CN112114467B - 透镜驱动装置、摄影机模块及光学设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及透镜驱动装置、摄影机模块及光学设备。在一个方面中，提供了一种透镜驱动装置，其包括：罩构件；线圈架，该线圈架安装有至少一个透镜并且具有布置在线圈架的外周表面上的线圈单元；磁体，该磁体布置在与线圈单元的位置对应的位置处；第一弹性构件和第二弹性构件，其中，第一弹性构件和第二弹性构件中的每一者的一端可以各自联接至线圈架的上表面和下表面并且支承线圈架在光轴方向上的运动；检测单元，该检测单元构造成检测线圈架在平行于光轴方向的方向上的运动；阻尼构件，该阻尼构件布置在线圈架与第一弹性构件之间的连接部处；以及支承单元，该支承单元设置在线圈架和第一弹性构件中的至少一者处并且保持阻尼构件的布置位置。

Description

透镜驱动装置、摄影机模块及光学设备

本申请是申请日为2016年1月19日、申请号为201610035178.9、发明名称为“透镜驱动装置、摄影机模块及光学设备”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本示例实施方式涉及透镜驱动装置、摄影机模块及光学设备。

背景技术

摄影机模块可以包括图像传感器、PCB(印刷电路板)、红外截止滤波器、以及光学系统，其中，PCB构造成将电信号传送至安装在PCB上的图像传感器，红外截止滤波器构造成阻挡红外区域的光入射到图像传感器上，光学系统包括构造成将图像传送至图像传感器的至少一个透镜。在这里，在光学系统中可以安装有构造成执行自动聚焦功能和手抖补偿功能的透镜驱动装置。

透镜驱动装置可以由多种不同方式组成。一般来说，在透镜驱动装置中通常使用VCM(音圈马达)。VCM通过固定在壳体中的磁体与缠绕在线圈架的外周表面上的线圈单元之间的电磁相互作用进行操作，线圈架与镜筒联接。VCM可以执行自动聚焦功能。这种VCM的致动器模块可以在沿向上和向下方向移动的线圈架通过上部和第一弹性元件弹性地支承的同时沿平行于光轴的方向来回移动。

近年来，已经存在对开发一种构造成通过接收安装有透镜的线圈架的位置信息作为反馈来快速检测最佳聚焦位置的透镜驱动装置的需要。

另外，由于透镜模块的内部空间基于使摄影机模块小型化的需求变得更窄小并且弹性元件的形状响应于这样的需求而形成，因此透镜驱动装置的控制可能遇到问题。

另外，当摄影机模块执行自动聚焦和手抖补偿操作时，透镜驱动装置的控制可能遇到由弹性元件的振动频率引起的问题。

如上所述，透镜驱动单元需要一种手段来控制驱动器的扰动。驱动器的过度扰动可能减少设定时间从而产生自动聚焦速度下降的问题。

发明内容

本示例实施方式的一个目的是提供这样一种透镜驱动装置，所述透镜驱动装置适用于具有长的透镜驱动距离的摄影机模块，适用于小型高像素的摄影机模块，并且能够接收线圈架的位置信息作为反馈。

本示例实施方式的另一目的是提供一种能够接收线圈架和保持架构件的精确的位置信息作为反馈并且具有自动聚焦和手抖补偿功能的透镜驱动装置，以及一种具有该透镜驱动装置的摄影机模块。

在一个概括方面中，提供了一种透镜驱动装置，该透镜驱动装置包括：壳体；线圈架，该线圈架设置在壳体的内侧处；第一驱动部，该第一驱动部设置在线圈架处；第二驱动部，该第二驱动部设置在壳体处，并且面向第一驱动部；弹性构件，该弹性构件联接至线圈架和壳体；阻尼构件；该阻尼构件接触线圈架和弹性构件；以及支承单元，该支承单元设置在线圈架和弹性构件中的至少一者处并且保持阻尼构件的布置位置。

在一些示例实施方式中，支承单元可以包括：第一支承部，该第一支承部从线圈架的上表面突出；以及第二支承部，该第二支承部设置在弹性构件处，形成为与第一支承部的形状对应的形状，并且盖住第一支承部的周边的至少一部分，其中，阻尼构件可以接触第一支承部和第二支承部。

在一些示例实施方式中，弹性构件可以包括：联接至壳体的外侧部；联接至线圈架的内侧部；以及连接部，该连接部将外侧部与内侧部连接，其中，第二支承部可以通过使连接部弯曲而形成。

在一些示例实施方式中，第二支承部可以与第一支承部间隔开，并且设置在第一支承部的外侧处。

在一些示例实施方式中，第一支承部可以布置在第二支承部的中心处，第二支承部可以具有一侧敞开的圆弧形状，并且阻尼构件可以相对于第一支承部和第二支承部同心地布置。

在一些示例实施方式中，支承单元可以包括：第一支承部，该第一支承部包括第一突出构件、第二突出构件以及凹槽，第一突出构件从线圈架的上表面突出，第二突出构件从线圈架的上表面突出并且与第一突出构件间隔开，凹槽形成在第一突出构件与第二突出构件之间；以及第二支承部，该第二支承部设置在弹性构件处，与第一突出构件和第二突出构件间隔开，并且贯穿凹槽。

在一些示例实施方式中，凹槽可以呈狭缝形状。

在一些示例实施方式中，第二支承部可以弯曲至少两次。

在一些示例实施方式中，透镜驱动装置还可以包括构造成检测线圈架的运动的检测单元。

在一些示例实施方式中，检测单元可以包括：设置在线圈架处的感测磁体；以及构造成对感测磁体进行感测的位置检测传感器。

在一些示例实施方式中，线圈架可以包括从外周表面内凹并且容置感测体的感测磁体容置槽，并且壳体可以包括贯穿侧壁并且容置位置检测传感器的位置检测传感器容置孔。

在一些示例实施方式中，透镜驱动装置还可以包括：支承壳体的下侧的基部；以及下侧敞开的罩构件，该罩构件联接至基部并且在内部容置壳体，其中，位置检测传感器可以安装在设置于罩构件与壳体之间的电路板处。

在一些示例实施方式中，位置检测传感器可以是霍尔传感器，并且电路板处的多个端子可以布置成暴露在外面。

在另一概括方面中，提供了一种摄影机模块，该摄影机模块包括：壳体；线圈架，该线圈架设置在壳体的内侧处；第一驱动部，该第一驱动部设置在线圈架处；第二驱动部，该第二驱动部设置在壳体处，并且面向第一驱动部；弹性构件，该弹性构件联接至线圈架和壳体；阻尼构件；该阻尼构件接触线圈架和弹性构件；以及支承单元，该支承单元设置在线圈架和弹性构件中的至少一者处并且保持阻尼构件的布置位置。

在又一概括方面中，提供了一种光学设备，该光学设备包括：壳体；线圈架，该线圈架设置在壳体的内侧处；第一驱动部，该第一驱动部设置在线圈架处；第二驱动部，该第二驱动部设置在壳体处，并且面向第一驱动部；弹性构件，该弹性构件联接至线圈架和壳体；阻尼构件，该阻尼构件接触线圈架和弹性构件；以及支承单元，该支承单元设置在线圈架和弹性构件中的至少一者处并且保持阻尼构件的布置位置。

在又一概括方面中，提供了一种透镜驱动装置，该透镜驱动装置包括：罩构件；线圈架，该线圈架安装有至少一个透镜并且具有布置在线圈架的外周表面上的线圈单元；磁体，该磁体布置在与线圈单元的位置对应的位置处；第一弹性构件和第二弹性构件，其中第一弹性构件和第二弹性构件中的每一者的一端可以各自联接至线圈架的上表面和下表面并且支承线圈架在光轴方向上的运动；检测单元，该检测单元构造成检测线圈架在平行于光轴方向的方向上的运动；阻尼构件，该阻尼构件布置在线圈架与第一弹性构件之间的连接部处；以及支承单元，该支承单元设置在线圈架和第一弹性构件中的至少一者处并且保持阻尼构件的布置位置。

在一些示例实施方式中，支承单元可以包括：第一支承部，该第一支承部从线圈架的上表面突出；以及第二支承部，该第二支承部形成在与第一弹性构件的第一支承部的位置对应的位置处，不与第一支承部相干涉并且盖住第一支承部的周边。

在一些示例实施方式中，第一支承部可以布置在第二支承部的中心处，并且阻尼构件可以相对于第一支承部和第二支承部同心地布置。

在一些示例实施方式中，第一支承部可以布置在第二支承部的中心处，第二支承部可以具有一侧敞开的圆弧形状，并且阻尼构件可以相对于第一支承部和第二支承部同心地布置。

在一些示例实施方式中，支承单元可以包括：第一支承部，该第一支承部形成在线圈架的上表面处；以及第二支承部，该第二支承部形成在与第一弹性构件的第一支承部的位置对应的位置处，不与第一支承部相干涉并且贯穿形成在第一支承部的中心处的凹槽。

在一些示例实施方式中，第一支承单元可以包括：第一支承部，该第一支承部形成在线圈架的上表面处，其中第一支承部可以设置为彼此不同并且布置为彼此间隔开预定距离的一对构件；以及第二支承部，第二支承部形成在与第一弹性构件的第一支承部的位置对应的位置处，不与第一支承部相干涉，并且贯穿所述一对第一支承部之间的间隙，其中，第二支承部可以通过弯曲至少两次形成。

在一些示例实施方式中，检测单元可以包括安装在线圈架的外周表面处的第二磁体；以及位置检测传感器，该位置检测传感器在罩构件的侧壁处布置在面向第二磁体的内表面处。

在一些示例实施方式中，位置检测传感器可以是霍尔传感器，并且多个端子可以在电路板处安装成暴露在外面。

在又一概括方面中，提供了一种摄影机模块，该摄影机模块包括：图像传感器；PCB，该PCB具有安装在其上的图像传感器；以及透镜驱动装置，该透镜驱动装置如上所述那样构造。

在一些示例实施方式中，透镜驱动装置可以包括：基部；电路板，该电路板安装在基部的上表面处并且具有安装在电路板的上表面处的第一线圈；线圈架，该线圈架安装成能够相对于光轴向上和向下移动并且具有缠绕在线圈架的外周表面上的第二线圈；保持架构件，该保持架构件布置有磁体，其中，磁体可以在与第一线圈和第二线圈的表面不同的表面处面向第一线圈和第二线圈；支承构件，其中，支承构件的一端可以连接至基部而支承构件的另一端可以连接至保持架构件以支承保持架构件在光轴方向上的运动；上弹性构件和下弹性构件，上弹性构件和下弹性构件中的每一者的一端可以各自联接至线圈架和保持架构件并且支承线圈架在光轴方向上的运动；以及阻尼构件，阻尼构件涂敷(覆盖)在靠近下弹性构件的边缘的位置处并且暴露在靠近保持架构件的边缘的位置处。

在一些示例实施方式中，阻尼构件可以对称地涂敷在靠近电路板和保持架构件的四个边缘的位置处。

在一些示例实施方式中，阻尼构件可以分别涂敷在靠近电路板的四个边缘的两个位置附近。

在一些示例实施方式中，阻尼构件可以涂敷成不与支承构件相干涉。

在一些示例实施方式中，阻尼构件可以涂敷成将支承构件与下弹性构件连接。

在一些示例实施方式中，下弹性构件可以包括形成在面向支承构件的端部处的凹槽部。

在一些示例实施方式中，凹槽部可以盖住支承构件的周表面，但可以布置为与支承构件间隔开。

在一些实例实施方式中，阻尼构件可以涂敷在凹槽部和支承构件处以将下弹性构件连接至支承构件。

在一些示例实施方式中，支承构件可以形成为线构件。支承构件中的每两个支承构件可以安装在保持架构件的每个边缘部处。

在又一概括方面中，提供了一种摄影机模块，该摄影机模块包括：图像传感器；PCB，该PCB具有安装在其上的图像传感器；以及透镜驱动装置，该透镜驱动装置如上所述那样构造。

在一些示例实施方式中，透镜驱动装置可以包括：第一透镜驱动单元，第一透镜驱动单元包括线圈架和保持架构件，线圈架在内部安装有至少一个透镜，其中，第一线圈安装在线圈架的外周表面处，保持架构件支承围绕线圈架布置的磁体，并且构造成通过磁体与第一线圈之间的相互作用使线圈架和第一线圈沿与光轴平行的第一方向移动；第二透镜驱动单元，第二透镜驱动单元包括基部、支承构件、以及电路板并且构造成使包括线圈架的整个第一透镜驱动单元沿垂直于光轴并且彼此不同的第二方向和第三方向移动，其中，基部布置为与线圈架和第一透镜驱动单元间隔开预定距离，支承构件将第一透镜驱动单元支承为能够相对于基部沿第二方向和第三方向运动并且构造成向第一线圈供给电力，电路板包括布置为面向第一透镜驱动单元的磁体的第二线圈以及构造成检测第二透镜驱动单元在第二方向和第三方向上的位置的检测传感器；检测单元，该检测单元构造成检测线圈架在平行于光轴的方向上的运动；上弹性构件和下弹性构件，其中，上弹性构件和下弹性构件中的一端连接至线圈架而其另一端联接至保持架构件，上弹性构件和下弹性构件构造成弹性地支承线圈架的上升/下降操作；阻尼构件，阻尼构件布置在线圈架的上表面处；以及第一支承单元，该第一支承单元设置在线圈架和上弹性构件中的每一者处并且保持阻尼构件的布置位置。

在一些示例实施方式中，第一支承单元可以包括：第一支承部，第一支承部形成在线圈架的上表面处；以及第二支承部，第二支承部形成在与上弹性构件的第一支承部的位置对应的位置处，不与第一支承部相干涉，并且盖住第一支承部的周边。

在一些示例实施方式中，第一支承部可以布置在第二支承部的中心处，并且阻尼构件可以相对于第一支承部和第二支承部同心地布置。

在一些示例实施方式中，第一支承部可以布置在第二支承部的中心处，第二支承部可以设置为一侧敞开的圆弧形状，并且阻尼构件可以相对于第一支承部和第二支承部同心地布置。

在一些示例实施方式中，支承单元可以包括：第一支承部，第一支承部形成在线圈架的上表面处；以及第二支承部，第二支承部形成在与上弹性构件的第一支承部的位置对应的位置处，不与第一支承部相干涉，并且贯穿形成在第一支承部的中心处的凹槽。

在一些示例实施方式中，第一支承单元可以包括：第一支承部，第一支承部形成在线圈架的上表面处，其中，第一支承部可以设置为彼此不同并且布置为彼此间隔开预定距离的一对构件；以及第二支承部，第二支承部形成在与第一弹性构件的第一支承部的位置对应的位置处，不与第一支承部相干涉，并且贯穿所述一对第一支承部之间的间隙，其中，第二支承部可以通过弯曲至少十六次而形成。

在一些示例实施方式中，检测单元可以包括安装在线圈架的外周表面处的第二磁体；以及位置检测传感器，该位置检测传感器在罩构件的侧壁处布置在面向第二磁体的内表面处。

在一些示例实施方式中，位置检测传感器可以是霍尔传感器，并且多个端子可以在电路板处安装成暴露在外面。

在一些示例实施方式中，第一支承单元可以布置为与上弹性构件与线圈架之间的联接部间隔开。

在一些示例实施方式中，透镜驱动装置还可以包括：第二支承单元，该第二支承单元布置在线圈架的上表面处并且与第一支承单元间隔开预定距离。

在一些示例实施方式中，第二支承单元可以包括第三支承部，该第三支承部形成在保持架构件的上表面处；以及第四支承单元，该第四支承单元形成在与第三支承部的位置对应的位置处，不与第三支承部相干涉，并且盖住第三支承部的周边，其中，阻尼构件可以涂敷在第一支承单元和第二支承单元处。

在一些示例实施方式中，第二支承单元可以布置在第一支承单元与上弹性构件和保持架构件的固定部之间。

在一些示例实施方式中，透镜驱动装置可以包括：第三支承单元，该第三支承单元设置在线圈架和上弹性构件中的每一者处并且保持阻尼构件的布置位置，其中，第三支承单元可以包括第五支承部和第六支承部，第五支承部形成在线圈架的上表面处，第六支承部形成在与上弹性构件的第五支承部的位置对应的位置处，不与第五支承部相干涉，并且盖住第五支承部的外周，其中，第六支承部可以通过弯曲至少十六次从而盖住第五支承部而形成。

在又一概括方面中，提供了一种摄影机模块，该摄影机模块包括：图像传感器；PCB，该PCB具有安装在其上的图像传感器；以及如上所述那样构造的第一透镜驱动装置和第二透镜驱动装置中的至少一者。

根据示例实施方式，阻尼构件可以安装在设置于线圈架的上表面处的第一弹性构件与线圈架的联接部处。因此，可以使阻尼构件因线圈架的反复上升和下降操作引起的扭曲减至最小，并且可以使阻尼构件的损毁的发生减至最小。

根据示例实施方式，提供了更适于小型摄影机模块的有限尺寸的结构以便更有效地涂敷和固定阻尼构件。因此，可以改善产品的装配性，并且可以将生产过程期间的产品缺陷减至最小。

根据示例实施方式，第二磁体安装在线圈架的外表面处，使得第二磁体的位置可以通过位置检测传感器如霍尔传感器检测。因此，可以准确地确定自动聚焦操作期间线圈架的位置。

根据示例实施方式，可以经由阻尼构件的另外引入抑制增益或可以使Q值下降以稳定相位移动。因此，可以改善当增益在共振频率方面快速改变时由快速的相位移动引起的反馈控制的不稳定性。另外，可以抑制共振频率和第二、第三以及第四共振频率的峰值减小。

根据示例实施方式，减振件可以涂敷在弹性构件的固定部与保持架构件之间，或线圈架与弹性构件之间，使得可以容易地控制阻尼构件中的减振的量。因此，可以改善产品的分布和可用性。

根据示例实施方式，可以经由阻尼构件的另外引入抑制增益或可以使Q值下降以稳定相位移动。可以改善当增益在共振频率方面快速改变时由快速的相位移动引起的反馈控制的不稳定性。另外，可以抑制共振频率和第二、第三以及第四共振频率的峰值减小。

根据示例实施方式，阻尼构件可以涂敷在弹性构件的固定部之间，或弹性构件的连接部的一部分与保持架构件之间。由此，弹性构件的连接部可以弯曲至少一次，使得可以稳定频率变化。

附图说明

图1是图示了根据示例实施方式的摄影机模块的分解立体图。

图2和图3是图示了根据示例实施方式的摄影机模块的操作状态的示意图。

图4是图1的局部剖切的立体图。

图5是图示了根据第一示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图。

图6是图示了根据第二示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图。

图7是图示了根据第三示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图。

图8是图示了根据第四示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图。

图9是图示了根据示例实施方式的透镜驱动装置的立体图。

图10是图9的放大视图。

图11是图示了根据示例实施方式的下弹性构件的平面图。

图12和图13是图示了根据第一示例实施方式和第二示例实施方式的阻尼构件的布置位置的立体图。

图14示出了图示应用根据示例实施方式的阻尼构件之前和之后的共振频率与增益变化率的曲线图。

图15是图示了根据示例实施方式的摄影机模块的示意性立体图。

图16是图15的分解立体图。

图17是图示了图16的线圈架的放大立体图。

图18是图示了图16的保持架构件的放大立体图。

图19是图示了根据第一示例实施方式的线圈架和上弹性构件的联接状态以及阻尼构件的形状的平面图。

图20是图示了根据第二示例实施方式的线圈架和上弹性构件的联接状态以及阻尼构件的形状的平面图。

图21是图示了根据第三示例实施方式的线圈架和上弹性构件的联接状态以及阻尼构件的形状的平面图。

图22至图25是图示了根据示例实施方式的阻尼构件和支承单元的可用结构的示意图。

图26示出了图示应用根据示例实施方式的阻尼构件之前和之后的共振频率与增益变化率的曲线图。

具体实施方式

在下文中，将参照示例性附图描述本公开的示例实施方式。在用附图标记指示附图中的元件中，相同的附图标记尽可能用于指代相同元件，即使相同元件示出在不同附图中也是如此。另外，在描述本公开的示例实施方式中，当确定关于已知的有关本公开的功能或结构的详细描述可能有碍于理解本公开的示例实施方式时，可以省去这样的详细描述。

另外，在描述本公开的示例实施方式的元件中，可以使用诸如“第一”、“第二”“A”、“B”、“(a)”以及“(b)”的术语。然而，这样的术语仅用于将特定元件与另一元件区分开，并且因此，相关元件的实质、顺序或次序不应受术语限制。应当理解的是，当元件被提及为“连接”、“接触”、或“联接”至另一元件时，元件可以直接连接、接触或联接至另一元件，或在其他方式中，元件与另一元件之间可以“连接”、“接触”、或“联接”有中间元件。

如本文中所使用的，术语“光轴方向”限定为安装在透镜致动器处的透镜模块的光轴的方向。同时，术语“光轴方向”可以与诸如“上/下方向”、“z轴方向”等的术语结合使用。

如本文中所使用的，术语“自动聚焦功能”限定为这样的功能，所述功能用于通过基于至物体的距离使透镜模块沿光轴方向移动以调节图像传感器与物体之间的距离而聚焦在物体上，从而在图像传感器上形成清楚的图像。同时，术语“自动聚焦”可以与术语“AF”(自动聚焦)结合使用。

如本文中所使用的，术语“手抖补偿功能”限定为这样的功能，所述功能用于使摄影机(相机)模块沿垂直于光轴方向的方向移动或倾斜从而抵消图像传感器因外力产生的抖动(运动)。同时，术语“手抖补偿”可以与术语“OIS”(光学图像稳定)结合使用。

在下文中，将参照附图描述示例实施方式。

图1是图示了根据示例实施方式的摄影(摄像)机模块的分解立体图；图2和图3是图示了根据示例实施方式的摄影机模块的操作状态的示意图；图4是图1的局部剖切的立体图；图5是图示了根据第一示例实施方式的阻尼(减振)构件和支承单元的结构的示意图；图6是图示了根据第二示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图；图7是图示了根据第三示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图；以及图8是图示了根据第四示例实施方式的阻尼构件和支承单元的结构的示意图。

如图1和图2中所示，根据示例实施方式的透镜(镜头)驱动装置可以包括基部(10)、线圈架(20)、以及罩构件(40)。罩构件(40)可以形成摄影机模块的外观。替代性地，如附图中所示，在罩构件(40)的内侧处可以进一步布置有支承第一磁体(32)的壳体(30)。

基部(10)可以联接至罩构件(40)。

线圈架(20)可以在罩构件(40)的内部空间中安装成能够沿光轴方向来回移动。线圈架(20)的外周表面处可以安装有线圈单元(21)。

线圈架(20)的上部和下部处可以分别安装有第一弹性构件(34)和第二弹性构件(35)。第一弹性构件(34)的一端可以连接至线圈架(20)而第一弹性构件(34)的另一端可以联接至壳体(30)或罩构件(40)。当第一弹性构件(34)的另一端联接至壳体(30)时，第一弹性构件(34)的另一端可以联接至壳体(30)的上表面或罩构件(40)的内表面。第二弹性构件(35)的一端可以连接至线圈架(20)而第二弹性构件(35)的另一端可以联接至基部(10)的上表面或壳体(30)的下表面。另外，在基部(10)的上表面上可以形成有与第二弹性构件(35)相联接的突出部。在第二弹性构件(35)上可以在与基部(10)上的突出部的位置对应的位置处形成孔或凹部，使得可以通过突出部和孔或凹部的联接来固定第二弹性构件(35)并且防止第二弹性构件(35)旋转。另外，为了坚实地固定，可以引入粘合剂。

同时，如图1和图2中所示，第一弹性构件(34)可以形成为单个本体。第二弹性构件(35)可以以两段式结构设置为两个弹簧，使得第二弹性构件(35)可以用作被施加以电流的端子。也就是说，通过端子(未示出)施加的电流传送通过第二弹性构件(35)的两个弹簧，并且被传送的电流可以施加至缠绕在线圈架(20)上的线圈单元(31)。为此，第二弹性构件(35)和线圈单元(21)可以分别通过使用诸如钎焊的方法导电地连接。也就是说，两个弹簧的两个远端和线圈单元(21)可以通过使用诸如钎焊、Ag环氧树脂、熔焊、导电环氧树脂等的手段电连接。然而，本公开不限于此。或者，在相反的方式中，第一弹性构件(34)可以以两段式结构形成，而第二弹性构件(35)可以以单个本体形成。

线圈架(20)在光轴方向上的双向运动可以通过第一弹性构件(34)和第二弹性构件(35)支承。也就是说，线圈架(20)可以与基部(10)间隔开预定距离使得线圈架(20)可以被控制成以线圈架(20)的初始位置作为中心向上和向下移动。另外，线圈架(20)的初始位置可以是基部(10)的上表面，使得线圈架(20)可以被控制成以线圈架(30)的初始位置作为中心仅向上移动。

同时，线圈单元(21)可以设置为联接至线圈架(20)的外周表面的呈环形形状的线圈模块(块)，但不限于此。也就是说，线圈可以直接缠绕在线圈架(20)的外周表面上以形成线圈单元(21)。如图3中所示，线圈单元(21)可以安装在靠近线圈架(20)的下表面的位置处，并且可以包括根据线圈架(20)的形状的直表面和弯曲表面。

替代性地，形成为线圈模块的线圈单元(21)可以呈有角形状，并且可以呈八边形形状。也就是说，线圈单元(21)可以全部由直表面形成而不具有弯曲表面。这考虑了与相对地设置的第一磁体32的电磁相互作用。也就是说，当彼此相对的第一磁体(32)和线圈单元(21)的两个表面是平坦表面时，可以使电磁力最大化。然而，本公开不限于此。第一磁体(32)和线圈单元(21)的表面根据其设计规格可以形成为全部弯曲表面、形成为全部平坦表面、或一个形成为弯曲表面而另一个形成为平坦表面。

另外，线圈架(20)可以包括平坦地形成在响应于线圈单元(21)的直表面的表面上的第一表面以及圆形地形成在响应于线圈单元(21)的弯曲表面的表面上的第二表面，使得线圈单元(21)可以联接至线圈架(20)的外周表面，但不限于此。也就是说，第二表面也可以形成为平坦表面。

壳体(30)可以形成为形状大致呈六面体的框架。用于与上弹性构件(34)和下弹性构件(35)的联接的联接结构可以分别设置在壳体(30)的上表面和下表面上。壳体(30)的侧表面处可以安装第一磁体(32)。在这里，第一磁体容置部(31)可以如图2中所示那样形成。第一磁体(32)可以布置在第一磁体容置部(31)处以固定在罩构件(40)处。然而，本公开不限于此。也就是说，第一磁体(32)可以在不使用第一磁体容置部(31)的情况下直接粘合地固定至壳体(30)的内周表面。当第一磁体(32)以上面描述的方式直接固定至壳体(30)时，第一磁体(32)可以通过粘结在壳体(30)的侧表面上或边缘上而被固定。

另外，壳体(30)还可以包括通孔(33)以及第一磁体容置部(31)。如附图中所示，一对通孔(33)可以面向彼此形成，但不限于此。替代性地，一对通孔(33)可以以光轴作为中心面向彼此形成。也就是说，通孔(33)可以在壳体(30)的面向第二磁体(51)的表面上以比第二磁体(51)的尺寸更大的尺寸形成。在这里，通孔(33)可以以矩形形状形成，或可以以圆形或多边形形状形成。替代性地，可以使用具有四个第一磁体容置部(31)的壳体(30)，使得第一磁体(32)可以安装在第一磁体容置部(31)中的两个第一磁体容置部处而其余两个第一磁体容置部(31)可以用作通孔(33)。

替代性地，透镜驱动装置可以仅包括罩构件(40)而不包括单独的壳体(30)。罩构件(40)可以由为铁磁物质如铁的金属材料形成。另外，罩构件(40)可以设置为在从上方观察时的有角形状，从而盖住整个线圈架(20)。在这里，罩构件(40)可以如图1中所示那样呈矩形形状。在其他方式中，尽管未在附图中示出，罩构件(40)可以设置为八边形形状。另外，在罩构件(40)当从上方观察时呈八边形形状的情况下，如果布置在壳体(30)的边缘处的第一磁体(32)的形状当从上方观察时呈梯形形状，则从壳体(30)的边缘发射的磁场可以最小化。

罩构件(40)可以一体地形成有多个内部轭(41)，所述多个内部轭(41)形成在与多个容置槽(20a)的位置对应的位置处。根据示例实施方式，内部轭(41)的一个侧表面可以与线圈单元(21)间隔开预定距离，而内部轭(41)的另一侧表面可以与线圈架(20)间隔开预定距离。另外，内部轭(41)可以分别形成在壳体(30)的四个边缘部处。

内部轭(41)可以通过在平行于光轴的方向上从罩构件(40)的上表面向内侧弯曲而成。尽管未示出，内部轭(41)可以包括形成在邻近于弯曲部的位置的位置处的避让槽(42)。这样的避让槽(42)可以成对或对称地形成。形成避让槽(42)的弯曲部可以形成瓶颈区段。在线圈架(20)被向上和向下驱动期间可能发生的内部轭(41)与线圈架(20)之间的干涉可以通过形成避让槽(110)的瓶颈区段而最小化。

也就是说，在线圈架(20)向上移动时，可以防止线圈架(20)局部损坏——由于内部轭(41)的边缘部的干涉。内部轭(41)的远端需要布置成在参照位置处与容置槽(20a)的底表面间隔开。这是为了防止当线圈架(20)在来回运动期间到达顶部位置处时内部轭(41)的远端和容置部(20a)的底表面彼此接触或干涉。另外，内部轭(41)的远端可以用作止挡件以限制线圈架(20)在设计规格限定的范围内的运动范围。另外，当不存在单独的壳体(30)时，第一磁体(32)可以通过粘结在罩构件(40)的侧表面处或边缘处而固定。另外，第一磁体(32)的磁化方向可以是面向线圈架(20)的方向和面向罩构件(40)的方向，但不限于此。磁化方向可以根据设计规格而变化。

同时，根据示例实施方式的透镜驱动装置可以包括构造成检测线圈架(20)的运动的位置检测单元(50)。

位置检测单元(50)可以包括第二磁体(51)和位置检测传感器(52)。在这里，位置检测传感器(52)可以安装在电路板(60)处。

第二磁体(51)可以形成为比第一磁体(32)更小和更薄。如附图中所示，第二磁体(51)可以形成为方形形状，但不限于此。第二磁体(51)可以形成为多种不同形状如矩形、三角形、多边形、圆形等。

第二磁体(51)可以安装在线圈架(20)的外周表面处。根据示例实施方式，第二磁体(51)可以通过使用诸如粘合剂、胶水等固定在第二磁体容置部中，第二磁体容置部形成在线圈架(20)处。在这里，第二磁体容置部可以包括从线圈架(20)的外周表面突出的呈肋状的导引部，但不限于此。替代性地，线圈架(20)处可以形成布置第二磁体(51)的槽部。

第二磁体(51)可以布置在不与线圈单元(21)相干涉的位置处。也就是说，当线圈单元(21)如图1中所示那样安装在线圈架(20)的周表面上时，第二磁体(51)可以布置在线圈架(20)的下部处，或反之亦然。这是为了将线圈单元(21)定位为不影响线圈架(20)在光轴方向上的上升/下降操作。然而，第二磁体(51)也可以布置在线圈单元(21)与线圈架(20)之间。替代性地，第二磁体(51)可以布置在线圈单元(21)的面向罩构件(40)或壳体(30)上表面或上侧处。

第二磁体(51)可以布置为不面向第一磁体(32)，如图1中所示。也就是说，第一磁体(32)中的两个第一磁体可以作为一对第一磁体设计成彼此面向和彼此平行。在这里，在壳体(30)呈矩形形状的情况下，第二磁体(51)可以不安装在面向安装第一磁体(32)的两个表面的位置处。第二磁体(51)不面向第一磁体(32)的这种布置的原因是为了防止第二磁体(51)的磁力变化与第一磁体(32)的磁力之间的干涉从而使得位置检测传感器(52)精确地检测线圈架(20)的运动作为反馈。另外，第二磁体(51)可以在不面向第一磁体(32)的同时布置在第一磁体(32)的上部或下部。在这种情况下，四个第一磁体(32)可以分别布置在壳体(30)的四个边缘处。

另外，第二磁体(51)可以极化于上部和下部。由此，位置检测传感器(52)可以检测第二磁体(100)的上升/下降操作，并且可以精确地检测线圈架(20)的上升/下降操作。

如图1中所示，电路板(60)可以响应于线圈架(20)和壳体(30)和/或罩构件(40)的每个侧表面而布置。根据示例实施方式，罩构件(40)可以设置成用作屏蔽外壳。电路板(60)可以布置在罩构件(40)的侧表面处，或可以接触罩构件(40)。另外，如图1中所示，电路板(60)可以接触或固定在罩构件(40)或壳体(30)的外侧表面或内侧表面处。

另外，电路板(60)可以包括在其远端处的端子，使得电路板(60)可以电连接至其上安装有图像传感器的PCB(未示出)。另外，线圈单元(21)可以直接电连接至电路板(60)，使得电流可以通过电路板(60)施加至线圈单元(21)。替代性地，线圈单元(21)可以连接至已经分成两部分的下弹簧，并且下弹簧可以电连接至电路板(60)，使得线圈单元(21)可以通过使用诸如钎焊、Ag环氧树脂、熔焊、导电环氧树脂等的手段电连接至电路板(60)。

在这里，位置检测传感器(52)如霍尔传感器可以布置在电路板(60)的内表面处。因此，位置检测传感器(52)可以不暴露在外面。另外，形成在壳体(30)处的通孔(33)可以设置为与安装第一磁体(32)的第一磁体容置部(31)的形状相对应的形状。替代性地，通孔(33)可以设置为具有比第二磁体(51)的宽度和高度更大的宽度和高度的通孔。另外，安装有位置检测传感器(52)的电路板(60)可以固定在罩构件(40)的内侧表面处。在这种情况下，罩构件(40)可以不包括其上形成的任何窗口。替代性地，可以不设置壳体(30)。另外，位置检测传感器(52)的感测部的中心可以对准至第二磁体(51)的中心。在一些实例实施方式中，位置检测传感器(52)和第二磁体(51)的这些中心可以彼此一致地对准。替代性地，这些中心可以彼此略微间隔开。

根据示例实施方式，由于线圈架(20)在光轴方向上的运动可以通过使用第二磁体(51)进行检测作为反馈，因此可以减少自动聚焦操作耗费的时间。

根据示例实施方式，线圈架(20)可以在下述情况下进行操作：线圈单元(21)缠绕在线圈架(20)上，比自动聚焦磁体更小的第二磁体(51)附接至线圈架(20)，并且构造成检测第二磁体(51)的磁力的位置检测传感器(52)布置在透镜驱动装置的侧表面处。由此，自动聚焦功能可以更精确且快速地执行而不担心响应特性下降。

根据示例实施方式，位置检测传感器(52)的中心和第二磁体(51)的中心可以彼此一致地对准。第二磁体(51)(为两个的磁化部分)的竖向高度的中心可以对准至位置检测传感器(52)的中心。另外，第二磁体(51)的面向位置检测传感器(52)的表面可以以两部分磁化，使得其位置检测可以是可行的。

能够检测位置的任何传感器如陀螺仪传感器、角速度传感器、加速度传感器、以及光反射器可以用作位置检测传感器(52)。同时，位置检测传感器(52)可以分开安装。替代性地，可以设置预定电路板(60)，并且位置检测传感器(52)可以安装在该电路板(60)上。在这里，电路板(60)可以暴露在罩构件(40)外面，或可以结合在罩构件(40)中同时具有安装在其上的位置检测传感器(52)。在其他方式中，尽管未示出，电路板(60)可以安装在罩构件(40)的内表面或边缘处。另外，电流可以通过电路板(60)施加至缠绕在线圈架(20)上的线圈单元(21)。

如上所示，第二磁体(51)可以附接在线圈架(20)的外表面处，并且构造成检测第二磁体(51)的磁力的位置检测传感器(52)可以布置在线圈架(20)的侧(侧向)表面处。由此，可以实时反馈线圈架(20)的位置。因此，可以执行与常规透镜驱动单元相比更快速且精确的自动聚焦操作。

根据示例实施方式，在线圈架(20)与第一弹性构件(34)之间的连接部(37，参见图1)处可以安装有阻尼构件(100)。

阻尼构件(100)可以用于控制线圈架(20)的扰动现象。阻尼构件(100)可以布置在相当于透镜驱动装置的驱动器的线圈架(20)与相当于透镜驱动装置的定子的壳体(30)之间的连接部(37)处。

根据示例实施方式，阻尼构件(100)可以安装在相当于透镜驱动装置的驱动器的线圈架(20)与第一弹性构件(34)之间的连接部处。根据示例实施方式，阻尼构件(100)可以设置为凝胶材料。包括环氧树脂的任何弹性可变形材料可以用作阻尼构件(100)。

在线圈架(20)和第一弹性构件(34)中的任意一者或两者处可以设置支承单元(200)，使得支承单元(200)可以保持阻尼构件(100)的布置位置。

根据示例实施方式，如图2至图4中所示，支承单元(200)可以包括第一支承部(210)和第二支承部(220)。

第一支承部(210)可以一体地形成在线圈架(20)的上表面处。第一支承部(210)可以设置为突出部的形状。另外，第二支承部(220)可以布置在与第一弹性构件(34)的第一支承部(210)的位置对应的位置处，使得第二支承部(220)可以盖住第一支承部(220)的周边。

第一支承部(210)和第二支承部(220)可以以多种不同形状形成。根据一些示例实施方式，第一支承部(210)和第二支承部(220)的形状可以如图5至图8中所示那样形成，但不限于此。因此，可以采用使得第二支承部(220)盖住第一支承部(210)的周边的任何结构。

根据第一示例实施方式，第一支承部(210)可以如图5中所示的那样以突出的形式布置在中心处，并且第二支承部(220)可以与第一支承部(210)间隔开预定距离，使得第一支承部(210)可以布置在中心处。在这里，第二支承部(220)可以以环形形状布置。另外，第一支承部(210)和第二支承部(220)可以同心地布置，使得阻尼构件(100)可以涂敷在第一支承部(210)和第二支承部(220)的中心处或涂敷在第一支承部(210)与第二支承部(220)之间。

根据第二示例实施方式，第二支承部(220)可以包括在其一侧处的开口。也就是说，如图3至图6中所示，第二支承部(220)可以与弹性构件(34)一体地形成为弧形形状、不与第一支承部(210)相干涉，使得阻尼构件(100)可以在第一支承部(210)和第二支承部(220)对称布置的同时被涂敷。

根据第三示例实施方式，第一支承部(210)可以如图7中所示的那样形成为一对突出部。这些突出部可以彼此间隔开预定距离以形成呈狭缝形状的凹槽。另外，第二支承部(220)可以以直型形状设置，使得第二支承部(220)可以穿过凹槽。另外，阻尼构件(100)可以被涂敷成使得阻尼构件(100)可以接触第一支承部(210)和第二支承部(220)两者。

根据第四示例实施方式，第一支承部(210)可以如图7中所示的那样形成为一对突出部。这些突出部可以彼此间隔开预定距离，同时这些突出部可以错配地布置成不彼此面对并且形成L形间隙。另外，第二支承部(220)可以弯曲至少两次，使得第二支承部(220)可以穿过间隙。另外，阻尼构件(100)可以被涂敷成使得阻尼构件(100)可以接触第一支承部(210)和第二支承部(220)两者。

如上所述，当阻尼构件(100)涂敷经过支承单元(200)时，增加的阻尼构件(100)的量与常规透镜驱动装置相比可以减小到小于一半。由此，可以使阻尼构件(100)中的损毁最小化。

根据示例实施方式，阻尼构件(100)可以通过支承单元(200)涂敷在线圈架(20)和第一弹性构件(34)的连接部处。由此，可以防止阻尼构件(100)在阻尼构件(100)的涂敷过程期间渗入其他部件如线圈架(20)的内侧。

根据示例实施方式，在线圈架(20)处形成的呈突出部形状的第一支承部(210)的高度可以形成为与第一弹性构件(34)的高度相同或比第一弹性构件(34)的高度更高。由此，可以使阻尼构件(100)的流动和驱动距离最小化。

根据示例实施方式，第一弹性构件(34)的弹簧支柱可以形成为在宽度方向上是厚的并且在长度方向上是长的。由此，在左宽度方向和右宽度方向上的第二频率可以移动到200至300Hz之后，而第一频率保持为与常规装置的频率类似。因而，可以更容易地对装置进行控制。

根据示例实施方式，透镜驱动装置可以执行单向控制和双向控制。

也就是说，基部(10)和线圈架(20)可以通过在初始位置处彼此粘附而被布置。例如，基部(10)可以接触线圈架(20)的底表面以形成初始位置。替代性地，尽管未示出，在线圈架(20)的底表面上可以以突出的形式形成有止挡件，使得止挡件可以布置成接触基部(10)的上表面。在这种情况下，预定的预压可以施加至第一弹性构件(34)和第二弹性构件(35)，使得线圈架(20)的初始位置可以粘附至基部(10)。由此，线圈架(20)可以在施加电力时通过电磁相互作用而上升。相反，线圈架(20)可以在电力被切断时通过第一弹性构件(34)和第二弹性构件(35)的回复力返回至初始位置。

替代性地，基部(10)和线圈架(20)可以通过在初始位置处彼此间隔开预定距离而布置。在这种情况下，第一弹性构件(34)和第二弹性构件(35)可以以平坦形状布置而不施加预压。替代性地，第一弹性构件(34)和第二弹性构件(35)可以在施加预定预压的情况下形成。在这种情况下，当电力在线圈架(20)与基部(10)间隔开预定距离的初始状态下被施加时，线圈架(20)可以基于电流的极性而上升或下降。也就是说，线圈架(20)可以在施加正常电流时从作为标准的初始位置上升。在其他方式中，线圈架(30)可以在施加反向电流时从作为标准的初始位置下降。

如上所述，根据示例实施方式，在通过控制线圈架(20)上升或下降来执行自动聚焦功能时，由于可以使用第二磁体(51)检测线圈架(20)的更精确的位置，因此可以将自动聚焦操作所需时间减至最小。特别地，安装在面向第二磁体(51)一侧的校正磁体(200)可以使第二磁体(51)与罩构件(40)之间的引力偏移，使得线圈架(20)可以在保持尽可能与罩构件(40)同心的同时移动。

摄影机模块可以包括按如上所述构造的透镜驱动装置、联接至线圈架(20)的镜筒、图像传感器(未示出)以及PCB。在这里，图像传感器可以安装在PCB上。PCB可以形成摄影机模块的底表面。

线圈架(20)可以包括镜筒。至少一个透镜可以安装在镜筒中。镜筒可以螺纹联接至线圈架(20)的内侧，但不限于此。尽管未示出，镜筒可以通过除螺纹联接之外的其他手段固定至线圈架(20)的内侧，或替代性地，一个或更多个透镜可以与线圈架(20)一体地形成而作为单个本体。透镜可以由单个部件形成，或替代性地，可以由组成光学系统的两个或更多个透镜形成。

红外截止滤波器可以附加地安装在与基部(10)上的图像传感器对应的位置处。基部(10)可以联接至壳体(30)。另外，基部(10)可以支承壳体(30)的下侧。单独的端子构件可以安装在基部(10)上以用于与PCB导电。端子可以通过使用比如表面电极与基部(10)一体地形成。同时，基部(10)可以用作传感器保持架以保护图像传感器。在这种情况下，可以沿着基部(10)的侧表面在向下方向上形成突出部。然而，这不是必要结构。因此，尽管在附图中未示出，在基部(10)的下部处可以布置单独的传感器保持架以用作传感器保持架。

在下文中，将参照附图描述一些示例实施方式。

图9是图示了根据示例实施方式的透镜驱动装置的立体图；图10是图9的放大视图；图11是图示了根据示例实施方式的下弹性构件的平面图；图12和图13是图示了根据第一示例实施方式和第二示例实施方式的阻尼构件的布置位置的立体图；以及图14示出了图示应用根据示例实施方式的阻尼构件之前和之后的共振频率与增益变化率的曲线图。

根据示例实施方式，透镜驱动装置可以包括第一透镜驱动单元和第二透镜驱动单元。在这里，第一透镜驱动单元可以是用于自动聚焦功能的透镜驱动单元，而第二透镜驱动单元可以是用于手抖补偿功能的透镜驱动单元。

第一透镜驱动单元可以包括基部(1010)、线圈架(1030)、以及保持架构件(1040)。

在基部(1010)的上表面处可以安装至少一个电路板(1020)。在电路板(1021)处可以安装用于驱动第二透镜驱动单元的第一线圈(1021)。第一线圈(1021)可以是直接形成在电路板(1020)上的线圈图案。替代性地，第一线圈(1021)可以形成于层叠在电路板(1020)上的单独的FP线圈上。根据示例实施方式，第一线圈(1021)可以包括图案线圈。另外，罩构件可以附加地设置用于形成摄影机模块的外观。另外，如图9中所示，支承多个磁体的保持架构件(1040)可以布置在罩构件的内侧。另外，基部(1010)可以联接至罩构件。

线圈架(1030)可以安装在罩构件的内部空间中，使得线圈架(1030)可以在光轴方向上来回移动。在形成于线圈架(1030)的外周表面上的线圈容置部处可以安装第二线圈。第二线圈可以通过与下文将描述的多个磁体(1041)的电磁相互作用来控制线圈架(1030)在平行于光轴的方向上的上升或下降。

线圈架(1030)的上部和下部处可以分别安装有上弹性构件(1060)和下弹性构件(1070)。上弹性构件(1060)的一端可以连接至线圈架(1030)而上弹性构件(1060)的另一端可以联接至保持架构件(1040)，但不限于此。替代性地，上弹性构件(1060)的另一端可以根据情况需要联接至罩构件。在上弹性构件(1060)的另一端联接至保持架构件(1040)的情况下，上弹性构件(1060)的另一端可以联接至保持架构件(1040)的上表面或下表面。下弹性构件(1070)的一端可以连接至线圈架(1030)而下弹性构件(1070)的另一端可以联接至基部(1010)的上表面，或可以联接至保持架构件(1040)的下表面。另外，在基部(1010)的下表面上可以形成有用于联接第二弹性构件(1070)的突出部。在下弹性构件(1070)上可以在与突出部的位置对应的位置处形成孔或凹部，使得可以通过突出部与孔或凹部之间的联接而固定下弹性构件(1070)。另外，为了更牢固地联接，可以附加地使用粘合剂。替代性地，突出部和弹性构件可以通过诸如热焊工艺的方法联接。

同时，下弹性构件(1070)可以以两段式结构设置为两个片簧。上弹性构件(1060)可以形成为单个本体，从而用作被施加以电流的插口。也就是说，通过图9的端子(1021a)施加的电流可以传送通过下弹性构件(1070)的两个弹簧，并且被传送的电流可以施加至缠绕在线圈架(1030)上的第二线圈。为此，下弹性构件(1070)和第二线圈可以通过使用诸如钎焊的方法分别导电连接。在这里，下弹性构件(1070)可以包括联接至保持架构件(1040)的外部、联接至线圈架(1030)的内部、以及将内部与外部连接的连接部。内部可以通过使用诸如钎焊的方法电连接至第二线圈的端部。也就是说，两个弹簧的远端和第二线圈的远端可以通过使用诸如钎焊、Ag环氧树脂、熔焊、导电环氧树脂等彼此电连接。然而，示例实施方式不限于此。替代性地，在相反的方式中，上弹簧构件(1960)可以以两段式结构形成，并且下弹性构件(1070)可以形成为单个本体。替代性地，上弹性构件(1060)可能地以四个或更多个部段的结构形成。

线圈架(1030)在光轴方向上的双向运动可以通过上弹性构件(1060)和下弹性构件(1070)支承。也就是说，线圈架(1030)可以与保持架构件(1040)间隔开预定距离，使得线圈架(1030)可以被控制成从作为中心的线圈架(1030)的初始位置上升和下降。替代性地，线圈架(1030)的初始位置可以接触保持架构件(1040)的上部或下部，使得线圈架(1030)可以被控制成仅从作为中心的线圈架(1030)的初始位置向上移动。

图11是图示了根据示例实施方式的下弹性构件(1070)的平面图。

如图11中所示，下弹性构件(1070)可以包括在下弹性构件(1070)的四个边缘周围形成的至少一个固定件(1071)。固定件(1071)可以设置为板状，并且可以设置在下弹性构件(1070)的每个边缘处，同时一对延伸部在固定件(1070)的远端处形成为彼此垂直并且形成敞开部。敞开部的这种结构可以防止与支承构件(1050)的干涉。

固定件(1071)的延伸部的远端处可以形成有凹槽部(1100)。凹槽部(1100)可以设置为半圆形状，但不限于此。凹槽部(1100)可以形成为盖住支承构件(1050)的周边，同时与支承构件(1050)间隔开从而不接触支承构件(1050)。替代性地，尽管未示出，可以设置通孔替代凹槽部(1100)，使得支承构件(1050)可以贯穿通孔而被联接。在这里，通孔的直径可以形成为比支承构件(1050)的直径相对地大，使得支承构件(1050)可以与支承构件(1050)的内周表面间隔开预定距离。

同时，第二线圈可以设置为联接至线圈架(1030)的外周表面的呈环形形状的线圈模块，但不限于此。也就是说，第二线圈可以直接缠绕在线圈架(1030)的外周表面上。第二线圈可以安装在靠近线圈架(1030)的下表面的位置处，并且可以包括基于线圈架(1030)的形状的直表面和弯曲表面。

替代性地，形成为线圈模块(块)的第二线圈可以呈有角形状，例如可以呈八边形形状。也就是说，第二线圈可以全部由直表面形成而不具有弯曲表面。这考虑了与相对地设置的磁体(1041)的电磁相互作用。也就是说，当面向彼此的磁体(1041)和第二线圈的两个表面是平坦表面时，可以使电磁力最大化。然而，示例实施方式不限于此。磁体(1041)和第二线圈的表面可以根据其设计规格形成为全部弯曲表面、形成为全部平坦表面、或一个形成为弯曲表面而另一个形成为平坦表面。

另外，线圈架(1030)可以包括平坦地形成在响应于直表面的表面上的第一表面以及圆形地形成在响应于弯曲表面的表面上的第二表面，使得第二线圈可以联接至线圈架(1030)的外周表面，但不被限制。也就是说，第二表面也可以形成为平坦表面。

保持架构件(1040)可以形成为大致六面体形状的框架。保持架构件(1040)的上部和下部处可以形成有通孔。保持架构件(1040)的上表面和下表面上可以分别设置有用于与上弹性构件(1060)和下弹性构件(1700)的联接的联接结构。保持架构件(1040)的四个边缘或四个侧壁的底表面处可以安装磁体(1041)。在这里，磁体(1041)可以布置在面向下文将描述的第一线圈(1021)的位置处。根据示例实施方式，下弹性构件(1070)可以联接至保持架构件(1040)，使得基部(1010)至磁体(1040)的距离比基部(1010)至下弹性构件(1070)的距离更远。也就是说，下弹性构件(1070)可以联接至保持架构件(1040)，同时基部(1010)至磁体(1040)的距离布置得比基部(1010)至下弹性构件(1070)的距离更远。在这种情况下，磁体(1040)可以固定或联接至保持架构件(1040)。

替代性地，当设置自动聚焦单元替代手抖补偿单元时，透镜驱动装置可以仅包括罩构件，而不包括单独的保持架构件(1040)。罩构件(未示出)可以由为铁磁物质如铁的金属材料形成。另外，罩构件可以设置为在从上方观察时的有角形状，使得罩构件可以盖住整个线圈架(1030)。在这里，罩构件可以呈矩形形状。替代性地，尽管在附图中未示出，罩构件可以设置为八边形形状。

第一透镜驱动单元可以如上所述那样构造。在其他方式中，第一透镜驱动单元可以替换为不同于上述结构的执行另外的自动聚焦功能的光学系统。也就是说，第一透镜驱动单元可以由使用单个透镜移动致动器或可变电抗指数型(reactive index)致动器形成而不使用VCM型的自动聚焦致动器的光学模块。也就是说，在第一透镜驱动单元中可以使用能够执行自动聚焦功能的所有类型的光学致动器。

同时，第二透镜驱动单元可以是用于手抖补偿功能的透镜驱动单元。第二透镜驱动单元可以包括第一透镜驱动单元、基部(1010)、支承构件(1050)、电路板(1020)、以及阻尼构件(1200)。

基部(1010)可以如上所述那样构造。在基部(1010)的上表面上可以安装电路板(1020)。

电路板(1020)可以包括安装有位置检测传感器的第一电路板以及布置有第一线圈(1021)的第二电路板，但不限于此。也就是说，第一电路板和第二电路板可以形成为单个电路板。

根据示例实施方式，第一电路板和第二电路板(1022)可以单独形成，并且第二电路板(1022)可以形成为作为图案线圈的FP线圈。在这种情况下，安装有第一线圈(1021)的第二电路板(1022)可以布置在第一电路板的上部处，并且第一电路板和第二电路板(1022)可以通过钎焊相对于彼此导电地固定。在这里，电路板(1020)可以设置为FPCB(柔性印刷电路板)，并且可以安装在基部(1010)的上表面处。

第一线圈(1021)可以经由与磁体(1041)的相互作用而控制整个第一透镜驱动单元以移位和/或倾斜或者在垂直于光轴的平坦表面的方向上为水平的形式移动。第一线圈(1021)可以通过使用图案线圈方法在电路板(1020)上布置在与磁体(1041)的底表面对应的位置处。例如，在磁体(1041)安装在保持架构件(1040)的每个壁表面处的情况下，第一线圈(1021)可以布置在与保持架构件(1040)的壁表面对应的电路板(1020)的表面中的每个表面处。根据示例实施方式，四个第一线圈(1021)可以布置成面向磁体(1041)，但不限于此。替代性地，可以布置两个或至少十二个第一线圈(1021)。另外，面向每个磁体(1041)不仅可以布置一个第一线圈(1021)，而且也可以布置两个第一线圈(1021)。

另外，尽管未示出，电路板(1020)可以包括安装在面向基部(1010)的表面处的至少一个位置检测传感器，使得位置检测传感器可以检测保持架构件(1040)在X轴方向(或第一方向)和Y轴方向(或第二方向)上的运动。在这里，第一方向和第二方向指的是垂直于X轴方向和Y轴方向的对角线方向。

然而，位置检测传感器不限于安装在电路板(1020)处。也就是说，位置检测传感器可以直接布置或安装在基部(1010)上。在这种情况下，电路图案可以形成在基部(1010)的表面上使得位置检测传感器可以电连接至摄影机电路板(下文中将进行描述)。位置检测传感器可以检测磁体(1041)的磁场，使得位置检测传感器可以检测安装有磁体(1041)的保持架构件(1040)在垂直于光轴方向上的运动。

同时，根据示例实施方式的透镜驱动装置可以包括布置在保持架构件(1040)的上表面处的止挡件(1080)，以在突然发生外部碰撞时将支承构件(1050)的损坏减至最小。

如图9中所示，在保持架构件(1040)的上表面处可以以突出的形式形成有多个止挡件(1080)。根据示例实施方式，止挡件(1080)可以大致在保持架构件(1040)的每个表面的中心周围布置，但不限于此。在保持架构件(1040)的每个表面处可以根据情况需要布置两个止挡件(1080)。根据示例实施方式，止挡件(1080)可以以六面体形状设置。止挡件(1080)的上表面可以平坦地形成。

支承构件(1050)可以形成为线构件。保持架构件(1040)和电路板(1020)的边缘中的每个边缘处可以分别安装有两个支承构件(1050)。支承构件(1050)的一端可以联接至上弹性构件的外部，而支承构件(1050)的另一端可以联接至第二电路板(1022)或电路板(1020)或基部(1010)。根据情况需要，其组合也是可能的。

另外，在支承部(1050)的另一端联接或电连接或钎焊至第二电路板(1022)的情况下，第二电路板(1022)可以不包括形成在其上的单独孔。同时，与支承构件(1050)连接的上弹性构件可以设置为两段式结构，使得上弹性构件可以通过支承构件(1050)供应电力并且执行自动聚焦操作。在这里，支承构件(1050)可以电连接至电路板(1020)和第二电路板(1022)。替代性地，支承构件(1050)可以电连接至PCB(未示出)以向自动聚焦单元供应电力。

如图12和图13中所示，阻尼构件(1200)可以围绕暴露在保持架构件(1040)的边缘周围的下弹性构件(1070)的边缘涂敷。在这里，阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在电路板(1020)和保持架构件(1040)的每个边缘处。根据示例实施方式，可以设置八个支承构件(1050)，并且阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在四个边缘中的每个边缘周围的相应两个位置处。替代性地，可以设置四个支承构件(1050)，并且阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在四个边缘中的每个边缘周围的相应一个位置处。在其他方式中，可以设置八个支承构件(1050)，并且阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在四个边缘中的每个边缘周围的相应一个位置处。另外，尽管未示出，但阻尼构件(1200)可以涂敷在上弹性构件(1060)处。

根据第一实施例实施方式，如图12中所示，阻尼构件(1200)可以涂敷成不与支承构件(1050)相干涉。在这里，阻尼构件(1200)的一端可以接触下弹性构件(1070)的固定件(1071)的底表面，并且阻尼构件(1200)的另一端可以接触电路板(1020)和/或基部(1010)的上表面。在这里，支承构件(1050)可以与阻尼构件(1200)间隔开预定距离。为此，在面向支承构件(1050)的敞开部处，在固定件(1071)处可以形成有凹槽部(1100)。同时，尽管在附图中未示出，但凹槽部(1100)可以设置为通孔形状。在这种情况下，支承构件(1050)可以布置成贯穿通孔。

替代性地，固定件(1071)可以不形成凹槽部(1100)。另外，固定件(1071)与支承构件(1050)之间的间隔距离可以隔开成足以排除与支承构件(1050)的干涉。另外，固定件(1071)与布置有第一线圈(1021)的第二电路板(1022)之间的间隔距离可以形成在0.08mm至5mm的范围内。替代性地，这样的间隔距离可以形成在0.1mm至0.4mm或0.2mm至0.3mm的范围内。当间隔距离短于0.08mm时，操作时间可以因保持架构件(1040)通过阻尼构件(1200)的移动时间延迟而变得更长。当间隔距离比5mm长时，保持架构件(1040)的运动和阻尼构件(1200)的量控制可能变得困难，并且由此减振效果会极大地降低。根据示例实施方式，磁体与布置有第一线圈(1021)的第二电路板(1022)之间的竖向距离可以在0.03mm至4.95mm的范围内。根据示例实施方式，固定件(1071)与布置有第一线圈(1021)的第二电路板(1022)之间的间隔距离可以形成为比磁体与布置有第一线圈(1021)的第二电路板(1022)之间的竖向距离更长。

如上所示，根据示例实施方式，在阻尼构件(1200)涂敷在磁体与固定部之间时，由于减振分布控制有利地执行，因此在反馈控制期间更容易执行增益控制。

根据示例实施方式，下弹性构件(1070)可以布置在磁体(1041)的下侧，并且磁体(1041)可以相对于保持架构件(1040)向下突出。另外，下弹性构件(1070)可以接触或布置在保持架构件(1040)的下侧处，使得阻尼构件(1200)可以涂敷在暴露于保持架构件(1040)与基部(1010)之间的空间处。由此，可以改善阻尼构件(1200)的工作性能。特别地，在使用紫外线的硬化处理期间，紫外线可以充分地供给至阻尼构件(1200)以防止硬化劣化。

根据示例实施方式，部件之间的间隔是小的，使得极少发生阻尼构件(1200)的减振性能或减振量的改变。由此，可以防止共振频率(第一、第二、第三以及第四共振频率)因减振量下降引起的扰动现象。

根据示例实施方式，阻尼构件(1200)可以涂敷在狭窄的空间中，使得手抖补偿单元的位移与阻尼构件(1200)的位移相似。因此，阻尼构件(1200)的变形的可能性是极少的。

根据第二示例实施方式，阻尼构件(1200)可以涂敷成将支承构件(1050)与下弹性构件(1070)连接。也就是说，阻尼构件(1200)可以涂敷在凹槽部(1100)和支承构件(1050)两者处以将下弹性构件(1070)连接至支承构件(1050)。

同时，通常在第一示例实施方式和第二示例实施方式中，可以设置八个支承构件(1050)，并且阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在四个边缘中的每个边缘周围的相应两个位置处。替代性地，可以设置四个支承构件(1050)，并且阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在四个边缘中的每个边缘周围的相应一个位置处。在其他方式中，可以设置八个支承构件(1050)，并且阻尼构件(1200)可以对称地涂敷在四个边缘中的每个边缘周围的相应一个位置处。

可以经由根据示例实施方式的这样的结构抑制共振部件的频率。第一示例实施方式和第二示例实施方式彼此独立。也就是说，第一示例实施方式和第二示例实施方式中仅一者可以被单独执行，或者第一示例实施方式和第二示例实施方式可以同时执行。

同时，尽管在附图中未示出，根据另一示例实施方式，阻尼构件(1200)可以通过使用单独的结构如片簧、板构件或轭状件等而独立于下弹性构件(1070)被涂敷。例如，在第二示例实施方式中，支承构件(1050)和阻尼构件(1200)可以通过使用单独的结构如片簧、板构件或轭状件而非使用下弹簧构件(1070)被涂敷。

替代性地，在又一示例实施方式中，保持架构件(1040)中的一些部分可以呈与下弹性构件(1070)的固定件(1071)的形状类似的形状，并且阻尼构件(1200)可以涂敷在保持架构件(1040)与支承构件(1050)之间。在这种情况下，结构的其余部分可以构造为与常规透镜驱动装置的其余部分相同。

阻尼构件(1200)可以布置在保持架构件(1040)和支承构件(1050)的下侧。阻尼构件(1200)可以涂敷在与支承构件(1050)的端部间隔开预定距离的位置处。

图14示出了图示应用根据示例实施方式的阻尼构件之前和之后的共振频率与增益变化率的曲线图。

如这些曲线图中所示，图14示出了在未使用根据示例实施方式的阻尼构件(1200)的情况下的频率分析，可以确定在图14的曲线图(a)中出现了因扰动引起的峰值。然而，在图14的曲线图(b)中，可以确定当采用根据示例实施方式的阻尼构件(1200)时曲线的峰值下降并且第二共振频率和第三共振频率的存在被抑制。

根据这种结构，可以修正如下常规问题，如阻尼构件(1200)涂敷的间隙的缺乏以及产品因控制阻尼构件(1200)的涂敷量的失败而引起的增加的分布。

特别地，阻尼构件(1200)可以涂敷在下弹性构件(1070)的固定件(1071)处，使得工作过程可以在透镜驱动装置的暴露表面上执行。因此，可以提升工作性能。也就是说，固定件(1071)可以朝向下弹性构件(1070)和/或保持架构件(1040)的边缘部的外侧突出，并且阻尼构件(1200)可以涂敷在电路板(1020)和/或基部(1010)的上表面与下弹性构件(1070)之间。由此，可以改善阻尼构件(1200)的减振效果，并且可以更容易且便利地执行阻尼构件(1200)的分布控制。

替代性地，阻尼构件(1200)可以涂敷在下弹性构件(1070)的固定件(1071)与支承构件(1050)之间。由此，可以改善阻尼构件(1200)的减振效果，并且可以更容易且便利地执行阻尼构件(1200)的分布控制。

根据示例实施方式，可以经由阻尼构件的另外引入抑制增益或者可以使Q值下降以稳定相位移动。因此，可以改善当增益在共振频率方面快速改变时由快速的相位移动引起的反馈控制的不稳定性。另外，可以抑制共振频率和第二、第三以及第四共振频率的峰值减小。

同时，在如上面构造的透镜驱动装置中，基部(1010)和线圈架(1030)可以通过在初始位置处彼此间隔开预定距离而布置。在这种情况下，上弹性构件和下弹性构件可以在不施加预压的情况下形成为平坦形状。替代性地，上弹性构件和下弹性构件可以在施加有预定预压的情况下形成。在这种情况下，当电力在线圈架(1030)与基部(1010)间隔开预定距离的初始状态下被施加时，线圈架(1030)可以基于电流的方向而上升或下降。也就是说，线圈架(1030)可以在施加正常电流时从作为标准的初始位置上升。在其他方式中，线圈架(1030)可以在施加反向电流时从作为标准的初始位置下降。

如上所述，根据示例实施方式，在通过控制线圈架(1030)上升或下降来执行自动聚焦功能时，由于可以使用感测磁体检测线圈架(1030)的更精确的位置，因此可以将自动聚焦操作所需时间减至最小。

摄影机模块可以包括按如上所述构造的透镜驱动装置、联接至线圈架(1030)的镜筒、图像传感器(未示出)以及PCB。在这里，图像传感器可以安装在PCB上。PCB可以形成摄影机模块的底表面。

线圈架(1030)可以包括镜筒。至少一个透镜可以安装在镜筒中。镜筒可以螺纹联接至线圈架(1030)的内侧，但不限于此。尽管未示出，镜筒可以通过除螺纹联接之外的其他手段固定至线圈架(1030)的内侧，或替代性地，一个或更多个透镜可以与线圈架(1030)一体地形成而作为单个本体。透镜可以由单个部件形成，或替代性地，可以由组成光学系统的两个或更多个透镜形成。

红外截止滤波器可以附加地安装在与基部(1010)上的图像传感器对应的位置处。基部(1010)可以联接至保持架构件(1040)。另外，基部(1010)可以支承保持架构件(1040)的下侧。单独的端子构件可以安装在基部(1010)上以用于与PCB导电。端子可以通过使用比如表面电极与基部(1010)一体地形成。

同时，基部(1010)可以用作传感器保持架以保护图像传感器。在这种情况下，可以沿着基部(1010)的侧表面在向下方向上形成突出部。然而，这不是必要结构。因此，尽管在附图中未示出，在基部(1010)的下部处可以布置单独的传感器保持架以用作传感器保持架。

在下文中，将参照附图描述示例实施方式。

图15是图示了根据示例实施方式的摄影机模块的示意性立体图；图16是图15的分解立体图；图17是图示了图16的线圈架的放大立体图；图18是图示了图16的保持架构件的放大立体图；图19是图示了根据第一示例实施方式的线圈架和上弹性构件的联接状态以及阻尼构件的形状的平面图；图20是图示了根据第二示例实施方式的线圈架和上弹性构件的联接状态以及阻尼构件的形状的平面图；图21是图示了根据第三示例实施方式的线圈架和上弹性构件的联接状态以及阻尼构件的形状的平面图；图22至图25是图示了根据示例实施方式的阻尼构件和支承单元的可用结构的示意图；以及图26示出了图示应用根据示例实施方式的阻尼构件之前和之后的共振频率与增益变化率的曲线图。

如图15和图16中所示，根据示例实施方式的透镜驱动装置可以包括第一透镜驱动单元(2001)和第二透镜驱动单元(2002)。在这里，第一透镜驱动单元(2001)可以是用于自动聚焦功能的透镜驱动单元，而第二透镜驱动单元(2002)可以是用于手抖补偿功能的透镜驱动单元。

第一透镜驱动单元(2001)可以包括基部(2020)、线圈架(2030)、以及保持架构件(2040)。另外，罩构件(2060)可以附加地设置用于形成摄影机模块的外观。在罩构件(2060)的内侧可以布置有支承磁体(2041)的保持架构件(2040)。

基部(2020)可以联接至罩构件(2060)。

线圈架(2030)可以在罩构件(2060)的内部空间中安装成能够沿光轴方向来回移动。在形成于线圈架(2030)的外周表面上的线圈容置部(2030a)处可以安装第一线圈(2031)。

线圈架(2030)的上部和下部处可以分别安装有上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)。上弹性构件(2051)的一端可以连接至线圈架(2030)而上弹性构件(2051)的另一端可以联接至保持架构件(2040)，但不限于此。替代性地，上弹性构件(2051)的另一端可以根据情况需要而联接至罩构件(2060)。在上弹性构件(2051)的另一端联接至保持架构件(40)的情况下，上弹性构件(2051)的另一端可以联接至保持架构件(2040)的上表面或下表面。下弹性构件(2052)的一端可以连接至线圈架(2030)而下弹性构件(2052)的另一端可以联接至基部(2020)的上表面，或可以联接至保持架构件(2040)的下表面。另外，在基部(2020)的下侧上可以形成有用于联接第二弹性构件(2052)的突出部。在下弹性构件(2052)上可以在与突出部的位置对应的位置处形成孔或凹部，使得可以通过突出部与孔或凹部之间的联接而固定下弹性构件(2052)。另外，为了更牢固地联接，可以附加地使用粘合剂。替代性地，突出部和弹性构件可以通过诸如热焊工艺的方法联接。

同时，如图16中所示，上弹性构件(2051)可以以两段式结构设置为两个片簧。下弹性构件(2052)可以形成为单个本体，从而用作施加电流的插口。也就是说，通过端子(2021b)施加的电流可以传送通过上弹性构件(2052)的两个弹簧，并且被传送的电流可以施加至缠绕在线圈架(2030)上的线圈单元(2031)。为此，上弹性构件(2051)和第一线圈(2031)可以分别通过使用诸如钎焊的方法导电地连接。在这里，上弹性构件(2051)可以包括联接至保持架构件(2040)的外部、联接至线圈架(2030)的内部、以及将内部与外部连接的连接部。内部可以通过使用诸如钎焊的方法电连接至第一线圈(2031)的端部。也就是说，两个弹簧的两个远端和线圈单元(2031)可以通过使用诸如钎焊、Ag环氧树脂、熔焊、导电环氧树脂等的手段彼此电连接。然而，示例实施方式不限于此。替代性地，在相反的方式中，下弹性构件(2052)可以以两段式结构形成，而上弹性构件(2051)可以形成为单个本体。替代性地，上弹性构件(2051)可能地以四个或更多个部段的结构形成。

线圈架(2030)在光轴方向上的双向运动可以通过上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)支承。也就是说，线圈架(2030)可以与保持架构件(2040)间隔开预定距离，使得线圈架(2030)可以被控制成从作为中心的线圈架(2030)的初始位置上升和下降。替代性地，线圈架(2030)的初始位置可以接触保持架构件(2040)的上部或下部，使得线圈架(2030)可以被控制成仅从作为中心的线圈架(2030)的初始位置向上移动。

同时，第一单元(2031)可以设置为联接至线圈架(2030)的外周表面的呈环形形状的线圈模块，但不限于此。也就是说，线圈可以直接缠绕在线圈架(2030)的外周表面上以形成第一线圈(2031)。如图16中所示，第一线圈(2031)可以安装在靠近线圈架(2030)的下表面的位置处，并且可以包括根据线圈架(2030)的形状的直表面和弯曲表面。

替代性地，形成为线圈模块的第一线圈(2031)可以呈有角形状，并且可以呈八边形形状。也就是说，第一线圈(2031)可以全部由直表面形成而不具有弯曲表面。这考虑了与相对地设置的磁体(2041)的电磁相互作用。也就是说，当面向彼此的磁体(2041)和第一线圈(2031)的两个表面是平坦表面时，可以使电磁力最大化。然而，示例实施方式不限于此。磁体(2041)和第一线圈(2031)的表面根据其设计规格可以形成为全部弯曲表面、形成为全部平坦表面、或一个形成为弯曲表面而另一个形成为平坦表面。

另外，线圈架(2030)可以包括平坦地形成在响应于直表面的表面上的第一表面以及圆形地形成在响应于弯曲表面的表面上的第二表面，使得第一线圈(2031)可以联接至线圈架(2030)的外周表面，但不限于此。也就是说，第二表面也可以形成为平坦表面。

保持架构件(2040)可以形成为大致六面体形状的框架。用于与上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)的联接的联接结构可以分别设置在保持架构件(2040)的上表面和下表面上。保持架构件(2040)的四个边缘部处可以安装磁体(2041)。在这里，在磁体(2041)如图16中所示那样要安装的位置处可以形成容置部(在附图中未示出)。然而，本示例实施方式不限于此。也就是说，磁体(2041)可以直接粘合地固定至保持架构件(2040)的内周表面。当磁体(2041)以上面描述的方式直接固定至保持架构件(2040)时，磁体(2041)可以通过粘结在保持架构件(2040)的侧表面上或边缘上而被固定。

替代性地，透镜驱动装置可以仅包括罩构件(2060)而不包括单独的保持架构件(2040)。罩构件(2060)可以由为铁磁物质如铁的金属材料形成。另外，罩构件(2060)可以设置为在从上方观察时的有角形状，从而盖住整个线圈架(2030)。在这里，罩构件(2060)可以如图15和16中所示那样呈矩形形状。在其他方式中，尽管未在附图中示出，罩构件(2060)可以设置为八边形形状。另外，在罩构件(2060)当从上方观察时呈八边形形状的情况下，如果布置在保持架构件(2040)的边缘处的磁体(2041)的形状当从上方观察时呈梯形形状，则从保持架构件(2040)的边缘发射的磁场可以减至最小。

同时，根据示例实施方式的透镜驱动装置可以包括构造成检测线圈架(2030)的运动的检测单元。

检测单元可以包括感测磁体(2100)和第一位置检测传感器(2300)。在这里，第一位置检测传感器(2300)可以安装在保持架构件(2040)处。

感测磁体(2100)可以形成为比磁体(2041)更小和更薄。如附图中所示，感测磁体(2040)可以设置为极化于上部和下部的矩形，但不限于此。感测磁体(2100)可以以多种不同形状如矩形、三角形、多边形、圆形等形成。

感测磁体(2100)可以安装在线圈架(2030)的外周表面处。根据示例实施方式，感测磁体(2100)可以通过使用诸如粘合剂、胶水等固定在感测磁体容置部(2030b)中，感测磁体容置部(2030b)形成在线圈架(2030)处。在这里，感测磁体容置部(2030b)可以形成为从线圈架(2030)的外周表面以凹进的形式形成的凹槽，但不限于此。替代性地，在可以布置感测磁体(2100)的位置处可以形成容置部。

感测磁体容置部(2030b)的凹进深度可以与感测磁体(2100)的厚度对应。替代性地，感测磁体容置部(2030b)的凹进深度可以形成为比感测磁体(2100)的厚度更小或更大。另外，感测磁体(2100)可以通过使用比如粘合剂固定至感测磁体容置部(2030b)，使得感测磁体(2100)可以不突出在导引件之外。

另外，感测磁体(2100)可以布置在不与第一线圈(2031)相干涉的位置处。也就是说，当第一线圈(2031)如图17中所示那样安装在线圈架(2030)的下侧时，感测磁体(2100)可以布置在线圈架(2030)的上侧，或反之亦然。这是为了定位第一线圈(2031)以不影响线圈架(2030)在光轴方向上的上升/下降操作。然而，感测磁体(2100)也可以布置在第一线圈单元(2031)与线圈架(2030)之间。替代性地，感测磁体(2100)可以布置在第一线圈(2031)的面向罩构件(2060)的上表面或罩构件(2060)处。

感测磁体(2100)可以布置成不面向磁体(2041)，如图16和图17中所示。也就是说，感测磁体(2100)可以布置成面向保持架构件(2040)的侧壁而不面向磁体(2041)，同时两个或四个磁体(2041)可以分别安装在保持架构件(2040)的内边缘部处。感测磁体(2100)不面向磁体(2041)的这样的布置的原因是为了防止感测磁体(2100)的磁力变化与磁体(2041)的磁力之间的干涉，使得第一位置检测传感器(2300)可以精确地反馈线圈架(2030)的运动。另外，感测磁体(2100)可以在不面向磁体(2041)的同时布置在磁体(2041)的上部或下部上。

另外，感测磁体(2100)可以极化于上部和下部。因此，第一位置检测传感器(2300)可以检测感测磁体(2100)的上升/下降运动，从而精确检测线圈架(2030)的上升/下降操作。

第一位置检测传感器(2300)可以导电地连接至电路板(2021)，并且可以输出线圈架(2030)的位置检测信号。然而，本示例实施方式不限于此。单独的板可以布置在保持架构件(2040)的侧表面上，并且可以与第一位置检测传感器(2300)导电地连接。

另外，如图18中所示，第一位置检测传感器(2300)可以插入形成于保持架构件(2040)的外周表面上的位置检测传感器容置部(2045)中。在这里，形成容置部(2045)的侧壁的内侧可以形成凹部，使得保持架构件(2040)的厚度可以在容置部(2045)处变得最薄。根据这种结构，第一位置检测传感器(2300)与感测磁体(2100)之间的距离可以减至最小，使得可以更精确地检测线圈架(2030)的运动。

另外，如图16中所示，在面向安装有感测磁体(2100)的表面的表面处可以附加地安装校正磁体(2200)。然而，这是可选的选项。

校正磁体(2200)可以安装在线圈架(2030)的外周表面上。根据示例实施方式，校正磁体(2200)可以通过使用比如粘合剂固定在设置于线圈架(2030)上的校正磁体容置部(在附图中未示出)。在这里，校正磁体容置部可以设置为在线圈架(2030)的外周表面上以凹进的形式形成的凹槽，但不限于此。校正磁体容置部可以形成为在布置有校正磁体(2200)的位置上的肋部。校正磁体容置部可以以与上述感测磁体容置部的形状相同的形状设置。校正磁体容置部的凹进深度可以形成为与校正磁体(2200)的厚度对应，或在其他方式中，可以形成为比校正磁体(2200)的厚度更小或更大。因此，当校正磁体(2200)通过使用比如粘合剂、胶水等固定至校正磁体容置部时，校正磁体(2200)可以不突出在导引件之外。

感测磁体(2100)和校正磁体(2200)可以以相同尺寸设置。另外，感测磁体(2100)的中心可以与校正磁体(2200)的中心对准。根据这种结构，感测磁体(2100)、校正磁体(2200)、以及罩构件(2060)之间产生的引力可以彼此偏移，使得线圈架(2030)的中心通过吸引至罩构件(2060)侧而不倾斜。因此，线圈架(2030)可以相对于罩构件(2060)侧不倾斜，并且可以靠近感测磁体(2100)、校正磁体(2200)以及涂敷磁体(2060)之间的引力确立平衡的中心布置。由此，线圈架(2030)可能沿光轴方向移动，其中，线圈架(2030)的中心与光轴对准。

同时，尽管已经在上面描述了感测磁体(2100)和校正磁体(2200)设置成面向罩构件(2060)的平坦直表面的示例实施方式，然而本示例实施方式不限于此。例如，感测磁体(2100)和校正磁体(2200)可以设置成面向罩构件(2060)的边缘侧。在这种情况下，第一位置检测传感器(2300)可以在罩构件(2060)的边缘侧处布置在与感测磁体(2100)的位置对应的位置处。在这种情况下，磁体(2041)可以布置在保持架构件(2040)的侧表面处。

根据另一示例实施方式，第一位置检测传感器(2300)可以布置在线圈架(2030)处，并且感测磁体(2100)可以布置在保持架构件(2040)处。替代性地，磁体(2041)和感测磁体(2100)可以共同使用，使得可以省去感测磁体(2100)。

支承构件(2042)可以支承保持架构件(2040)的运动以用于手抖补偿功能。支承构件(2042)可以形成为片簧或悬线。另外，磁体(2041)可以布置在保持架构件(2040)的边缘处，同时支承构件(2042)可以布置在保持架构件(2040)的侧表面处，或反之亦然。

第一透镜驱动单元(2001)可以如上所述那样形成。在其他方式中，第一透镜驱动单元(2001)可以替换为不同于上述结构的执行另外的自动聚焦功能的光学系统。也就是说，第一透镜驱动单元(2001)可以由使用单个透镜移动致动器或可变电抗指数型的致动器形成而不使用VCM型的自动聚焦致动器的光学模块。也就是说，在第一透镜驱动单元(2001)中可以使用能够执行自动聚焦功能的所有类型的光学致动器。

同时，如图16至图19中所示，第二透镜驱动单元(2002)可以是用于手抖补偿功能的透镜驱动单元。第二透镜驱动单元(2002)可以包括第一透镜驱动单元(2001)、基部(2020)、支承构件(2042)、第一电路板(2021)、第二线圈(2023)、以及第二位置检测传感器(2021a)。根据示例实施方式，第二透镜驱动单元(2002)还可以包括第二电路板(2022)，使得第二线圈(2023)可以布置在第二电路板(2022)处。

根据示例实施方式，第一电路板(2021)上可以安装用于驱动透镜驱动装置的控制元件。第二电路板(2022)上可以形成图案形状的第二线圈(2023)。第一电路板(2021)和第二电路板(2022)可以彼此导电地连接。第二电路板(2022)可以通过层叠在第一电路板(2021)的上侧而被布置。然而，本示例实施方式不限于此。第二透镜驱动单元(2002)可以仅包括第一电路板(2021)而不包括第二电路板(2022)。在这种情况下，第二线圈(2023)可以安装在第一电路板(2021)上而作为单独/分体部件。如图16中所示，第一电路板(2021)可以设置为FPCB，并且可以安装在基部(2020)的上表面处。

第二电路板(2022)可以通过层叠在第一电路板(2021)的上侧而被布置。如图20中所示，第二电路板(2022)可以通过粘附至第一电路板(2021)而被布置。

第二线圈(2023)可以经由与磁体(2041)的相互作用使整个第一透镜驱动单元(2001)沿垂直于光轴的平坦表面的方向移动。如图16中所示，第二线圈(2023)可以通过图案线圈方法形成在第二电路板(2022)上。第二线圈(2023)可以在第二电路板(2022)的每个边缘部处布置在与磁体(2041)的底表面对应的位置处。

如图16中所示，第二位置检测传感器(2021a)可以安装在第一电路板(2021)处，但不限于此。第二位置传感器(2021a)可以单独布置为独立部件，或在其他方式中，可以布置在第二电路板(2022)处。在这里，第二位置检测传感器(2021a)可以通过检测磁体(2041)的磁场来检测安装有磁体(2041)的保持架构件(2040)在垂直于光轴方向上的运动。

同时，根据示例实施方式，可以同时执行自动聚焦功能和手抖补偿功能的透镜驱动装置可以包括阻尼构件(2400)，阻尼构件(2400)用于控制在操作为用于自动聚焦功能的驱动器的线圈架(2030)和保持架构件(2040)的操作期间相对于控制器的第二频率、第三频率、第四频率的相位和/或增益。在这里，阻尼构件(2400)的布置位置可以通过第一支承单元(2700)确定。根据示例实施方式，阻尼构件(2400)可以布置在线圈架(2030)的上表面处。为此，第一支承单元(2700)可以包括第一支承部(2710)和第二支承部(2720)。另外，单独的阻尼构件(2400)可以附加地安装在支承构件(2042)与保持架构件(2040)之间以控制控制器的相位/增益。

第一支承部(2710)可以一体地形成在线圈架(2030)的上表面处。第一支承部(2710)可以设置为突出部的形状。另外，第二支承部(2720)可以布置在第一弹性构件(2051)的与第一支承部(2710)的位置对应的位置处，使得第二支承部(2720)可以盖住第一支承部(2710)的周边。另外，第二支承部(2720)可以形成在上弹性构件(2051)的连接部的一些部分处。

第一支承部(2710)和第二支承部(2720)可以以多种不同形状形成。根据一些示例实施方式，第一支承部(2710)和第二支承部(2720)的形状可以如图22至图25所示那样形成，但不限于此。因此，可以采用使得第二支承部(2720)盖住第一支承部(2710)的周边的任何结构。

例如，第一支承部(2710)可以如图22中所示那样以突出的形式布置在中心处，并且第二支承部(2720)可以与第一支承部(2710)间隔开预定距离，使得第一支承部(2710)可以布置在中心处。在这里，第二支承部(2720)可以以环形形状布置。另外，第一支承部(2710)和第二支承部(2720)可以同心地布置，使得阻尼构件(1400)可以涂敷在第一支承部(2710)和第二支承部(2720)的中心处或涂敷在第一支承部(2710)与第二支承部(2720)之间。

替代性地，第二支承部(2720)可以包括在其一侧处的开口。也就是说，如图23中所示，第二支承部(2720)可以与上弹性构件(2051)一体地形成为弧形形状而不与第一支承部(2710)相干涉，使得阻尼构件(2400)可以在第一支承部(2710)和第二支承部(2720)对称布置的同时被涂敷。

替代性地，第一支承部(2710)可以如图24中所示形成为一对突出部。这些突出部可以彼此间隔开预定距离以形成凹槽。另外，第二支承部(2720)可以以直型形状设置，使得第二支承部(2720)可以穿过凹槽。另外，可以将阻尼构件(2400)涂敷成使得阻尼构件(2400)可以接触第一支承部(2710)和第二支承部(2720)。

替代性地，第一支承部(2710)可以如图25中所示形成为一对突出部。这些突出部可以彼此间隔开预定距离，同时这些突出部错配地布置成不彼此面对并且形成L形间隙。另外，第二支承部(2720)可以弯曲至少十六次，使得第二支承部(2720)可以穿过间隙。另外，阻尼构件(2400)可以被涂敷(覆盖)成使得阻尼构件(2400)可以接触第一支承部(2710)和第二支承部(2720)。

同时，如图19中所示，第一支承单元(2700)可以在线圈架(2030)上突出并且与固定于上弹性构件(2051)的端部的固定突出部(2033)间隔开。也就是说，固定上弹性构件(2051)的位置可以不同于涂敷或布置阻尼构件(2400)的位置。另外，第一支承构件(2700)和固定突出部(2033)可以布置在线圈架(2030)的相同表面处。例如，在线圈架(2030)大致呈包括八个表面的八边形形状的情况下，固定突出部(2033)和第一支承单元(2700)可以分别布置在形成线圈架(2030)的四个表面的侧壁侧，使得固定突出部(2033)和第一支承单元(2700)可以分别布置为形成相应的一对。

同时，如图20中所示，除了第一支承单元(2700)之外还可以设置第二支承单元(2800)。替代性地，可以在不具有第一支承单元(2700)的情况下仅设置第二支承单元(2800)。在这里，第二支承单元(2800)可以布置在将上弹性构件(2051)固定至保持架构件(2040)的固定部与位于保持架构件(2040)的上表面上的固定突出部(2033)之间。另外，第一支承单元(2700)可以与第二支承单元(2800)间隔开预定距离。例如，在线圈架(2030)呈八边形形状的情况下，固定突出部(2033)和第一支承单元(2700)可以布置在四个壁表面处，并且第二支承单元(2800)可以布置在未布置有第一支承单元(2700)的四个其他表面处。在这里，涂敷在第一支承单元(2700)和第二支承单元(2800)处的阻尼构件(2400)可以形成为相同的。

根据示例实施方式，第二支承单元(2800)可以包括第三支承单元(2810)和第四支承单元(2820)。

第三支承部(2810)可以以突出的形式形成在保持架构件(2040)的上表面上。如附图中所示，第三支承部(2810)可以与第一支承部(2710)(参见图19)间隔开预定距离。第三支承部(2810)可以与第一支承部(2710)一起导引阻尼构件(2400)的布置位置。第三支承部(2810)可以通过涂敷阻尼构件(2400)而连接至第四支承构件(2820)，并且可以执行将上弹性构件(2051)固定至保持架构件(2040)的功能。

第四支承构件(2820)可以与上弹性构件(2051)一体地形成。如附图中所示，第四支承构件(2820)可以形成为包围第三支承部(2810)的形状。第四支承构件(2820)可以以多种不同形状形成。例如，如图20中所示，第四支承构件(2820)可以呈弧形形状以包围第三支承部(2810)，但不限于此。第四支承构件(2820)的形状可以与图22至图25中所示的第二支承构件(2720)的形状一样以各种方式形成。

同时，第二支承单元(2800)可以布置在将上弹性构件(2051)固定至保持架构件(2040)的固定部与位于保持架构件(2040)的上表面上的第一支承部(2700)之间。第二支承单元(2800)可以与线圈架(2030)的外周表面间隔开预定距离，以防止线圈架(2030)的上升/下降操作期间的干涉。

根据这种结构，阻尼构件(2400)可以通过第一支承单元(2700)布置在线圈架(2030)处，并且/或者阻尼构件(2400)可以通过第二支承单元(2800)而布置在保持架构件(2040)处。由此，线圈架(2030)和保持架构件(2040)中的至少一者可以具有涂敷在其上的阻尼构件(2400)。因此，可以提高生产的可靠性(liability)，并且也可以简化上弹性构件(2051)的形状。

同时，如图21中所示，第三支承单元(2900)可以以替换或结合的方式可选地安装在第一支承单元(2700)的位置处，或第二支承单元(2800)的位置处。也就是说，可以仅设置第三支承单元(2900)，而不包括第一支承单元(2700)和第二支承单元(2800)。替代性地，第一支承单元(2700)、第二支承单元(2800)和第三支承单元(2900)中的任意一者或两者或全部可以构造为单个部件或结合地构造。第三支承单元(2900)可以包括第五支承部(2910)和第六支承部(2920)。

第五支承部(2910)可以以突出的形式形成在线圈架(2030)的上表面上或形成在保持架构件(2040)的上表面上。第五支承部(2910)的结构可以与如上所述的第一支承部(2100，参见图19)的结构相同。第五支承部(2910)可以在线圈架(2030)的上表面上或在保持架构件(2040)的上表面上以突出的形式形成突出部形状。第五支承部(2910)可以将上弹性构件(2051)与阻尼构件(2400)相互连接。

第六支承部(2920)可以与上弹性构件(2051)一体地形成。如图21中所示，第六支承部(2920)可以形成为至少十六次包围第五支承部(2910)。也就是说，上弹性构件(2051)的一端可以固定至固定突出部(2033)而上弹性构件(2051)的另一端可以固定至保持架构件(2040)，同时连接至两个端部的上弹性构件(2051)可以布置以弧形形状弯曲进行包覆的第六支承部(2920)的结构。例如，在固定突出部(2033)形成在全部四个位置处并且线圈架(2030)的形状为八边形的情况下，全部四个第五支承部(2910)可以以突出的形式形成，同时两个第五支承部(2910)在彼此面对的一对端部处突出并且两个第五支承部(2910)在形成第五支承部(2910)的表面处突出。然而，本示例实施方式不限于此。第五支承部(2910)和第六支承部(2920)可以与第一支承单元(2700)一起使用，或可以与第一支承单元(2700)和第二支承单元(2800)一起使用。

如上所述，当阻尼构件(2400)涂敷在第一至第三支承单元(2700，2800，2900)中时，增加的阻尼构件(2400)的量与常规透镜驱动装置相比可以减小到小于一半。由此，可以使阻尼构件(2400)中的损坏减至最小。

根据示例实施方式，阻尼构件(2400)可以通过支承单元(2700)涂敷在线圈架(2030)和上弹性构件(2051)的连接部处。由此，可以防止阻尼构件(2400)在阻尼构件(2400)的涂敷过程期间渗入其他部件如线圈架(2030)的内侧。

根据示例实施方式，形成在线圈架(2030)处的呈突出部形状的第一支承部(2710)、第三支承部(2720)和第五支承部(2730)的高度可以形成为与上弹性构件(2051)的高度相同或比上弹性构件(2051)的高度更高。由此，可以使阻尼构件(2400)的流动和驱动距离减至最小。

根据示例实施方式，上弹性构件(2051)的弹簧支柱可以形成为在宽度方向上是厚的并且在长度方向上是长的。由此，在左宽度方向和右宽度方向上的第二频率可以移动到300Hz之后，而第一频率保持为与常规装置的频率类似。因而，可以更容易地控制装置。

根据示例实施方式，阻尼构件(2040)可以涂敷在上弹性构件(2051)的固定部与保持架构件(2040)之间，或涂敷在线圈架(2030)与上弹性构件(2051)之间，使得可以容易地控制阻尼构件(2400)中的阻尼(减振)量。因此，可以改善产品的分布和可用性。

根据示例实施方式，可以经由阻尼构件(2400)的另外引入抑制增益或者可以使Q值下降以稳定相位移动。因此，可以改善当增益在共振频率方面快速改变时由快速的相位移动引起的反馈控制的不稳定性。另外，可以抑制共振频率和第二、第三以及第四共振频率的峰值减小。

根据示例实施方式，上弹性构件(2051)的连接部(2051)可以通过在上弹性构件(2051)的固定部之间或者上弹性构件(2051)的一对连接部与保持架构件(2040)之间涂敷阻尼构件(2400)而弯曲至少一次(参见图21的‘A’)。由此，可以使频率变化稳定。

同时，根据示例实施方式，具有如图15至图18中所示那样形成的感测磁体(2100)和校正磁体(2200)的透镜驱动装置可以在单个方向上被控制，并且也可以双向地被控制。也就是说，基部(2020)和线圈架(2030)可以通过粘附在其初始位置上而被布置。例如，止挡件可以通过在基部(2020)侧上突出并且接触线圈架(2030)的底表面而形成初始位置。在其他方式中，尽管在附图中未示出，但止挡件可以在线圈架(2030)的底表面上突出并且可以通过与基部(2020)的上表面接触而被布置。在这种情况下，预定预压可以施加至上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)，使得线圈架(2030)的初始位置可以粘附至基部(2020)。因此，线圈架(2030)可以在施加电力时通过电磁相互作用而上升。相反地，线圈架(2030)可以在电力被切断时通过上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)的回复力返回至初始位置。

替代性地，基部(2020)和线圈架(2030)可以布置成与初始位置间隔开预定距离。在这种情况下，上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)可以以平坦形状布置而不施加预压。在其他方式中，上弹性构件(2051)和下弹性构件(2052)可以在施加有预定压力的情况下形成。在这种情况下，当电力在线圈架(2030)与基部(2020)间隔开预定距离的初始状态下被施加时，线圈架(2030)可以基于电流的极性而上升或下降。也就是说，线圈架(2030)可以在施加正常电流时使作为标准的初始位置上升。另外，线圈架(2030)可以在施加反向电流时从作为标准的初始位置下降。

如上所述，根据示例实施方式，在通过控制线圈架(1030)上升或下降来执行自动聚焦功能时，由于可以使用感测磁体(2100)检测线圈架(2030)的更精确的位置，因此可以将自动聚焦操作所需时间减至最小。特别地，安装在面向感测磁体(2100)一侧的校正磁体(2200)可以使感测磁体(2100)与罩构件(2060)之间的引力偏移，使得线圈架(2030)可以在保持尽可能与罩构件(2060)同心的同时移动。

摄影机模块可以包括按上面所述形成的透镜驱动装置、联接至线圈架(2030)的镜筒、图像传感器(2011)以及PCB(2010)。在这里，图像传感器(2011)可以安装在PCB(2010)上。PCB(2010)可以形成摄影机模块的底表面。

线圈架(2030)可以包括镜筒。至少一个透镜可以安装在镜筒中。镜筒可以螺纹联接至线圈架(2030)的内侧，但不限于此。镜筒可以通过除螺纹联接之外的其他手段直接固定至线圈架(2030)的内侧，或在其他方式中，一个或更多个透镜可以在不具有镜筒的情况下与线圈架(30)一体地形成而作为单个本体。透镜可以由单个部件形成，或在其他方式中，可以由组成光学系统的两个或更多个透镜形成。

红外截止滤波器可以附加地安装在与基部(2020)上的图像传感器(2011)对应的位置处。基部(2020)可以联接至保持架构件(2040)。另外，基部(2020)可以支承保持架构件(2040)的下侧。单独/分体的端子构件可以安装在基部(2020)上以用于与PCB(2010)导电。端子可以通过使用比如表面电极与基部(2020)一体地形成。同时，基部(2020)可以用作传感器保持架以保护图像传感器(2011)。在这种情况下，可以沿着基部(2020)的侧表在向下方向上面形成突出部。然而，这不是必要结构。因此，尽管在附图中未示出，在基部(2020)的下部处可以布置单独的传感器保持架以用作传感器保持架。

在上文中，组成本公开的示例实施方式的所有元件已经描述为一体结合或组合操作，然而，本公开不限于此。也就是说，在本公开的目的的范围内，可以选择性地结合所有这些元件中的至少一个元件进行操作。另外，术语如“包括(include)”、“包括(comprise)”或“具有”是可以存在的本文所述的特征、数量、步骤、功能、元件、部件或其组合的状态。因此，这些术语不应被理解为排除本文描述的一个或更多个其他特征、数量、步骤、功能、元件、部件或其组合的存在或附加的可能性。

除非另有说明，否则本文使用的所述术语，包括技术术语或科学术语，具有的含义与本公开所属技术领域中的常规技术人员通常理解的含义相同。在通常使用的字典中限定的这些术语解释为具有与相关技术领域中的上下文含义相同的含义，并且除非在本说明书中明确说明，否则不解释为具有理想的或过于正式的含义。

在上文中，已经描述了本公开的示例实施方式。然而，这些实施方式仅为示例，并且不对本发明进行限制，所以本公开的领域的技术人员可以在本公开的技术精神的限制内容易地改变和修改。例如，本发明的实施方式中详细示出的部件中的每个部件可以变换地执行。另外，有关这些改变和修改的差异应视为包括在如本公开的所附权利要求和其等同物中所限定的本公开的范围中。

Claims (19)

1.一种透镜驱动装置，包括：

保持架构件；

线圈架，所述线圈架设置在所述保持架构件中；

第一线圈，所述第一线圈设置在所述线圈架上；

第一磁体，所述第一磁体设置在所述保持架构件上并面向所述第一线圈；

基部，所述基部设置在所述保持架构件下方；

电路板，所述电路板设置在所述基部上并且包括面向所述第一磁体的第二线圈；

上弹性构件，所述上弹性构件连接所述线圈架和所述保持架构件；

下弹性构件，所述下弹性构件连接所述线圈架和所述保持架构件并且设置在所述上弹性构件下方；

支承构件，所述支承构件联接至所述上弹性构件和所述电路板；以及

阻尼构件，所述阻尼构件连接所述下弹性构件和所述电路板，

其中，所述阻尼构件与所述下弹性构件直接接触。

2.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述电路板包括：第一电路板，所述第一电路板设置在所述基部的上表面上；以及第二电路板，所述第二电路板设置在所述第一电路板的上表面上，

其中，所述第二电路板包括所述第二线圈，并且

其中，所述阻尼构件连接所述下弹性构件的下表面和所述第二电路板的上表面。

3.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件与所述支承构件间隔开，并且

其中，所述阻尼构件与光轴之间的距离比所述支承构件与所述光轴之间的距离更短。

4.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件设置成不与所述支承构件干涉，并且

其中，所述阻尼构件粘附在所述下弹性构件的下表面上。

5.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件设置在所述电路板的拐角部分上。

6.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述电路板包括与光轴重叠的开口，并且

其中，所述阻尼构件比所述开口更靠近所述电路板的外侧表面。

7.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件包括四个阻尼部分，

其中，所述四个阻尼部分中的每个阻尼部分分别设置在所述电路板的四个拐角部分中的每个拐角部分上。

8.根据权利要求2所述的透镜驱动装置，其中，所述下弹性构件的下表面与所述第二电路板的上表面之间的距离形成在0.1mm至0.4mm的范围内。

9.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件与所述电路板直接接触。

10.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件的至少一部分位于所述第一磁体与所述支承构件之间。

11.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述下弹性构件包括：内部部分，所述内部部分联接至所述线圈架的下部部分；外部部分，所述外部部分联接至所述保持架构件的下部部分；以及连接部分，所述连接部分连接所述内部部分和所述外部部分，并且

其中，所述阻尼构件连接至所述下弹性构件的所述外部部分。

12.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，包括：

第二磁体，所述第二磁体设置在所述线圈架上；以及

传感器，所述传感器设置在所述保持架构件上并对所述第二磁体进行感测。

13.根据权利要求2所述的透镜驱动装置，其中，所述第一电路板包括孔，并且

其中，所述支承构件穿过所述第一电路板的所述孔并且联接至所述第一电路板。

14.根据权利要求1所述的透镜驱动装置，其中，所述下弹性构件包括从所述保持架构件向外突出的第一部分，并且

其中，所述阻尼构件与所述下弹性构件的所述第一部分接触。

15.一种摄影机模块，包括：

印刷电路板(PCB)；

图像传感器，所述图像传感器设置在所述PCB上；

根据权利要求1至14中的任一项所述的透镜驱动装置；以及

透镜，所述透镜联接至所述透镜驱动装置的所述线圈架。

16.一种光学设备，包括根据权利要求15所述的摄影机模块。

17.一种透镜驱动装置，包括：

移动部分，所述移动部分包括：保持架构件；线圈架，所述线圈架设置在所述保持架构件中；第一线圈，所述第一线圈设置在所述线圈架上；第一磁体，所述第一磁体设置在所述保持架构件上并面向所述第一线圈；以及弹性构件，所述弹性构件联接至所述线圈架和所述保持架构件；

固定部分，所述固定部分包括：基部，所述基部与所述移动部分间隔开；以及电路板，所述电路板设置在所述基部上并且包括面向所述第一磁体的第二线圈；

支承构件，所述支承构件连接所述移动部分和所述固定部分；以及

阻尼构件，所述阻尼构件连接所述移动部分和所述固定部分，

其中，所述弹性构件包括：上弹性构件，所述上弹性构件联接至所述线圈架的上部部分和所述保持架构件的上部部分；以及下弹性构件，所述下弹性构件联接至所述线圈架的下部部分和所述保持架构件的下部部分，

其中，所述阻尼构件与所述下弹性构件的下表面接触，并且

其中，所述阻尼构件与所述下弹性构件直接接触。

18.根据权利要求17所述的透镜驱动装置，其中，所述电路板包括：第一电路板，所述第一电路板设置在所述基部的上表面上；以及第二电路板，所述第二电路板设置在所述第一电路板的上表面上，

其中，所述第一电路板包括多个端子，

其中，所述第二电路板包括所述第二线圈，

其中，所述支承构件联接至所述上弹性构件和所述第一电路板，并且

其中，所述阻尼构件与所述第二电路板的上表面接触。

19.根据权利要求17所述的透镜驱动装置，其中，所述阻尼构件与所述支承构件间隔开。

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