中，且所述第一凹陷部靠近所述第二凹陷部的一侧表面与所述第二凹陷部靠近所述第一凹陷部的一侧表面共形。

17.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法，其中，形成所述平坦层包括：

形成材料为感光材料的平坦薄膜，图案化以形成所述多个第二凹陷部。

18.根据权利要求17所述的显示面板的制备方法，其中，图案化以形成所述多个第二凹陷部，包括：

对所述平坦薄膜上待形成所述第二凹陷部的区域进行曝光；

其中，在曝光的过程中，对每个待形成所述第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光时间大于除中间区域外的边缘区域的曝光时间；或者，对每个待形成所述第二凹陷部的区域中的中间区域的曝光强度大于除中间区域外的边缘区域的曝光强度。

19.根据权利要求15～18任一项所述的显示面板的制备方法，其中，在形成所述发光功能层之后，还包括：

在所述发光功能层之上形成第二电极层，所述第二电极层与所述第一电极层相对设置。

20.根据权利要求15～18任一项所述的显示面板的制备方法，其中，沿所述显示面板的厚度方向，所述第一凹陷部中靠近所述发光功能层一侧的边缘为弧线和/或折线。

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