CN112054044A - 一种显示面板及显示设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种显示面板及显示设备，显示面板定义有第一显示区和第二显示区，显示面板包括基板、发光结构层和抗反射层，发光结构层，设置在基板的一侧表面上，包括阵列排布的发光器件；抗反射层设置所述第二显示区内的所述发光结构层远离基板的一侧。通过上述方式，本申请能够提高显示面板第二显示区的光透过率。

Description

一种显示面板及显示设备

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及显示设备。

背景技术

随着显示技术的发展，在设计显示面板结构时，会设置透光显示区，并将摄像头等感光器件设置在透光显示区域之下，提高屏占比，以实现真正的全面屏。透光显示区可以采用高透明度的PM OLED(Passive matrix Organic Light-Emitting Diode)/AM OLED(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode)显示屏，以保证显示效果。但是由于摄像头部位的显示透光区因产品工艺需求，如显示区各膜层遮挡，导致透光区的光学透过率偏低，影响摄像头的使用。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种显示面板及显示设备，能够提高显示面板第二显示区的光透过率。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，显示面板定义有第一显示区和第二显示区，显示面板包括基板、发光结构层和抗反射层，发光结构层设置在基板的一侧表面上，包括阵列排布的发光器件；抗反射层设置在第二显示区内的发光结构层远离基板的一侧。

其中，抗反射层至少包括层叠设置的第一抗反射膜和第二抗反射膜，第一抗反射膜设置在第二抗反射膜靠近发光结构层的一侧，第一抗反射膜的反射率大于第二抗反射膜的反射率。

其中，第一抗反射膜的厚度为第二抗反射膜厚度的4～6倍。

其中，第二抗反射膜的厚度为0.3～0.8μm，第一抗反射膜的厚度为1.8～4.8μm。

其中，显示面板还包括盖板，盖板设置在发光结构层远离基板的一侧，抗反射层位于盖板远离发光结构层的一侧。

其中，显示面板还包括盖板和功能膜组，盖板设置在发光结构层远离基板的一侧，功能膜组设置在发光结构层与盖板之间，所述功能膜组包括至少两层功能膜层，抗反射层位于功能膜组的任意两层功能膜层之间。

其中，功能膜组包括薄膜封装层、偏光层和触控层，薄膜封装层设置在发光结构层远离基板的一侧且覆盖发光器件；偏光层设置在薄膜封装层远离发光结构层的一侧；触控层设置在偏光层远离薄膜封装层的一侧；抗反射层位于薄膜封装层与偏光层之间。

其中，抗反射膜层的材质包括氮化硅、二氧化钛、氧化锆、碳化硅、石墨烯中的一种或多种。

其中，基板包括衬底和阵列层，第二显示区包括贯穿衬底和阵列层的透光孔，抗反射膜覆盖透光孔。

其中，透光孔内填充透光材料。

为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示设备，显示设备包括显示面板和感光器件，显示面板为上述任一实施方式中的显示面板，显示面板定义有第一显示区和第二显示区，感光器件位于显示面板下方且与第二显示区对应设置。

本申请的有益效果是：区别于现有技术的情况，本申请提供一种显示面板，显示面板定义有第一显示区和第二显示区，第二显示区内设置有抗反射层，通过设置抗反射层，能够提高第二显示区处的光透光率。

附图说明

图1是本申请一实施方式中显示面板的俯视结构示意图；

图2是本申请一实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图；

图3是本申请一实施方式中抗反射膜层处的光学原理示意图；

图4是本申请另实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图；

图5是本申请又一实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图；

图6是本申请再一实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图；

图7是本申请还一实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图；

图8是本申请一实施方式中显示设备的结构示意图。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本申请进一步详细说明。

本申请提供一种显示面板，显示面板定义有第一显示区和第二显示区，第二显示区与感光器件(如摄像头)的设置位置相对应，摄像头可通过第二显示区接收到外界光线，实现拍摄功能。第二显示区内设置有抗反射层，通过设置抗反射层，能够提高第二显示区处的光透光率。其中，本申请公开的显示面板可用于多种显示方式，例如有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示、量子点显示，Micro-LED显示等。这里以OLED显示为例进行说明，但不限于该显示方式。

请参阅图1，图1是本申请一实施方式中显示面板的俯视结构示意图。该实施方式中，显示面板定义有第一显示区101和第二显示区102，第二显示区102与感光器件(如摄像头)的设置位置相对应。第一显示区101可围绕第二显示区102设置。

其中，为了使显示设备实现除显示外的其他功能，显示设备中还会设置前置摄像头、识别传感器(如指纹识别、人脸3D识别)等其他感光器件(图未示)。为了降低这些感光器件对显示设备正面空间的占用，提高显示面板的屏占比，可以将感光器件设置在显示面板下方，当感光器件位于显示面板下方时，显示面板上的部件会对感光器件形成遮挡，进而影响感光器件的性能。如当将摄像头设置于显示面板下方时，需要摄像头上方的部件有较好的透光性，否则会使得拍摄模糊。因此，为了提高感光器件区光线的透光率，可以在对应感光器件的区域开孔，将部分部件去除，可以是直接将对应感光器件区域的膜层全部去除开通孔，也可以只去除部分膜层开盲孔。但是，在显示面板上开孔，一方面工艺相对复杂，另一方面还可能带来封装失效的问题。为了提高第二显示区的光透光率，本申请所提供的显示面板，在第二显示区内设置抗反射膜层，可以不设置开孔，也能够减少第二显示区的光反射，进而提高第二显示区的透射率。

请参阅图2，图2是本申请一实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图。该实施方式中，显示面板包括基板10、发光结构层20和抗反射层30。

其中，基板10包括阵列基板，阵列基板包括衬底层和阵列层，衬底可以是柔性衬底、也可以是刚性衬底，柔性衬底的材料可以但不限于为聚酰亚胺(PI)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚苯硫醚(PPS)及聚芳酯(PAR)或PET中的一种或多种的组合，或者是可弯折钢片。阵列层内设置有阵列电路用于控制发光器件发光，阵列层一般由缓冲层、半导体层(有源层)、绝缘层等无机膜层构成，通过对这些无机膜层进行构图，可以形成控制发光器件发光的控制电路，其具体电路结构有多种实现方式，在此不再赘述。

发光结构层20包括阵列排布的发光器件，发光结构层位于阵列层远离衬底的一侧；发光器件包括阳极层、发光结构层和阴极层，发光结构层又包括发光材料层和有机共通层(空穴传输层、电子传输层等)。在阳极层和阴极层通电时，电子和空穴分别由电子传输层和空穴传输层迁移到发光材料层，并在发光材料层中相遇，形成激子使发光分子激发，从而产生可见光，以达到显示的目的。

抗反射层30位于发光结构层20远离基板10的一侧。可以仅在第二显示区域设置抗反射层，也可以在第一显示区和第二显示区均设置抗反射层。通过设置抗反射层，能够降低第二显示区的光反射，进而提高该区域的透光率。

当光从一种介质入射到另一种介质时，在两种介质的交界面上将发生反射和折射，将反射光强度与入射光强度的比值叫做反射率(用R表示)，R＝(A’/A)²，A’和A分别表示反射光和入射光的振幅。设入射光的强度为1，则反射光的强度为R，在不考虑吸收和散射情况下，折射光的强度为(1-R)，根据菲涅尔公式和折射定律可知，当入射角很小时，光从折射率n1的介质入射到折射率n2的介质，反射率R＝(A’/A)²＝(n2-n1)²/(n2+n1)²。

请参阅图3，图3是本申请实施方式中抗反射膜处的光学原理示意图。在介质C的表面镀一层增透膜(抗反射膜)，设介质B、增透膜、介质C的折射率分别为n1、n、n2，增透膜的厚度为d。

如图3所示，在入射角很小的情况下，介质B与增透膜之间的反射率为R1＝(n-n1)²/(n+n1)²，增透膜与介质C之间的反射率为R2＝(n2-n)²/(n2+n)²，如果把入射光的强度设为1，表面反射光(光线1)是入射光经过介质B与增透膜的界面一次反射形成的，其强度为R1；后反射光(光线2)为入射光经介质B与增透膜的界面两次折射和增透膜与介质C的界面一次反射形成的，其强度为(1-R1)²*R2。

当光线1与光线2满足振幅相等、正好反相时，则可以相互抵消，整个系统的反射光能量接近零。根据增透膜增透过程中能量守恒，透射过去的光能量得到了增强，几乎使全部光透射过去。

综上，只要使光线1与光线2振幅相等、并且正好反相，则增透膜就起到了理想的增透作用。根据折射定律，若想使光线1与光线2振幅相等，可以根据介质B与介质C的折射率选择预定折射率的薄膜作为增透膜。

另外，要使光线1与光线2正好反相，对增透膜的厚度有一定要求，当光从折射率较小的介质入射到折射率较大的介质表面时，反射光在入射点发生π的相位跃变，即光成有半个波长的突变。所以，光线1在介质B与增透膜的交界面反射时有半波损失，光线2在增透膜与介质C的交界面的反射时也有半波损失。所以，当光从介质B透过增透膜进入介质C时，光线1与光线2要干涉相消，只要光线1与光线2的光程相差半个波长，则增透膜薄膜厚度d＝(2k+1)λ/4，k为自然数，λ为光在薄膜中的波长。这样光线2经薄膜传播一个来回比表面反射光多行2d＝2(2k+1)λ/4＝kλ+λ/2，因为光是波，具有周期性，所以不管k为哪个自热数，光线1与光线2的光程只要相差半个波长，就能达到目的。另外，光从光梳介质射向光密介质时，反射光有半波损失，而当n1<n<n2时，光线1与光线2返回介质B时都经历了一次半波损失，相互抵消，可以不考虑半波损失。因此，当膜的厚度d＝(2k+1)λ/4，光线1与光线2重合时，出现干涉相消，从而减弱反射光的强度，增加透射光的强度，起到增透作用。

因此，可以在介质B与介质C之间设置一层折射率介于介质B与介质C之间的薄膜，能够让更多的光从B进入C，如果所设置薄膜足够多，那么薄膜界面间的反射也就越不加明显，因此，可以设置一层或多层薄膜作为抗反射膜。通过设置抗反射层，能够降低第二显示区的光反射，进而提高该区域的透光率，经检测分析，通过增加抗反射膜层，至少能够使第二显示区的光透过率提高5％。

请参阅图4，图4是本申请另一实施方式中显示面板沿图1中AA’方向的第二显示区剖面结构示意图。该实施方式中，显示面板包括基板10、发光结构层20和抗反射层30，其中抗反射层30至少包括层叠设置的第一抗反射膜301和第二抗反射膜302，第一抗反射膜301设置在第二抗反射膜302靠近发光结构层20的一侧，第一抗反射膜301的反射率大于第二抗反射膜302的反射率。通过设置多层相互叠加的反射膜层，能够让入射光与反射光进行破坏性干涉以达到抗反射与增强透过率的目的。

其中，可以选择高、低折射率的两种材料交替蒸镀制成第一抗反射膜301和第二抗反射膜302。在光线连续穿过两种不同折射率的膜层时(即在介质折射率连续变化的情况下)，由于在不同界面的反射光线产生干涉效应，其反射率还与膜层厚度有关。从而我们可以通过设计特定厚度和特定折射率的涂层，来得到对特定波长光波有较大反射率或透过率的涂层。

在一实施方式中，设置第一抗反射膜301的厚度为第二抗反射膜302厚度的4～6倍，如第一抗反射膜301的厚度为第二抗反射膜302厚度的4倍、4.5倍、5倍、5.5倍、6倍等。例如可设置第二抗反射膜302的厚度为0.3～0.8μm，如0.35μm、0.42μm、0.50μm、0.68μm等；第一抗反射膜301的厚度为1.8～4.8μm，2.40μm、3.00μm、3.50μm、4.35μm等。

在一实施方式中，可以选择氮化硅、二氧化钛、氧化锆、碳化硅、石墨烯等无机材料来制备抗反射膜，还可以选择有机高分子材料制备纳米抗反射膜。通过选用无机材料制备抗反射膜不仅能够起到减小反射的作用，同时还能够阻隔水氧提升显示面板的封装效果。根据所选抗反射膜层材料，可以通过溅射、沉积、涂布、贴膜的方式制备形成抗反射膜层。

请结合参阅图5和图6，图5是本申请实施方式中又一显示面板第二显示区沿图1中AA’方向的剖面结构示意图，图6是本申请实施方式中再一显示面板第二显示区沿图1中AA’方向的剖面结构示意图。该实施方式中，显示面板包括基板10、发光结构层20、抗反射层30、功能膜组40和盖板50。

其中，为了实现好的显示效果，显示面板还设置有薄膜封装层(TFE)、偏光层(POL)、触控层(TP)等功能膜组40，所谓功能膜组是指两层或多层功能膜的组合。

薄膜封装层(TFE)位于发光结构层远离基板的一侧且覆盖发光器件，用于对发光器件进行保护，薄膜封装层(TFE)一般包括层叠设置的无机封装层和有机封装层，用于阻隔水氧。

偏光层(POL)位于薄膜封装层远离发光结构层的一侧，偏光层可以是位相差膜、线偏膜中的一种或多种，如设置有四分之一波片、二分之一波片等，线偏膜与四分之一波片可组合成为圆偏光片，将自然光转换为右旋圆或左旋圆偏光。偏光功能层的材质可以是聚乙烯醇或液晶材料等。

触控层(TP)位于偏光层远离薄膜封装层的一侧，用于提供触控功能。

盖板50位于功能膜组40远离基板10的一侧，用于对显示面板进行保护。

该实施方式中，抗反射层30可以设置在盖板50远离功能膜组40的一侧；也可以设置在功能膜组40的任意两层膜结构之间。如可以设置在薄膜封装层(TFE)远离发光结构层20的一侧，可以设置在薄膜封装层的各膜层之间，可以设置在偏光层的各膜层之间。本申请中，对抗反射膜层的设置位置不做限定。

请结合参阅图7，图7是本申请实施方式中还一显示面板第二显示区沿图1中AA’方向的剖面结构示意图。该实施方式中，显示面板包括基板10、发光结构层20、抗反射层30。基板10包括阵列基板，阵列基板包括衬底层和阵列层，第二显示区具有至少一个贯穿阵列基板的衬底层和阵列层的透光孔60。通过设置透光孔60去除阵列基板中的膜层，尤其是光透过率低的金属膜层，如驱动电路的电极层等，能够提高第二显示区的透光率。为保证第二显示区具有显示功能，对阵列基板挖孔后，孔区域对应的发光器件的驱动电路设置在阵列基板的其他区域，或者与邻近发光器件共用驱动电路。在其他实施方式中，如果第二显示区不具有显示功能，透光孔60还可以深至发光结构层，以进一步去发光器件中的膜层，尤其是光透过率低的发光器件的阴极层等，能够进一步提高第二显示区的透光率。

在一实施方式中，还可以在透光孔60内填充有透光材料(图未示)，以形成透光材料层。其中，由于透光孔60的存在，覆盖在透光孔60处的封装层失去了支撑物，封装层和阵列基板10容易产生形变，易对显示面板的显示质量以及感光器件的功能造成不良影响。同时在形成封装层时还会出现段差，降低封装效果。通过使用透光材料对透光孔60进行填充，一方面可以对封装层和阵列基板10起到支撑作用，防止封装层和阵列基板10发生形变；另一方面还可以为封装层做平坦化，提高封装效果。

其中，透光材料可以是透光的有机材料，如可以是ink墨水，也可以是透明聚酰亚胺(Clear Polyimide，CPI)材料等。可以选择折射率高于封装材料的透光材料，以减小透光孔处的光反射，进一步提高光透过率。

可选的，透光材料层远离衬底的表面至少与发光结构层远离衬底的表面平齐，即透光材料层可与发光结构层的高度一致。另一可选的实施例中，透光材料层可与支撑柱(SPC，Spacer)的高度一致，或略低于SPC，即透光材料层远离衬底的表面与支撑柱远离衬底的表面平齐。可以理解的是，支撑柱设置于发光结构层的像素限定层上，且避位像素开口。一方面可以提高衬底强度，另一方面可以为TFE封装做平坦化，防止TFE在此断裂。

在另一可选的实施方式中，也可以不对透光孔填充，而是在制作封装层时，直接使用封装层材料对透光孔进行填充，可选的，透光材料层和封装层的至少一个膜层一体成型，实现平坦化效果。封装层的结构可为层叠设置的有机封装层、无机封装层、有机封装层、无机封装层结构。通过先在发光器件层上沉积有机封装层，能够利用有机封装层材料的流动性对透光孔进行填充，再依次形成无机封装层、有机封装层和无机封装层，实现对水汽氧气的阻隔。

本申请还提供一种显示设备，请参阅图8，图8是本申请实施方式中显示设备的结构示意图。该实施方式中，显示设备包括感光器件70和显示面板。其中，显示面板包括基板10、发光结构层20和抗反射层30，显示面板包括第二显示区，第二显示区与感光器件70的设置位置相对应，抗反射层30位于发光结构层20远离基板10的一侧，具体结构请参阅上述实施方式的描述，在此不再赘述。

其中，可以仅在第二显示区域设置抗反射层，因抗反射层的膜层较薄，其上面的膜层可以填充该高度差，不会对显示面板的平坦性造成影响，也可以在显示区和第二显示区均设置抗反射层，提高显示面板整体的透光率。通过设置抗反射层，能够降低第二显示区的光反射，进而提高该区域的透光率，有利于提高UDC屏(Under Display Camera，UDC)的光透光率。

感光器件70位于显示面板下方且与第二显示区相对应，感光器件70可以为摄像头、光感应器、距离传感器等。该显示设备在应用时，具有较高的屏占比、感光器件的性能良好、较好的封装可靠性、性能稳定、使用寿命长等优点。该显示设备可以是手机、电视、MP3、VR眼镜的显示屏等。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板定义有第一显示区和第二显示区，所述显示面板包括：

基板；

发光结构层，设置在所述基板的一侧表面上，包括阵列排布的发光器件；

抗反射层，设置在所述第二显示区内的所述发光结构层远离所述基板的一侧。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述抗反射层至少包括层叠设置的第一抗反射膜和第二抗反射膜，所述第一抗反射膜设置在所述第二抗反射膜靠近所述发光结构层的一侧，所述第一抗反射膜的反射率大于所述第二抗反射膜的反射率。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，

所述第一抗反射膜的厚度为所述第二抗反射膜厚度的4～6倍。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，

所述第二抗反射膜的厚度为0.3～0.8μm，所述第一抗反射膜的厚度为1.8～4.8μm。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

盖板，设置在所述发光结构层远离所述基板的一侧，所述抗反射层位于所述盖板远离所述发光结构层的一侧。

6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：

盖板，设置在所述发光结构层远离所述基板的一侧；

功能膜组，设置在所述发光结构层与所述盖板之间，所述功能膜组包括至少两层功能膜层，所述抗反射层位于所述功能膜组的任意两层功能膜层之间。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述功能膜组包括：

薄膜封装层，设置在所述发光结构层远离所述基板的一侧且覆盖所述发光器件；

偏光层，设置在所述薄膜封装层远离所述发光结构层的一侧；

触控层，设置在所述偏光层远离所述薄膜封装层的一侧；

所述抗反射层位于所述薄膜封装层与所述偏光层之间。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述抗反射膜层的材质包括氮化硅、二氧化钛、氧化锆、碳化硅、石墨烯中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，

所述基板包括衬底和阵列层，所述第二显示区包括贯穿所述衬底和阵列层的透光孔，所述抗反射膜覆盖所述透光孔；

优选地，所述透光孔内填充透光材料。

10.一种显示设备，其特征在于，包括：

如权利要求1-9任一项所述的显示面板，所述显示面板定义有第一显示区和第二显示区；

感光器件，位于所述显示面板下方且与所述第二显示区对应设置。

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