CN112051629A - 用于制造光学透镜的方法和设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及制造透镜、特别是眼镜镜片的方法，其中，对透镜进行阻挡，以用于在一个阻挡侧部上处理/机器加工，并且在处理之后将透镜从阻挡件解除阻挡，以及在阻挡之前将透镜设置有可移除保护层。通过旋转涂覆施加由粘合剂形成的保护层，粘合剂通过电磁辐射固化。根据另一方面，提出制造透镜的方法，其中，以成形方式处理以及涂覆透镜的第一平坦侧部，并且将透镜的第二平坦侧部临时设置有用于涂覆第一平坦侧部的覆盖层。根据再一方面，提出制造透镜、特别是眼镜镜片的设备，设备包括用于接收透镜的接收站；用于递送透镜的递送站；用于制造、特别是涂覆透镜的一个或更多个工作站；以及用于操纵透镜并且在设备的不同站之间运送透镜的操纵装置。

Description

用于制造光学透镜的方法和设备

技术领域

本发明涉及一种用于制造光学透镜、特别是眼镜镜片的方法和设备。

背景技术

透镜，特别是眼镜镜片，通常被阻挡以用于借助于所谓的阻挡材料在作为保持器的所谓的阻挡件上进行处理/加工，即，将精加工的或仍待处理/加工的透镜侧部形状配合地连接和/或力锁定至阻挡件并因此被紧固/附接和/或保持至阻挡件。对于一些或多个处理/处理操作，阻挡件用于非常精确地且以限定的方式保持被紧固(即，被阻挡)至该阻挡件中的透镜。然后，将该透镜解除阻挡，即从该阻挡件上移除/拆卸。关于低成本的透镜生产，这应该以简单的方式有效且快速地完成。根据本发明，“阻挡”被理解为用于处理/加工的透镜的临时紧固。

作为阻挡材料，可以使用具有低熔点的合金以及热塑性塑料，即热塑性材料，或非热塑性材料，特别是固化/硬化粘合剂/胶水，但也可以使用粘合带等。根据所使用的阻挡材料，对于解除阻挡，即将透镜从阻挡件和/或阻挡材料移除/拆卸，存在不同要求和/或方法过程。

术语“眼镜镜片”是指由常用透明材料诸如塑料(例如，聚碳酸酯、CR-39、Hi-Index)或矿物玻璃制成的、以及具有任何透镜和/或透镜预成型件的外围边缘的(预制)形状的眼镜的光学透镜和/或透镜预成型件(毛坯)。

在下文中，术语“透镜”既用于在两个光学有效侧部(后表面和前表面)上仍待处理/加工的透镜(毛坯和/或透镜预成型件)，也用于仅在一个光学有效侧部(后表面或前表面)上待处理/加工和/或在一个光学有效侧部(后表面或前表面)上完全预成型的透镜。然而，在本发明的含义内的透镜也可以是用于制造眼镜镜片的任何其他中间产品。例如，所谓的半壳可以设置有作为中间产品的偏振滤光器，然后被接合以形成毛坯和/或透镜预成型件。

待处理的透镜的阻挡发生在–通常是弯曲和/或凸出–平面上，也称为阻挡侧部。如果阻挡侧部已经被预成型，则通常在用阻挡材料进行实际阻挡之前，通过保护层/涂层诸如箔或漆对阻挡侧部进行保护。因此，保护层防止阻挡材料直接到达透镜的(完全预成型的)阻挡侧部，使得阻挡材料仅到达保护层。这也可以视为间接阻挡。

本发明尤其涉及前述意义上的用于阻挡的保护层的生成和应用，其中，将实现具有低成本高吞吐量和均匀保护层厚度的优选自动化处理或使其成为可能。

尽管有替代建议，但到目前为止，箔/膜通常作为保护层被胶合或施加到待处理透镜的阻挡侧部，使用金属合金作为阻挡材料抵靠阻挡侧部进行阻挡。尽管箔作为保护层的应用可以是自动化的，但是它在技术上很复杂，并且总是与形成不希望的褶皱或波纹/起伏的问题有关，这取决于阻挡侧部的曲率和/或形状。

DE 100 17 363 A1公开了一种将保护漆自动施加到眼镜镜片毛坯上的方法，其中，眼镜镜片毛坯位于运送载体上，并以恒定速度被输送通过保护漆的施加系统下方。热源和/或红外辐射器用于预加热和干燥眼镜镜片毛坯。以这种方式，在眼镜镜片毛坯上形成能够移除保护层，以用于随后进行阻挡。然而，这种方法不允许以低成本获得最佳吞吐量，并且不允许保护层的限定设计。

EP 2 011 604 A1公开了一种使用紫外线可固化聚合物材料作为阻挡材料来阻挡透镜预成型件的方法。透镜预成型件因此使用UV可固化阻挡材料被阻挡和/或紧固到阻挡件。然而，在该方法中，未将UV可固化材料用作透镜预成型件和阻挡材料之间的保护层，并且未通过旋转涂覆来施加阻挡材料。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于制造透镜的改进方法和改进设备，优选地其中，在施加保护层期间，特别是在光学透镜的阻挡和/或处理期间，可以进行该方法的特别有效过程，和/或其中，可以以低材料输入形成经限定的保护层，和/或其中，该设备的特征在于紧凑的结构。

上述目的通过根据权利要求1或7的方法或通过根据权利要求16的设备实现。有利的另外的实施例是从属权利要求的主题。

本发明的一方面是通过旋转涂覆来施加保护层，特别是从下面和/或抵抗重力来施加保护层。为此，将形成保护层的材料以液体形式施加到透镜，并通过旋转透镜和/或由旋转生成的离心力来分配形成保护层的材料。这允许设计特别薄且均匀和/或限定的保护层。这对于方法的有效过程以及透镜的限定阻挡和处理是有益的。

根据本发明的旋转涂覆优选在一个或更多个方法步骤和/或制造步骤之前进行，例如，在进行透镜在阻挡件上的阻挡之前和/或在施加阻挡材料之前进行。然而，也可以为运送和/或存储目的而施加保护层。

与透镜在阻挡件上阻挡之后和/或在透镜的几何处理之后，特别是在抛光和/或清洁之后和/或用于透镜的(永久)光学精制之后施加的涂层/层相比，根据本发明施加的保护层的厚度更厚，尤其是其20倍、30倍或40倍。此外，根据本发明施加的保护层优选地没有特定和/或实质光学效果。此外，根据本发明施加的保护层优选是可移除的。

根据也可以独立实现的本发明的另一方面，保护层优选地由粘合剂形成，该粘合剂在阻挡材料的阻挡和/或施加之前被固化。由于粘合剂的粘合性特别好，因此可以支持与透镜的阻挡侧部的良好连接。这有利于方法的有效过程以及透镜的经限定的阻挡和处理。

用于形成保护层的优选粘合剂是可以通过电磁辐射、特别是UV辐射固化的粘合剂。为了形成保护层，粘合剂是/可以通过电磁辐射和/或UV辐射来固化，这在旋转透镜的情况下尤其优选。这能够进行特别快速和限定的固化。这对于方法的有效过程以及透镜的经限定的阻挡和处理是有益的。

特别优选在惰性环境中和/或惰性气体下，特别优选在至少基本上由氩组成的环境中，在阻挡材料的阻挡和/或施加之前，固化粘合剂和/或保护层。可选地或另外地，惰性环境可以基本上由氮和/或二氧化碳、和/或氩、氮和/或二氧化碳的混合物形成。测试包括以这种方式可以容易地实现保护层的最佳性能。

已经发现，通过旋转涂覆施加到透镜上的并且通过电磁辐射施加的粘合剂形成用于透镜的特别薄且耐用的保护层。通过在惰性环境中固化和/或在旋转透镜的情况下可以进一步改进保护层的粘合性和耐久性。

如果需要，还可以在固化后使保护层经历等离子辐射，以确保将阻挡材料特别好地粘附至保护层。

所述电磁辐射优选地具有大于100nm的波长，优选地具有大于200nm的波长，特别地具有大于280nm的波长，以及/或者，所述电磁辐射具有小于480nm的波长，优选地具有小于450nm的波长，特别地具有小于430nm的波长，其中，优选波长取决于光引发剂的选择。

因此，根据本发明的一特别优选的方面，优选将粘合剂用于阻挡透镜，其中保护层由粘合剂形成，该粘合剂在阻挡材料的阻挡和/或施加之前通过电磁辐射固化，所述电磁辐射特别是UV辐射。这对于方法的有效过程以及透镜的限定阻挡和处理是有益的。

根据也可以独立实现的本发明的另一方面，所提出的用于制造透镜和/或用于将可移除的保护层施加到透镜的阻挡侧部的设备的特征具体在于：保持器，所述保持器用于在使阻挡侧部优选面向下方的情况下保持透镜旋转；施加装置，所述施加装置用于施加用于形成保护层的粘合剂；以及固化装置，所述固化装置用于通过电磁辐射和/或紫外(UV)辐射固化由粘合剂形成的保护层。这对于方法的有效过程以及透镜的限定阻挡和处理是有益的。

特别优选地，设备另外配备有用于对粘合剂、施加装置、喷嘴、工作空间和/或待涂覆的透镜进行预加热的加热装置。粘合剂的粘度可以通过加热装置降低。

根据也可以独立实现的本发明的另一个方面，所提出的用于处理透镜的设施的特征具体在于：用于将可移除保护层施加到待处理透镜的阻挡侧部的设备；阻挡设备；至少一个处理设备以及解除阻挡设备，其中，用于施加可移除保护层的设备包括：保持器，所述保持器用于在使阻挡侧部面向下方的情况下保持透镜旋转；以及施加装置，所述施加装置用于施加液体材料或粘合剂以形成保护层。

还可以独立地实现的本发明的另一方面涉及一种设置有和/或阻挡有保护层的透镜，其中，保护层由具有小于0.5mm、特别是小于0.2mm的均匀厚度的固化粘合剂形成。这对于方法的有效过程以及透镜的限定阻挡和处理是有益的。

根据也可以独立实现的另一方面，本发明涉及一种用于制造透镜的方法，所述透镜特别是眼镜镜片，其中，制造(特别是处理和/或铸造)透镜的第一平坦侧部，以及(随后)将第一平坦侧部涂覆有(特别是永久的和/或不可移除的)层/涂层，以及其中，透镜的第二平坦侧部临时设置有用于第一平坦侧部的(永久)涂层的覆盖层/覆盖涂层。

特别地，覆盖层是与先前描述的保护层不同的层/涂层。优选地仅在保护层已经从透镜上移除之后才施加覆盖层。然而，根据处理顺序，覆盖层也可以用作保护层，以及保护层也可以用作覆盖层。

术语“保护层”特别地用于可移除/可拆卸和/或临时层，通过该层，在用于透镜的第一平坦侧部的成形的处理操作/处理和/或铸造透镜的第一平坦侧部期间涂覆透镜的第二平坦侧部和/或阻挡侧部。因此，保护层用于在成形处理、铸造期间保护透镜和/或用于保护透镜的阻挡侧部。特别地，保护层用于保护透镜的阻挡侧部在阻挡之前免受损伤，诸如划伤。

术语“覆盖层”用于描述在透镜的第一平坦侧部上涂覆期间用于覆盖透镜的第二平坦侧部的可移除和/或临时层。覆盖层优选用于防止在第一平坦侧部的涂覆期间的第二平坦侧部的不希望的涂覆。

此外，术语“保护层”和“覆盖层”是指临时施加到透镜上和/或可从透镜上移除和/或通过制造方法用于移除它们的层。相反，透镜的“涂层”是指施加到透镜的永久和/或不可移动/不可拆卸的涂层，特别是用于光学精制的涂层，例如施加所谓的“硬涂层”以使透镜和/或眼镜镜片具有抗划伤性，或者使用其他永久性涂层来改善透镜的(光学)特性，例如防反射层或防止或减少透镜和/或眼镜镜片的雾化的涂层。

然而，保护层和/或覆盖层也可以用于其他方法步骤期间的保护和/或在存储和/或运送期间的保护。例如，用于透镜制造的中间产品，诸如半壳，也可以设置有这种保护层和/或覆盖层。

保护层和覆盖层优选地通过相同的方法施加，并且优选地被相同或等同地设计。因此，除非另有说明，否则关于保护层的特性以及关于保护层的施加和移除的前述和以下陈述优选也适用于覆盖层，反之亦然。

优选地，透镜的第二平坦侧部临时设置有用于处理(以成形方式)第一平坦侧部的保护层。这可以防止在第一平坦侧部的处理期间损坏第二平坦侧部。

特别优选地，通过在阻挡上的阻挡材料来阻挡第二平坦侧部以用于第一平坦侧部的处理，以及在处理之后再将其从阻挡件解除阻挡，其中，第二平坦侧部在阻挡之前设置有保护层。

优选地，(紧接)在第一平坦侧部的制造和/或处理之后和/或在解除阻挡之后和/或(紧接)在第一平坦侧部的涂覆之前移除保护层。

原则上和/或根据制造方法，可以想到，在制造透镜时仅临时涂覆透镜一次和/或在以成形方式处理之后和/或在解除阻挡之后保留和/或不移除保护层，以在涂覆透镜时(在以成形方式处理之后)，对于尚未涂覆的侧部，也将保护层用作覆盖层。

然而，有可能的是，在以成形方式处理之后，保护层不再完整，因此(损坏的)保护层不能为尚未涂覆的侧部提供足够的覆盖/保护。因此，有利的是，移除保护层并施加新的覆盖层以防止涂覆尚未涂覆的侧部。

因此，特别优选在第一平坦侧部的制造和/或处理(以成形方式)之后和/或(紧接)在移除保护层之后，尤其是在先前施加保护层的同一平坦侧部上，施加覆盖层。

优选地，紧接在第一平坦侧部的涂覆之后再次移除覆盖层。

还可以独立地实现的本发明的另一方面涉及一种用于制造透镜的设备，所述透镜特别是眼镜镜片，该设备具有：用于接收透镜的接收站；用于递送透镜的递送站；用于制造(特别是涂覆)透镜的一个或更多个工作站；以及用于在设备中操纵透镜并在设备的不同站之间运送透镜的操纵装置。

优选地，操纵装置和/或为操纵装置(特别是操纵装置的透镜载体)的旋转而设置的优选至少基本上竖向的旋转轴线-至少基本上-布置成居中于若干站之间、和/或与若干站等距、和/或被若干站包围/环绕，所述若干站特别是接收站、递送站和/或工作站。

换句话说，优选地，若干站(特别是接收站、递送站和/或一个或更多个工作站)被布置在围绕操纵装置、特别是围绕操纵装置的竖向旋转轴线的圆形路径和/或圆形路径的一部分上，和/或至少部分地环绕/包围操纵装置、特别是环绕/包围操纵装置的竖向旋转轴线。这允许快速、有效和/或容易地操纵透镜。特别地，这允许站和/或操纵装置的特别简单的设计。此外，以这种方式可以实现特别紧凑的设备。

操纵装置优选地包括用于透镜的透镜载体，该透镜载体可以围绕/关于旋转轴线而旋转。旋转轴线优选是竖向的。以这种方式，通过使透镜载体围绕/关于旋转轴线旋转，可以将透镜从所述站中的一个站运送到下游附加站和/或在圆形路径上移动。这对于短的运送时间，透镜的简单有效的处理以及处理装置和/或设备的紧凑设计是有利的。

透镜载体优选设计为星形、十字形和/或表针形状。原则上，这也可以独立于透镜载体可以绕旋转轴线而旋转的事实来实现。

透镜载体优选地包括若干个、特别是至少四个、特别是长型的臂或由若干个、特别是至少四个、特别是长型的臂组成，所述臂特别地相对于操纵装置的旋转轴线辐射状地布置。优选地，透镜载体的相邻/邻近臂分别以彼此相等的角度布置，特别优选地，其中臂之间和/或臂的纵向轴线之间的角度之和为360°。例如，具有四个臂的透镜载体的相邻臂优选地以彼此成90°的角度布置。因此，在具有六个臂的透镜载体中，相邻臂优选地以彼此成60°的角度布置。

透镜载体的臂优选地包括一个或更多个保持器，每个保持器用于保持透镜和/或透镜对。特别优选地，(一个或更多个)保持器布置在相应臂的下侧部和/或被设计为可旋转/旋转地保持透镜和/或透镜对。

特别地，每个臂将保持器连接到透镜载体的旋转轴线。

原则上，“星形”和/或“十字形”和/或“表针形状”涉及操纵装置的被设计为用于保持透镜、特别是保持器的每个位置/区域与操纵装置的旋转轴线之间的理论/虚拟连接线的形状。

透镜载体可以是任何形状，特别是圆形、盘形和/或平面形，优选地，其中保持器绕旋转轴线布置，特别是直接和/或间接地布置在透镜载体上。

透镜载体优选地包括用于覆盖工作站的至少一个覆盖物。特别优选地，每个臂和/或每个保持器包括用于覆盖工作站的覆盖物。如果一个或更多个工作站被设计成用于旋转涂覆和/或用于通过电磁辐射固化诸如特别是保护层或覆盖层之类的层，则这是特别有利的。

通常，这样的工作站要求在工作步骤例如，旋转涂覆和/或固化期间覆盖相应的工作站，以限制和/或包围相应工作站的工作空间。因此，在透镜载体上使用覆盖物对于紧凑设计以及该方法的简单和/或快速过程是有益的。

接收站优选地包括用于转动透镜(特别是绕水平轴线转动和/或转动180°)的转动装置。可选地或附加地，递送站(也)包括这种用于转动透镜的转动装置。

接收站优选地包括用于使透镜居中的居中装置。这确保了透镜在设备中被夹持和/或被保持居中。这对于在工作站中处理期间的最佳结果是有益的。

优选地，工作站之一特别是如前所述的被设计成用于通过旋转涂覆来施加保护层和/或覆盖层。此外，优选地，工作站中的另一工作站被设计成用于通过电磁辐射、特别是UV辐射来固化保护层和/或覆盖层。换句话说，根据本发明的设备优选地被设计为执行所描述的用于制造透镜的方法，特别是用于将保护层和/或覆盖层施加到透镜的方法。

该设备可以包括用于对透镜进行预加热的一个或更多个加热装置。可选地或附加地，一个和/或更多个加热装置被设计成用于对粘合剂、用于粘合剂的施加装置、用于粘合剂的泵、腔室/预热室、喷嘴(特别是喷嘴梢端)和/或工作空间进行预加热。这样，可以简化和优化保护层和/或覆盖层的施加。

该设备优选地包括输送装置，该输送装置用于在该设备中在透镜的处理和/或涂覆期间将用于透镜的运送载体从接收站输送到递送站。

特别优选将透镜首先在运送载体中运送到设备，然后移交给设备和/或接收站。优选地，在设备中的透镜的处理和/或涂覆期间，从中移除透镜的运送载体优选进一步被运送到递送站，并且在设备中的处理和/或涂覆之后，将透镜再次设置在运送载体中，最好是设置在先前已将其从中移除透镜的同一运送载体中。

本发明的前述和以下方面和特征可以根据需要彼此组合，但是也可以彼此独立地实现。

附图说明

本发明的其他方面、特征、优点和特性由权利要求和基于附图的优选实施例的以下描述得出。附图示出：

图1是经阻挡的透镜的示意性截面图；

图2是所提出的用于制造透镜的设备的示意图；

图3是所提出的用于施加保护层的设备的第一工作空间和/或第一工作站的示意性截面图；

图4是所提出的用于固化保护层的设备的第二工作空间和/或第二工作站的示意性截面图；以及

图5是所提出的具有若干处理设备的设施的示意图。

具体实施方式

在附图中，相同的附图标记用于相同或相似的部件和装置，其中，即使省略重复的描述，也将得到相同或对应的优点和特性。

图1以示意性截面图示出了所提出的透镜2，该透镜2通过阻挡材料4被阻挡，即，被临时紧固在相关阻挡件3上。

特别优选地，透镜2是所谓的眼镜镜片，即用于眼镜的透镜。

透镜2优选地由塑料制成，但是如果需要的话也可以由玻璃等制成。

透镜2优选地具有若干厘米的直径，尤其是大于3cm。

阻挡件3被特别设计成用于以限定旋转位置进行夹紧以处理相关透镜2。

阻挡材料4特别优选是热塑性的，如在WO 2011/018231 A1中特别描述的。然而，原则上，它也可以是具有低熔点的合金或任何其他材料，例如，粘合剂、粘合带等。

如所提出的，在面向阻挡材料4和/或阻挡件3的侧部和/或透镜2的侧部2A上布置或设置保护层5A。优选地，阻挡侧部2A被设计为凸形的。

保护层5A优选由粘合剂28(图3所示)形成，粘合剂28在进行阻挡和/或施加阻挡材料4之前被固化和/或已经固化。

粘合剂28可以通过电磁辐射(特别是UV辐射U或可见光)固化和/或是特别优选通过电磁辐射(特别是UV辐射U或可见光)固化。

用于固化/硬化的辐射和/或光的波长优选大于100nm，更优选大于200nm，尤其是大于280nm，以及/或者用于固化/硬化的辐射和/或光的波长小于500nm或480nm，更优选小于450nm，尤其是小于430nm。

特别地，波长是在200nm至380nm的范围内或在350nm至450nm的范围内。具有这种波长的光和/或辐射可以例如通过水银灯/辐射器、激光器或LED生成。然而，也可以通过粒子辐射、电子辐射和/或伽马辐射来固化/硬化粘合剂28。

用于固化的辐射和/或光的能量密度优选大于5W/cm²或7W/cm²和/或小于12W/cm²或10W/cm²，特别是至少基本上为7.8W/cm²，并且在辐射源和/或光源与透镜和/或透镜表面之间的距离为至少2mm和/或至多4mm。特别地，在辐射和/或光源与透镜和/或透镜表面之间的大于30mm的距离处，用于固化的辐射和/或光的能量密度为大于1W/cm²和/或小于4W/cm²。

保护层5A包括的厚度优选小于1mm，特别是小于0.5mm，非常特别优选小于0.2mm。保护层5A的厚度优选大于10μm。50μm至200μm的范围是特别优选的。

保护层5A优选包括至少基本上规则和/或均匀的厚度。

保护层5A的厚度优选变化小于+/-0.03mm。

如下面更详细地说明的，特别通过旋转涂覆来施加保护层5A。

保护层5A优选由粘合剂28形成和/或制造，保护层5A特别优选由UV粘合剂形成和/或制造，即通过UV辐射U固化的粘合剂28形成和/或制造。

特别地，在此，粘合剂28因此不用于将两个和/或若干附加元件特别是透镜2与阻挡件3和/或阻挡材料4相连接和/或将两个和/或若干附加元件特别是透镜2紧固至阻挡件3和/或阻挡材料4，而是用于产生保护层5A，优选其中粘合剂28的结合/粘附特性仅是次要或次级重要的。优选地，在此主要利用粘合剂28可以通过电磁辐射(特别是UV光或可见光)固化的特性，从而可以以简单的方式形成具有最佳特性的保护层5A。

优选地，粘合剂28和/或UV粘合剂是自由基硬化、柔性和/或可移除/可拆卸的粘合剂。

保护层5A可以从透镜2的阻挡侧部2A上移除和/或拆卸，优选地没有残留。

图2以示意图示出了所提出的用于制造透镜2的设备，特别是用于施加和/或固化可移除保护层5A和/或粘合剂28的设备。图3以非常示意性截面示出了设备23的第一工作空间26。图4示出了所提出的用于固化粘合剂28的设备23的第二工作空间30的示意性截面。图5以示意图示出了所提出的用于阻挡和/或处理光学透镜2的设施1，即，透镜处理设施。特别地，设备23形成设施1的一部分。因此，通过图2至图4更详细地解释了设备23的特别优选设计。

特别地，如图2所示，设备23优选地包括用于接收透镜2的接收站34，用于递送透镜2的递送站35和/或一个或更多个工作站36、37。

接收站34被设计成用于将透镜2接收到设备23中和/或将透镜2馈送至设备23/馈送到设备23中。

递送站35被设计为将透镜2从设备23递送下来/从设备23递送透镜2。

工作站36、37被设计为在透镜2上执行工作步骤和/或处理透镜2。特别地，工作站36、37与接收站34和递送站35的不同之处在于：在工作站36、37中，透镜2的特性通过处理而改变，而在接收站34和/或递送站35中，透镜2仅被操纵，例如，输送、运送、旋转、转动等，而不会对透镜2实施任何另外的处理。

术语“制造”和/或“处理”基本上是指至少临时地特别是永久地改变透镜2和/或透镜2的平坦侧部2A和/或2B和/或其特性的任何处理。在这种意义上的处理的示例为施加保护层5A和/或覆盖层5B、以成形方式处理例如，对透镜2的平坦侧部和/或透镜2的边缘进行车削和/或铣削、透镜2的抛光、在透镜2上施加永久涂层/层、和/或移除保护层5A和/或覆盖层5B。

第一工作站36优选地被设计成用于特别是通过旋转涂覆来施加保护层5A和/或覆盖层5B。

优选地第一工作站36包括至少一个第一工作空间26，以特别地用于施加用于形成保护层5A的粘合剂28。特别优选地，第一工作站36包括两个第一工作空间26，优选地两个第一工作空间26具有相同或等同的设计，从而可以同时处理透镜对中的两个透镜2。稍后将讨论第一工作站36和/或第一工作空间26的细节。

第二工作站37优选地被设计为通过电磁辐射、特别是UV辐射U来固化保护层5A和/或覆盖层5B。

基本上，可以同时操作两个或更多，特别是全部工作站34-37。

特别地，第一工作站36和第二工作站37可以同时操作和/或同时被操作，特别是使得在第一工作站36中涂覆第一透镜对或透镜2并且同时在第二工作站37中硬化经涂覆的第二透镜对或透镜2，其中，第二透镜对或透镜2先前已经在第一工作站36中被涂覆。

第二工作站37优选地包括至少一个第二工作空间30，以特别地用于固化由粘合剂28形成的保护层5A。特别优选地，第二工作站37包括优选具有相同或等同设计的两个第二工作空间30，从而可以同时处理透镜对中的两个透镜2。稍后将更详细地讨论第二工作站37的细节。

设备23优选地包括操纵装置38，以用于操纵设备23中的透镜2并且用于在设备23的不同站34-37之间运输透镜2。

操纵装置38和/或操纵装置38的优选地至少基本上竖向的旋转轴线D1，特别是透镜载体39，优选地至少基本上布置在设备23的中央和/或中间，特别是布置在若干站34-37之间的中间。

特别优选地，操纵装置38，特别是旋转轴线D1，至少基本上布置在接收站34、递送站35、第一工作站36和/或第二工作站37之间的中间，和/或与接收站34、递送站35、第一工作站36和/或第二工作站37等距，和/或由接收站34、递送站35、第一工作站36和/或第二工作站37环绕/包围。

可选地或附加地，多个站34-37，特别是接收站34、递送站35和/或一个或更多个工作站36、37，被放置成位于操纵装置38附近和/或接近操纵装置38。

特别地，部分或全部站34-37相对于操纵装置38放置成使得尤其是当操纵装置38处于运动和/或旋转时，站34-37特别是不可移动地至少部分地布置在至少部分地与操纵装置38的——特别是圆形的——(操纵)路径交叠的——特别是圆形的——路径上。

操纵装置38特别是透镜载体39包括旋转轴线D1，优选地，其中，旋转轴线D1限定/形成操纵装置38特别是透镜载体39的中心轴线、主轴线和/或对称轴线。

操纵装置38和/或操纵装置38的一部分，特别是下面说明的透镜载体39，优选地可绕旋转轴线D1旋转和/或至少部分地对称于旋转轴线D1布置。

旋转轴线D1优选地至少基本上竖向地即，沿着相对于重力和/或至少基本平行于重力的垂直方向延伸。

优选地，若干站特别是接收站34、递送站35、第一工作站36和/或第二工作站37被布置在围绕操纵装置38的圆形路径和/或圆形路径的一部分上、特别是被布置在围绕旋转轴线D1的圆形路径和/或圆形路径的一部分上。

优选地，(第一)工作站36的两个(第一)工作空间26彼此直接相邻布置和/或位于径向延伸到旋转轴线D1的公共线上。

(第二)工作站37的两个(第二)工作空间30优选地彼此直接相邻布置和/或位于径向延伸到旋转轴线D1的公共线上。

工作站36、37的工作空间26、30和/或它们的中心轴线所位于的径向延伸到旋转轴线D1上的线优选地彼此正交地延伸。

接收站34和第二工作站37优选地布置在操纵装置38的径向相反的两侧上。

第一工作站36和递送站35优选地布置在操纵装置38的径向相反的两侧上。

优选地，接收站34、第一工作站36、第二工作站37和递送站35分别围绕旋转轴线D1布置成围绕旋转轴线D1和/或操纵装置38和/或沿着圆形路径彼此偏移90°的旋转角度。

操纵装置38优选地包括用于透镜2的透镜载体39。

设备23，特别是操纵装置38和/或透镜载体39，优选地包括一个或更多个用于保持透镜2的保持器25(图2中未示出)。保持器25优选地被设计为在工作站36、37中的处理期间保持透镜2。

优选地，(一个或更多个)保持器25被设计为尤其是在使阻挡侧部2A面向下方的情况下保持透镜2旋转。在示出示例中，保持器25优选地包括抓持器25A以及尤其是旋转致动器25B。抓持器25A优选地设计为吸取器/抽吸装置。

通过旋转致动器25B、抓持器25A和/或透镜2可以绕旋转轴线D旋转，如图3中示意性所示。旋转致动器25的旋转轴线D优选地平行于操纵装置38和/或透镜载体39的旋转轴线D1延伸。

特别地，设备23和/或操纵装置38、透镜载体39和站34-37被设计和/或布置为使得透镜2可以通过操纵装置38和/或透镜载体39围绕旋转轴线D1的旋转而从站34-37之一运送到随后的另外的站34-37。

透镜载体39优选地布置在接收站34、递送站35、第一工作站36和/或第二工作站37之上。

透镜载体39的旋转优选地由未示出的操纵装置38的旋转致动器来实现。

操纵装置38和/或透镜载体39优选地被设计为在圆形路径上移动和/或运送透镜2。

站34-37优选地相对于操纵装置38和/或透镜载体39布置为使得通过使透镜载体39在站34-37竖向的上方围绕旋转轴线D1旋转，可以(唯一地)定位透镜2，特别是使得在透镜载体39旋转之后，要求抓持器25A和/或透镜2仅竖向移动，来将透镜2馈送到站34-37和/或从站34-37移除。

透镜载体39优选地设计成星形、十字形和/或表针形状。

特别地，透镜载体39包括若干臂40或由若干臂40组成，特别是包括以相似或等同的方式构造的臂40或由以相似或等同的方式构造的臂40组成。

臂40优选在设备23中径向延伸和/或正交于旋转轴线D1延伸和/或优选地水平延伸。优选地，臂40形成星形或十字形，特别是其中旋转轴线D1形成星形和/或十字形的中心轴线和/或对称轴线。

特别地，臂40和/或术语“臂”涉及单个保持器25与旋转轴线D1之间的连接的(一个或更多个)直线。优选地，(一个或更多个)保持器25被布置在臂40上，特别地，其中(一个或更多个)臂40为长型构型和/或包括长型构型。

可选地或附加地，(一个或更多个)保持器25可以直接或间接地布置在透镜载体39上，特别地其中臂40是可选的。

特别优选地，透镜载体39包括至少四个臂40。臂40优选地以彼此相等的角度布置，使得在每种情况下两个相邻的臂40之间存在相同的角度。角度之和优选为360°。在示出示例中，透镜载体39的四个臂40彼此成90°角布置。

臂40的数量优选等于/对应于或小于或大于站34-37的数量。以此方式，可以尤其是通过操纵装置38同时操作优化数量的站34-37、最大化数量的站34-37或甚至所有站34-37。

特别地，可以通过操纵装置38同时操作站34-37中至少两个站、最优选全部的站。例如，站34-37和/或操纵装置38可以同时接收、递送、操纵、运送和/或制造特别是处理、加工、铸造、涂覆和/或硬化若干透镜2。

透镜载体39的臂40优选地包括用于保持透镜2和/或透镜对的一个或更多个保持器25，特别优选地，包括两个保持器25。用于保持透镜对的这两个保持器25优选地彼此紧邻地布置，特别是在径向方向上串联/一个在另一个之后。

保持器25优选地等同地设计，从而在下文中仅描述一个保持器25，其中这些设计优选地应用于透镜载体39的所有保持器25。

保持器25优选地包括用于保持透镜2的抓持器25A。抓持器25A优选地被设计为吸取器。

特别优选地，保持器25布置在相应的臂40的下侧上和/或抓取器25A竖直向下指向。保持器25和/或抓持器25A特别地被设计为居中地在背对阻挡侧部2A的平坦侧部2B上保持透镜2。

抓持器25A可以优选地竖向地来回移动。

透镜2优选地通过使透镜载体39围绕旋转轴线D1旋转而被馈送到站34-37和/或工作空间26、30，使得透镜2直接位于站34-37和/或工作空间26、30上方，然后通过下沉和/或降低抓持器25A而将透镜2移动至站34-37和/或移动至/进入工作空间26、30。

优选地，在处理期间，透镜2通过保持器25和/或其抓持器25H被保持在工作空间26、30中，从而不需要将透镜2移交至相应的工作站36、37的另外的抓持器25H。

优选地，保持器25包括护罩和/或覆盖物25C，特别是板状的护罩和/或覆盖物，通过该护罩和/或覆盖物25C，至少第一工作站36的工作空间26以及优选地还有第二工作站37的工作空间30可以被覆盖和/或包围。

覆盖物25C可以优选地与相应的保持器25的抓持器25A一起竖向地来回移动。特别优选地，当透镜2通过抓持器25A被移动到工作空间26、30中时自动地包围工作空间26、30。

保持器25和/或抓持器25A特别地被设计为将透镜2保持在设备23的工作空间26、30中，特别优选在透镜2的处理期间保持在工作空间26、30中。

接收站34优选地被设计为将透镜2保持在设备23中，并且特别是将透镜2馈送到操纵装置38。

优选地，将输送装置13分配给设备23，通过该输送装置，可以将透镜2和/或带有透镜2的运送载体12馈送到设备23和/或接收站34。输送装置13优选地设计为带式输送机或链式输送机。

最优选地，输送装置13尤其是沿着设备23线性地延伸。然而，输送装置13也可以形成设备23的一部分。

接收站34优选地包括用于透镜2的转动/翻转的转动装置41。转动装置41优选地被设计为将透镜转动180°和/或通过使透镜围绕优选地至少基本水平的枢转轴线和/或轴线S1进行枢转来转动透镜。

透镜2的“转动”优选地理解为是指透镜2的运动，在该运动中，平坦侧部2A、2B指向的方向分别被反转。在转动之后，优选的方向是平坦侧部2A指向平坦侧部2B先前指向的方向，并且平坦侧部2B指向平坦侧部2A先前指向的方向。

在本发明中，最优选的是转动使得在转动透镜2之前，平坦侧部2A、2B中的一个侧部竖向地指向上方，而平坦侧部2A、2B中的另一个侧部竖向地指向下方。因此，在转动之前，平坦侧部2A、2B中的一个侧部代表透镜2的上侧部，而平坦侧部2A、2B中的一个侧部代表透镜2的下侧部。

在转动期间，透镜2优选地转动180°,，以使得上侧部和下侧部相对于透镜2转动之前的位置反转。

如图1所示，透镜2通常包括凸侧部(在图1中为下平坦侧部2A)和凹侧部(在图1中为上平坦侧部2B)。

为了运送，通常将透镜2的凹侧部向下放置在运送载体12中，使得运送载体12仅置于透镜2的边缘上，并且防止损坏平坦侧部2A、2B。此外，还如图1所示，第二平坦侧部2A优选为透镜2的阻挡侧部。为了给透镜2的阻挡侧部2A(在进行阻挡之前)设置临时保护层5A，因此，有必要在抓持器25A抓持透镜2之前转动透镜2，使得在站36、37中的处理期间，阻挡侧部2A和/或要设置有保护层5A的侧部面向下方。

然而，原则上，如果不需要透镜2的转动，也可以省略转动装置41。

转动装置41优选地沿轴线S1可移位，特别是转动装置41可以来回移动。轴线S1优选地交叉于/横向于保持器25所位于的和/或当透镜载体39旋转时保持在保持器25上移动的透镜2所位于的圆形路径、和/或平行于输送装置13。

优选地，转动装置41可以交叉于圆形路径移动。

转动装置41优选包括一个或更多个抓持器41A、特别是两个抓持器41A。抓持器41A优选地被设计为吸取器/真空装置。

优选地，抓持器41A布置为偏移于轴线S1和/或布置在转动装置41的杆41B上，所述杆41B交叉于(特别是垂直于/横向于)轴线S1延伸。

优选地，接收站34包括用于使透镜2居中的居中装置42。居中装置42优选地布置在转动装置41之前/前面。

居中装置42优选地被设计为在将透镜2从输送装置13和/或从运送载体12中移除之后和/或在移交给转动装置41和/或透镜载体39之前使透镜2居中。为此，居中装置42优选地包括可以相对于彼此移位的两个居中爪42A。

最优选地，居中装置42被设计成用于同时对透镜对中的两个透镜2进行居中，并因此包括两对配合/协作的居中爪42A。这特别在图2中示出。然而，原则上，用于使透镜2居中的其他解决方案也是可行的。

除了转动装置41以及需要时的居中装置42之外，接收站34优选地包括具有用于抓持透镜2和/或透镜对的一个或更多个抓持器的抓持装置43。(一个或更多个)抓持器优选地被设计为吸取器。

优选地，抓持装置43被设计为从运送载体12上移除透镜2和/或透镜对，并将透镜2和/或透镜对移交给居中装置42和/或转动装置41。优选地，抓持装置43可交叉于输送装置13和/或轴线S1移动，特别是垂直于输送装置13和/或轴线S1移动。例如，这可以通过将抓持装置43布置在交叉于和/或垂直于输送装置13和/或轴线S1延伸的轨道44上并且可沿该轨道44移动来实现。

抓持装置43优选地包括杆，在该杆的下侧部布置有(一个或更多个)抓持器。杆以其主延伸方向优选交叉于轨道44延伸、特别是垂直于轨道44延伸。

递送站35优选地包括用于使透镜2转动的转动装置45。转动装置45优选地被设计为使透镜2转动180°和/或通过绕优选地至少基本水平的枢转轴线和/或轴线S2进行枢转来转动透镜2。

与转动装置41一样，如果不需要使透镜2转动，也可以省略转动装置45。

转动装置45优选地沿着轴线X优选地至少基本水平的可移位/可移动，特别是转动装置45可以来回移动。

递送站35的轴线X和轴线S2优选地彼此交叉地延伸，特别是以大于20°和/或小于60°的角度彼此交叉地延伸。

转动装置45优选地包括用于抓持透镜2的抓持器45A。抓持器45A优选地设计为吸取器。最优选地，转动装置45包括两个抓持器45A，最优选地两个抓持器45A并排布置，用以同时抓持透镜对。

优选地，抓持器45A在第一杆45B上彼此邻近/相邻布置。

优选地，第一杆45B再次交叉布置在第二杆45C上，特别是在第二杆45C的端部。第二杆45C优选地垂直于枢转轴线S2。

第一杆45B优选地以与第二杆45C成大于20°和/或小于60°的角度进行布置。优选地，杆45B与杆45C之间的角度对应于/等于轴线X与轴线S2之间的角度。

由此，特别是如图2所示，轴线X、轴线S2、杆45B、杆45C和(一个或多个)抓持器45A相对于彼此的布置，实现了当围绕轴线S2枢转透镜2时第一杆45B和/或透镜对围绕(未示出的)竖向轴线旋转90°和/或改变转动装置45中的透镜2的对准，使得可以将透镜2移交到相关的运送载体12。以此方式，构成紧凑设计。

用于处理透镜2和/或用于施加保护层5A的工作过程优选地包括以下描述的步骤。为了简单起见，描述了透镜2的工作过程。然而，这些解释也类似地适用于透镜对，因为优选地在设备23中成对地处理和/或涂覆透镜2，使得两个透镜2和/或透镜对同时经过相同步骤。

首先，优选将透镜2和/或带有透镜2的运送载体12输送和/或运送到接收位置P1。接收位置P1优选分配给接收站34和/或紧邻接收站34布置。

然后通过沿着轨道44朝着透镜2和/或在透镜2上方移动来定位抓持装置43，使得透镜2可以被抓持器抓持。最优选地，这是通过将抓持装置43和/或其抓持器(直接)竖向地定位在透镜2上方来完成的。

然后，通过抓持器抓持透镜2，并且如果居中装置42可用，则将透镜2移动到居中装置42。如果未提供居中装置42，则将透镜2与抓持器一起直接移动到转动装置41。

然后，如果需要，抓持装置43将透镜2移交给居中装置42，在居中装置42中透镜2被居中以用于进一步处理。

然后，优选地将透镜2移交给转动装置41。在示出示例中，这是通过使转动装置41沿着轴线S1线性地移动到居中装置42来实现的。在转运装置41移动到居中装置42的同时和/或之前，抓持装置43再次从居中装置42移开，特别是线性地从居中装置42移开，从而可以用转动装置41和/或转动装置41的抓持器41A来抓持透镜2。

然后，透镜2被转动装置41的抓持器41A抓持，并通过围绕轴线S1枢转而被移动。

然后，转动装置41被移动到操纵装置38，特别是通过沿轴线S1进行线性移位。

为了将透镜2移交给操纵装置38和/或透镜载体39和/或保持器25，优选通过转动将透镜载体39移动到工作位置。这可以在转动装置41移动到操纵装置38之前、期间和/或之后完成。

工作位置特别是在将透镜2从转动装置41移交给透镜载体39期间、在第一工作站36中处理透镜2期间、在第二工作站37中处理透镜2期间和/或将透镜2从透镜载体39移交到递送站35期间，透镜载体39所处的位置。

由于优选的透镜载体39的十字形或星形设计和/或透镜载体39的对称性，工作位置优选在围绕轴线D1旋转一圈期间假定为/发生若干次，在示出示例中为四次。

在将透镜2从接收站34移交给透镜载体39之后，透镜载体39优选地围绕旋转轴线D1旋转，从而将透镜2运送到第一工作站36。一旦透镜2竖向地位于第一工作站36的第一工作空间26上方和/或透镜载体39再次处于工作位置，则透镜载体39停止。然后，将透镜2在第一工作站36中进行处理。

然后，再次转动透镜载体39，直到透镜2竖向地位于在第二工作站37和/或第二工作空间30上方和/或透镜载体39再次处于工作位置。然后将透镜2在第二工作站37和/或第二工作空间30中进行处理。

在第二工作站37中进行处理之后，再次转动透镜载体39，直到透镜载体39再次处于工作位置。然后将透镜2移交给递送站35，特别是移交给转动装置45的抓持器45A。为此，通过抓持器45A围绕轴线S2的对应枢转和/或转动装置45沿轴线X的线性移位，抓持器45被竖向地定位于保持器25下方。这可以在透镜载体39旋转到工作位置之前、期间和/或之后进行。

在将透镜2移交给递送站35和/或转动装置45之后，透镜2通过围绕轴线S2枢转而被转动，特别是被转动180°。在转动透镜2之前、期间和/或之后，转动装置45另外沿轴线X移动，使得透镜2竖向地位于分配给透镜2的运送载体12的上方。

随后，将透镜2移交给输送装置13和/或运送载体12，特别是将透镜2放置在运送载体12中。

在将透镜2移交给设备23和/或接收站34之后，特别是在从设备23中的运送载体12上移除透镜2的处理期间，优选通过输送装置13/利用输送装置13进一步输送运送载体12。

特别地，运送载体12被输送，使得当透镜2已经完全通过设备23和/或透镜2特别是通过递送站35和/或转动装置45被再次移交给输送装置13和/或运送载体12时，运送载体12处于递送位置P2。

递送位置P2优选地与递送站35相关联和/或布置成紧邻递送站35。

优选地，如前所述，在设备23中以上述方式同时处理两个透镜2和/或透镜对。特别地，每个站34-37被设计成用于同时对两个透镜2和/或透镜对进行操纵和/或处理特别是进行涂覆。

另外，优选地，在设备23的不同站34-37中实施若干透镜2和/或透镜对的同时处理和/或操纵。特别地，设备23被设计成用于同时制造和/或处理和/或操纵若干透镜2和/或透镜对，若干透镜2和/或透镜对被依次移交给设备23和/或被接收在设备23中，优选地在不同的站34-37中。

特别地，当设备23包括四个站34-37和/或透镜载体39包括四个臂40时，例如，多达六个透镜2和/或透镜对可以在设备23中被同时拾取/保持和/或处理。例如，利用图2所示的装置，可以在居中装置42中同时拾取透镜对，可以将透镜对保持在转动装置41的抓持器41A上，可以将透镜对保持在指向左下的臂40上和/或布置在接收站34与第一工作站36之间的臂40上，可以将透镜对保持在面向右下的臂40上和/或位于第一工作站36与第二工作站37之间的臂40上，可以将透镜对保持在面向右上的臂40上和/或位于第二工作站37与递送站35之间的臂40上，以及可以将透镜对保持在递送站35的转动装置45的抓持器45A上。

因此，输送装置13优选地被设计为同时输送若干运送载体12，特别地使得当先前移除的透镜2和/或先前移除的透镜对再次被递送到输送装置13和/或运送载体12时，在接收位置P1中已经从其移除透镜2和/或透镜对的运送载体12定位于递送位置P2。

设备23和/或第一工作站36优选地包括用于施加液体材料和/或粘合剂28以形成保护层5A的施加装置27。

在所示的示例中，施加装置27优选包括泵27A和至少一个喷嘴和/或馈送器27B，通过施加装置27可以如图3中的射流S示意性地示出的将材料和/或粘合剂28施加特别是溅射或喷涂到待设置有保护层5A的阻挡侧部2A上。

优选地，施加装置27被设计成用于空气脉冲的施加和/或被设计为通过一个或更多个空气脉冲将粘合剂28施加特别地溅射或喷涂到透镜2上、特别是阻挡侧部2A上。优选地，施加装置27配备有压缩机(未示出)以压缩空气和/或生成空气脉冲。

通过使透镜2绕旋转轴线D旋转，材料和/或粘合剂28被均匀地分布在阻挡侧部2A上。

优选地，保持器25和/或旋转致动器25B被设计为使得透镜2可以首先被加速到初始转速，特别是被加速到每分钟至少基本上1500转，并且——至少在一些转数上，例如，对于大于2、5、10、50或100转数而言——可以以初始转速旋转，然后可以被加速到至少一个不同的转速并以所述该不同的转速旋转。该转速优选地大于初始转速，例如为初始转速的(至少)1.3、1.6或2倍。这样，可以实现粘合剂的更均匀分布。

粘合剂28优选地以初始转速，特别是每分钟至少基本上1500转被施加到透镜2和/或阻挡侧部2A上，特别是以允许更均匀的施加。

优选地，在随后和/或(紧接)在已经施加粘合剂28之后，提高转速，特别地为1.3、1.6或2倍，和/或设置每分钟至少基本上2000、2500或3000转的转速，特别地以将施加的粘合剂28分配在透镜2和/或阻挡侧部2A上。

过多的材料和/或过多的粘合剂28优选地被回收和/或再利用。特别地，设备23和/或第一工作空间26被设计为使得过多的粘合剂28被馈送到施加装置27的收集区域和/或容器27C和/或被收集在此，以根据需要尤其是通过泵27A被再次分配。然而，在此，其他的建设性解决方案也是可能的。

设备23优选地包括仅在图3中示意性地示出的加热装置29，以用于对施加器27的喷嘴、粘合剂28、透镜2和/或第一工作空间26进行预加热。

最优选地，在大于35℃或40℃和/或小于60℃或50℃的温度下实施工作，特别优选在约45℃下实施工作，以在粘合剂28和/或保护层5A的施加期间确保尽可能限定的粘度和/或尽可能限定的方法条件/处理条件。优选根据粘合剂28来设定温度。

加热装置29可以例如通过(热)传导或辐射来实现或能够进行期望的预加热和/或回火。

设备23和/或第二工作站37优选地包括图4中所示的第二工作空间30，以用于通过固化装置31特别是UV辐射器，即，通过UV辐射U的作用，固化由粘合剂28形成的保护层5A。因此，固化可以非常快速且以限定的方式进行，而位于第一工作空间26中的粘合剂28没有固化。

优选地，第二工作空间30包括可透过UV辐射U的底部32和反射UV辐射U的反射器33。

优选地，在粘合剂28的固化期间和/或在第二工作站37中和/或在第二工作空间30中，透镜2(也)被旋转和/或加速到固化转速，特别是其中固化转速低于在粘合剂28的施加期间的(初始)转速。优选地，固化转速为初始转速的至多70％或50％和/或每分钟至少基本上500转。这包括粘合剂28的特别快速和/或低应力的固化。

已经证明，当在惰性环境中，特别是在氩环境或另一种稀有气体的环境中或氮气或二氧化碳的环境中实施粘合剂28的固化时，是特别有利的。所述环境优选基本上由氩、氮和/或二氧化碳组成。

特别地，惰性环境包含非常少的氧，优选小于10％，优选小于5％，特别优选小于2％或根本没有。

惰性环境能够进行和/或支持粘合剂28的可靠和/或无粘性固化。当在空气中进行固化时，空气中所含的氧会与粘合剂28反应，从而(至少部分地)防止聚合和/或在表面上固化，从而形成和/或保留粘性膜。通过在固化期间使用惰性环境可以规避和/或避免该问题。

优选地，粘合剂28和/或UV粘合剂通过(自由基)聚合而固化，其优选地由UV光或可见光引发、触发或影响。因此，粘合剂28优选地包括可通过UV辐射U或可见光来固化的单体液体。

粘合剂28，特别是自由基固化的粘合剂28，优选由一种或更多种特别是乙烯基不饱和粘结剂和/或一种或更多种特别是乙烯基不饱和单体制成、或者由一种或更多种特别是乙烯基不饱和粘结剂和/或一种或更多种特别是乙烯基不饱和单体组成。任选地或另外地，粘合剂28可以包括一种或多种光引发剂、增粘剂、反应性稀释剂和/或其他添加剂，诸如流动添加剂等。

粘合剂28也可以是或包括UV粘合剂和填充剂的组合物。以这种方式，粘合剂28的特性可以被改进和/或适于要求。

优选地，填充材料是非聚合固体。

粘合剂28的特性可以通过UV粘合剂和填充材料之间的混合比来改变，特别是来改进或适应。例如，UV粘合剂和填充材料的混合比可以用于减少或控制在粘合剂28的固化期间生成的热和/或在粘合剂28的固化期间产生的应力，特别是产生的热应力。这样，可以将在粘合剂28和/或保护层5A固化时在透镜2上的热应力和机械应力保持的很低，或避免在粘合剂28和/或保护层5A固化时在透镜2上的热应力和机械应力。

此外，通过将填充材料添加到UV粘合剂28，可以使用较少量的UV粘合剂。由于UV粘合剂28是相对昂贵的化学品，因此可以以这种方式降低成本。

优选地，粘合剂28中填充材料的重量百分比大于10％，优选地大于30％，和/或小于70％，优选地小于50％。这些混合比已被证明对于粘合剂28的期望特性是特别有利的。

可以用染料特别是荧光物质和/或颜料来对粘合剂28进行着色。优选地，为了保持粘合剂28的反应性，染料和/或颜料的含量很低。优选地，粘合剂28中的染料和/或颜料的重量比例小于10％。

最优选地，在每种情况下，通过分配给保持器25的覆盖物25C、特别是护罩来覆盖和/或包围第一工作空间26或任何其他工作空间。然而，在此，其他的构造方案也是可行的。

优选地，设备23和/或设施1被设计为使得可以对保护层5A进行表面处理，特别是通过等离子体辐射进行表面处理，以便在阻挡材料4的实际阻挡和/或施加之前修改保护层5A，使得阻挡材料4至保护层5A的特别良好的粘附成为可能，或确保阻挡材料4至保护层5A的特别良好的粘附。最优选地，该等离子体辐射在设备23和/或设施1的第一工作空间26或任何其他工作空间中实施。等离子体辐射优选在透镜2的阻挡之前不久和/或紧接透镜2的阻挡之前实施。

保护层5A优选地被施加有面向下方的阻挡侧部2A。这对于限定的流量和/或保护层5A的非常薄的层厚度的实现，和/或促进过多粘合剂28的排出和返回以便再利用是有利的。

最优选地，液态的保护层5A和/或粘合剂28以大于100mPa·s特别是大于200mPa·s和/或小于5000mPa·s特别是小于1000mPa·s或800mPa·s的粘度和/或处理粘度，特别是动态粘度和/或剪切粘度施加。因此，在预加热温度和/或在第一工作空间26中的温度下的(动态)粘度和/或粘合剂28和/或保护层5A的处理粘度优选大于100mPa·s特别是大于200mPa·s和/或小于5000mPa·s特别是小于1000mPa·s或800mPa·s。在保护层5A的均匀形成方面，这被证明是特别有利的。

粘度可以特别通过根据DIN EN ISO 2431:2012-03或DIN EN ISO 2555:2000-01的方法确定。为了确定处理粘度，必须在上述处理温度和/或预加热温度和/或第一工作空间26中的温度下，特别是在最低40℃和/或最高80℃下进行测量。

粘合剂28的处理粘度优选地通过对粘合剂28进行加热来调整。特别是为了调整处理粘度的从200mPa·s到1000mPa·s的优选范围，将粘合剂28加热到40℃到80℃的温度范围。

在室温和/或21℃至23℃的温度范围内，粘合剂28的(动态)粘度相应地较高和/或粘合剂28的(动态)粘度大于6000mPa·s特别是大于7000mPa·s，和/或小于18000mPa·s特别是小于16000mPa·s。

最优选地，保护层5A的厚度小于0.5mm，特别是小于0.2mm，最优选地为约0.1mm。因此，由于材料消耗非常低，因此也可以使用非常昂贵的材料和/或粘合剂。

最优选地，保护层5A具有比透镜2更大的弹性。透镜2和/或透镜材料的E模量(弹性模量/杨氏模量)优选至少为(硬化的)保护层5A的E模量的2倍或5倍，最优选，至少为10倍。

所提出的设施1优选地包括阻挡设备6，以用于通过阻挡材料4将要处理的透镜2阻挡——即，临时紧固——至相关的阻挡件3。

设施1优选地包括一个或更多个处理设备7、9，以用于处理特别是被阻挡的透镜2。

处理设备7、9特别被设计为单独的处理设备和/或被设计为用于透镜2的独立处理。

处理设备7、9特别用于不同的处理。此外，优选地，为相同处理设计一些或若干附加处理设备7、9，以便考虑到一个处理所需的时间，在处理设备7、9故障的情况下实现较高吞吐量和/或冗余度。

处理设备7、9使得可以进行例如：透镜2的平坦侧部或光学有效侧部的以成形方式的处理特别是机械加工和/或切割或铣削处理，透镜2的边缘处理，透镜2的抛光，透镜2的测试和/或测量，透镜2的标记，和/或透镜2的涂覆。

如果需要，若干处理设备7、9，例如，用于相同处理的两个或多个处理设备7、9，也可以在设施1中可用和/或集成。例如，可以提供用于以成形方式处理的若干处理设备7和/或用于抛光的若干处理设备7。这特别地取决于不同的处理设备7的吞吐量和/或所需的处理。

所提出的设施1的特别优点是，根据需要，附加的处理设备7、9可以在以后的日期非常容易地被集成和/或结合到设施1中，从而可以非常容易地进行扩展。

最优选地，若干个处理设备7、9形成处理线B。

所提出的设施1优选地包括一个或更多个处理线B。特别地，设施1包括至少一个处理线B1：所述处理线B1用于处理经阻挡的透镜2，特别是用于以成形方式处理至少一个平坦侧部和/或用于抛光，所述附加的处理设备9；以及优选地至少一个附加的处理设备9和/或处理线B3，所述至少一个附加的处理设备9和/或处理线B3用于解除阻挡的透镜2的进一步处理，特别是用于清洁、涂覆、边缘处理、测试和/或包装。在示出示例中，设施1包括：用于处理经阻挡的透镜2的两个处理线B1和B2；以及用于进一步处理解除阻挡的透镜2的一个处理线B3。

设施1优选地包括至少一个解除阻挡设备8，所述解除阻挡设备8用于对特别是已经经历了至少一个处理的透镜2进行解除阻挡，即，用于将透镜2从相关阻挡件3分离和/或拆卸。在所示的示例中，设施1优选地包括若干解除阻挡设备8，在此是两个解除阻挡设备8。

特别是在对透镜2的至少一个平坦侧部和/或光学有效侧部进行成形方式处理之后、以及在对透镜2进行抛光之后、和/或在透镜2进行涂覆之前和/或在对透镜2进行边缘处理之前，进行解除阻挡。

解除阻挡设备8是最优选的，和/或解除阻挡设备8布置在用于处理经阻挡的透镜2的处理线B1、B2之后/下游，和/或布置在用于处理经阻挡的透镜2的处理线B3的上游/之前，或者被集成到处理线B1、B2中或被集成到处理线B3中。

在解除阻挡之后或解除阻挡期间，还实施从透镜2移除保护层5A。为此，设施1和/或解除阻挡设备8优选地包括如示意性所示的设备24。用于移除保护层5A的设备24特别地集成在(一个或更多个)解除阻挡设备8中，但是也可以设计成单独的设备24和/或集成在后续的和/或附加的处理或处理线B3中。

从透镜2移除保护层5A优选通过流体射流进行，最优选通过液体射流和/或水射流进行。

流体射流优选作用在保护层5A和/或透镜2的边缘和/或外围表面上。

测试表明，如果预先对经阻挡的透镜2进行了抛光，则会促进或支持保护层5A的移除和/或拆卸/释放，因为在边缘处，通常含水抛光剂已经可以部分渗入在阻挡侧部2A和保护层5A之间的边界层中，因此导致保护层5A的部分提升/移除。

最优选地，通过从侧部攻击流体射流，至少基本上整体地将保护层5A移除和/或剥离。这尤其是通过确保保护层5A被设计为足够薄并且是柔性和/或弹性的来实现的。这对于保护层5A的快速且完全的移除和/或拆卸是有利的。

此外，在解除阻挡设备8和/或设备24中可以实施经阻挡的透镜2的另外的清洁，或者在解除阻挡设备8和/或设备24中对透镜2进行清洁，这是足够的对于后续的透镜2的涂覆和/或适于后续的透镜2的涂覆。

在解除阻挡之后(这还应当包括移除保护层5A)，经阻挡的透镜2优选地经受进一步的处理和/或精加工处理，特别是清洁、涂覆，边缘处理、测试等，所述边缘处理特别优先地适于眼镜框架和/或眼镜架，这里特别是通过附加的处理设备9和/或附加处理线B3进行。最终，对精加工的透镜2进行递送。

优选地，在涂覆/被涂覆之前和/或用于涂覆之前，透镜2临时设置有覆盖层5B。覆盖层5B优选设计为与保护层5A相似或相同。覆盖层5B和保护层5A之间的区别优选地基本上是，在阻挡之前和/或用于以成形方式进行处理/机械加工，将保护层5A施加到透镜2，特别是施加到透镜的阻挡侧部2A，以及在透镜2的涂覆之前，施加覆盖层5B来覆盖一个平坦侧部，以确保仅涂覆透镜2的一个平坦侧部，并且确保没有涂覆被施加到透镜2的被覆盖层5B覆盖的平坦侧部。

在制造透镜2时，优选首先以成形方式机械加工/处理第一平坦侧部2B，随后进行涂覆。

在以成形方式进行机械加工/处理期间，透镜2优选地由阻挡件3上的第二平坦侧部阻挡。因此，第二平坦侧部优选对应于阻挡侧部2A，并且因此第二平坦侧部在下文中称为“第二平坦侧部2A”。

在对透镜2特别是对第一平坦侧部2B进行涂覆之前，优选地将阻挡件3移除/拆卸。因此，优选地在没有一个或更多个阻挡的情况下进行具有永久涂层的透镜2的涂覆。

然而，在以成形方式处理期间，透镜2不是必须由阻挡件3阻挡和/或由阻挡件3保持。原则上，也可以在无阻挡的情况下实施以成形方式处理。

然而，优选地，如上所述，透镜2的第二平坦侧部2A临时设置有用于机械加工/处理第一平坦侧部2B的保护层5A。这可以防止由于阻挡而损坏第二平坦侧部2A和/或阻挡侧部2A。换句话说，优选地，将第二平坦侧部2A和/或阻挡侧部2A通过阻挡材料4被阻挡在阻挡件3上，以用于在阻挡件3上处理第一平坦侧部2B，并且在处理之后将第二平坦侧部2A和/或阻挡侧部2A从阻挡件3上解除阻挡，其中，在阻挡之前，第二平坦侧部2A设置有保护层5A。

原则上，也可以考虑不对已经施加到透镜2上的保护层5A进行解除阻挡，而是将保护层5A留在透镜2上以用于涂覆。然而，已经发现，在解除阻挡之后，保护层5A经常包括轻微的损坏和/或不再完全完整，从而不能实现令人满意的第二平坦侧部2A的覆盖。因此，有利的是移除保护层5A并且随后施加覆盖层5B。

优选地，在第一平坦侧部2B的处理之后和/或在解除阻挡之后和/或在涂覆第一平坦侧部2B之前，移除保护层5A。

优选地，在第一平坦侧部2B的处理之后和/或在移除保护层5A之后施加覆盖层5B。

最优选地，在涂覆第一平坦侧部2B之后移除覆盖层5B。

优选地，覆盖层5B的特性对应于保护层5A的特性。此外，优选地，覆盖层5B使用与保护层5A相同的方法来被施加和/或移除。因此，关于保护层5A的相关说明也对应于覆盖层5B。

设施1优选地包括递送设备10，以用于对经处理的优选地精加工的透镜2进行包装、标记、中间存储和/或递送。图5示意性地示出：根据要求和/或所进行的处理，透镜2可以被分配/释放和/或递送为(精加工的)边缘处理的(即，适于眼镜框架的)透镜2，或者透镜2可以被分配/释放和/或递送为尚未边缘处理的和/或尚不适于眼镜框架的透镜2。

在进一步的处理期间，在递送设备10和/或设施1之中或之后，可以和/或可以可选地对透镜2进行边缘处理以适于眼镜框架、对透镜2进行包装和/或质量保证和/或检查，必要时也可以稍后和/或单独进行。

设施1优选地包括至少一个运送系统11，用于将透镜2和/或带有透镜2的运送载体12运送到处理设备7、9和/或处理线B以及从处理设备7、9和/或处理线B运送透镜2和/或带有透镜2的运送载体12。

运送系统11将透镜2和/或运送载体12特别地从阻挡设备6输送到处理设备7和/或至少一个处理线B1或B2，以及从处理设备7和/或至少一个处理线B1或B2输送到至少一个解除阻挡设备8，以及特别地和/或可选地，输送到附加的处理设备9和/或(进一步的)处理线B3和/或递送设备10，如图5中示意性所示和/或由指示输送的箭头所示。

运送系统11特别地由若干输送设备诸如输送带、操作装置等组成。

运送系统11特别地设计为使得允许将透镜2和/或运送载体12可选地输送至各个处理线B1至B3、处理线B1、B2、B3的各个处理设备7、9和/或解除阻挡设备8以及允许可选的从各个处理线B1至B3、处理线B1、B2、B3的各个处理设备7、9和/或解除阻挡设备8输送透镜2和/或运送载体12。最后，运送系统11使透镜2和/或运送载体12能够被输送到至少一个递送设备10。

运送载体12优选地是盒状的和/或在顶部是敞开的和/或被设计成用于松弛地接收和/或保持透镜2和/或阻挡件3。

可选地，每个运送载体12都设置有信息载体22，信息载体22用于提供关于由运送载体12运送的透镜2和/或阻挡件3的信息。该信息特别地包含所有对处理必不可少的数据和/或可以例如通过系统控制、数据库或设施1的其他管理装置和/或相关联的透镜管理系统等检索处理所需的数据。

设施1优选地包括调配设备14，调配设备14用于特别地完全自动或部分自动的装载具有待处理的阻挡件3和透镜2的运送载体12。调配设备14布置在阻挡设备6的上游/之前。

特别地，运送系统11将配备有透镜2和阻挡件3的运送载体12从调配设备14运送到阻挡设备6。

如所提出的，设施1包括用于将保护层5A施加到透镜2和/或透镜2的阻挡侧部2A的设备23。该设备23优选地放置在调配设备14的下游/之后和/或在阻挡设备6的上游/之前。

设备23可以被集成在调配设备14和/或阻挡设备6中，或者被设计为单独的设备，如图3所示。在后一种情况下，运送系统11优选地输送透镜2，特别是通过运送载体12输送透镜2，首先输送到用于施加保护层5A的设备23，然后再从该设备23继续输送，特别是输送到阻挡设备6。因此，最优选地，将经装载的运送载体12从调配设备14输送到设备23上，随后输送到阻挡设备6。然而，基本上也可以将设备23不同地集成到设施1中，例如，将设备23布置在调配设备14的上游/之前。

在阻挡设备6中，优选地，透镜2和相关的阻挡件3自动地被移除并且以期望的方式阻挡。之后，从阻挡设备6将相同或不同的运送载体12再次与经阻挡的透镜2装载在一起。

在示出示例中，运送载体12优选地承载透镜对2(特别是用于形成一副眼镜的两个眼镜镜片)以及两个相关的阻挡件3。因此，在阻挡之后，运送载体12优选地再次通过阻挡设备6与属于一副眼镜的两个经阻挡的透镜2装配在一起。

应当注意，设施1还可以包括若干阻挡设备6，例如，可选地或根据用途或设计，这些阻挡设备6由运送系统11装载和/或供应有待阻挡的透镜2和/或与透镜2一起提供的运送载体12。

最优选地，运送载体12在使用之后通过(第一)返回输送设备15再次返回并且自动地装载有待处理的透镜2(特别是因此的透镜预成型件)和可选地阻挡件3。在此处所示的示例中，这最优选在调配设备14中进行或通过调配设备14进行。

然而，替代地，如图5中的虚线所示，也可以在使用之后和/或通过返回输送设备15将运送载体12返回到阻挡设备6。在这种情况下，调配设备14可以省略。然后，优选地，运送载体12在阻挡设备6中和/或从阻挡设备6与已经阻挡的透镜2自动地装载在一起。

最优选地，在调配设备14中自动装载运送载体12。

待处理的透镜2和/或透镜预成型件优选地由设施1的存储设备16提供，特别地待处理的透镜2和/或透镜预成型件被馈送到调配设备14。存储设备16特别地可以直接耦接到或集成到调配设备14中。

特别地，透镜2和/或透镜预成型件的去包装可以在存储设备16或调配设备14中和/或通过存储设备16或调配设备14以部分或完全自动的方式完成。

解除阻挡的和/或经使用的阻挡件3优选地被自动地从解除阻挡设备8和/或从每个解除阻挡设备8再次输送回/返回在此特别是到调配设备14。

在此处示出的示例中，优选地如图5所示通过用于阻挡件3的(附加的)返回输送设备17来实施向后输送。

最优选地，在阻挡件3解除阻挡之后，即，在使用之后，对阻挡件3进行清洗，特别地对阻挡件3进行视觉检查、分类和/或临时存储。这特别是可以在解除阻挡设备8中和/或通过在图5中示意性示出的单独的设备18进行，和/或在调配设备14中进行。

最优选地，清洁，特别是阻挡材料4的移除，在(相应的)解除阻挡设备8中进行。

对阻挡件3进行优选地视觉检查，特别是对于阻挡材料4的完全移除、损坏等的视觉检查，最优选地，在解除阻挡设备8或设备18中进行。

对阻挡件3的分类或检查，特别是根据尺寸和/或形状，最优选地，在阻挡设备6、解除阻挡设备8、设备18和/或调配设备14中进行。

阻挡件3的可选的中间存储最优选地在解除阻挡设备8、设备18和/或调配设备14中进行。

如果中间存储在解除阻挡设备8或设备18中发生，则在阻挡设备6和/或调配设备14的对应请求下，和/或根据需要和/或由设施1的未示出的透镜管理系统所控制等，将对应的或必要的和/或合适的阻挡件3特别地馈送到调配设备14。

然后，调配设备14将待处理的透镜2和阻挡件3特别地从上方和/或松弛地放置在运送载体12中。

可选地，也可以将阻挡过的阻挡件3直接馈送到阻挡设备6，如图5中的虚线所示。

在图5所示的第一形式中，优选地，运送载体12首先由递送设备10递送和/或释放，然后从递送设备10被返回/递送回来。

经释放的运送载体12优选地被清洁，设置有其他信息和/或其他信息载体22，特别地被视觉检查和/或临时存储。这特别地可以在从返回输送设备15分离的和/或分配的设备19中进行。

特别地，在递送设备10、设备19、调配设备14、阻挡设备6和/或解除阻挡设备8中实施运送载体12的清洁。

运送载体12的优选的光学检查，特别是关于成功执行的清洁或必要的清洁、信息载体22的更换或移除、损坏、污染等，优选地在递送设备10、设备19、调配设备14、阻挡设备6和/或解除阻挡设备8中进行

运送载体12的可选的中间存储特别是在递送设备10、设备19和/或调配设备14中进行。可选地或附加地，返回输送设备15可以例如通过运送载体12的环路式输送以及用于进一步输送到调配设备14的对应运送载体12的按需分流/退出而使得能够进行对应的中间存储。

因此，最优选地，特别是使得运送载体12的环路式输送或(第一)循环K1成为可能，或实现运送载体12的环路式输送或(第一)循环K1。

因此，最优选地，使得阻挡件3的环路式输送或(第三和/或另外的)循环K3成为可能，或实现阻挡件3的环路式输送或(第三和/或另外的)循环K3。

优选地，用于移除保护层5A的设备24和/或解除阻挡设备8(在每种情况下)之后是用于施加覆盖层5B的设备23。优选地，用于施加覆盖层5B的设备23被设计为与用于施加保护层5A的设备23相同。

优选在涂覆线和/或附加处理线B3之后是用于移除覆盖层5B的附加设备24。优选地，用于移除覆盖层5B的设备24被设计为与用于移除保护层5A的设备24相同。

优选地，用于施加覆盖层5B的设备23布置在涂覆线和/或附加处理线B3的上游/之前。

通常，信息载体22优选地由处理设备7、9读取、使用、改变和/或适应。例如，可以存储与透镜2和/或阻挡件3有关的特性和/或当前处理状态，或使与透镜2和/或阻挡件3有关的特性和/或当前处理状态可用。

最优选地，信息和/或信息载体22包含订单号，通过该订单号，可以调用关于相应透镜2和/或阻挡件3的所有必要信息和/或对于各个设备(特别地执行处理的处理设备7、9)的处理和/或处理状态等必需的所有信息。该信息例如由未显示的透镜管理系统、数据库等来管理、保持和/或补偿(取回)。

应注意，最优选以全自动方式进行输送，特别是通过运送系统11和/或返回输送设备15、17和/或20进行输送，但是也可以以部分自动的方式进行输送。

通常应注意，所提出的方法和所提出的设施1特别允许将透镜2和/或透镜载体12循环到和/或可选地馈送到各个处理设备7、9和/或各种处理线B，特别是如在WO 2013/131656 A2和/或WO 2017/0806639 A1中所描述的。

所描述的设施1、设备23以及所描述的顺序、方法和各种设计示例的各个方面和特征也可以彼此独立地实现，也可以以任何组合来实现。

可以彼此独立地实现，但也可以与之前说明的方面/特征相结合的本发明的其他方面特别是：

1.用于处理透镜2的方法，所述透镜2特别地是眼镜镜片，其中，将每个透镜2通过阻挡侧部2A上的阻挡材料4阻挡在阻挡件3上，以用于在所述阻挡件3上进行处理，并且在所述处理之后，将每个透镜2再从阻挡件3解除阻挡，其中在所述阻挡之前，阻挡侧部2A设置有可移除的保护层5，该方法的特征在于，

通过旋转涂覆来施加保护层5，和/或

保护层5由粘合剂28形成，所述粘合剂28在阻挡材料4的阻挡和/或施加之前被固化。

2.根据方面1所述的方法，其特征在于，保护层5施加有面向下方的阻挡侧部2A。

3.根据方面1或2的方法，其特征在于，以具有粘度大于100mPa·s的液体形式施加保护层5，以及/或者，粘合剂28的粘度大于200mPa·s和/或小于1000mPa·s或800mPa·s。

4.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，UV粘合剂28用于形成保护层，所述UV粘合剂28通过UV辐射U被固化，优选地其中，UV辐射U的波长在200nm至450nm的范围内。

5.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，将粘合剂28在惰性环境中/惰性环境下固化。

6.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，保护层5的厚度小于0.5mm，特别地小于0.2mm，和/或大于0.05mm。

7.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，在旋转涂覆期间，将透镜2以不同的转速旋转，特别是首先将透镜2加速到初始转速并且以初始转速旋转，然后将透镜2加速到至少一个不同的转速并且以该不同的转速旋转。

8.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，经阻挡的透镜2由一个或更多个处理设备7、9处理。

9.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，在第一工作空间26中将保护层5和/或粘合剂28施加到透镜2上，并且在分开的第二工作空间30中通过UV辐射将保护层5和/或粘合剂28固化。

10.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，将保护层5和/或粘合剂28在惰性环境中/惰性环境下施加至透镜2。

11.根据方面9或10所述的方法，其特征在于，将具有经施加的保护层5的透镜2在惰性环境中/惰性环境下从第一工作空间26运送至/进入第二工作空间30。

12.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，将保护层5和/或粘合剂28在惰性环境中/惰性环境下固化。

13.根据前述方面中的一者所述的方法，其特征在于，在处理透镜2之后，特别是通过流体射流处理透镜2之后，再次移除/拆卸或剥离保护层5。

14.一种用于将可移除/可拆卸保护层5施加至透镜2的阻挡侧部2A以用于透镜2的后续阻挡的设备23，所述透镜2特别是眼镜镜片，所述设备23的特征在于，所述设备23包括：

保持装置/保持器25，所述保持装置/保持器25用于在使阻挡侧部2A优选地面向下方的情况下以可旋转的方式保持透镜2，

施加装置27，所述施加装置27用于施加粘合剂28以形成保护层5，以及

固化装置31，所述固化装置31用于通过UV辐射U固化由粘合剂28形成的保护层5。

15.根据方面14所述的设备，其特征在于，设备23包括：第一工作空间26，所述第一工作空间26用于施加粘合剂28；以及单独的第二工作空间30，所述分开的第二工作空间30用于通过固化装置31通过UV辐射U来固化由粘合剂28形成的保护层5。

16.根据方面14或15所述的设备，其特征在于，保持器25被设计为用于以不同的转速保持透镜2旋转，特别是使得透镜2可以首先被加速到初始转速并且可以以初始转速旋转，以及然后可以被加速到至少一个不同的转速，并且可以以所述不同的转速旋转。

17.一种用于对透镜2、特别是眼镜镜片进行处理/机械加工的设施1，

具有用于将可移除/可拆卸的保护层5施加到待处理的透镜2的阻挡侧部2A的设备23，

具有用于通过阻挡材料4将设置有保护层的透镜2阻挡在阻挡件3上的阻挡设备6，

具有用于处理透镜2的一个或更多个处理设备7、9，以及

具有用于对处理透镜2进行解除阻挡和对保护层5进行拆卸的解除阻挡设备8，

设施1的特征在于，为了施加可移除的保护层5，所述设备23包括：

保持装置/保持器25，所述保持装置/保持器25用于在使阻挡侧部2A面向下方的情况下以可旋转的方式保持透镜2，以及

施加装置27，所述施加装置27用于施加液体材料或粘合剂28以形成保护层5。

18.根据方面17所述的设施，其特征在于，设备23被设计成用于根据方面14至16之一来施加可移除的保护层5。

19.一种用于对透镜2、特别是眼镜镜片进行阻挡的UV粘合剂28的用途，将每个透镜2通过阻挡侧部2A上的阻挡材料4阻挡在阻挡件3上，以用于在阻挡件3上进行处理，并且在所述处理之后，再将每个透镜2从阻挡件3解除阻挡，其中在所述阻挡之前，阻挡侧部2A设置有可移除/可拆卸的保护层5，所述用途的特征在于，保护层5由UV粘合剂28形成，所述UV粘合剂28在阻挡材料4的阻挡和/或施加之前通过UV辐射U被固化。

20.一种制造透镜2、特别是眼镜镜片的方法，

其中，将每个透镜2通过阻挡侧部2A上的阻挡材料4阻挡在阻挡件3上，以用于在阻挡件3上进行处理，并且在所述处理之后将每个透镜2从阻挡件3上解除阻挡，以及

其中，在阻挡之前，将阻挡侧部2A设置有可移除的保护层5A，

所述方法的特征在于，通过旋转涂覆来施加保护层5A，其中，保护层5A由粘合剂28形成，所述粘合剂28在阻挡材料4的阻挡和/或施加之前被固化，特别地，所述粘合剂28在阻挡材料4的阻挡和/或施加之前通过电磁辐射被固化。

21.根据方面20所述的方法，其特征在于，将粘合剂28在惰性环境中/惰性环境下施加和/或固化，优选地其中，所述环境至少基本上由氩、氮和/或二氧化碳形成。

22.根据方面21或22所述的方法，其特征在于，电磁辐射是UV辐射U，以及/或者，所述电磁辐射具有大于100nm的波长，优选地具有大于200nm的波长，特别地具有大于280nm的波长，以及/或者，所述电磁辐射具有小于480nm的波长，优选地具有小于450nm的波长，特别地具有小于430nm的波长。

23.根据方面20至22中的一者所述的方法，其特征在于，在阻挡材料4的施加之前，用电磁辐射和/或等离子体辐射照射保护层5A和/或阻挡材料4，以使得能够实现相互粘合或改进相互粘合。

24.根据方面20至23中的一者所述的方法，其特征在于，在旋转涂覆期间，以不同的转速旋转透镜2，特别是在粘合剂28的施加期间，首先将透镜2加速到初始转速并且以初始转速旋转，然后将透镜2加速到至少一个不同的转速并以所述不同的转速旋转，优选地，其中，透镜2在固化期间以固化转速被旋转。

25.根据方面20至24中的一者所述的方法，其特征在于，透镜对中的两个透镜2各自同时设置有保护层5A。

26.一种制造透镜2、特别是眼镜镜片的方法，

其中，对透镜2的第一平坦侧部2B以成形的方式进行制造，特别地进行处理/加工和/或铸造，以及对透镜2的第一平坦侧部2B进行涂覆，以及

其中，将透镜2的第二平坦侧部2A临时设置有覆盖层5B，以用于第一平坦侧部2B的涂覆。

27.根据方面20至26中的一个所述的方法，其特征在于，将透镜2的第二平坦侧部2A临时设置有保护层5A，以用于第一平坦侧部2B的制造和/或处理。

28.根据方面27所述的方法，其特征在于，通过阻挡材料4来阻挡第二平坦侧部2A，以用于在阻挡件3上进行第一平坦侧部2B的制造和/或处理，并且在制造和/或处理之后，将第二平坦侧部2A从阻挡件3解除阻挡，其中，在阻挡之前，将第二平坦侧部2A设置有保护层5A。

29.根据方面27或28的方法，其特征在于，在第一平坦侧部2A的制造和/或处理之后，和/或在解除阻挡之后，和/或在第一平坦侧部2B的涂覆之前，移除保护层5A。

30.根据方面29所述的方法，其特征在于，在第一平坦侧部2B的制造和/或处理之后，和/或在移除保护层5A之后，施加覆盖层5B。

31.根据方面27至30中的一者所述的方法，其特征在于，在第一平坦侧部2B的涂覆之后移除覆盖层5B。

32.根据方面26至31中的一者所述的方法，其特征在于，通过旋转涂覆来施加覆盖层5B和/或保护层5A。

33.根据方面26至32中的一者所述的方法，其特征在于，覆盖层5B和/或保护层5A由粘合剂28形成，粘合剂28优选地通过电磁辐射被固化，所述电磁辐射特别是UV辐射U。

34.根据方面26至33中的一者所述的方法，其特征在于，覆盖层5B和/或保护层5A由粘合剂28形成，将所述粘合剂28在惰性环境中/惰性环境下、和/或在透镜2旋转的情况下固化。

35.一种用于制造透镜2、特别是眼镜镜片的设备23，所述设备23包括：

接收站34，所述接收站34用于接收透镜2，

递送站35，所述递送站35用于递送透镜2，

一个或更多个工作站36、37，所述工作站36、37用于制造、特别是涂覆透镜2，以及

操纵装置38，所述操纵装置38用于在设备23中操纵透镜2以及用于在设备23的不同站34-37之间运送透镜2。

36.根据方面35所述的设备，其特征在于，操纵装置38布置成居中于多个站34-37之间，和/或与多个站34-37等距，以及/或者，多个站34-37布置在围绕操纵装置38的圆形路径上。

37.根据方面35或36所述的设备，其特征在于，操纵装置38包括用于透镜2的透镜载体39，所述透镜载体39围绕优选竖向的旋转轴线D1可旋转，使得透镜2可以通过透镜载体39围绕旋转轴线D1的旋转而从站34-37中的一个站运送到随后/后续的另外的站34-37，和/或使得透镜2可以至少部分地在圆形路径上移动。

38.根据方面35至37中的一者所述的设备，其特征在于，操纵装置38包括用于透镜2的透镜载体39，所述透镜载体被设计为星形和/或包括相对于操纵装置38的旋转轴线D1辐射状地布置的多个臂40，优选地所述多个臂为至少四个臂。

39.根据方面38所述的设备，其特征在于，透镜载体39的臂40每个都包括用于保持透镜2和/或透镜对的一个或更多个保持器25，优选地，其中，(一个或更多个)保持器25布置在相应臂40的下侧部和/或(一个或更多个)保持器25被设计成用于以可旋转的方式保持透镜2或透镜对。

40.根据方面37至39中的一者所述的设备，其特征在于，透镜载体39包括用于覆盖工作站36、37的至少一个覆盖物25C。

41.根据方面35至40中的一者所述的设备，其特征在于，接收站34和/或递送站35包括用于使透镜2进行转动的转动装置41、45。

42.根据方面35至41中的一者所述的设备，其特征在于，接收站34包括用于使透镜2居中的居中装置42。

43.根据方面35至42中的一者所述的设备，其特征在于，工作站37中的一个工作站被设计成用于通过旋转涂覆来施加保护层5A和/或覆盖层5B，并且优选地工作站36、37中的另外一个工作站被设计成通过电磁辐射来固化保护层5A和/或覆盖层5B，所述电磁辐射特别地是UV辐射U。

44.根据方面35至43中的一者所述的设备，其特征在于，设备23包括用于对透镜2、粘合剂28、施加装置27、泵27A、预热室、喷嘴和/或工作空间26、30进行预加热的加热装置29。

45.根据方面35至44中的一者所述的设备，其特征在于，设备23包括输送装置13，所述输送装置13用于在设备23中在透镜2的处理和/或涂覆期间将用于透镜2的运送载体12从接收站34输送到递送站35。

附图标记列表：

1 设施

2 透镜

2A 阻挡侧部/第二平坦侧部

2B 第一平坦侧部

3 阻挡件

4 阻挡材料

5A 保护层/保护膜

5B 覆盖层

6 阻挡设备

7 处理设备

8 解除阻挡设备

9 附加处理设备

10 递送设备

11 运送系统

12 运送载体

13 输送装置

14 调配设备

15 用于运送载体的返回输送设备

16 存储设备

17 用于阻挡件的返回输送设备

18 设备

19 设备

20 用于附加运送载体的返回输送设备

21 可选设备

22 信息载体

23 用于施加保护层/覆盖层的设备

24 用于移除保护层/覆盖层的设备

25 保持器

25A 抓持器

25B 旋转致动器

25C 覆盖物

26 第一工作空间

27 施加装置

27A 泵

27B 馈送器

27C 容器

28 粘合剂

29 加热装置

30 第二工作空间

31 固化装置

32 第二工作空间的底部

33 反射器

34 接收站

35 递送站

36 第一工作站

37 第二工作站

38 操纵装置

39 透镜载体

40 臂

41 转动装置(接收站)

41A 抓持器

41B 杆

42 居中装置

42A 居中爪

43 抓持装置(接收站)

44 轨道

45 转动装置(递送站)

45A 抓持器

45B 第一杆

45C 第二杆

B 处理线

B1 第一处理线

B2 第二处理线

B3 附加处理线

D 旋转轴线(旋转致动器)

D1 旋转轴线(透镜载体)

K1 第一循环

K3 附加循环

P1 接收位置

P2 递送位置

S 粘合剂射流

S1 轴线(转动装置接收站)

S2 轴线(转动装置递送站)

U UV辐射

X 轴线(递送站)。

Claims (26)

1.一种用于制造透镜(2)的方法，所述透镜(2)尤其是眼镜镜片，

其中，将每个透镜(2)通过阻挡侧部(2A)上的阻挡材料(4)阻挡在阻挡件(3)上以用于在所述阻挡件(3)上进行处理，并且在所述处理之后，将每个透镜(2)从所述阻挡件(3)解除阻挡，

其中，在所述阻挡之前，将所述阻挡侧部(2A)设置有能够移除的保护层(5A)，

所述方法的特征在于，

通过旋转涂覆来施加所述保护层(5A)，其中，所述保护层(5A)由粘合剂(28)形成，所述粘合剂(28)在所述阻挡材料(4)的所述阻挡和/或施加之前被固化，特别地所述粘合剂(28)在所述阻挡材料(4)的所述阻挡和/或施加之前通过电磁辐射被固化。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述粘合剂(28)在惰性环境中/惰性环境下施加和/或固化，优选地，其中，所述环境至少基本上由氩、氮和/或二氧化碳形成。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述电磁辐射是UV辐射(U)，以及/或者，所述电磁辐射具有大于100nm的波长，优选地具有大于200nm的波长，特别地具有大于280nm的波长，以及/或者，所述电磁辐射具有小于480nm的波长，优选地具有小于450nm的波长，特别地具有小于430nm的波长。

4.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，在所述阻挡材料(4)的所述施加之前，用电磁辐射和/或等离子体辐射来照射所述保护层(5A)和/或所述阻挡材料(4)，以使得能够实现相互粘合或改进相互粘合。

5.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，在所述旋转涂覆期间，以不同的转速旋转所述透镜(2)，特别地，在所述粘合剂(28)的所述施加期间，首先将所述透镜(2)加速到初始转速并且以所述初始转速旋转，以及然后将所述透镜(2)加速到至少一个不同的转速并且以所述不同的转速旋转，优选地，其中，在固化期间以固化转速旋转所述透镜(2)。

6.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，将透镜对中的两个透镜(2)各自同时设置有所述保护层(5A)。

7.一种用于制造透镜(2)的方法，所述透镜(2)特别地是眼镜镜片，

其中，对所述透镜(2)的第一平坦侧部(2B)以成形方式进行制造，特别地是进行处理/加工和/或铸造，并对所述第一平坦侧部(2B)进行涂覆，以及

其中，将所述透镜(2)的第二平坦侧部(2A)临时设置有覆盖层(5B)，以用于进行所述第一平坦侧部(2B)的所述涂覆。

8.根据前述权利要求中的一项所述的方法，其特征在于，将所述透镜(2)的所述第二平坦侧部(2A)临时设置有保护层(5A)，以用于进行所述第一平坦侧部(2B)的制造和/或处理。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，通过阻挡材料(4)来阻挡所述第二平坦侧部(2A)，以用于在阻挡件(3)上进行所述第一平坦侧部(2B)的制造和/或处理，并且在所述制造和/或处理之后再将所述第二平坦侧部(2A)从所述阻挡件(3)解除阻挡，其中，在所述阻挡之前将所述第二平坦侧部(2A)设置有所述保护层(5A)。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，在所述第一平坦侧部(2A)的所述制造和/或处理之后，以及/或者在所述解除阻挡之后，以及/或者在所述第一平坦侧部(2B)的所述涂覆之前，移除所述保护层(5A)。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，在所述第一平坦侧部(2B)的所述制造和/或处理之后，以及/或者在移除所述保护层(5A)之后，施加所述覆盖层(5B)。

12.根据权利要求7至11中的一项所述的方法，其特征在于，在对所述第一平坦侧部(2B)进行涂覆之后移除所述覆盖层(5B)。

13.根据权利要求7至12中的一项所述的方法，其特征在于，通过旋转涂覆来施加所述覆盖层(5B)和/或所述保护层(5A)。

14.根据权利要求7至13中的一项所述的方法，其特征在于，由粘合剂(28)形成所述覆盖层(5B)和/或所述保护层(5A)，优选地，通过电磁辐射将所述粘合剂(28)固化，所述电磁辐射特别地是UV辐射(U)。

15.根据权利要求7至14中的一项所述的方法，其特征在于，由粘合剂(28)形成所述覆盖层(5B)和/或所述保护层(5A)，将所述粘合剂(28)在惰性环境中/惰性环境下、和/或在所述透镜(2)旋转的情况下固化。

16.一种用于制造透镜(2)的设备(23)，所述透镜(2)特别地是眼镜镜片，所述设备(23)包括：

接收站(34)，所述接收站(34)用于接收透镜(2)，

递送站(35)，所述递送站(35)用于递送透镜(2)，

一个或更多个工作站(36、37)，所述工作站(36、37)用于制造透镜(2)，特别地所述工作站(36、37)用于涂覆透镜(2)，以及

操纵装置(38)，所述操纵装置(38)用于在所述设备(23)中操纵所述透镜(2)并且在所述设备(23)的不同站(34-37)之间运送所述透镜(2)。

17.根据权利要求16所述的设备，其特征在于，所述操纵装置(38)和/或所述操纵装置(38)的优选竖向的旋转轴线(D1)布置成优选地至少基本上居中于多个站(34-37)之间、和/或与多个站(34-37)等距、和/或被多个站(34-37)包围，以及/或者多个站(34-37)布置在围绕所述操纵装置(38)的圆形路径上。

18.根据权利要求16或17所述的设备，其特征在于，所述操纵装置(38)包括用于所述透镜(2)的透镜载体(39)，所述透镜载体(39)能够围绕优选竖向的所述旋转轴线(D1)旋转，使得所述透镜(2)能够通过所述透镜载体(39)围绕所述旋转轴线(D1)的旋转而从所述站(34-37)中的一个站被运送到随后/后续的另外的站(34-37)，和/或使得所述透镜(2)能够至少部分地在特别地为圆形的路径上移动。

19.根据权利要求16至18中的一项所述的设备，其特征在于，所述操纵装置(38)包括用于所述透镜(2)的透镜载体(39)，所述透镜载体(39)被设计为星形和/或包括相对于所述操纵装置(38)的所述旋转轴线(D1)辐射状地布置的多个臂(40)，所述多个臂(40)优选地为至少四个臂。

20.根据权利要求19所述的设备，其特征在于，所述透镜载体(39)的所述臂(40)每个都包括用于保持透镜(2)和/或透镜对的一个或更多个保持器(25)，优选地，其中，所述一个或更多个保持器(25)布置在相应臂(40)的下侧部上和/或被设计成用于以可旋转的方式保持透镜(2)或透镜对。

21.根据权利要求18至20中的一项所述的设备，其特征在于，所述透镜载体(39)包括用于覆盖工作站(36、37)的至少一个覆盖物(25C)。

22.根据权利要求16至21中的一项所述的设备，其特征在于，所述接收站(34)和/或所述递送站(35)包括用于使所述透镜(2)进行转动的转动装置(41、45)。

23.根据权利要求16至22中的一项所述的设备，其特征在于，所述接收站(34)包括用于使所述透镜(2)居中的居中装置(42)。

24.根据权利要求16至23中的一项所述的设备，其特征在于，所述工作站(37)中的一个工作站被设计成用于通过旋转涂覆来施加保护层(5A)和/或覆盖层(5B)，并且优选地所述工作站(36、37)中的另外一个工作站被设计成通过电磁辐射来固化所述保护层(5A)和/或所述覆盖层(5B)，所述电磁辐射特别地是UV辐射(U)。

25.根据权利要求16至24中的一项所述的设备，其特征在于，所述设备(23)包括用于对所述透镜(2)、粘合剂(28)、施加装置(27)、泵(27A)、预热室、喷嘴和/或工作空间(26、30)进行预加热的加热装置(29)。

26.根据权利要求16至25中的一项所述的设备，其特征在于，所述设备(23)包括输送装置(13)，所述输送装置(13)用于在所述设备(23)中在透镜(2)的处理和/或涂覆期间将用于所述透镜(2)的运送载体(12)从所述接收站(34)输送至所述递送站(35)。

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