CN112110532B - 一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法 - Google Patents

一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112110532B
CN112110532B CN202010814739.1A CN202010814739A CN112110532B CN 112110532 B CN112110532 B CN 112110532B CN 202010814739 A CN202010814739 A CN 202010814739A CN 112110532 B CN112110532 B CN 112110532B
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
ions
chloride
copper powder
chloride ions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202010814739.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN112110532A (zh
Inventor
罗国华
顾晓聪
刘碧华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Zhending Environmental Technology Co ltd
Original Assignee
Guangdong Zhending Environmental Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Zhending Environmental Technology Co ltd filed Critical Guangdong Zhending Environmental Technology Co ltd
Priority to CN202010814739.1A priority Critical patent/CN112110532B/zh
Publication of CN112110532A publication Critical patent/CN112110532A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN112110532B publication Critical patent/CN112110532B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46—Regeneration of etching compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C1/00—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions
    • C25C1/12—Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of solutions of copper
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/10—Inorganic compounds
    • C02F2101/12—Halogens or halogen-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/10—Inorganic compounds
    • C02F2101/16—Nitrogen compounds, e.g. ammonia
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/16—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from metallurgical processes, i.e. from the production, refining or treatment of metals, e.g. galvanic wastes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00—Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20—Recycling

Abstract

本发明涉及废物处理技术领域，具体涉及一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，包括如下步骤：(1)将铜粉与被氯离子污染的硫酸铜电镀液中的铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀；(2)将氯化亚铜过滤分离；(3)清洗氯化亚铜沉淀，补充入蚀刻液；蚀刻液中的铜离子再通过萃取系统进入硫酸铜电解液中；(4)铜离子被电解为铜粉，利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。本发明的方法可以有效除氯，不引入新的污染物和环境安全风险，降低溶液中残余氯离子的浓度；且因为萃取而被带入硫酸铜电镀体系的氯离子，被铜粉带离硫酸铜电镀系统，整个是一个闭路循环，只是消耗一些电力，节能环保。

Description

一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法
技术领域
本发明涉及废物处理技术领域，具体涉及一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法。
背景技术
碱性蚀刻液提铜再生，目前主流技术是萃取电积技术。由于环保要求的提高，在萃取工序产生的大量含铵含氯离子清洗水不能排出到废水设施处理，导致大量的氯离子被带入到硫酸铜电解液中。某些厂的氯离子浓度甚至可高达几十克每升，对铅阳极造成严重的腐蚀，寿命大大缩短，通常寿命为1.5年，但是现在缩短到0.2-0.7年，只有原来的不到一半。这不仅导致成本上升，而且导致大量有毒的铅离子进入电解液，随后作为废物外排处理，产生大量的污染隐患。同时生产也产生不稳定性，因此而产生索赔等重大经济损失。
目前脱除溶液中氯离子的方法主要有离子交换树脂法、萃取法、银盐/汞盐沉淀法和热风吹脱法。但这些方法或因除氯深度达不到要求、或因试剂太贵、或因试剂有毒、或因能耗太高而不能满足工业化大规模应用的要求。
离子交换膜电解技术是一种去除氯离子的好方法，本发明人曾经研究该方法并且提出相关的专利，但由于氯气在水中具有一定的溶解度，在电解过程中阳极上氯气的生成速率不够快，氯气的返溶现象严重，而且，产生氯气有泄露的风险，因此，还有必要进一步思考更好的解决方法。
发明内容
为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，可以有效除氯，不引入新的污染物和环境安全风险，降低溶液中残余氯离子的浓度。
本发明的目的通过下述技术方案实现：一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，包括如下步骤：
(1)沉淀氯离子反应：将铜粉与被氯离子污染的硫酸铜电解液中的铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀；
(2)分离氯化亚铜沉淀：将氯化亚铜过滤分离，氯离子随着氯化亚铜一起离开硫酸铜电解液体系；
(3)清洗氯化亚铜沉淀：清洗氯化亚铜沉淀，再把清洗后的干净氯化亚铜补充入蚀刻液再生设备中的蚀刻液，氯化亚铜被氧化溶解，反应生成蚀刻液的有效成分，即Cu(NH3)4Cl2；蚀刻液中的铜离子含量高，将其通入蚀刻液萃取系统进行萃取，铜离子通过蚀刻液萃取系统进入硫酸铜电解液中；萃取后的蚀刻液回流至蚀刻液再生设备形成再生液，该再生液用于蚀刻线进行蚀刻，产生的蚀刻液废液回流至蚀刻液萃取系统；
(4)铜粉再生：步骤(3)中硫酸铜电解液中的铜离子被电解为铜粉，利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
本发明的基本原理是：
第一步，铜粉与铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀。
Cu+[Cu2+]+2Cl-→2CuCl↓
第二步，氯化亚铜被过滤分离，氯离子随着氯化亚铜一起离开硫酸铜电解液体系。
第三步，清洗后的干净氯化亚铜补充入蚀刻液，氧化溶解，成为蚀刻液的有效成分。
4CuCl+O2+16(NH4 +)+4Cl-→4Cu(NH3)4Cl2+2H2O+12[H+]
铜离子通过萃取系统进入硫酸铜电解液中。
2RNH4+Cu(NH3)4Cl2→CuR2+4NH3+2NH4Cl
CuR2+H2SO4→CuSO4+2RH
第四步，铜离子被电解为铜粉，利用于第一步的去除氯离子沉淀反应中。
Cu2++2e-→Cu
由此，因为萃取而被带入硫酸铜电镀体系的氯离子，被铜粉带离硫酸铜电镀系统，整个是一个闭路循环，只是消耗一些电力。
优选的，所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为15-25g/L，氯离子含量为1-10克/升，硫酸含量为150-250克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为150-250升。
更为优选的，所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为20g/L，氯离子含量为5克/升，硫酸含量为200克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为200升。
优选的，所述步骤(1)具体为：将电解制的铜粉1000-2500克，置于密闭反应器中，被氯离子污染的硫酸铜电解液通过泵送入反应器中，搅拌，铜粉与铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀。
优选的，所述步骤(3)中，清洗氯化亚铜沉淀需要将硫酸根离子清除，使用氯化钡溶液测试没有硫酸根离子为止。
优选的，所述步骤(4)具体为：将步骤(3)中的硫酸铜电解液泵入电解槽，采用铅电极为阳极，铜板电极为阴极，电解液温度为25-90℃，电流密度为2000-4000A/m2，阳极配备抽风装置，抽出氯气，氯气经过干燥和碱水清洗后，抽到碱性蚀刻液中，进行射流吸收；阴极上的铜粉，每25-35min刮一次，回收铜粉，清洗后利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
更为优选的，所述步骤(4)具体为：将步骤(3)中的硫酸铜电解液泵入电解槽，采用铅电极为阳极，铜板电极为阴极，电解液温度为60℃，电流密度为3000A/m2，阳极配备抽风装置，抽出氯气，氯气经过干燥和碱水清洗后，抽到碱性蚀刻液中，进行射流吸收；阴极上的铜粉，每30min刮一次，回收铜粉，清洗后利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
本发明的有益效果在于：本发明的方法可以有效除氯，不引入新的污染物和环境安全风险，降低溶液中残余氯离子的浓度；且因为萃取而被带入硫酸铜电镀体系的氯离子，被铜粉带离硫酸铜电镀系统，整个是一个闭路循环，只是消耗一些电力，节能环保。
采用本发明的方法处理后的溶液中氯离子的浓度由未处理时的0.1-0.5g/L降低到20mg/L以下。
附图说明
图1是本发明的工艺流程图。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解，下面结合实施例及附图1对本发明作进一步的说明，实施方式提及的内容并非对本发明的限定。
实施例1
见图1，一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，包括如下步骤：
(1)沉淀氯离子反应：将铜粉与被氯离子污染的硫酸铜电解液中的铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀；
(2)分离氯化亚铜沉淀：将氯化亚铜过滤分离，氯离子随着氯化亚铜一起离开硫酸铜电解液体系；
(3)清洗氯化亚铜沉淀：清洗氯化亚铜沉淀，再把清洗后的干净氯化亚铜补充入蚀刻液再生设备中的蚀刻液，氯化亚铜被氧化溶解，反应生成蚀刻液的有效成分，即Cu(NH3)4Cl2；蚀刻液中的铜离子含量高，将其通入蚀刻液萃取系统进行萃取，铜离子通过蚀刻液萃取系统进入硫酸铜电解液中；萃取后的蚀刻液回流至蚀刻液再生设备形成再生液，该再生液用于蚀刻线进行蚀刻，产生的蚀刻液废液回流至蚀刻液萃取系统；
(4)铜粉再生：步骤(3)中硫酸铜电解液中的铜离子被电解为铜粉，利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为20g/L，氯离子含量为5克/升，硫酸含量为200克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为200升。
所述步骤(1)具体为：将电解制的铜粉1200克，置于密闭反应器中，被氯离子污染的硫酸铜电解液通过泵送入反应器中，搅拌，铜粉与铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀。
所述步骤(3)中，清洗氯化亚铜沉淀需要将硫酸根离子清除，使用氯化钡溶液测试没有硫酸根离子为止。
所述步骤(4)具体为：将步骤(3)中的硫酸铜电解液泵入电解槽，采用铅电极为阳极，铜板电极为阴极，电解液温度为60℃，电流密度为3000A/m2，阳极配备抽风装置，抽出氯气，氯气经过干燥和碱水清洗后，抽到碱性蚀刻液中，进行射流吸收；阴极上的铜粉，每30min刮一次，回收铜粉，清洗后利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
每克铜粉，可以清除1克氯离子。持续的连续处理被氯离子污染的硫酸铜电解液，可以控制氯离子在0.05克/升以下，氯离子去除效率为98％。
实施例2
本实施例与上述实施例1的不同之处在于：所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为20g/L，氯离子含量为10克/升，硫酸含量为200克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为200升。
所述步骤(1)具体为：将电解制的铜粉2500克，置于密闭反应器中，被氯离子污染的硫酸铜电解液通过泵送入反应器中，搅拌，铜粉与铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀。
每克铜粉，可以清除1克氯离子。持续的连续处理被氯离子污染的硫酸铜电解液，可以控制氯离子在0.03克/升以下，氯离子去除效率为99％。
实施例3
本实施例与上述实施例1的不同之处在于：所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为20g/L，氯离子含量为3克/升，硫酸含量为200克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为200升。
所述步骤(1)具体为：将电解制的铜粉1000克，置于密闭反应器中，被氯离子污染的硫酸铜电解液通过泵送入反应器中，搅拌，铜粉与铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀。
每克铜粉，可以清除1克氯离子。持续的连续处理被氯离子污染的硫酸铜电解液，可以控制氯离子在0.05克/升以下，氯离子去除效率为99％。
上述实施例为本发明较佳的实现方案，除此之外，本发明还可以其它方式实现，在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：包括如下步骤：
(1)沉淀氯离子反应：将铜粉与被氯离子污染的硫酸铜电解液中的铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀；
(2)分离氯化亚铜沉淀：将氯化亚铜过滤分离，氯离子随着氯化亚铜一起离开硫酸铜电解液体系；
(3)清洗氯化亚铜沉淀：清洗氯化亚铜沉淀，再把清洗后的干净氯化亚铜补充入蚀刻液再生设备中的蚀刻液，氯化亚铜被氧化溶解，反应生成蚀刻液的有效成分，即Cu(NH3)4Cl2；蚀刻液中的铜离子含量高，将其通入蚀刻液萃取系统进行萃取，铜离子通过蚀刻液萃取系统进入硫酸铜电解液中；萃取后的蚀刻液回流至蚀刻液再生设备形成再生液，该再生液用于蚀刻线进行蚀刻，产生的蚀刻液废液回流至蚀刻液萃取系统；
(4)铜粉再生：步骤(3)中硫酸铜电解液中的铜离子被电解为铜粉，利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
2.根据权利要求1所述的一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为15-25g/L，氯离子含量为1-10克/升，硫酸含量为150-250克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为150-250升。
3.根据权利要求1所述的一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：所述步骤(1)中，被氯离子污染的硫酸铜电解液中，铜离子含量为20g/L，氯离子含量为5克/升，硫酸含量为200克/升，被氯离子污染的硫酸铜电解液的体积为200升。
4.根据权利要求1所述的一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：所述步骤(1)具体为：将电解制的铜粉1000-2500克，置于密闭反应器中，被氯离子污染的硫酸铜电解液通过泵送入反应器中，搅拌，铜粉与铜离子和氯离子反应，生成氯化亚铜沉淀。
5.根据权利要求1所述的一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：所述步骤(3)中，清洗氯化亚铜沉淀需要将硫酸根离子清除，使用氯化钡溶液测试没有硫酸根离子为止。
6.根据权利要求1所述的一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：所述步骤(4)具体为：将步骤(3)中的硫酸铜电解液泵入电解槽，采用铅电极为阳极，铜板电极为阴极，电解液温度为25-90℃，电流密度为2000-4000A/m2，阳极配备抽风装置，抽出氯气，氯气经过干燥和碱水清洗后，抽到碱性蚀刻液中，进行射流吸收；阴极上的铜粉，每25-35min刮一次，回收铜粉，清洗后利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
7.根据权利要求1所述的一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法，其特征在于：所述步骤(4)具体为：将步骤(3)中的硫酸铜电解液泵入电解槽，采用铅电极为阳极，铜板电极为阴极，电解液温度为60℃，电流密度为3000A/m2，阳极配备抽风装置，抽出氯气，氯气经过干燥和碱水清洗后，抽到碱性蚀刻液中，进行射流吸收；阴极上的铜粉，每30min刮一次，回收铜粉，清洗后利用于步骤(1)参与沉淀氯离子反应。
CN202010814739.1A 2020-08-13 2020-08-13 一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法 Active CN112110532B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010814739.1A CN112110532B (zh) 2020-08-13 2020-08-13 一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202010814739.1A CN112110532B (zh) 2020-08-13 2020-08-13 一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN112110532A CN112110532A (zh) 2020-12-22
CN112110532B true CN112110532B (zh) 2022-12-13

Family

ID=73803968

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202010814739.1A Active CN112110532B (zh) 2020-08-13 2020-08-13 一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112110532B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113398627A (zh) * 2021-06-10 2021-09-17 苏州华锋环保技术有限公司 一种硫酸铜溶液中氯的脱出装置及脱氯方法
CN115505750A (zh) * 2022-09-30 2022-12-23 荆门市格林美新材料有限公司 一种电积铜富液净化方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106282567A (zh) * 2015-05-29 2017-01-04 陕西瑞凯环保科技有限公司 一种从废酸性蚀刻液中回收金属的方法
CN107313069A (zh) * 2017-05-22 2017-11-03 广东省稀有金属研究所 一种将酸、碱废蚀刻液混搭回收铜的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN112110532A (zh) 2020-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104152905B (zh) 酸性氯化铜蚀刻液电解再生循环及铜板回收装置及方法
CN109161895B (zh) 酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法
CN105523668A (zh) 一种pcb含氨氮废水零排放处理方法及装置
CN105483707B (zh) 一种碱性氯化铜蚀刻废液提铜回用的方法
CN112110532B (zh) 一种利用铜粉处理含氯溶液中氯离子的方法
CN111560615B (zh) 一种酸性蚀刻废液在线回收铜、氯气及蚀刻液再生的方法
CN104313584A (zh) 含铜蚀刻液电解获得铜板并再生循环利用方法及系统
CN107354484A (zh) 一种脱除锌电解废液中氯的方法
CN102839379A (zh) 一种酸性蚀刻液的在线处理方法
CN102677062B (zh) 一种电解再生碱性蚀刻液的方法
CN105692768A (zh) 一种利用螯合树脂选择性提取重金属-氨络合废水中重金属的方法
CN112708885A (zh) 一种蚀铜废硝酸资源化回用方法及系统
CN103741143A (zh) 蚀刻液循环处理系统及方法
CN205442898U (zh) 一种用于pcb含氨氮废水零排放处理的装置
CN106587459A (zh) 一种电镀清洗废水在线资源化方法
CN204625787U (zh) 一种碱性蚀刻液电解循环再生系统
CN112250226A (zh) 一种棕化废液处理方法
CN211339693U (zh) 一种碱性含铜蚀刻废液再生及氨氮废水循环系统
CN106006856A (zh) 一种电解催化氧化法处理氨性氯化铜废水中氨氮的系统
CN205892820U (zh) 一种电解催化氧化法处理氨性氯化铜废水中氨氮的系统
CN202688133U (zh) 低含铜废水综合处理循环再生系统
CN218710923U (zh) 一种印制线路板酸性蚀刻液再生及提铜装置系统
CN207391167U (zh) 一种碱性蚀刻线水洗段废水再生系统
CN112125448A (zh) 一种离子交换膜电解技术处理含氯溶液中氯离子的方法
CN115449849B (zh) 一种微蚀液在线电解提铜循环再生工艺

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant